JP2005214709A - 電子線照射装置、電子線照射方法、ディスク状体の製造装置及びディスク状体の製造方法 - Google Patents

電子線照射装置、電子線照射方法、ディスク状体の製造装置及びディスク状体の製造方法 Download PDF

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Abstract

【課題】 紫外線照射では硬化が困難である材料をも容易に硬化でき電子線照射管の本数を削減できる電子線照射装置及び電子線照射方法を提供する。また、紫外線照射では硬化が困難である材料による潤滑層等をディスク状体上に効率よくかつ低コストで形成できるディスク状体の製造装置及びディスク状体の製造方法を提供する。
【解決手段】 この電子線照射装置１は、被照射体２を回転駆動するモータ１７と、被照射体を回転可能に収容する遮蔽容器１０と、被照射体の表面に対し電子線が照射されるように遮蔽容器に設けられた電子線照射部１１と、を備え、被照射体の回転中にその表面に電子線照射部から電子線を照射する際に、電子線照射部と被照射体とを相対的に移動させる。
【選択図】 図１

Description

本発明は、電子線照射のための電子線照射装置、電子線照射方法、ディスク状体の製造装置及びディスク状体の製造方法に関する。
従来、光情報記録媒体としてＣＤ（コンパクトディスク）やＤＶＤ（デジタルバーサタイルディスク）等の光ディスクが実用化されているが、最近、発振波長が４００ｎｍ程度の青紫色半導体レーザの開発が進んでおり、かかる青紫色半導体レーザを用いてＤＶＤよりも高密度記録の可能な高密度ＤＶＤ等の次世代の高密度光ディスクの開発が行われている。
かかる次世代の高密度光ディスクの現在考えられている層構成の例を図１３に示す。この高密度光ディスクは、ポリカーボネート等の樹脂材料からなる基材９０の上に、情報記録のための記録層９１と、記録・再生のためのレーザ光が記録層９１に入射するように透過する光透過層９２と、光ピックアップ側の部材との接触を考慮した保護層９３とが順に積層されている。これらの光透過層９２及び保護層９３は、それらの形成時に硬化のために塗布後に紫外線が照射されるが、特に保護層等をラジカル重合性二重結合を有するシリコーン化合物及びフッ素化合物等の材料から形成する場合に、反応開始剤を添加すると保護層等としての特性が劣る場合があり、このような場合反応開始剤を添加しないと、紫外線照射では硬化が困難であり、充分な品質の保護層を形成することができない（下記特許文献１乃至４参照）。
上述のような従来技術の問題点を解決するために、本発明者等は、先に、他の発明者等とともに特願２００２−２７４１２０において、ディスク基体を回転させながら２０〜１００ｋＶ程度の加速電圧の電子線を照射することで紫外線よりも大きなエネルギを有する電子線を効率よく照射でき、紫外線照射では硬化が困難な潤滑層等の保護層等を容易に硬化できるようにした電子線照射装置・電子線照射方法を提案した。この場合、ディスク基体全体に均一に電子線を照射するように複数本の電子線照射管を配置している。
しかし、電子線照射装置において複数本の電子線照射管を用いると、重量が増えて装置が大型化しまた電子線照射管が比較的高価であるため設備コストが増大すること、冷却用Ｎ２ガスや電力の消費量が増えてランニングコストが増大すること等に起因して製造コストが嵩んでしまう。
特開平４−０１９８３９号公報 特開平１１−１６２０１５号公報 特開平７−２９２４７０号公報 特開２０００−６４０４２公報
本発明は、上述のような従来技術の問題に鑑み、紫外線照射では硬化が困難である材料をも容易に硬化できるとともに用いる電子線照射管の本数を削減することのできる電子線照射装置及び電子線照射方法を提供することを目的とする。
また、紫外線照射では硬化が困難である材料による機能性を有する層をディスク状体上に効率よくかつ低コストで形成できるようにしたディスク状体の製造装置及びディスク状体の製造方法を提供することを目的とする。
上記目的を達成するために、本発明による電子線照射装置は、被照射体を回転駆動する回転駆動部と、前記被照射体を回転可能に収容する遮蔽容器と、前記被照射体の表面に対し電子線が照射されるように前記遮蔽容器に設けられた電子線照射部と、を備える電子線照射装置であって、前記被照射体の回転中にその表面に前記電子線照射部から電子線を照射する際に、前記電子線照射部と前記被照射体とを相対的に移動させるように構成したことを特徴とする。ここで、上述の相対的な移動には前記被照射体の回転（自転）は含まれない。
この電子線照射装置によれば、回転中の被照射体の表面に対し電子線を照射するので、被照射体の表面に紫外線よりも大きなエネルギを有する電子線を効率よく照射することができるため、例えば、紫外線照射では硬化が困難である材料による機能性を有する層を容易に硬化できるとともに、かかる電子線照射の際に、電子線照射部と被照射体とを相対的に移動させるので、電子線照射部は例えばより少ない電子線照射管から構成でき、電子線照射管の本数が削減可能となる。ここで、機能性とは、潤滑性、帯電防止、防汚性、硬度、耐摩耗性等の意味を含む。以下、潤滑性を例にして説明する。
上記電子線照射装置において前記被照射体の回転平面内であって回転方向と直交する方向における前記電子線照射部の幅が前記回転平面内における回転中心からの最大距離よりも小さいように構成できる。即ち、被照射体の被照射面がディスク状である場合には、被照射体の回転平面内であって回転方向と直交する方向における電子線照射部の幅が被照射体の半径よりも小さくとも、上記相対移動により被照射体のほぼ全面に電子線が照射可能となる。また、被照射体の被照射面が多角形状等の非ディスク状の場合でも、上記方向における電子線照射部の幅が被照射体の回転平面内における回転中心からの最大距離（回転平面内で回転により形成される円の最大半径）よりも小さくとも、上記相対移動により被照射体のほぼ全面に電子線が照射可能となる。
また、前記電子線照射部の前記被照射体に対する照射位置に応じて前記被照射体の回転速度を変化させるように構成できる。この場合、前記電子線照射部が前記被照射体の外周側を照射するときには前記被照射体の回転速度を小さくし、内周側を照射するときには前記被照射体の回転速度を大きくすることで、被照射体の電子線吸収線量を被照射体の位置に関わらずに一定にすることができる。なお、この場合には、被照射体を電子線照射部に対して移動させるように構成でき、また、電子線照射部を被照射体に対して移動させるように構成してもよい。また、電子線照射部及び被照射体の両方を相対的に移動させるようにしてもよい。
