JP2005222733A - 有機エレクトロルミネッセンス素子およびその製造方法 - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 15
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims abstract description 43
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims abstract description 43
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 claims abstract description 23
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 23
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 23
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 20
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 11
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims abstract description 6
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 130
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 44
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 24
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 21
- 239000011368 organic material Substances 0.000 claims description 15
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 claims description 12
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 claims description 11
- 230000005284 excitation Effects 0.000 claims description 8
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000010432 diamond Substances 0.000 claims description 6
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000010439 graphite Substances 0.000 claims description 6
- 238000009616 inductively coupled plasma Methods 0.000 claims description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 abstract description 5
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 abstract description 4
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 abstract 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 74
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 52
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 description 9
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 4
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 3
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 3
- 229910001148 Al-Li alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 2
- 239000005725 8-Hydroxyquinoline Substances 0.000 description 1
- 229910018134 Al-Mg Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018467 Al—Mg Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004205 SiNX Inorganic materials 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 150000001722 carbon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000032798 delamination Effects 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 238000010849 ion bombardment Methods 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229960003540 oxyquinoline Drugs 0.000 description 1
- 238000002294 plasma sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 230000000644 propagated effect Effects 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- MCJGNVYPOGVAJF-UHFFFAOYSA-N quinolin-8-ol Chemical group C1=CN=C2C(O)=CC=CC2=C1 MCJGNVYPOGVAJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000009751 slip forming Methods 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- 125000006617 triphenylamine group Chemical group 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
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Abstract
【解決手段】 有機エレクトロルミネッセンス素子1は、ホール注入電極層12と、電子注入電極層14と、ホール注入電極層12と電子注入電極層14との間に挟持された有機物層13と、電子注入電極層14と有機物層13の露出面を被覆する保護膜20とを有する。保護膜20は、露出面から窒化シリコン層15、ダイヤモンドライクカーボン層16および酸化シリコン層17を順次積層した多層膜とする。
【選択図】 図1
Description
(1)窒化シリコン層15の形成
有機EL素子基板10を基板ホルダー108にセットして、チャンバー101内を0.01Pa程度の高真空に排気する。プロセスガス導入管105を通してNH3ガス、N2ガス、Arガスをそれぞれチャンバー101内に導入し、材料ガス導入管106を通してSiH4ガスをチャンバー101内に導入し、チャンバー101内を圧力4Paに保持する。マイクロ波電力3.0kWにより生成したプラズマPにより5分間の成膜を行い、厚さ0.5μmの窒化シリコン層15を形成する。
再びチャンバー101内を0.01Pa程度の高真空に排気した後に、プロセスガス導入管105を通してArガスをチャンバー101内に導入し、材料ガス導入管106を通してCH4ガスをチャンバー101内に導入し、チャンバー101内を圧力4Paに保持する。そして、基板ホルダー108のバイアス電圧を零とし、マイクロ波電力2.0kWにより生成したプラズマPにより成膜を行い、厚さ0.02μmのDLC層16を形成する。このような条件下で成膜したDLC層16は、DLCの中では軟らかく、重合膜に近い機械的性質を有する。マイクロ波電力は、1.0〜4.0kWの範囲で変えてもよい。バイアス電圧は、DLC層16について所望の機械的性質が得られる範囲内で変えてもよい。なお、DLC層16の形成には、CH4ガスの他にエタン、プロパン等のパラフィン系やエチレン等のオレフィン系の炭化水素を用いてもよい。
再びチャンバー101内を0.01Pa程度の高真空に排気した後に、プロセスガス導入管105を通してO2ガスをチャンバー101内に導入し、材料ガス導入管106を通してSiH4ガスをチャンバー101内に導入し、チャンバー101内を圧力4Paに保持する。チャンバー101内では、マイクロ波電力3.0kWにより生成したプラズマPにより、SiH4ガスが分解して生成したSi原子とO2ガスが電離して生成したOイオン或いはOラジカルとが反応してSiO2が生成する。この条件下で3分間の成膜を行い、厚さ0.3μmの酸化シリコン層17を形成する。なお、酸化シリコン層17の形成には、SiH4ガスの代わりに、化学的に安定で取り扱い易いTEOS(Tetra Ethyl Orthosilicate:Si(OC2H3) 4)を用いてもよい。
10:有機EL素子基板
11:透明基板
12:ホール注入電極層(陽極)
13:有機物層
14:電子注入電極層(陰極)
15:窒化シリコン層
16:DLC層
17:酸化シリコン層
20:保護膜
100:SWP−CVD装置(表面波励起プラズマCVD装置)
A:端面
Claims (5)
- ホール注入電極層と、
電子注入電極層と、
前記ホール注入電極層と電子注入電極層との間に挟持された有機物層と、
前記電子注入電極層と有機物層の露出面を被覆する保護膜とを有し、
前記保護膜は、前記露出面から窒化シリコン層、ダイヤモンドライクカーボン層および酸化シリコン層を順次積層して成る多層膜であることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。 - 請求項1に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子において、
前記ダイヤモンドライクカーボン層は、ダイヤモンド結合に対するグラファイト結合の組成比率が1よりも大きいことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。 - 基板上にホール注入電極層を形成する工程と、
前記ホール注入電極層上に有機物層を形成する工程と、
前記有機物層上に電子注入電極層を形成する工程と、
前記電子注入電極層と有機物層の露出面に、窒化シリコン層、ダイヤモンドライクカーボン層および酸化シリコン層を順次積層して保護膜を形成する工程とを有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。 - 請求項3に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法において、
前記保護膜は、高密度プラズマを用いる成膜法により形成されることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。 - 請求項4に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法において、
前記高密度プラズマ成膜法は、表面波励起プラズマ、電子サイクロトロン共鳴プラズマまたは誘導結合プラズマを用いる成膜法であることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
Priority Applications (1)
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---|---|---|---|
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JP2004027007A JP4543691B2 (ja) | 2004-02-03 | 2004-02-03 | 有機エレクトロルミネッセンス素子およびその製造方法 |
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JP2005222733A true JP2005222733A (ja) | 2005-08-18 |
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JP (1) | JP4543691B2 (ja) |
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Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090305 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Request for written amendment filed |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Request for written amendment filed |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130709 Year of fee payment: 3 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |