JP2005199197A - 基板処理装置および基板搬送方法 - Google Patents

Abstract

【課題】塗布処理する基板の姿勢を効率よく、かつ適切に決定する。
【解決手段】待機ユニット７に、コロ搬送部７１および姿勢決定部７３ａ，７３ｂを設ける。待機ユニット７は、コロ搬送部７１によって基板９０をＹ軸方向にコロ搬送するとともに、当該基板９０を所定の位置に支持し、塗布ユニットに搬送する前の基板９０を一旦待機させる。姿勢決定部７３ａ，７３ｂは、このようにして待機している基板９０の端部に対して進出することにより、基板９０をＸ軸両側から挟み込み、基板９０のＸ軸方向に対向する両端部の伸びる方向がＹ軸方向となるように決定する。
【選択図】図３

Description

本発明は、基板を製造する工程において、処理基板の姿勢を決定する技術に関する。

基板を製造する工程においては、複数の処理ユニットを組み合わせ、搬送ユニットによって各処理ユニット間の基板の搬送を行い、基板に対する一連の処理を行う基板処理装置が提案されている。基板処理装置において基板を搬送する搬送ユニットでは、いわゆるコロ搬送やシャトル搬送といった手法が用いられる。

基板処理装置で用いられる処理ユニットには、例えば、処理の内容によっては、処理を行う前に基板の姿勢を厳密に決定する必要があるものがある。特に直線状のスリットノズルから処理液を吐出する塗布ユニット（スリットコータ）では、スリットノズルの走査方向に対して基板の姿勢が傾いていると、スリットノズルの位置をどのように調整したとしても、基板の所定の位置に処理液を塗布できないという問題がある。

一方、コロ搬送やシャトル搬送といった手法を用いる搬送ユニットでは、基板の姿勢を調整することができないため、スリットコータに搬送される基板の姿勢が適切である保証がないという問題があった。特に、コロ搬送を用いる場合には基板を搬送する間に当該基板の姿勢が変わってしまうという問題があった。

そこで従来より、基板の姿勢を決定する機能を塗布ユニットに設け、予め処理する基板の姿勢を調整してから塗布処理を開始する技術が提案されている。このような基板処理装置が、例えば特許文献１に記載されている。

特開２００２−２３９４４６公報

ところが、スリットコータのような塗布ユニットに基板の姿勢を決定する機能を設けると全体として装置構成が複雑になるという問題があった。すなわち、塗布ユニットのステージに当該機能を持たせるためには、ステージの加工などの面から困難かつ煩雑であるという問題があった。

また、塗布ユニットが基板の姿勢を調整している間は、基板に対する塗布処理を行うことができないため、基板処理装置のタクトタイムが増大するという問題があった。

本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、必要に応じて効率よく基板の姿勢を決定することを目的とする。

上記の課題を解決するため、請求項１の発明は、基板に所定の処理液の膜を形成する基板処理装置であって、基板を待機させる待機ユニットと、前記待機ユニットにおいて、前記基板の姿勢を決定する姿勢決定手段と、前記姿勢決定手段によって決定された姿勢を維持しつつ、前記基板を搬送する搬送ユニットと、前記搬送ユニットによって搬送された前記基板を保持台に保持し、前記基板の主面にスリットノズルから所定の処理液を供給しつつ、前記スリットノズルを前記基板の主面に沿った走査方向に相対移動させることにより、前記所定の処理液の膜を形成する塗布ユニットとを備える。

また、請求項２の発明は、請求項１の発明に係る基板処理装置であって、前記塗布ユニットが、前記搬送ユニットによって搬送された前記基板を上昇位置で支持するとともに、前記保持台に対して下降することによって前記基板を前記保持台に載置する昇降手段を備える。

また、請求項３の発明は、請求項２の発明に係る基板処理装置であって、前記塗布ユニットが、前記昇降手段によって前記基板が前記保持台に対して下降している間に、前記基板と前記保持台との間の雰囲気を排気する排気手段をさらに備える。