また、前記電子線照射部の前記被照射体に対する照射位置に応じて前記電子線照射部の移動速度を変化させるように構成できる。例えば、電子線照射部を被照射体に対して移動させる場合、前記電子線照射部が前記被照射体の外周側を照射するときには前記電子線照射部の移動速度を低くし、内周側を照射するときには前記電子線照射部の移動速度を高くすることで、被照射体の電子線吸収線量を被照射体の位置に関わらずに一定にすることができる。
前記電子線照射部は単一の電子線照射管の照射窓により構成できる。なお、前記被照射体は好ましくはディスク形状を有し、前記電子線照射部と前記被照射体との相対移動により、前記被照射体における被照射領域が被照射体の半径方向に順々に移動しながら電子線が照射され、被照射体における照射必要領域に電子線を照射できる。
本発明による電子線照射方法は、密閉可能な遮蔽容器内に収容された被照射体を回転駆動し、前記被照射体の回転中の表面に対し電子線を電子線照射部から照射する際に、前記電子線照射部と前記被照射体とを相対的に移動させることを特徴とする。
この電子線照射方法によれば、回転中の被照射体の表面に対し電子線を照射するので、被照射体の表面に紫外線よりも大きなエネルギを有する電子線を効率よく照射することができるため、例えば、紫外線照射では硬化が困難である材料による潤滑層等を容易に硬化できるとともに、かかる電子線照射の際に、電子線照射部と被照射体とを相対的に移動させるので、電子線照射部はより少ない電子線照射管から構成でき、電子線照射管の本数が削減可能となる。
上記電子線照射方法において前記電子線照射部の前記被照射体に対する照射位置に応じて前記被照射体の回転速度を変化させることが好ましい。この場合、前記電子線照射部が前記被照射体の外周側を照射するときには前記被照射体の回転速度を小さくし、内周側を照射するときには前記被照射体の回転速度を大きくすることで、被照射体の電子線吸収線量を被照射体の位置に関わらずに一定にすることができる。
また、前記電子線照射部の前記被照射体に対する照射位置に応じて前記電子線照射部の移動速度を変化させることが好ましい。この場合、前記電子線照射部が前記被照射体の外周側を照射するときには前記電子線照射部の移動速度を低くし、内周側を照射するときには前記電子線照射部の移動速度を高くすることで、被照射体の電子線吸収線量を被照射体の位置に関わらずに一定にすることができる。
本発明によるディスク状体の製造装置は、上述の電子線照射装置を備え、前記被照射体をディスク状体として、その上に形成された機能性を有する層を前記電子線照射により硬化させるように構成したことを特徴とする。
このディスク状体の製造装置によれば、回転中のディスク状体に対し電子線を照射するので、ディスク状体に紫外線よりも大きなエネルギを有する電子線を効率よく照射することができる。このため、紫外線照射では硬化が困難である材料による潤滑層等を簡単に硬化できディスク状体に効率よく形成でき、また、かかる電子線照射の際に、電子線照射部とディスク状体とを相対的に移動させるので、電子線照射部はより少ない電子線照射管から構成でき、電子線照射管の本数が削減可能となり、設備コスト及びランニングコストを低減でき、低コストで潤滑層等を形成できる。
本発明によるディスク状体の製造方法は、上述の電子線照射装置を用いるか、または、上述の電子線照射方法を用い、前記被照射体をディスク状体として、その上に形成された機能性を有する層を前記電子線照射により硬化させることを特徴とする。
このディスク状体の製造方法によれば、回転中のディスク状体に対し電子線を照射するので、ディスク状体に紫外線よりも大きなエネルギを有する電子線を効率よく照射することができる。このため、紫外線照射では硬化が困難である材料による潤滑層等を簡単に硬化できディスク状体上に効率よく形成でき、また、かかる電子線照射の際に、電子線照射部とディスク状体とを相対的に移動させるので、電子線照射部はより少ない電子線照射管から構成でき、電子線照射管の本数が削減可能となり、設備コスト及びランニングコストを低減でき、低製造コストで潤滑層等を形成できる。
本発明による別のディスク状体の製造装置は、開閉可能な遮蔽容器内に設けられた第１の回動部にディスク状体を収容し回転駆動し、前記ディスク状体の回転中の表面に対し電子線を電子線照射部から照射する電子線照射装置と、ディスク状体を第２の回動部に収容できかつ前記遮蔽容器に対し独立して密閉及び開閉可能な入替室と、を備える密閉可能なチャンバと、前記遮蔽容器内の第１の回動部と前記入替室内の第２の回動部とを回動させることで前記両回動部を互いに入れ替える回動部と、を具備し、前記ディスク状体の回転中の前記電子線照射の際に、前記電子線照射部と前記ディスク状体とを相対的に移動させるように構成したことを特徴とする。
このディスク状体の製造装置によれば、回転中のディスク状体に対し電子線を照射するので、ディスク状体に紫外線よりも大きなエネルギを有する電子線を効率よく照射することができるため、例えば、紫外線照射では硬化が困難である材料による潤滑層等を容易に硬化できる。また、第１の回動部と第２の回動部との回動で両回動部を互いに入れ替えることにより、照射後のディスク状体を排出するとともに照射前のディスク状体を供給し両ディスク状体を効率よく入れ替えることができるので、生産性が向上するとともに、電子線照射の際に、電子線照射部とディスク状体とを相対的に移動させるので、電子線照射部はより少ない電子線照射管でよい構成にでき、電子線照射管の本数が削減可能となり、設備コスト及びランニングコストを低減でき、低製造コストで潤滑層等を形成できる。
上記ディスク状体の製造装置において前記ディスク状体の回転平面内であって回転方向と直交する方向における前記電子線照射部の幅が前記ディスク状体の半径よりも小さいように構成できる。
また、前記電子線照射部の前記ディスク状体に対する照射位置に応じて前記ディスク状体の回転速度を変化させることが好ましい。この場合、前記第１の回動部及び第２の回動部を公転可能に構成し、前記第１の回動部が公転しながら前記ディスク状体の回転中の表面に対し電子線を電子線照射部から照射するように構成することで、電子線照射部に対しディスク状体を移動できるように構成できる。また、前記電子線照射部が前記ディスク状体の外周側を照射するときには前記ディスク状体の回転速度を小さくし、内周側を照射するときには前記ディスク状体の回転速度を大きくすることで、ディスク状体の電子線吸収線量をディスク状体の位置に関わらずに一定にすることができる。
また、前記電子線照射部の前記ディスク状体に対する照射位置に応じて前記電子線照射部の移動速度を変化させることが好ましい。この場合、前記電子線照射部が前記ディスク状体の外周側を照射するときには前記電子線照射部の移動速度を低くし、内周側を照射するときには前記電子線照射部の移動速度を高くすることことで、ディスク状体の電子線吸収線量をディスク状体の位置に関わらずに一定にすることができる。また、前記電子線照射部は単一の電子線照射管の照射窓により構成できる。
