JP2005203458A - 基板処理装置 - Google Patents

Abstract

【課題】
基板処理装置内に搬入された基板を外気に曝すことなく気密室内で搬送、移載する様にし、又気密室でのパーティクル、有機物による汚染を防止する。
【解決手段】
基板２８を基板保持体２７に保持し、該基板保持体を受台２６に載置して処理する処理室２１と、該処理室に気密に隣設された予備室２４と、該予備室に第１ゲートバルブ３２を介して隣設された移載室２９と、該移載室に第２ゲートバルブを介して配設される前記基板収納容器４４とを具備し、前記予備室と前記移載室は前記第１ゲートバルブを介して連通される気密室を形成し、該気密室は基板保持体が載置される少なくとも２つの保持体置台と、基板を前記基板保持体と基板収納容器間で移載可能な基板移載装置３４と、前記受台及び前記保持体置台に基板保持体を搬送可能な基板保持体移送装置３３とを有する。
【選択図】 図２

Description

本発明は、シリコンウェーハ等の基板にＩＣ等の半導体装置を製造する基板処理装置に関するものである。

基板処理装置としては、所要枚数を一度に処理するバッチ式の基板処理装置或は一枚或は複数枚を個別に処理する枚葉式の基板処理装置とがある。例えば、バッチ式の基板処理装置として、縦型反応炉を具備した縦型基板処理装置があり、該縦型基板処理装置に関するものとして特許文献１に示すものがある。

特許文献１に示される基板処理装置について、図９、図１０に於いて略述する。反応室１の下側にロードロック室２が気密に連設され、該ロードロック室２と前記反応室１間にはゲートバルブ３が設けられ、前記ロードロック室２の側面にもゲートバルブ４が設けられている。前記ロードロック室２にはボートエレベータ（図示せず）が収納され、該ボートエレベータによりボート５が昇降され、前記ロードロック室２から前記反応室１にボート５が挿脱される様になっている。

前記ロードロック室２に隣設してボート交換装置６が設けられている。

該ボート交換装置６はボート５を載置可能な２組の移載用テーブル７，８を有し、該移載用テーブル７，８はベーステーブル９に図９中左右方向（Ｘ方向）にスライド可能に設けられている。該ベーステーブル９は、図９の紙面に対して垂直方向（Ｙ方向）にスライド可能に設けられている。

前記移載用テーブル７，８は、前記ゲートバルブ４を通して載置したボート５を前記ロードロック室２内に挿入可能であり、前記ボートエレベータとの協働で該ボートエレベータと前記移載用テーブル７，８間でのボート５の移載が可能となっている。

前記ボート交換装置６と対向してカセット棚１１が設けられ、該カセット棚１１と前記ボート交換装置６との間にウェーハ移載装置１２が設けられている。該ウェーハ移載装置１２は、進退且つ回転可能な移載機１３及び移載機エレベータ１４を具備し、該移載機エレベータ１４と前記移載機１３との協働で前記カセット棚１１のカセット１５と前記移載用テーブル７，８上のボート５との間でウェーハの移載を行う様になっている。

前記反応室１及び前記ロードロック室２にはそれぞれ排気ポンプ１６，１７が接続され、内部が真空引される様になっている。

上記した基板処理装置に於ける基板処理について説明する。

外部搬送装置、或は作業者がカセット１５を搬送して前記カセット棚１１に収納させる。前記ウェーハ移載装置１２はカセット１５内のウェーハを前記ボート交換装置６上のボート５に移載する。該ボート５に１バッチ分の未処理ウェーハが移載されると、前記ゲートバルブ４が開けられ、前記ボート交換装置６により前記ボート５が図示しないボートエレベータに移載される。前記ゲートバルブ３、前記ゲートバルブ４が閉じられた状態で、前記排気ポンプ１７により前記ロードロック室２内が減圧され、前記反応室１と同圧化される。

前記ゲートバルブ３が開かれ、ボートエレベータにより前記反応室１に前記ボート５が装入され、前記反応室１内部が加熱されつつ、該反応室１内部に反応ガスが導入され、前記排気ポンプ１６によって排気され、前記ボート５に保持されたウェーハに薄膜の生成、不純物の拡散、エッチング等所要の処理がなされる。