また、請求項４の発明は、請求項１ないし３のいずれかの発明に係る基板処理装置であって、前記姿勢決定手段は、前記走査方向に対して前記基板の姿勢を決定する。

また、請求項５の発明は、請求項１ないし４のいずれかの発明に係る基板処理装置であって、前記姿勢決定手段は、前記基板の端部の伸びる方向を決定することによって前記基板の姿勢を決定する。

また、請求項６の発明は、請求項５の発明に係る基板処理装置であって、前記基板の形状が矩形であり、前記姿勢決定手段は、前記基板の端部のうち対向する２辺の端部の伸びる方向を決定する。

また、請求項７の発明は、請求項５の発明に係る基板処理装置であって、前記基板の形状が矩形であり、前記姿勢決定手段は、前記基板の端部のうち４辺の端部の伸びる方向を決定する。

また、請求項８の発明は、請求項５ないし７のいずれかの発明に係る基板処理装置であって、前記待機ユニットが、前記基板の端部位置を検出する検出手段と、前記検出手段によって検出される前記基板の端部位置に応じて、前記基板を所定の方向に移動させる移動手段と、を有する。

また、請求項９の発明は、請求項１ないし８のいずれかの発明に係る基板処理装置であって、前記基板の形状が、対向しない辺の長さが互いに異なる矩形であり、前記基板をほぼ９０°回転させることにより、前記基板の向きを変更する回転手段をさらに備える。

また、請求項１０の発明は、請求項９の発明に係る基板処理装置であって、前記回転手段は、前記基板を付勢することにより前記基板の位置を固定しつつ、前記基板を回転させる。

また、請求項１１の発明は、対向しない辺の長さが互いに異なる矩形の基板に所定の処理液の膜を形成する基板処理装置であって、基板を待機させる待機ユニットと、前記待機ユニットにおいて、前記基板の姿勢を決定する姿勢決定手段と、前記姿勢決定手段によって決定された姿勢を維持しつつ、前記基板を搬送する搬送ユニットと、前記搬送ユニットによって搬送された前記基板を保持台に保持し、スリットノズルから処理液を供給しつつ、前記スリットノズルを支持する架橋構造体を前記基板の主面に沿って移動させる塗布ユニットとを備え、前記待機ユニットが、前記基板をほぼ９０°回転させることにより、前記基板の向きを変更する回転手段を有し、前記塗布ユニットは、前記搬送ユニットによる前記基板の搬送方向と前記架橋構造体の移動方向とが直交するように配置される。

また、請求項１２の発明は、前記基板を保持台に保持し、前記基板の主面にスリットノズルから所定の処理液を供給しつつ、前記スリットノズルを前記基板の主面に沿った走査方向に相対移動させることにより、前記所定の処理液の膜を形成する塗布ユニットに基板を搬送する基板搬送方法であって、基板を待機させる待機ユニットにおいて、前記基板の姿勢を決定する姿勢決定工程と、前記姿勢決定工程において決定された姿勢を維持しつつ、前記基板を前記塗布ユニットの上方に搬送する搬送工程と、前記塗布ユニットの上方まで搬送された前記基板を前記保持台に対して下降させることにより、前記基板を前記保持台に載置する載置工程とを有する。

請求項１ないし１０および１２に記載の発明では、待機ユニットにおいて、基板の姿勢を決定することにより、基板を待機させている間に基板の姿勢を調整しておくことができるため、タクトタイムを短縮することができる。

請求項２に記載の発明では、搬送ユニットによって搬送された基板を上昇位置で支持するとともに、保持台に対して下降することによって基板を保持台に載置することにより、基板の姿勢を維持したまま、容易に基板を受け渡すことができる。

請求項３に記載の発明では、基板が保持台に対して下降している間に、基板と保持台との間の雰囲気を排気することにより、基板を下降させている間に基板の姿勢が変化することを抑制することができる。

請求項４に記載の発明では、走査方向に対して基板の姿勢を決定することにより、塗布ユニットにおいて、基板の姿勢調整を行う必要がない。したがって、塗布ユニットに姿勢を決定する機能構成を設ける必要がない。