以下、本発明を実施するための最良の形態について図面を用いて説明する。即ち、本発明の第１の実施の形態による電子線照射装置、並びに本発明の第２及び第３の実施の形態によるディスク状媒体の製造装置について図面を用いて説明する。
〈第１の実施の形態〉
第１の実施の形態の電子線照射装置は、ディスク状の被照射体に対し単一の電子線照射管を移動させながら電子線を照射するように構成したものである。
図１は本発明の実施の形態による電子線照射装置を概略的に示す側面図である。図２は図１の電子線照射装置の要部平面図である。図３は図１の電子線照射装置の制御系を示すブロック図である。図４は図１乃至図３の電子線照射装置の動作を示すフローチャートである。図５は、図１乃至図３の電子線照射装置における電子線照射管１１ａの半径方向位置と電子線照射管１１ａの移動速度との関係を概略的に示す図である。図１７は図１，図２の電子線照射装置において回転するディスク状の被照射体と電子線照射管との平面的な位置関係を示す平面図である。
図１に示すように、電子線照射装置１は、ディスク状の被照射体２を回転可能に収容し電子線を遮蔽するためにステンレス鋼から構成された遮蔽容器１０と、被照射体２の中心孔を係合部４に係合することで保持した被照射体２を回転軸３を介して回転駆動するモータ１７と、低加速電圧による電子線を発生するための電子線照射管１１ａと、電子線照射管１１ａの照射窓から構成され被照射体２に対し電子線を照射する電子線照射部１１ｃと、電子線照射管１１ａに電圧を印加するための電源１２と、電子線照射管１１ａの近傍に配置された温度センサ２４により電子線照射管１１ａの近傍の温度を測定する温度測定装置１３と、を備える。
また、電子線照射装置１は、遮蔽容器１０内の密閉空間の酸素濃度を測定する酸素濃度計１６と、遮蔽容器１０内をバルブ１９を介して排気し減圧する真空装置１８と、遮蔽容器１０内を窒素ガス雰囲気に置換するために窒素ガスを供給する窒素ガス源１４と、窒素ガス源１４から窒素ガスがガス導入口２５から導入され照射窓１１ｃの近傍を通りガス排出口２６から排出するように流れるときのガス流量を制御可能なガス流量制御バルブ１５と、を備える。また、ガス排出口２６にはバルブ（図示省略）が設けられている。
図１，図２のように、電子線照射装置１は、電子線照射管１１ａを被照射体２の半径方向Ｒに移動させる移動機構２０と、遮蔽容器１０の上部に配置されかつ電子線照射管１１ａを内部に収容する照射管容器１１ｂと、を備える。電子線照射管１１ａは、その加速電圧が２０乃至１００ｋＶである電子線を図１，図２，図１７の被照射体２の半径方向Ｒに沿うように配置された細長い照射窓（即ち、電子線照射部１１ｃ）から照射する。電子線照射管１１ａの照射窓（電子線照射部）１１ｃは、その半径方向Ｒに沿った幅ｄが図１７のディスク状の被照射体２の半径ｒ（回転中心２ａから外周までの距離）よりも小さい。
図２のように、照射管容器１１ｂ内の遮蔽容器１０の上面には電子線照射管１１ａが配置されて移動可能なように細長い開口部２３が形成されている。照射管容器１１ｂは、開口部２３から電子線が漏洩しないように遮蔽容器１０と同様にステンレス鋼から構成され電子線を遮蔽する。
移動機構２０は、照射管容器１１ｂの外部で遮蔽容器１０の上面に配置されたサーボモータ２１と、照射管容器１１ｂ内で電子線照射管１１ａと連結しサーボモータ２１により回転駆動されるボールスライド軸２２と、を備える。サーボモータ２１はボールスライド軸２２を回転駆動することで電子線照射管１１ａを開口部２３に沿って直線移動させ、サーボモータ２１の回転数を制御することで電子線照射管１１ａの移動速度を調整できる。移動機構２０による電子線照射管１１ａの半径方向Ｒへの移動により、図１７の被照射体２の半径ｒよりも幅ｄが短い照射窓１１ｃを持つ電子線照射管１１ａを用いて被照射体２のほぼ全面に電子線を照射できる。
電子線照射管１１ａは電源１２から電圧が印加され、その加速電圧が２０乃至１００ｋＶである電子線を照射窓１１ｃから回転中の被照射体２の一部の領域に照射するが、この場合、図３の制御部３０は、被照射体２の回転速度を一定とし、移動機構２０のサーボモータ２１を、図５のように、電子線照射管１１ａが被照射体２の外周側を照射するときには電子線照射管１１ａの移動速度を低くし、内周側を照射するときには電子線照射管１１ａの移動速度を高くなるように制御する。これにより、被照射体２の電子線吸収線量を被照射体２の半径方向位置に関わらずに一定にすることができる。
以上のような図１，図２の電子線照射装置１は、図３に示すように制御部３０により全体が制御されながら電子線照射を行うが、電子線照射装置１の動作の各ステップＳ０１乃至Ｓ１１を図４を参照して説明する。
制御部３０の制御により、まず、ガス排出口２６のバルブを閉じた後、真空装置１８が作動し遮蔽容器１０内を減圧し（Ｓ０１）、バルブ１９を閉じてから、窒素ガスを窒素ガス源１４からガス流量制御バルブ１５を介して遮蔽容器１０内に導入する（Ｓ０２）。これにより、遮蔽容器１０内を窒素雰囲気に容易に置換することができる。
そして、酸素濃度計１６で遮蔽容器１０内が所定の酸素濃度まで低下したことを検知し（Ｓ０３）、モータ１７を駆動することで被照射体２を所定の回転速度で回転させる（Ｓ０４）。一方、電源１２から電子線照射管１１ａに電圧を印加し（Ｓ０５）、電子線を発生させる（Ｓ０６）。このとき、電子線照射管１１ａは図１，図２の実線のように被照射体２の最外周よりも更に外側に位置している。
次に、サーボモータ２１を駆動しボールスライド軸２２を回転させることで、電子線照射管１１ａを図１，図２の実線位置から半径方向Ｒに内周側へと図の破線位置に向かうように移動させながら（Ｓ０７）、電子線照射管１１ａの照射窓１１ｃから電子線を回転中の被照射体２の表面に照射する（Ｓ０８）。このように電子線を照射する間、電子線照射管１１ａの移動を被照射体２の最外周側から最内周側に向けてその半径方向Ｒへの移動速度が図５のように低速から高速に変化するように制御するので、回転中の被照射体２の電子線吸収線量を被照射体２の半径方向位置に関わらずに一定にできる。
そして、電子線照射管１１ａが照射管容器１１ｂから係合部４の上方を覆うように延びた端部１１ｄの位置と対応する被照射体２の回転中心の近傍まで移動すると、電子線照射管１１ａの移動を停止するとともに電子線照射管１１ａからの電子線照射を停止する（Ｓ０９）。
また、電子線照射管１１ａから電子線が発生している間、窒素ガス源１４からの窒素ガスがガス導入口２５から照射窓１１ｃの近傍を通りガス排出口２６へと流れるようにすることで（Ｓ１０）、電子線発生時に温度上昇する照射窓１１ｃを冷却できる。また、照射窓１１ｃ近傍の温度を温度センサ２４と温度測定装置１３とで測定し、その測定温度に基づいて窒素ガスの流量をガス流量制御バルブ１５で制御する（Ｓ１１）。これにより、照射窓１１ｃ近傍の温度を一定温度以下に制御できる。