処理が完了すると、ボートエレベータにより前記ボート５が降下され、前記ゲートバルブ３が閉じられ、前記ロードロック室２がガスパージされる。

前記反応室１での基板処理中に前記ウェーハ移載装置１２により前記ボート交換装置６のもう１つのボート５に未処理ウェーハが移載され、待機している。

外部と同圧化された後、前記ゲートバルブ４が開かれる。処理済のウェーハを保持したボート５が前記ボート交換装置６により前記ゲートバルブ４を通して取出されると、未処理ウェーハを保持したボート５が前記ボートエレベータに移載され、前記ゲートバルブ４が閉じられ、ウェーハの処理が繰返される。

前記ボート交換装置６で取出されたボート５は、処理済ウェーハが所要温度迄冷却されると、前記ボート５から前記カセット棚１１のカセット１５に前記ウェーハ移載装置１２によって処理済ウェーハが移載され、処理済ウェーハを収納したカセット１５は外部に搬出される。

近年、半導体装置が益々細密化するにつれ、微細なパーティクル、或は自然酸化膜の生成が、前記半導体装置の品質に影響を及す様になり、カセット１５を密閉式の基板収納容器とし、又基板処理装置内での基板の搬送空間を気密とし、或は不活性ガス雰囲気とし、基板処理装置内で基板がパーティクルに汚染されること、基板に自然酸化膜が生成することを防止する様になっている。

然し乍ら、上記した従来の基板処理装置の様にボートを交換する構成を有するものでは、前記ボート交換装置６を前記ロードロック室２に収納した場合、スライドテーブルのガイドが露出しており、又モータへも配線ケーブル等が露出している。この為、ガイドに塗布されているグリース、或は配線ケーブルに含まれている有機物がウェーハを汚染する虞れがある。又、摺動部から発生するパーティクルによる汚染も考えられる。又、前記ボート交換装置６のボート５へのウェーハの移載中、或は前記ボート交換装置６によるボート５の交換中、或は該ボート５に保持されたウェーハが前記ボート交換装置６で待機している状態等で自然酸化膜が形成される虞れもある。

特開２０００−２１７９８号公報

本発明は斯かる実情に鑑み、基板処理装置内に搬入された基板を外気に曝すことなく気密室内で搬送、移載する様にし、又気密室でのパーティクル、有機物による汚染を防止するようにしたものである。

本発明は、基板を基板保持体に保持し、該基板保持体を受台に載置して処理する処理室と、該処理室に気密に隣設された予備室と、該予備室に第１ゲートバルブを介して隣設された移載室と、該移載室に第２ゲートバルブを介して配設される前記基板収納容器とを具備し、前記予備室と前記移載室は前記第１ゲートバルブを介して連通される気密室を形成し、該気密室は基板保持体が載置される少なくとも２つの保持体置台と、基板を前記基板保持体と基板収納容器間で移載可能な基板移載装置と、前記受台及び前記保持体置台に基板保持体を搬送可能な基板保持体移送装置とを有する基板処理装置に係るものである。

本発明によれば、基板を基板保持体に保持し、該基板保持体を受台に載置して処理する処理室と、該処理室に気密に隣設された予備室と、該予備室に第１ゲートバルブを介して隣設された移載室と、該移載室に第２ゲートバルブを介して配設される前記基板収納容器とを具備し、前記予備室と前記移載室は前記第１ゲートバルブを介して連通される気密室を形成し、該気密室は基板保持体が載置される少なくとも２つの保持体置台と、基板を前記基板保持体と基板収納容器間で移載可能な基板移載装置と、前記受台及び前記保持体置台に基板保持体を搬送可能な基板保持体移送装置とを有するので、搬入された基板を気密な空間に保持し、気密な空間内で移載、搬送することが可能となり、基板が外気に曝されることなく、パーティクル、有機物による汚染が防止され、処理品質の向上、歩留りの向上が図れる等の優れた効果を発揮する。