請求項５に記載の発明では、基板の端部の伸びる方向を決定することによって基板の姿勢を決定することにより、基板の姿勢を容易に決定することができる。

請求項６に記載の発明では、基板の端部のうち対向する２辺の端部の伸びる方向を決定することにより、基板の端部の伸びる方向を容易に決定することができる。

請求項７に記載の発明では、基板の端部のうち４辺の端部の伸びる方向を決定することにより、基板の端部の伸びる方向を高精度に決定することができる。

請求項８に記載の発明では、検出手段によって検出される基板の端部位置に応じて、基板を所定の方向に移動させることにより、基板の位置を容易に決定することができる。

請求項９に記載の発明では、基板をほぼ９０°回転させることにより、基板の向きを変更することにより、下流側において所望される基板の向きに関わらず、基板処理装置の設計を行うことができる。

請求項１０に記載の発明では、基板を付勢することにより基板の位置を固定しつつ、基板を回転させることにより、回転による姿勢のズレを防止することができる。

請求項１１に記載の発明では、待機ユニットが、基板をほぼ９０°回転させることにより、基板の向きを変更し、塗布ユニットは、搬送ユニットによる基板の搬送方向と架橋構造体の移動方向とが直交するように配置されることにより、搬送ユニットと架橋構造体とが互いに干渉しないように配置することができる。

以下、本発明の好適な実施の形態について、添付の図面を参照しつつ、詳細に説明する。

＜１． 第１の実施の形態＞
図１は、本発明に係る基板処理装置１を示す平面図である。図２は、塗布ユニット２と制御部５とを示す斜視図である。なお、図１および図２において、図示および説明の都合上、Ｚ軸方向が鉛直方向を表し、ＸＹ平面が水平面を表すものとして定義するが、それらは位置関係を把握するために便宜上定義するものであって、以下に説明する各方向を限定するものではない。以下の図についても同様である。

＜全体構成＞
本実施の形態における基板処理装置１は、塗布ユニット２、制御部５、搬送ユニット６、および待機ユニット７を備える。基板処理装置１は、液晶表示装置の画面パネルを製造するための角形ガラス基板を被処理基板（以下、単に「基板」と称する）９０としている。なお、基板処理装置１は、液晶表示装置用のガラス基板だけでなく、一般に、フラットパネルディスプレイ用の種々の基板に処理液（薬液）を塗布する装置として変形利用することもできる。また、基板９０の形状は、対向しない辺の長さが互いに異なる矩形となっており、以下の説明において、基板９０の４辺を構成する４つの端部のうち短い方の端部２つを「短手端部」と称し、長い方の端部２つを「長手端部」と称する。

詳細は後述するが、基板処理装置１において、基板９０は、まず待機ユニット７に搬送され、姿勢の決定が行われる。さらに、姿勢が決定された基板９０を搬送ユニット６によって塗布ユニット２に搬送し、塗布ユニット２においてレジスト液が塗布される。なお、待機ユニット７の配置位置は、塗布ユニット２に対して所定の向きおよび位置となるように調整されている。

塗布ユニット２は、基板９０の表面に形成された電極層などを選択的にエッチングするプロセスにおいて、基板９０の表面に処理液としてのレジスト液を塗布する塗布処理装置として構成されている。したがって、この実施の形態では、スリットノズル４１はレジスト液を吐出するようになっている。

塗布ユニット２は、基板９０を載置して保持するための保持台として機能するとともに、付属する各機構の基台としても機能するステージ３を備える。ステージ３は直方体形状を有する例えば一体の石製であり、その上面（保持面３０）および側面は平坦面に加工されている。

ステージ３の上面は水平面とされており、基板９０の保持面３０となっている。保持面３０のうち基板９０の保持エリア（基板９０が保持される領域）を挟んだ両端部には、略水平方向に平行に伸びる一対の走行レール３１が固設される。走行レール３１は、架橋構造４の両端部の最下方に固設される図示しない支持ブロックとともに、架橋構造４の移動を案内し（移動方向を所定の方向に規定する）、架橋構造４を保持面３０の上方に支持するリニアガイドを構成する。