以上のように、図１乃至図４の電子線照射装置によれば、回転中の被照射体２の表面に対し電子線を照射するので、被照射体２の表面に紫外線よりも大きなエネルギを有する電子線を効率よく照射することができ、このため、例えば、紫外線照射では硬化が困難である材料による潤滑層等を容易に硬化できる。
上述の電子線照射の際に、電子線照射管１１ａを回転中の被照射体２に対し移動させるので、単一の電子線照射管１１ａにより被照射体２のほぼ全面に電子線を照射でき、従来よりも少ない電子線照射管で構成でき、電子線照射管の本数を削減できる。従って、高価な電子線照射管の本数が１本で済むので、装置の重量が増えることがなく、装置が大型化せずに設備コストを抑えることができるとともに、冷却用Ｎ２ガスや電力の消費量も増えずに、ランニングコストも抑えることができる。
また、加速電圧が２０乃至１００ｋＶである低加速電圧による電子線を照射するので、被照射体２の表面から薄い範囲に例えば潤滑層に効率よく電子線エネルギを与え、その下方に存在する基材等に電子線による影響を与えず、基材等の劣化を防止できる。
また、遮蔽容器１０内が所定の酸素濃度まで低下してから電子線を照射するので、電子線の照射される被照射体２の表面近傍での酸素によるラジカル反応阻害が発生し難くなり、潤滑層等において良好な硬化反応を確保できる。
なお、上述の説明では、電子線照射管１１ａを被照射体１１ａの外周から内周に向かうように移動させたが、被照射体１１ａの内周から外周に向かうように移動させるようにしてもよい。また、電子線照射管１１ａを被照射体１１ａの外周→内周→外周、または、内周→外周→内周、のように往復動させてもよい。
〈第２の実施の形態〉
次に、第２の実施の形態としてのディスク状媒体の製造装置について説明する。図６乃至図１０は、本実施の形態においてディスク状媒体上に潤滑性を有する層（潤滑層）を形成するための各工程を説明する製造装置の側面図である。
図６乃至図１０に示すように、ディスク状媒体の製造装置（以下、単に「製造装置」という。）５０は、加速電圧が２０乃至１００ｋＶである低加速電圧による電子線を発生しディスク状媒体４９の表面に照射する電子線照射装置１と、照射前のディスク状媒体４９を電子線照射装置１に供給しかつ照射後のディスク状媒体４９ａを電子線照射装置１から受け取る入替室５２と、照射前のディスク状媒体と照射後のディスク状媒体とを入れ替えるために回動軸５３により回動する回動部５４と、を密閉可能なチャンバ５１内に備える。
図６乃至図１０のように、製造装置５０は、更に、照射前のディスク状媒体を入替室５２に供給し照射後のディスク状媒体を排出するようにディスク状媒体の搬送を行うディスク搬送装置６０を備える。
電子線照射装置１は、図１乃至図３とほぼ同様に構成されているので、図１乃至図３と相違する点を説明する。即ち、図１の遮蔽容器１０は、図６では、ディスク状媒体４９を回転可能に収容するようにトレイ状に構成された図の下側の回動トレイ部１０ａと、照射管容器１１ｂや移動機構２０等が設けられる上側の固定部１０ｂとに分割され、回動トレイ部１０ａは第１の回動部として固定部１０ｂに対し回動部５４により上下動及び回動し入替室５２側に移動可能になっている。
図６のように、回動トレイ部１０ａの合わせ面１０ｃ及び固定部１０ｂの合わせ面１０ｃ’には電子線が外部に漏れないように電子線を遮蔽する遮蔽部５５が設けられている。図１１は遮蔽部５５を示す拡大断面図である。図１１に示すように、回動トレイ部１０ａの合わせ面１０ｃには凸部５５ａが全周に形成され、固定部１０ｂの合わせ面１０ｃ’には凸部５５ａが入り込むことができるように凹部５５ｂが全周に形成されている。
また、遮蔽部５５を構成する凹部５５ｂの底部には更に窪み５５ｃが形成され、窪み５５ｃ内にＯリング５６ａを収め密閉部５６を形成している。合わせ面１０ｃと合わせ面１０ｃ’とを合わせると、密閉部５６では凸部５５ａが凹部５５ｂから更に窪み５５ｃ内に若干入り込み、窪み５５ｃ内のＯリング５６ａを押し付け、回動トレイ部１０ａと固定部１０ｂとを合わせることで、内部に形成される密閉空間１０ｄの密閉性を密閉部５６により高めることができるとともに、電子線の遮蔽性が良好となる。なお、回動トレイ部１０ａ、５２ａは図１０のように下方に移動し入れ替えられるとき、固定部１０ｂと衝突しないように図１１の破線位置まで下降する。
また、図１１の遮蔽部５５では密閉部５６のＯリング５６ａが凹部５５ｂの更に底部側の窪み５５ｃ内に位置し、電子線が直接に照射されないので、Ｏリング５６ａの劣化を防止できる。
図６に示すように、入替室５２は、回動部５４により上下動及び回動し電子線照射装置１側に移動し回動トレイ部１０ａと入れ替え可能でありトレイ状に構成された第２の回動部としての回動トレイ部５２ａと、ディスク搬送装置６０により照射前のディスク状媒体を受け取り照射後のディスク状媒体を外部に排出するように回動する搬送回動トレイ部５２ｂと、を備える。
チャンバ５１は入替室５２の一部を構成する端部５１ａと連結部５１ｂとを有する。端部５１ａと連結部５１ｂが入替室５２の回動トレイ部５２ａと搬送回動トレイ部５２ｂとの間に介在し合わせ面になって、入替室５２内に密閉空間５２ｃが形成されるとともに、搬送回動トレイ部５２ｂがチャンバ５１の一部を構成する。
また、端部５１ａと搬送回動トレイ部５２ｂとの間の合わせ面及び連結部５１ｂと搬送回動トレイ部５２ｂとの間の合わせ面にはそれぞれＯリングによる密閉部５７が設けられている。また、端部５１ａと回動トレイ部５２ａとの間の合わせ面及び連結部５１ｂと回動トレイ部５２ａとの間の合わせ面にはそれぞれ図１０と同様の遮蔽部５５，密閉部５６が設けられている。
チャンバ５１は、電子線照射装置１の端部側で固定部１０ｂと連結し、中央部付近で連結部５１ｂが固定部１０ｂと連結し、搬送回動トレイ部５２ｂが端部５１ａ及び連結部５１ｂで密閉されるので、全体として密閉可能になっている。また、チャンバ５１、搬送回動トレイ部５２ｂ（６２）、回動トレイ部１０ａ及び固定部１０ｂ等は、鉄鋼やステンレス鋼から構成され、電子線を遮蔽し、電子線が外部に漏れないようになっている。
チャンバ５１には窒素ガス導入口５８から窒素ガスが導入でき、また、入替室５２内の密閉空間５２ｃは真空装置５９により減圧可能である。図１０のようにチャンバ５１全体が密閉された状態で回動部５４が回動トレイ部１０ａ、５２ａとともに図の下方に移動し、密閉空間１０ｄ、５２ｃが開放された場合は、入替室５２は窒素ガスで置換された状態であるため、チャンバ５１内が電子線照射装置１の密閉空間１０ｄの窒素ガス雰囲気に影響を及ぼさない。
また、入替室５２には窒素ガス導入口５９ｂから窒素ガスが導入可能となっている。また、チャンバ５１内の窒素ガスはガス排出口５８ａから排出可能になっている。