以下、図面を参照しつつ本発明を実施する為の最良の形態を説明する。

先ず、図１〜図３により第１の実施の形態に係る基板処理装置の概略構成を説明する。

内部に処理室（反応室）２１を具備する反応炉２３の下側に予備室（ロードロック室）２４が設けられ、該ロードロック室２４内にはボートエレベータ２５が設けられ、該ボートエレベータ２５に受台２６が昇降可能に支持され、該受台２６にはボート（基板保持体）２７が載置され、該ボート２７はウェーハ（基板）２８を所要ピッチで所要枚数保持可能となっている。

前記ロードロック室２４の側面（正面側）には移載室２９が気密に設けられ、該移載室２９と前記ロードロック室２４とはボート用開口部３１を介して連通しており、該ボート用開口部３１は第１ゲート弁３２により気密に閉塞される様になっている。

前記移載室２９には、前記ボート用開口部３１に対向する位置にボート移送装置３３が設けられ、又該ボート移送装置３３に隣接して基板移載装置３４が設けられ、前記移載室２９の正面壁の前記基板移載装置３４に対向する位置に基板用開口部３５が設けられ、該基板用開口部３５は第２ゲート弁３６により、気密に閉鎖可能となっている。

前記移載室２９のボート移送装置３３の側方には第１ボート載置台３７、第２ボート載置台３８が設けられ、該第１ボート載置台３７、第２ボート載置台３８には前記ボート２７が載置可能となっている。又、前記第１ボート載置台３７、第２ボート載置台３８に隣接して遮蔽壁３９，４０が設けられている。

前記移載室２９の正面には前記第２ゲート弁３６に対向する様にポッドオープナ４２が設けられ、該ポッドオープナ４２の正面側にはポッド授受ステージ４３が設けられ、該ポッド授受ステージ４３には基板を収納する密閉構造のポッド４４が載置可能である。

前記ボート移送装置３３について説明する。

該ボート移送装置３３は、駆動機構部４５、ロボットアーム部４６から構成され、前記駆動機構部４５は前記移載室２９の室外に設けられ、前記ロボットアーム部４６は室内に設けられ、前記駆動機構部４５は前記移載室２９の室内に対して気密にシールされている。

前記ロボットアーム部４６は、回転軸心４７を共有し、同一のボート載置アーム４８を共有する上下２組の多節リンクにより構成され、該多節リンクは対称に構成され、前記多節リンクが対称に屈伸することで、前記ボート載置アーム４８は直線上を進退する様になっており、又前記回転軸心４７を中心に回転することで、前記ロボットアーム部４６全体が回転する様になっている。

図４により、前記ロボットアーム部４６について更に説明する。

尚、図４中では第１多節リンク４９ａと第２多節リンク４９ｂが同一平面上に記載されているが、前記第１多節リンク４９ａと第２多節リンク４９ｂとは上下に配設されている。

前記第１多節リンク４９ａは第１リンク５１ａ、第２リンク５２ａ、前記ボート載置アーム４８によって構成され、前記第２多節リンク４９ｂは第１リンク５１ｂ、第２リンク５２ｂ、前記ボート載置アーム４８によって構成されており、前記第２リンク５２ａ、第２リンク５２ｂはそれぞれ前記第１リンク５１ａ、第１リンク５１ｂの回転に対して同期して反対方向に回転する様になっている。

前記第１リンク５１ａと第１リンク５１ｂとを前記回転軸心４７を中心に対称的に回転させると前記ボート載置アーム４８は直線上を進退する。例えば、図４（Ｂ）に示す様に、前記第１リンク５１ａを図中時計方向に、前記第１リンク５１ｂを反時計方向に同じ角速度で回転させると、前記ボート載置アーム４８は図中右方に直線運動する。図４（Ａ）は前記ロボットアーム部４６を最も短縮させた状態であるが、この状態で前記回転軸心４７を中心に全体を回転させると前記ロボットアーム部４６は図中２点差線で示した範囲内で回転する。