保持面３０において、保持エリアの（−Ｘ）方向側には、開口３２が設けられている。開口３２はスリットノズル４１と同じくＹ軸方向に長手方向を有し、かつ該長手方向長さはスリットノズル４１の長手方向長さとほぼ同じである。また、図２において図示を省略するが、開口３２の下方の内部には、待機ポットと、ノズル洗浄機構と、プリ塗布機構とが設けられている。

保持面３０には多数の真空吸着口３３が分布して形成されており、塗布ユニット２の内部に設けられた真空ポンプ３４と配管などを介して連通している。真空ポンプ３４は、塗布ユニット２において基板９０を処理する間駆動され、真空吸着口３３から雰囲気を吸引することによって基板９０を吸着する。これにより、保持面３０が基板９０を所定の水平位置に保持する。すなわち、真空吸着口３３および真空ポンプ３４が主に本発明における排気手段に相当する。

また、保持面３０には、昇降機構３６によって上下に昇降自在な複数のリフトピン３５が、適宜の間隔をおいて設けられている。リフトピン３５は、その先端部が基板９０の裏面に当接し、昇降機構３６によって昇降することにより、基板９０を昇降させる機能を有する。すなわち、リフトピン３５および昇降機構３６が主に本発明における昇降手段に相当する。

ステージ３の上方には、このステージ３の両側部分から略水平に掛け渡された架橋構造４が設けられている。架橋構造４は、例えばカーボンファイバ補強樹脂を骨材とするノズル支持部４０と、その両端を支持する昇降機構４３，４４とから主に構成される。

ノズル支持部４０には、スリットノズル４１とギャップセンサ４２とが取り付けられている。Ｙ軸方向に長手方向を有するスリットノズル４１には、スリットノズル４１にレジスト液を供給するための図示しない供給機構が接続されている。

スリットノズル４１は、供給されたレジスト液を、先端に設けられたスリット状の吐出口からステージ３に保持された基板９０の表面の所定の領域（以下、「レジスト塗布領域」と称する。）に吐出する。これにより、基板処理装置１は基板９０にレジスト液を塗布する。ここで、レジスト塗布領域とは、基板９０の表面のうちでレジスト液を塗布しようとする領域であって、通常、基板９０の全面積から、端縁に沿った所定幅の領域を除いた領域である。

ギャップセンサ４２は、スリットノズル４１の近傍となるよう、ノズル支持部４０に取り付けられ、下方の存在物（例えば、基板９０の表面や、レジスト膜の表面）との間の高低差（ギャップ）を測定して、測定結果を制御部５に伝達する。これにより、制御部５はギャップセンサ４２の測定結果に基づいて、上記存在物とスリットノズル４１との距離を制御できる。

昇降機構４３，４４は、スリットノズル４１の両側に分かれて、ノズル支持部４０によりスリットノズル４１と連結されている。昇降機構４３，４４は主にＡＣサーボモータ４３ａ，４４ａおよび図示しないボールネジからなり、制御部５からの制御信号に基づいて、架橋構造４の昇降駆動力を生成する。これにより、昇降機構４３，４４は、スリットノズル４１を並進的に昇降させる。また、昇降機構４３，４４は、スリットノズル４１のＹＺ平面内での姿勢を調整するためにも用いられる。さらに、ＡＣサーボモータ４３ａ，４４ａは、その回転量を検出して制御部５に出力する機能を有している。

架橋構造４の両端部には、ステージ３の両側の縁側に沿って、それぞれ固定子（ステータ）４５ａと移動子４５ｂおよび固定子４６ａと移動子４６ｂを備える一対のＡＣコアレスリニアモータ（以下、単に、「リニアモータ」と略する。）４５，４６が、それぞれ固設される。また、架橋構造４の両端部には、それぞれスケール部と検出子とを備えたリニアエンコーダ４７，４８が、それぞれ固設される。リニアエンコーダ４７，４８は、リニアモータ４５，４６の位置を検出する。これらリニアモータ４５，４６とリニアエンコーダ４７，４８とによって、架橋構造４が走行レール３１に案内されつつステージ３上を移動する。リニアエンコーダ４７，４８からの検出結果に基づいて、制御部５がリニアモータ４５，４６の動作を制御することにより、ステージ３上における架橋構造４の移動、つまりはスリットノズル４１による基板９０の走査が制御される。