図６に示すように、ディスク搬送装置６０は、入替室５２を構成する搬送回動トレイ部５２ｂと入れ替え可能な別の搬送回動トレイ部６２と、搬送回動トレイ部５２ｂ，６２を回動軸６３を介して回動させる回動部６４と、を備える。搬送回動トレイ部５２ｂ，６２は、ディスク状媒体４９の中心孔の周囲近傍でディスク状媒体４９を真空吸着する吸着部６１をそれぞれ有する。回動部６４は上下動及び回動によりディスク状媒体を入替室５２と外部のディスク受渡部７０との間で搬送する。
ディスク受渡部７０から入替室５２へと供給されるディスク状媒体４９は、外部のスピンコート装置でその表面に樹脂材料を含む光透過層とその上に潤滑剤からなる潤滑層が形成されている。
かかる光透過層形成のための材料としては活性エネルギー線硬化性化合物であれば特に限定されないが、（メタ）アクリロイル基、ビニル基及びメルカプト基の中から選択される少なくとも１つの反応性基を有することが好ましい。その他、公知の光重合開始剤を含んでいてもよい。
また、潤滑層形成のための材料としては、例えば、ラジカル重合性二重結合を有するシリコーン化合物及びフッ素化合物があるが、これらには限定されない。これらの潤滑層形成材料は、一般に、光重合開始剤を含まない場合には紫外線による硬化が困難であるが、電子線により瞬時に硬化させることができる。
次に、上述の製造装置５０の動作についてディスク状媒体への電子線照射及びディスク状媒体の排出・供給に分けて、図６乃至図１０、及び図１２のフローチャートを参照して説明する。
〈ディスク状媒体への電子線照射〉
図１２に示すように、まず、図１０のようにチャンバ５１全体が密閉され、回動軸５３及び回動部５４が回動トレイ部１０ａ、５２ａとともに図の下方に移動し、密閉空間１０ｄ、５２ｃが開放してから、窒素ガス導入口５８から窒素ガスをチャンバ５１内に導入し、内部を窒素ガス雰囲気に置換する（Ｓ２１）。このとき、酸素濃度計１６によりチャンバ５１内の酸素濃度を測定しながら窒素ガスの置換を行うことができる。
次に、回動軸５３及び回動部５４が回動トレイ部１０ａ、５２ａとともに図の上方に移動すると、図６のように密閉空間１０ｄ、５２ｃが形成される。そして、電子線照射装置１では、密閉空間１０ｄ内でモータ１７によりディスク状媒体４９が回転し（Ｓ２２）、電子線照射管１１ａが所定量の電子線を発生するように制御され（Ｓ２３）、窒素ガスがガス導入口２５からガス排出口２６へと照射窓１１ｃ近傍を通りながら流れる。
次に、移動機構２０を作動させて電子線照射管１１ａの移動を開始し、電子線照射管１１ａをディスク状媒体４９の外周側から内周側に向けて移動させるとともに（Ｓ２４）、電子線照射管１１ａから回転中のディスク状媒体４９の光透過層上に潤滑層の形成された表面に電子線照射を行う（Ｓ２５）。
このとき、電子線照射管１１ａを半径方向Ｒ（図２、図１７）への移動速度がディスク状媒体４９の最外周側から最内周側に向けて図５のように低速から高速に変化するように移動させることで、ディスク状媒体４９のほぼ全面に電子線照射を行ってから、電子線照射管１１ａの移動及び照射を停止する（Ｓ２６）。これにより、ディスク状媒体４９の光透過層の表面に固着された潤滑層を有するディスク状媒体４９ａを得ることができる。これは、光透過層の表面近傍が硬化するとともに潤滑剤の反応性基が光透過層表面や他の潤滑剤の反応性基と結合（硬化）するためと思われる。
〈ディスク状媒体の排出・供給〉
図６のように入替室５２内の密閉空間５２ｃが形成されている状態で、図７のように、照射後のディスク状媒体４９ａが内部にある入替室５２の密閉空間５２ｃを開放バルブ５９ｃ及び開放口５９ｄを介して大気開放する（Ｓ３０）。
そして、ディスク搬送装置６０は回動軸６３及び回動部６４の吸着アーム６４ａを下降させて搬送回動トレイ部５２ｂ側の吸着部６１を図７の下方に移動させて、ディスク状媒体４９ａを吸着する（Ｓ３１）。これとほぼ同時に、外部のディスク受渡部７０にある表面に潤滑層の形成された照射前のディスク状媒体４９を別の搬送回動トレイ部６２側の吸着部６１が吸着する（Ｓ３２）。
次に、図８のように、ディスク搬送装置６０は吸着アーム６４ａを上昇させディスク状媒体４９ａを持ち上げ、同時に回動軸６３及び回動部６４を図８の上方に移動させる。そして、回動部６４が回動軸６３を中心にして回動することで搬送回動トレイ部５２ｂと６２との位置を入れ替える（Ｓ３３）。
次に、図９のように、ディスク搬送装置６０が回動軸６３及び回動部６４を図８の下方に移動させることで、ディスク状媒体４９を入替室５２の回動トレイ部５２ａ内に収める（Ｓ３４）。一方、ディスク状媒体４９ａをディスク受渡部７０に渡し（Ｓ３５）、各吸着部６１がディスク状媒体４９，４９ａの吸着を止め図の上方に移動する。ディスク受渡部７０からディスク状媒体４９ａが外部に排出される（Ｓ３６）。
そして、上述のようにして再び形成された入替室５２内の密閉空間５２ｃを真空装置５９により減圧し、窒素ガス導入口５９ｂから窒素ガスを導入し窒素ガス置換をしておく（Ｓ３７）。
以上のようにして、電子線照射後のディスク状媒体４９ａを入替室５２からディスク受渡部７０まで搬送し、同時に、電子線照射前のディスク状媒体４９をディスク受渡部７０から入替室５２まで搬送することができ、ディスク状媒体４９の交換を回動軸６３及び回動部６４の１回の回動で行うことができる。
また、上述のディスク状媒体４９、４９ａの交換は、密閉空間１０ｄと５２ｃとが独立しているので、図７，図８のように、電子線照射装置１における電子線照射中に実行することができ、効率的である。
次に、入替室５２と電子線照射装置１との間のディスク状媒体の入れ替え動作について説明する。即ち、上述の図９のように照射前のディスク状媒体４９が入替室５２の回動トレイ部５２ａ内に収容され、電子線照射装置１では、モータ１７による回転が停止し（Ｓ３８）、電子線照射の終了したディスク状媒体４９ａが回動トレイ部１０ａ内に収容された状態で、回動軸５３及び回動部５４が図の下方に移動することで、回動トレイ部５２ａ、１０ａを下方に移動して密閉空間５２ｃ、１ａを開放する。なお、このとき密閉空間５２ｃ内は窒素ガス雰囲気に置換されているので、チャンバ５１内の他の部分への影響はない。
次に、図１０のように、チャンバ５１内で回動部５４が回動軸５３を中心に回動することで回動トレイ部５２ａと１０ａとの位置を入れ替える（Ｓ３９）。これにより、回動トレイ部５２ａに収容された照射前のディスク状媒体４９が電子線照射装置１内に移り（Ｓ４０）、これとほぼ同時に、回動トレイ部１０ａに収容されたディスク状媒体４９ａが入替室５２内に移る（Ｓ４１）。