図６により、前記駆動機構部４５について説明する。

前記移載室２９の底面に孔５３が穿設され、該孔５３と同心に支持筒５４が下方に向け気密に突設され、該支持筒５４の下端に駆動部上基板５５が固着され、該駆動部上基板５５には前記孔５３と同心に通孔５６が穿設されている。

前記駆動部上基板５５には下方に延びるガイドロッド５７が設けられ、該ガイドロッド５７の下端に駆動部下基板５９が固着され、該駆動部下基板５９と平行なスクリューシャフト６１が前記駆動部上基板５５と前記駆動部下基板５９間に回転自在に設けられ、前記スクリューシャフト６１には上下動モータ６２が連結されている。

前記ガイドロッド５７にスライド軸受６３を介して昇降自在にスライド基板６４が嵌合され、該スライド基板６４は図示しないナットを介して前記スクリューシャフト６１に螺合している。

前記スライド基板６４にはアーム第１モータ６５が取付けられ、該アーム第１モータ６５の出力軸に中空の外回転軸６６が回転自在に前記ガイドロッド５７と平行に設けられ、前記外回転軸６６の上端部近傍には軸受６７を介して軸受ホルダ６８が外嵌され、該軸受ホルダ６８と前記外回転軸６６との間には磁気シール６９が設けられ、前記外回転軸６６と前記軸受ホルダ６８とは気密にシールされている。前記外回転軸６６の上端は前記軸受ホルダ６８より上方に突出しており、前記ロボットアーム部４６の例えば第１リンク５１ａが固着されている。

前記軸受ホルダ６８は前記通孔５６、前記孔５３を貫通して上方に突出しており、前記軸受ホルダ６８の上端と前記駆動部上基板５５の上面間にはベローズ７１が取付けられ、前記軸受ホルダ６８と前記ベローズ７１、前記駆動部上基板５５と前記ベローズ７１とは気密に固着されている。

前記外回転軸６６の内部にはアーム第２モータ７２が設けられ、該アーム第２モータ７２の出力軸は前記外回転軸６６と同心であり、更に内回転軸７３が連結されている。該内回転軸７３は前記外回転軸６６に軸受７４を介して回転自在に支持され、又磁気シール７５により前記外回転軸６６と前記内回転軸７３間は気密にシールされている。該内回転軸７３は前記外回転軸６６より上方に突出しており、前記ロボットアーム部４６の例えば第１リンク５１ｂが連結されている。

而して、前記上下動モータ６２を駆動して前記スクリューシャフト６１を回転させると、前記スライド基板６４が上下、即ち前記外回転軸６６、前記内回転軸７３を介して前記ロボットアーム部４６が上下動し、前記アーム第１モータ６５により前記外回転軸６６が回転され、前記アーム第２モータ７２により前記内回転軸７３を逆方向に、前記外回転軸６６の角回転の２倍の速度で回転させると、前記第１多節リンク４９ａ、第２多節リンク４９ｂは対称な伸縮をして前記ボート載置アーム４８を直線運動させることができる。又、前記アーム第２モータ７２により前記内回転軸７３を拘束しておいて前記アーム第１モータ６５により前記外回転軸６６を回転させると、前記ロボットアーム部４６の全体が前記外回転軸６６の回転方向に回転する。

前記基板移載装置３４について図５により説明する。

該基板移載装置３４は前記ボート移送装置３３と同様、駆動機構部７７（図２参照）、ロボットアーム部７８から構成され、前記駆動機構部７７は前記移載室２９の室外に設けられ、前記ロボットアーム部７８は室内に設けられ、前記駆動機構部７７は前記移載室２９の室内に対して気密にシールされている。

前記ロボットアーム部７８は、多節リンク構造であり、上記したロボットアーム部４６の例えば１組の第１多節リンク４９ａと同等の構造を有している。即ち、第１リンク８０、第２リンク８１、ウェーハ載置アーム７９によって構成され、前記第２リンク８１は前記第１リンク８０の回転に対して同期して反対方向に回転する様になっており、該第１リンク８０の回転により前記ロボットアーム部７８が屈伸して前記ウェーハ載置アーム７９が直線上を進退する様になっている。