制御部５は、プログラムに従って各種データを処理する演算部５０、プログラムや各種データを保存する記憶部５１を内部に備える。また、前面には、オペレータが基板処理装置１に対して必要な指示を入力するための操作部５２、および各種データを表示する表示部５３を備える。

なお、具体的には、データを一時的に記憶するＲＡＭ、読み取り専用のＲＯＭ、および磁気ディスク装置などが記憶部５１に該当する。あるいは、可搬性の光磁気ディスクやメモリーカードなどの記憶媒体、およびそれらの読み取り装置などであってもよい。また、操作部５２には、ボタンおよびスイッチ類（キーボードやマウスなどを含む。）などが該当する。もしくは、タッチパネルディスプレイのように表示部５３の機能を兼ね備えたものであってもよい。表示部５３には、液晶ディスプレイや各種ランプなどが該当する。

図３は、待機ユニット７を示す平面図である。待機ユニット７は、待機ユニット７の各構成が取り付けられる基台７０、コロ搬送部７１、保持機構７２、姿勢決定部７３（７３ａ，７３ｂ）、および一対のフォトセンサ７４を備える。

コロ搬送部７１は、Ｘ軸方向に沿って互いに略平行に配置される複数の回転軸部７１０と、回転軸部７１０に取り付けられる複数の支持部材７１１とから構成される。回転軸部７１０は、図示しない駆動モータによりＸ軸に沿った方向を軸として回転する。また、回転軸部７１０に対して固定された支持部材７１１は、基板９０の裏面に当接することによって基板９０を所定の高さ位置に支持するとともに、回転軸部７１０の回転に伴って、基板９０をＹ軸方向に送り出す。このような構成により、コロ搬送部７１は、基板９０を所定の方向（Ｙ軸方向）に移動させる。なお、制御部５は、所定のタイミングでコロ搬送部７１を停止させることによって、基板９０の停止位置（Ｙ軸方向の位置）を決定する。

図４は、待機ユニット７の主に保持機構７２に係る構成を示す側面図である。保持機構７２は、テーブル７２０、支持ピン７２１、支柱部材７２２、昇降機構７２３、ベース７２４、回転軸７２５、回転モータ７２６、およびタイミングベルト７２７から構成される。

テーブル７２０は略矩形の板状の部材であって、待機ユニット７において略水平方向に配置されている。テーブル７２０の上面には４つの支持ピン７２１が設けられ、各支持ピン７２１の先端が基板９０の裏面に当接することにより、保持機構７２が基板９０を所定の位置に保持することが可能とされている。なお、図３において、４つの支持ピン７２１のみ図示しているが、支持ピン７２１の数は４個に限られるものではない。

テーブル７２０の裏面中央部には支柱部材７２２がＺ軸に沿う方向に取り付けられている。また、昇降機構７２３は、制御部５からの制御信号に応じて、支柱部材７２２をＺ軸方向に昇降させる。この動作によって、支柱部材７２２に取り付けられているテーブル７２０は、下方位置と上方位置との間で昇降する。なお、本実施の形態において、下方位置とは、コロ搬送部７１によって支持されている基板９０に、支持ピン７２１が当接しないようにテーブル７２０が（−Ｚ）方向に下降した位置である。すなわち、昇降機構７２３がテーブル７２０を下方位置に下降させることによって、基板９０はコロ搬送部７１による搬送が可能となる。また、上方位置とは、支持ピン７２１によって支持された基板９０に搬送ユニット６がアクセス可能なようにテーブル７２０が（＋Ｚ）方向に上昇した位置である。すなわち、昇降機構７２３がテーブル７２０を上方位置に上昇させることにより、搬送ユニット６が基板９０を受け取ることが可能となる。なお、テーブル７２０が基板９０を保持した状態で上方位置に移動すると、コロ搬送部７１の支持部材７１１は基板９０の裏面から離間する。