上述のようにして、入替室５２と電子線照射装置１との間のディスク状媒体４９、４９ａの交換を回動軸５３及び回動部５４の１回の回動で行うことができる。そして、回動軸５３及び回動部５４が図の上方に移動することで、回動トレイ部５２ａ、１０ａを上方に移動させて図５のように密閉空間５２ｃ、１ａを再び形成し、電子線照射装置１では上述のステップＳ２２に戻り、また、入替室５２では上述のステップＳ３０に戻り、同様の動作を繰り返すことができる。
なお、モータ１７の回転軸３は、回動軸５３及び回動部５４の回動時には、回動部５４及び回動トレイ部１０ａから下方に退避するようになっており、回動部５４が回動できる。
以上のように、図５乃至図９の製造装置５０によれば、表面に潤滑層等が形成されたディスク状媒体４９を回転させ、その回転中のディスク状媒体上に加速電圧が２０乃至１００ｋＶである低加速電圧による電子線を照射するので、ディスク状媒体上に紫外線よりも大きなエネルギを有する電子線を瞬時に効率よく照射することができるため、紫外線照射では硬化が困難である潤滑層等を容易に硬化・固着でき、潤滑層等を瞬時に形成でき、潤滑層等形成の生産性が向上する結果、ディスク状媒体の生産性向上に寄与できる。
また、単一の電子線照射管１１ａによりディスク状媒体４９のほぼ全面に電子線を照射でき、電子線照射管の本数を削減でき、高価な電子線照射管の本数が１本で済むので、装置の重量が増えることがなく、装置が大型化せずに設備コストを抑えることができるとともに、冷却用Ｎ２ガスや電力の消費量も増えずに、ランニングコストも抑えることができ、ディスク状媒体４９の製造コストを低減できる。
また、電子線照射管１１ａの移動速度がディスク状媒体４９の最外周側から最内周側に向けて低速から高速に変化するように電子線照射管１１ａを移動させることで、ディスク状媒体４９のほぼ全面に電子線照射を行い、ディスク状媒体４９の電子線吸収線量をディスク状媒体４９の半径方向位置に関わらずに一定にでき、潤滑層等を容易に均一に硬化させることができる。
また、チャンバ５１の内部及びディスク搬送装置６０において回動トレイ部と別の回動トレイ部との連動したそれぞれ１回の回動で両回動トレイ部を互いに入れ替えることにより、照射後のディスク状媒体４９ａを排出するとともに照射前のディスク状媒体４９を供給することができ、効率よく入れ替えることができるので、生産性が向上する。
また、加速電圧が２０乃至１００ｋＶである低加速電圧による電子線を用いるので、表面から薄い範囲にある潤滑層等に効率よく電子線エネルギを与え、その下方に存在する基材に電子線による影響を与えない。
例えば、電子線照射装置１の電子線照射部１１を構成する低加速電圧による電子線照射のための電子線照射管１１ａは、ウシオ電機（株）から市販されており、例えば、加速電圧５０ｋＶ、管電流０．６ｍＡ／本の条件で、表面から１０乃至２０μｍ程度の深さ範囲内の潤滑層・樹脂層等に効率よく電子線エネルギを与えることができ、１秒未満で瞬時に効率的に硬化させることができる。例えば、図１３のような光ディスクの潤滑層９３のみならず光透過層９２の少なくとも潤滑層９３と接する部分をも同時に硬化できる。しかも、例えば図１３のような光ディスクにおいて潤滑層９３の下方にある基材９０には電子線が到達しないので、ポリカーボネート等の樹脂材料からなる基材９０にダメージを与えず、変色・変形・劣化等の悪影響が起きない。
なお、電子線照射管１１ａの照射窓１１ｃを構成する窓材としては厚さ３μｍ程度のシリコン薄膜が好ましく、従来の照射窓では取り出すことのできない１００ｋＶ以下の低い加速電圧で加速された電子線を取り出すことができる。
〈第３の実施の形態〉
次に、第３の実施の形態としてのディスク状媒体の製造装置について説明する。上述の第２の実施の形態による図６乃至図１１のディスク状媒体の製造装置はディスク状媒体に対し単一の電子線照射管を移動させながら電子線照射を行うものであるが、第３の実施の形態は単一の電子線照射管に対しディスク状媒体側を移動させるように構成したものであり、第２の実施の形態に対し異なる部分を中心に説明し、第２の実施の形態と同様の構成部分には同じ符号を付して、その説明を省略する。
図１４は、第３の実施の形態においてディスク状媒体上に潤滑層等を形成するための製造装置の図６と同様の工程を示す側面図である。図１５は図１４の製造装置の要部平面図である。図１６は、図１４，図１５における電子線照射管１１ａのディスク状媒体に対する半径方向位置とディスク状媒体の回転速度との関係を概略的に示す図である。
図１４のように、第３の実施の形態の製造装置では、電子線照射部１１は照射管容器１１ｂ内に電子線照射管１１ａをディスク状媒体４９の中心近傍の上部位置に固定して配置している。
また、チャンバ５１内で回動トレイ部５２ａと１０ａとの位置を入れ替えるために回動トレイ部５２ａと回動トレイ部１０ａとを独立に回動制御する。回動トレイ部５２ａは回動トレイ部１０ａのモータ１７とは別のモータ１７ａにより回転（自転）される。
また、回動トレイ部１０ａはモータ８１により回動軸５３ａを介して公転される。回動トレイ部５２ａはモータ８２により、回動軸５３ａと同心的に配置された回動軸５３ｂを介して公転される。
図１４，図１５のように、回動トレイ部１０ａは、電子線照射管１１ａからディスク状媒体４９に対し電子線が照射されるとき、ディスク状媒体４９をモータ１７で自転させながら、モータ８１により電子線照射開始位置９１から電子線照射終了位置９２まで回動軸５３ａを中心とする円形の公転軌道Ｓ（図１５の一点鎖線で示す）上を回転方向ｋに一定の公転速度で移動するように制御される。
また、図１５の入れ替え位置９３に位置する回動トレイ部５２ａも回動トレイ部１０ａとの入れ替えのために公転軌道Ｓ上を回転方向ｋに移動し、図１５の電子線照射開始位置９１に移動し、回動トレイ部５２ａに保持された次の別のディスク状媒体について電子線照射を行うように制御される。
図１６のように、図１５の電子線照射開始位置９１で電子線照射管１１ａがディスク状媒体４９の内周側を照射するときには、モータ１７によるディスク状媒体４９の回転速度を大きくし、ディスク状媒体４９が図１５の電子線照射終了位置９２に向けて公転しながら移動し電子線照射管１１ａが外周側へと照射するとき、ディスク状媒体４９の回転速度が次第に小さくなるようにモータ１７の回転速度を制御することで、ディスク状媒体４９の電子線吸収線量をディスク状媒体４９の半径方向位置に関わらずに一定にできる。
以上のように、電子線照射管１１ａとディスク状媒体４９との相対移動をディスク状媒体４９を公転移動させることで行う場合には、ディスク状媒体４９の回転速度（自転速度）ｔと、電子線照射管１１ａの回転中心からの半径方向位置ｒとは、次のような関係式（１）が成り立つように制御される。
ｔ∝１／ｒ ・・・（１）