又、前記ロボットアーム部７８は移載部エレベータ８２によって昇降可能となっている。

前記ポッド４４は密閉式の基板収納容器であり、前記ポッドオープナ４２は前記ポッド授受ステージ４３に載置されたポッド４４の蓋を開閉する。

尚、前記反応室２１には反応ガス供給ライン、排気ライン（図示せず）が接続され、前記反応室２１に基板処理に必要な反応ガスの導入、該反応室２１の減圧が可能となっており、前記ロードロック室２４にはガスパージ用の不活性ガス供給ライン、排気ライン（図示せず）が接続され、前記ロードロック室２４の減圧、ガスパージが可能となっている。又、前記移載室２９に対しても、ガスパージ用の不活性ガス供給ライン、排気ライン（図示せず）が接続され、前記ロードロック室２４と同様減圧、ガスパージが可能となっている。

以下、作用について説明する。

前記ポッド４４に所定数、例えば２５枚の未処理ウェーハが装填され、前記ポッド授受ステージ４３に搬送される。前記ポッドオープナ４２により前記ポッド４４の蓋が開けられる。

前記第１ゲート弁３２により前記ボート用開口部３１が閉鎖され、前記第２ゲート弁３６により前記基板用開口部３５が閉鎖され、前記移載室２９が大気圧以上になった後、前記第２ゲート弁３６が開放される。前記第１ボート載置台３７、第２ボート載置台３８の一方、例えば前記第１ボート載置台３７には空のボート２７が載置されており、前記基板移載装置３４により前記ポッド授受ステージ４３上の前記ポッド４４内のウェーハ２８が前記第１ボート載置台３７上の前記ボート２７に移載される。予定した移載枚数が２５枚を超える場合は、空のポッド４４とウェーハ２８が装填されたポッド４４が順次交換され、移載が繰返される。

予定した枚数のウェーハ２８が前記ボート２７に移載されると、前記第２ゲート弁３６で前記基板用開口部３５が気密に閉鎖され、前記移載室２９が減圧され、予め所望の減圧化がなされていた前記ロードロック室２４と同圧化され、前記第１ゲート弁３２により前記ボート用開口部３１が開放される。

前記ロードロック室２４内では処理後のウェーハ２８を保持した前記ボート２７が降下状態で待機しており、前記反応室２１の炉口はゲートバルブにより閉塞されており（図９参照）、炉内の温度が前記ロードロック室２４内に影響を及さない様になっている。

処理後のボート２７は前記ボート移送装置３３により前記第２ボート載置台３８に移送され、載置され、又未処理ウェーハ２８を保持した前記第１ボート載置台３７のボート２７が前記ボート移送装置３３により前記受台２６に移載される。

高温となっている処理後のウェーハ２８を保持したボート２７と未処理ウェーハ２８を保持したボート２７が隣接することとなるが、前記遮蔽壁４０が前記第２ボート載置台３８からの熱輻射を遮断し、未処理ウェーハ２８が処理済のボート２７、処理済ウェーハ２８からの熱の影響を受けることを防止する。

前記移載室２９が不活性ガスによりガスパージされ、大気圧迄復帰され、又前記第２ボート載置台３８で処理済ウェーハ２８は所定温度（例えば外気温度）迄冷却される。

処理前のボート２７が前記受台２６に移載されると、前記第１ゲート弁３２により前記ボート用開口部３１が閉鎖され、前記炉口が開放されると、前記ボートエレベータ２５により前記ボート２７が前記反応室２１に装入され、該反応室２１が気密に閉鎖される。

該反応室２１で、ヒータ（図示せず）により前記ボート２７に保持されたウェーハ２８が加熱され、前記反応ガス供給ライン（図示せず）から反応ガスが導入され、前記ウェーハ２８に所要の成膜処理がなされる。