ベース７２４は、支柱部材７２２や昇降機構７２３が取り付けられるとともに、ベース７２４の裏面中央には回転軸７２５が固設されている。

図４に示すように、回転軸７２５と回転モータ７２６との間にはタイミングベルト７２７が掛け渡されており、回転モータ７２６によって生成される回転駆動力が回転軸７２５に伝えられる。したがって、回転モータ７２６が回転駆動すると、回転軸７２５が軸Ｐを中心として回転し、これによりテーブル７２０が略水平面内で回転する。この回転モータ７２６の回転角度は、制御部５によってほぼ９０°となるように制御される。本実施の形態における待機ユニット７において、支持ピン７２１によって基板９０を保持した状態でテーブル７２０を回転させると、保持された基板９０も略水平面内で回転し、基板９０の向きが変更される。

図５は、姿勢決定部７３ａの正面図である。また、図６は、姿勢決定部７３ａの側面図である。基板処理装置１の待機ユニット７には、コロ搬送部７１による基板９０の搬送経路の両側に一対の姿勢決定部７３（７３ａ，７３ｂ）が設けられている。なお、姿勢決定部７３ａおよび姿勢決定部７３ｂはほぼ同様の構成となっている。

姿勢決定部７３ａ（７３ｂ）は、基台７０に対して固定される取付部材７３０、基板９０の端部に当接しつつ所定の方向に付勢する付勢部７３１、および付勢部７３１を所定の方向に移動させる駆動部７３２を備える。付勢部７３１および駆動部７３２は、取付部材７３０を介して基台７０に取り付けられている。したがって、姿勢決定部７３がＺ軸方向に移動することはない。

付勢部７３１は、Ｙ軸方向に沿って配置される支持部７３１ａと、その両端部にＺ軸方向に直立した状態で配置される一対の軸部７３１ｂと、各軸部７３１ｂの先端部に回転可能に取り付けられ、基板９０の端部側面に当接するパッド７３１ｃとから構成される。

このように、パッド７３１ｃがＺ軸方向を軸として回転可能に取り付けられていることにより、基板９０はパッド７３１ｃに当接したままの状態で、Ｙ軸方向への移動が可能とされている。また、パッド７３１ｃのＺ軸方向の位置は、コロ搬送部７１によって支持されている基板９０の端部側面のＺ軸方向の位置となっている。

支持部７３１ａは駆動部７３２に取り付けられており、支持部７３１ａ、一対の軸部７３１ｂおよび一対のパッド７３１ｃは、駆動部７３２によって一体的にＸ軸方向に進退する。支持部７３１ａは長手方向がＹ軸に沿った方向となるように配置され、これによって２つのパッド７３１ｃのＸ軸方向の位置はほぼ等しくなる。駆動部７３２は、制御部５からの制御信号に応じて、付勢部７３１をＸ軸方向に移動させることにより、付勢部７３１のＸ軸方向の位置を決定する。

前述のように、付勢部７３１が進退した場合であっても、２つのパッド７３１ｃのＸ軸方向の位置はほぼ等しくなるようにされている。したがって、付勢部７３１が基板９０の端部を付勢すると、付勢された基板９０の端部はＸ軸に対して略平行となり、基板９０の端部の伸びる方向が決定される。すなわち、姿勢決定部７３ａの付勢部７３１が基板９０の（＋Ｘ）側の端部の伸びる方向を決定し、姿勢決定部７３ｂの付勢部７３１が基板９０の（−Ｘ）側の端部の伸びる方向を決定する。したがって、姿勢決定部７３は、基板９０をＸ軸方向の両側から挟み込むことによって、基板９０の端部のうち対向する２辺の伸びる方向を決定する。

図３に戻って、フォトセンサ７４は、（＋Ｚ）方向にレーザ光を出射することにより、当該方向に存在する対象物を検出するレーザセンサである。フォトセンサ７４は、コロ搬送部７１によって（＋Ｙ）方向に移動してきた基板９０の端部を検出し、制御部５に検出結果を出力する。なお、この検出結果を受け取った制御部５は、検出された基板９０の（＋Ｙ）側の端部位置に応じてコロ搬送部７１を制御する。

