JP2005235839A - 半導体デバイスチップウエハ検査方法および検査装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】
半導体レーザダイオードデバイスが集積されたウエハ1を試料台10上に載置し、このウエハ1にレーザ光走査装置20によってレーザ光を照射し、照射位置を高速で変化させ、すなわち高速走査を実行する。走査時に、ウエハ1に発生する熱起電力電流を起電力電流増幅/検出部32によって測定し、不良アドレス判定部36によって、所定のしきい値を超える熱起電力電流が発生した時の、レーザ光の照射位置を判定し、その位置を不良アドレス情報として不良アドレス記憶部37に記憶する。
【選択図】図1
Description
2,42 上部電極
3,43 下部電極
10 試料台
11 ステム
15 開始位置検出PD
16 終了位置検出PD
20,50 レーザ光走査装置
21 レーザ光発生装置
22,52 ポリゴンミラー
23,53 レンズ
24,54 fθレンズ
31 起電力電流制御部
32,62 起電力電流増幅/検出部
33 電圧供給部
34 温度制御部
35 スキャン制御部
36 不良アドレス判定部
37 不良アドレス記憶部
51 マルチビームレーザ光発生装置
Claims (8)
- 半導体デバイスのチップが集積されたウエハに量子ビームを照射し、照射位置を変化させつつ、前記ウエハに発生する熱起電力を検出する工程と、
測定した熱起電力電流または熱起電力電圧がしきい値を超えているか否かを判定し、しきい値を超える熱起電力電流または熱起電力電圧が発生した時の、前記量子ビームの前記ウエハ上への照射位置を不良アドレス情報として記憶する工程とを有する半導体デバイスウエハ検査方法。 - 前記量子ビームとして、前記ウエハの結晶内部を透過し、かつ励起による起電力を発生させない波長を有するレーザ光を照射する、請求項1に記載の半導体デバイスウエハ検査方法。
- 前記量子ビームを、回転するポリゴンミラーに照射することによって、前記ウエハ上への照射位置を変化させる、請求項1または2に記載の半導体デバイスウエハ検査方法。
- 複数の前記量子ビームを同時に照射し、該各量子ビームの照射位置を同時に変化させて、各量子ビームの照射によって発生する熱起電力を同時に検出する、請求項1から3のいずれか1項に記載の半導体デバイスウエハ検査方法。
- 半導体デバイスのチップが集積されたウエハを載置して固定可能な試料台と、
前記試料台上に載置された前記ウエハに量子ビームを照射し、照射位置を変化させることができる量子ビーム走査装置と、
前記半導体デバイスに発生する熱起電力電流または熱起電力電圧を測定し、しきい値を超えているか否かを判定する熱起電力検出部と、
前記熱起電力検出部によって、しきい値を超える熱起電力電流または熱起電力電圧の発生が判定された時の、前記量子ビーム走査装置による前記量子ビームの照射位置を判定して、その位置を不良アドレス情報として不良アドレス記憶部に記憶させる不良アドレス判定部とを有する半導体デバイスウエハ検査装置。 - 前記量子ビーム走査装置は、前記量子ビームとして、前記ウエハの結晶内部を透過し、かつ励起による起電力を発生させない波長を有するレーザ光を発生するレーザ光発生装置を有している、請求項5に記載の半導体デバイスウエハ検査装置。
- 前記量子ビーム走査装置は、前記量子ビームを発生する量子ビーム発生装置と、前記量子ビーム発生装置によって発生した量子ビームが入射する位置に配置され、回転駆動されるポリゴンミラーとを有する、請求項5または6に記載の半導体デバイスウエハ検査装置。
- 前記量子ビーム走査装置は、複数の量子ビームを同時に発生可能な量子ビーム発生装置を有する、請求項5から7のいずれか1項に記載の半導体デバイスウエハ検査装置。
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