前記反応室２１での基板処理中、前記移載室２９の圧力を大気圧以上に復帰させ、前記第２ボート載置台３８の処理済ウェーハ２８が所定温度迄冷却されると、前記第２ゲート弁３６により前記基板用開口部３５が開放され、前記ポッド４４の蓋をポッドオープナ４２により開放し、処理済ウェーハ２８が空のポッド４４へ払出される。次に前記ボート２７から、ウェーハ２８を移載し終えると、前記ポッドオープナ４２によりポッド４４の蓋を閉じ、且つ第２ゲート弁３６により基板用開口部３５を閉じる。その後、図示しないポッド搬送手段によって処理済ウェーハ２８を収納したポッド４４が搬送される。次に、未処理ウェーハ２８を収納したポッド４４がポッド授受ステージ４３に搬送され、前述の様な工程を経て未処理ウェーハ２８が前記基板移載装置３４により前記第２ボート載置台３８のボート２７に移載される。

前記反応室２１での基板処理が完了すると、前記ボートエレベータ２５により前記ボート２７が前記ロードロック室２４に降下され、前記炉口が閉鎖される。次に前記移載室２９を減圧し、前記ロードロック室２４と同圧化し、前記第１ゲート弁３２により前記ボート用開口部３１が開放される。前記ボート移送装置３３により処理後のボート２７が前記第１ボート載置台３７に移送される。

上記した様に、前記第２ボート載置台３８と前記第１ボート載置台３７との間には前記遮蔽壁４０が設けられているので、処理済の高温のウェーハの熱が未処理ウェーハに及す影響が抑制される。更に前記第１ボート載置台３７と移載部エレベータ８２との間に遮蔽壁３９を設けているので、処理済の高温のウェーハの熱が前記移載部エレベータ８２に影響を及ぼすのを抑制できる。

如上の如く、未処理ウェーハが装填されたポッド４４が順次搬入され、処理済ウェーハが装填されたポッド４４が順次搬出され、前記基板移載装置３４によるウェーハの移載、前記ボート移送装置３３によるボート２７の交換、前記ボートエレベータ２５によるボートの装入、引出し、前記反応室２１での基板の処理が繰返し行われ、バッチ処理が継続される。

図７は第２の実施の形態の概略を示しており、図７中、図３中で示したものと同等のものには同符号を付し、その説明を省略する。

該第２の実施の形態では、第１ボート載置台３７と第２ボート載置台３８とを対称に配設し、且つ基板移載装置３４により前記第１ボート載置台３７、前記第２ボート載置台３８に対してそれぞれウェーハ２８の移載を可能としたものであり、斯かる構成とすることで、ウェーハ２８を移載する場合に、ボート移送装置３３によりボート２７の置換えが必要なくなり、ウェーハの移載効率が向上する。

図８は第３の実施の形態の概略を示しており、図８中、図３中で示したものと同等のものには同符号を付してある。

該第３の実施の形態では、第２ボート載置台３８をロードロック室２４内に設けると共に該ロードロック室２４内にボート移送装置３３を設けたものである。前記第２ボート載置台３８を前記ロードロック室２４に設けることで、処理後のウェーハ２８を高度な清浄雰囲気である前記ロードロック室２４で冷却でき、自然酸化膜の生成を効果的に抑制できる。更に、第１ボート載置台３７に載置されたボート２７が保持する未処理ウェーハ２８への熱影響を除去できる。

尚、第３の実施の形態に於いて、前記ボート移送装置３３を移載室２９に設けることも可能である。

尚、本発明に於いて、前記ボート載置台は２に限られることなく、３以上設けられてもよい。

又、本発明に於いて、ポッドオープナ、ポッド授受ステージは、１つとして例示したが、２以上設けてもよい。又、ポッド授受ステージへポッドを運ぶのは、人力でもよいし、搬送機構がポッドを複数保持可能なポッド棚を設けてポッド棚から運ぶ様にしてもよい。又、ポッド棚やポッド搬送機構を本発明の装置に設けてもよい。

（付記）
尚、本発明は下記の実施の態様を含む。

（付記１）基板を基板保持体に保持し、該基板保持体を受台に載置して処理する処理室と、該処理室に気密に隣設された予備室と、該予備室に第１ゲートバルブを介して隣設された移載室と、該移載室に第２ゲートバルブを介して配設される前記基板収納容器とを具備し、前記予備室と前記移載室は前記第１ゲートバルブを介して連通される気密室を形成し、該気密室は基板保持体が載置される少なくとも２つの保持体置台と、基板を前記基板保持体と基板収納容器間で移載可能な基板移載装置と、前記受台及び前記保持体置台に基板保持体を搬送可能な基板保持体移送装置とを有することを特徴とする基板処理装置。