図１４乃至図１６の製造装置によれば、表面に潤滑層等が形成されたディスク状媒体４９を回転させ、その回転中のディスク状媒体上に加速電圧が２０乃至１００ｋＶである低加速電圧による電子線を照射するので、ディスク状媒体上に紫外線よりも大きなエネルギを有する電子線を瞬時に効率よく照射することができるため、紫外線照射では硬化が困難である潤滑層等を容易に硬化・固着でき、潤滑層等を瞬時に形成でき、潤滑層等形成の生産性が向上する結果、ディスク状媒体の生産性向上に寄与できる。
また、単一の電子線照射管１１ａによりディスク状媒体４９のほぼ全面に電子線を照射でき、電子線照射管の本数を削減でき、高価な電子線照射管の本数が１本で済むので、装置の重量が増えることがなく、装置が大型化せずに設備コストを抑えることができるとともに、冷却用Ｎ２ガスや電力の消費量も増えずに、ランニングコストも抑えることができ、ディスク状媒体４９の製造コストを低減できる。
また、図１５のようにディスク状媒体４９が公転しながら電子線照射管１１ａによる照射位置が最内周側から最外周側へと移動するとき、ディスク状媒体４９の最内周側から最外周側に向けて高速から低速に変化するようにディスク状媒体４９を回転（自転）させることで、ディスク状媒体４９のほぼ全面に電子線照射を行い、ディスク状媒体４９の電子線吸収線量をディスク状媒体４９の半径方向位置に関わらずに一定にでき、潤滑層等を容易に均一に硬化させることができる。
また、図６乃至図１０と同様にして、チャンバ５１の内部及びディスク搬送装置６０において回動トレイ部と別の回動トレイ部との連動したそれぞれ１回の回動で両回動トレイ部を互いに入れ替えることにより、照射後のディスク状媒体４９を排出するとともに照射前のディスク状媒体４９を供給することができ、効率よく入れ替えることができるので、生産性が向上する。
なお、本明細書において、「回動」とは、回転のように一方向（またはその反対方向）に連続的に被照射体、ディスク状媒体が回るのではなく、一方向またはその反対方向に所定量だけ回りそこで停止するようにして、その位置を変えるように回ることを意味する。また、被照射体、ディスク状媒体の「半径方向」とは、被照射体、ディスク状媒体の回転中心から放射状に延びる方向を意味し、被照射体、ディスク状媒体の回転中心から偏心した点から被照射体、ディスク状媒体の外周に延びる方向も含む。
以上のように本発明を実施の形態により説明したが、本発明はこれらに限定されるものではなく、本発明の技術的思想の範囲内で各種の変形が可能である。例えば、本実施の形態のディスク状媒体の製造装置では、光ディスク等のディスク状媒体の表面近傍に上述のような材料からなる光透過層及び潤滑層を硬化して形成する例を説明したが、本発明はこれに限定されず、潤滑層以外の樹脂層等を硬化するのに適用してもよいことは勿論である。例えば、図１３において潤滑層９３の下の光透過層９２のみを形成するために適用してもよく、瞬時に硬化させることができ効率的であり、生産性向上に寄与できる。
また、電子線照射装置１で電子線を照射可能な被照射体としては各種のディスク状体であってよく、また、図６，図１４の製造装置で製造可能なディスク状体として、光ディスク等のディスク状媒体を例にして説明したが、媒体以外のディスク状体上に各種の樹脂層を形成する場合にも適用できることは勿論である。
また、図１，図２，図６乃至図１０の移動機構２０による電子線照射管１１ａの移動速度を一定とし、電子線照射管１１ａが被照射体２の外周側を照射するときにはモータ１７による被照射体２の回転速度を小さくし、内周側を照射するときには被照射体２の回転速度を大きくするようにモータ１７の回転速度を制御するようにしてもよい。即ち、上述の関係式（１）が成立するように、電子線照射管１１ａのボールスライド軸２２における半径方向位置に応じてモータ１７の回転数を最外周から最内周に向けて次第に減少させるように制御することで、被照射体２の電子線吸収線量を被照射体２の半径方向位置に関わらずに一定にできる。また、電子線照射管１１ａの移動速度及び被照射体２の回転速度の両方を制御するようにしてもよい。
また、図１４，図１５では、ディスク状媒体４９の公転軌道Ｓ上の回転方向ｋへの公転速度を一定にしたが、この公転速度を電子線照射管１１ａによる照射位置が最内周側のときに高速に、最外周側のときに低速になるように制御してもよい。このとき、ディスク状媒体４９の回転（自転）速度は一定にできるが、変化させてもよい。これらにより、被照射体２の電子線吸収線量を被照射体２の半径方向位置に関わらずに一定にできる。
また、図１の電子線照射装置及び図６，図１４の製造装置では、電子線を照射の対象となる表面における層厚さを考慮して、電子線照射管の管電圧等を決定することが好ましい。また、電子線照射管は、被照射体２やディスク状媒体４９の被照射面の大きさや面積に応じて複数本としてもよい。
また、チャンバ内や電子線照射装置内の雰囲気を置換するガスとしては窒素ガスに限定されず、アルゴンガスやヘリウムガス等の不活性ガスであってもよく、また、これらの２種またはそれ以上の混合ガスであってもよい。
第１の実施の形態による電子線照射装置を概略的に示す側面図である。 図１の電子線照射装置の要部平面図である。 図１の電子線照射装置の制御系を示すブロック図である。 図１乃至図３の電子線照射装置の動作を示すフローチャートである。 図１乃至図３の電子線照射装置における電子線照射管１１ａの半径方向位置と電子線照射管１１ａの移動速度との関係を概略的に示す図である。図６乃至図１０は、本実施の形態においてディスク状媒体上に潤滑層等を形成するための各工程を説明する製造装置の側面図である。 第２の実施の形態によるディスク状媒体の製造装置を概略的に示す側断面図であり、ディスク状媒体上に潤滑層等を形成するための電子線照射の直前の工程を説明する図である。 図６と同様の側断面図であり、ディスク状媒体上に潤滑層等を形成するための電子線照射及びディスク状媒体の外部との入替工程を説明する図である。 図７と同様の側断面図であり、ディスク状媒体上に潤滑層等を形成するための電子線照射及びディスク状媒体の外部との入替工程を説明する図である。 図６と同様の側断面図であり、ディスク状媒体上に潤滑層等を形成するためのディスク状媒体の内部での入替工程の準備工程（入替室内の減圧・窒素ガス置換等）を説明する図である。 図６と同様の側断面図であり、ディスク状媒体上に潤滑層等を形成するためのディスク状媒体の内部での入替工程を説明する図である。 図５乃至図９の製造装置における遮蔽部５５を示す拡大断面図である。 図５乃至図９の製造装置におけるディスク状媒体への電子線照射の各ステップ及びディスク状媒体の排出・供給の各ステップを示すフローチャートである。 図６乃至図１０の製造装置において製造可能な光ディスクの層構成の例を示す図である。 第３の実施の形態においてディスク状媒体上に潤滑層等を形成するための製造装置の図６と同様の工程を示す側面図である。 図１４の製造装置の要部平面図である。 図１４，図１５における電子線照射管１１ａのディスク状媒体に対する半径方向位置とディスク状媒体の回転速度との関係を概略的に示す図である。 図１，図２の電子線照射装置において回転するディスク状の被照射体と電子線照射管との平面的な位置関係を示す平面図である。