以上が本実施の形態における基板処理装置１の構成および機能の説明である。

＜動作説明＞
次に、基板処理装置１の動作について説明する。図７および図８は、第１の実施の形態における基板処理装置１が基板９０を処理する動作を示す流れ図である。

まず、基板処理装置１の動作は、基板９０が待機ユニット７に搬入されることにより開始される（ステップＳ１１）。このとき、基板９０は、長手方向が待機ユニット７の搬送方向（Ｙ軸方向）となる向きで基板処理装置１に搬入される。

本実施の形態に示すように、対向しない端部の長さが互いに異なる矩形の基板９０を搬送する場合には、当該基板９０を長手方向に搬送することが好ましい。これにより、コロ搬送部７１のＸ軸方向の長さを比較的短くすることができ、基板処理装置１のフットプリントを減少させることができる。

待機ユニット７は、基板９０が搬送されてくると、コロ搬送部７１を駆動して搬送された基板９０を（＋Ｙ）方向に搬送しつつ（ステップＳ１２）、フォトセンサ７４による検出結果を監視して、フォトセンサ７４が基板９０の（＋Ｙ）側の短手端部を検出するまでステップＳ１２によるコロ搬送を継続する（ステップＳ１３）。

さらに、基板処理装置１は、フォトセンサ７４が基板９０の端部を検出してから所定時間、コロ搬送を継続した後、コロ搬送部７１を停止させる。これにより、基板９０がほぼ所定の位置（基板９０の中心とテーブル７２０の中心とがほぼ一致する位置）に停止する。なお、基板処理装置１に搬入された基板９０はコロ搬送によって搬送されるため、コロ搬送部７１が停止した時点における基板９０の姿勢は、適切な姿勢からズレている場合がある。また、基板９０を前述の所定の位置に停止させる手法は、これに限られるものではない。例えば、フォトセンサ７４が基板９０の（＋Ｙ）側の短手端部を検出した後、ただちにコロ搬送部７１を停止させた場合に、基板９０が所定の位置となるように、フォトセンサ７４の取付位置を設定してもよい。あるいは、基板９０が所定の位置に停止するような位置に、コロ搬送される基板９０の（＋Ｙ）側の短手端部に当接する当たり部材を設けて、機械的に基板９０を所定の位置に停止させるように構成してもよい。

次に、保持機構７２の昇降機構７２３が駆動し、テーブル７２０を上方位置に移動させる（ステップＳ１４）。これにより、基板９０は支持ピン７２１に保持された状態で（＋Ｚ）方向に移動する。

テーブル７２０が上方位置に上昇し、支持部材７１１が基板９０の裏面から十分に離間した状態となると、待機ユニット７は、基板９０の向きを変更する（ステップＳ１５）。このとき待機ユニット７は、制御部５からの制御信号に応じて、回転モータ７２６を駆動することにより回転軸７２５を軸Ｐを中心に約９０°回転させる。これにより、テーブル７２０が水平面内で約９０°回転し、支持ピン７２１に保持されている基板９０の向きが変更される。すなわち、ステップＳ１５が実行されることにより、基板９０の長手方向がＸ軸方向となる。

このように、本実施の形態における基板処理装置１では、回転モータ７２６によって基板９０の向きを変更することができる。これにより、基板処理装置１は、塗布ユニット２の配置方向にかかわらず、コロ搬送する場合に適した向き（フットプリントを減少させる向き）で基板９０をコロ搬送することができる。すなわち、基板処理装置１は、他のユニットにおける基板９０の向きに拘束されることなく、装置レイアウトを自由に行うことができる。なお、回転中（向きを変更中）の基板９０は支持ピン７２１上に載置されているだけであり、なんら拘束されているものではない。したがって、テーブル７２０の回転によっても基板９０の姿勢にズレが生じ、ステップＳ１５の実行後において、基板９０の長手方向は正確にＸ軸方向に沿う状態となるわけではない。すなわち、本実施の形態における保持機構７２は、単に基板９０のおおよその向きを変更するものであって、基板９０の姿勢を決定するものではない。

回転モータ７２６によって基板９０の向きが変更されると、昇降機構７２３がテーブル７２０を下方位置に移動させる（ステップＳ１６）。これにより、基板９０が再びコロ搬送部７１上に載置される。