（付記２）前記移載室は減圧（真空）可能である付記１の基板処理装置。

（付記３）前記基板保持体移送装置は、前記基板保持体を水平移動可能な基板水平移動手段と該基板水平移動手段を昇降する昇降手段とを備え、前記基板水平移動手段が、一端を基板保持部に連結され各々可動な連結部を１つ以上持つ第１のアーム及び第２のアームの他端側に、同軸上に配設される中空の第１の駆動軸と、第２の駆動軸とで連結され、前記第１の駆動軸に、前記第２の駆動軸を駆動させる駆動源が固定し一体となって可動する様形成される付記１の基板処理装置。

（付記４）基板を基板保持体にて保持し、該基板保持体を受台により保持しつつ処理する処理室と、該処理室に隣接する予備室と、該予備室と隣接し前記基板を前記基板保持体及び基板収納容器間で搬送する基板移載装置を備えた移載室と、該移載室にゲートバルブを介して接続される前記基板収納容器と、前記基板保持体を保持し得る２つの保持体置台と、該基板保持体を前記受台及び前記２つの保持体置台に搬送可能な基板保持体移送装置とを備えている基板処理装置を用いる半導体の製造方法であって、前記保持体置台に位置する前記基板保持体に前記基板移載装置により前記基板を移載する工程と、前記保持体置台から前記基板保持体を前記基板保持体移送装置により前記受台に移載する工程と、前記受台に移載された前記基板を保持する前記基板保持体を前記処理室に収納する工程と、前記処理室に収納された前記基板を処理する工程と、処理された前記基板を前記処理室から取出す工程と、前記受台から前記基板保持体を前記基板保持体移送装置により前記保持体置台に移載する工程と、前記保持体置台に位置する前記基板保持体から前記基板移載装置により前記処理された基板を払い出す工程とを有することを特徴とする半導体の製造方法。

本発明の実施の形態を示す全体斜視図である。 同前本発明の実施の形態を示す側断面図である。 同前本発明の実施の形態を示す平断面図である。 （Ａ）、（Ｂ）は、該実施の形態に於けるボート移送装置のロボットアーム部の説明図である。 （Ａ）、（Ｂ）は、該実施の形態に於ける基板移載装置のロボットアーム部の説明図である。 前記ボート移送装置の駆動機構部の断面図である。 本発明の第２の実施の形態を示す概略配置図である。 本発明の第３の実施の形態を示す概略配置図である。 従来例の側断面図である。 該従来例に於けるボート交換装置の斜視図である。

符号の説明

２１ 反応室
２３ 反応炉
２４ ロードロック室
２５ ボートエレベータ
２７ ボート
２８ ウェーハ
２９ 移載室
３２ 第１ゲート弁
３３ ボート移送装置
３４ 基板移載装置
３６ 第２ゲート弁
４２ ポッドオープナ
４４ ポッド
４５ 駆動機構部
４６ ロボットアーム部
４８ ボート載置アーム
７７ 駆動機構部
７８ ロボットアーム部
８２ 移載部エレベータ

Claims (1)

1. 基板を基板保持体に保持し、該基板保持体を受台に載置して処理する処理室と、該処理室に気密に隣設された予備室と、該予備室に第１ゲートバルブを介して隣設された移載室と、該移載室に第２ゲートバルブを介して配設される前記基板収納容器とを具備し、前記予備室と前記移載室は前記第１ゲートバルブを介して連通される気密室を形成し、該気密室は基板保持体が載置される少なくとも２つの保持体置台と、基板を前記基板保持体と基板収納容器間で移載可能な基板移載装置と、前記受台及び前記保持体置台に基板保持体を搬送可能な基板保持体移送装置とを有することを特徴とする基板処理装置。

Images