符号の説明
１・・・電子線照射装置
２・・・被照射体
１０・・・遮蔽容器
１１ａ・・・電子線照射管
１１ｃ・・・照射窓、電子線照射部
１７，１７ａ・・・モータ
２０・・・移動機構
２１・・・サーボモータ
２２・・・ボールスライド軸
２３・・・開口部
３０・・・制御部
４９、４９ａ・・・ディスク状媒体（ディスク状体）
５０・・・ディスク状媒体の製造装置
１０ａ・・・回動トレイ部（第１回動部）
５１・・・チャンバ
５２・・・入替室
５２ａ・・・回動トレイ部（第２回動部）
５３ａ，５３ｂ・・・回動軸
８１，８２・・・モータ
９２・・・光透過層（樹脂層）
９３・・・潤滑層
ｋ・・・回転方向、公転方向

Claims (22)

  1. 被照射体を回転駆動する回転駆動部と、前記被照射体を回転可能に収容する遮蔽容器と、前記被照射体の表面に対し電子線が照射されるように前記遮蔽容器に設けられた電子線照射部と、を備える電子線照射装置であって、
    前記被照射体の回転中にその表面に前記電子線照射部から電子線を照射する際に、前記電子線照射部と前記被照射体とを相対的に移動させるように構成したことを特徴とする電子線照射装置。
  2. 前記被照射体の回転平面内であって回転方向と直交する方向における前記電子線照射部の幅が前記被照射体の回転平面内における回転中心からの最大距離よりも小さいことを特徴とする請求項１に記載の電子線照射装置。
  3. 前記電子線照射部の前記被照射体に対する照射位置に応じて前記被照射体の回転速度を変化させることを特徴とする請求項１または２に記載の電子線照射装置。
  4. 前記電子線照射部が前記被照射体の外周側を照射するときには前記被照射体の回転速度を小さくし、内周側を照射するときには前記被照射体の回転速度を大きくすることを特徴とする請求項３に記載の電子線照射装置。
  5. 前記電子線照射部の前記被照射体に対する照射位置に応じて前記電子線照射部の移動速度を変化させることを特徴とする請求項１または２に記載の電子線照射装置。
  6. 前記電子線照射部が前記被照射体の外周側を照射するときには前記電子線照射部の移動速度を低くし、内周側を照射するときには前記電子線照射部の移動速度を高くすることを特徴とする請求項５に記載の電子線照射装置。
  7. 前記電子線照射部は単一の電子線照射管の照射窓により構成されることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の電子線照射装置。
  8. 密閉可能な遮蔽容器内に収容された被照射体を回転駆動し、前記被照射体の回転中の表面に対し電子線を電子線照射部から照射する際に、前記電子線照射部と前記被照射体とを相対的に移動させることを特徴とする電子線照射方法。
  9. 前記電子線照射部の前記被照射体に対する照射位置に応じて前記被照射体の回転速度を変化させることを特徴とする請求項８に記載の電子線照射方法。
  10. 前記電子線照射部が前記被照射体の外周側を照射するときには前記被照射体の回転速度を小さくし、内周側を照射するときには前記被照射体の回転速度を大きくすることを特徴とする請求項９に記載の電子線照射方法。
  11. 前記電子線照射部の前記被照射体に対する照射位置に応じて前記電子線照射部の移動速度を変化させることを特徴とする請求項８に記載の電子線照射方法。
  12. 前記電子線照射部が前記被照射体の外周側を照射するときには前記電子線照射部の移動速度を低くし、内周側を照射するときには前記電子線照射部の移動速度を高くすることを特徴とする請求項１１に記載の電子線照射方法。
  13. 請求項１乃至７のいずれか１項に記載の電子線照射装置を備え、前記被照射体をディスク状体として、その上に形成された機能性を有する層を前記電子線照射により硬化させるように構成したことを特徴とするディスク状体の製造装置。
  14. 請求項１乃至７のいずれか１項に記載の電子線照射装置を用いるか、または、請求項８乃至１２のいずれか１項に記載の電子線照射方法を用い、前記被照射体をディスク状体として、その上に形成された機能性を有する層を前記電子線照射により硬化させることを特徴とするディスク状体の製造方法。
  15. 開閉可能な遮蔽容器内に設けられた第１の回動部にディスク状体を収容し回転駆動し、前記ディスク状体の回転中の表面に対し電子線を電子線照射部から照射する電子線照射装置と、ディスク状体を第２の回動部に収容できかつ前記遮蔽容器に対し独立して密閉及び開閉可能な入替室と、を備える密閉可能なチャンバと、
    前記遮蔽容器内の第１の回動部と前記入替室内の第２の回動部とを回動させることで前記両回動部を互いに入れ替える回動部と、を具備し、
    前記ディスク状体の回転中の前記電子線照射の際に、前記電子線照射部と前記ディスク状体とを相対的に移動させるように構成したことを特徴とするディスク状体の製造装置。
  16. 前記ディスク状体の回転平面内であって回転方向と直交する方向における前記電子線照射部の幅が前記ディスク状体の半径よりも小さいことを特徴とする請求項１５に記載のディスク状体の製造装置。
  17. 前記電子線照射部の前記ディスク状体に対する照射位置に応じて前記ディスク状体の回転速度を変化させることを特徴とする請求項１５または１６に記載のディスク状体の製造装置。
  18. 前記第１の回動部及び第２の回動部を公転可能に構成し、前記第１の回動部が公転しながら前記ディスク状体の回転中の表面に対し電子線を電子線照射部から照射することを特徴とする請求項１７に記載のディスク状体の製造装置。
  19. 前記電子線照射部が前記ディスク状体の外周側を照射するときには前記ディスク状体の回転速度を小さくし、内周側を照射するときには前記ディスク状体の回転速度を大きくすることを特徴とする請求項１７または１８に記載のディスク状体の製造装置。
  20. 前記電子線照射部の前記ディスク状体に対する照射位置に応じて前記電子線照射部の移動速度を変化させることを特徴とする請求項１５または１６に記載のディスク状体の製造装置。
  21. 前記電子線照射部が前記ディスク状体の外周側を照射するときには前記電子線照射部の移動速度を低くし、内周側を照射するときには前記電子線照射部の移動速度を高くすることを特徴とする請求項２０に記載のディスク状体の製造装置。
  22. 前記電子線照射部は単一の電子線照射管の照射窓により構成されることを特徴とする請求項１５乃至２１のいずれか１項に記載のディスク状体の製造装置。

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