次に、コロ搬送部７１が基板９０を（−Ｙ）方向にわずかに移動させて基板９０の位置を調整する（ステップＳ１７）。なお、ステップＳ２１では、フォトセンサ７４が基板９０を検出しなくなる位置まで基板９０を（−Ｙ）方向に移動させるが、所定時間、基板９０を移動させた後、停止させるという動作を行ってもよい。

基板９０の位置調整が終了すると、待機ユニット７は姿勢決定工程（ステップＳ１８）を実行する。姿勢決定工程では、待機ユニット７の各姿勢決定部７３ａ，７３ｂが、それぞれの駆動部７３２を駆動して、それぞれの付勢部７３１を基板９０の端部が存在する方向に移動させる。これによって、基板９０の短手端部がパッド７３１ｃによって付勢され、当該短手端部の伸びる方向がＹ軸方向に沿う方向に決定される。基板９０の形状は矩形であるため、対向する２辺（短手端部によって形成される２辺）の方向が決定されると、残りの２辺（長手端部によって形成される２辺）の方向も決定される。したがって、これによって基板９０の水平面内（主面を含む面内）での向き（姿勢）が正確に決定される。

基板９０の姿勢が決定されると、待機ユニット７は、付勢部７３１による付勢を行ったまま、コロ搬送部７１を駆動して基板９０を（＋Ｙ）方向に移動させて、基板９０の位置を調整する（ステップＳ１９）。具体的には、基板９０の（＋Ｙ）側の長手端部をフォトセンサ７４が検出するまで、すなわち、当該長手端部がフォトセンサ７４に沿う位置となるまで、コロ搬送部７１を駆動する。一般に、コロ搬送による移動においては基板９０の姿勢は保証されないが、第１の実施の形態における基板処理装置１では、付勢部７３１がガイドの機能を果たすことにより、ステップＳ１９を実行することによって基板９０の姿勢がズレることはないようにされている。待機ユニット７は、基板９０をこの状態で所定の時間まで待機させる。

所定の時間が経過して、基板９０を塗布ユニット２に向けて搬送するタイミングになると、待機ユニット７は、各駆動部７３２を駆動して付勢部７３１による付勢を解除するとともに、保持機構７２の昇降機構７２３を駆動し、テーブル７２０を上方位置に移動させる（ステップＳ２１）。これにより、基板９０が搬送ユニット６の搬送経路上に配置される。

次に、搬送経路上に配置された基板９０を、搬送ユニット６がシャトル６０によって受け取り、塗布ユニット２に向けて搬送する（ステップＳ２２）。このとき、基板処理装置１は、シャトル６０の図示しないアームの支持ピンによって基板９０を裏面から支持するとともに、その状態で、待機ユニット７のテーブル７２０を下方位置に下降させることにより、当該基板９０を待機ユニット７から搬送ユニット６に受け渡す。また、基板処理装置１は、シャトル６０と塗布ユニット２の架橋構造４とを互いに干渉させないために、図１に示すように塗布ユニット２の配置方向を決定している。なお、搬送ユニット６の搬送加速度（Ｙ軸方向の移動加速度）は、シャトル６０が保持している基板９０の姿勢が変化しない程度の低加速度とすることが好ましい。

テーブル７２０が下方位置に移動すると、待機ユニット７は、さらに処理すべき基板９０が存在するか否かを判定し、処理すべき基板９０が存在する場合には、新たな基板９０に対してステップＳ１１からの処理を繰り返す。

搬送ユニット６によって基板９０が塗布ユニット２の上方に搬送されると、塗布ユニット２の昇降機構３６がリフトピン３５を上昇させて搬送ユニット６から基板９０を受け取る（ステップＳ２３）。このときリフトピン３５は、基板９０を裏面から持ち上げるようにしてシャトル６０から基板９０を受け取る。また、基板９０をリフトピン３５に渡した搬送ユニット６のシャトル６０はアームを退避させる。

さらに、塗布ユニット２の真空ポンプ３４を駆動して真空吸着口３３から雰囲気の吸引を開始し（ステップＳ２４）、リフトピン３５を下降させて基板９０をステージ３の保持面３０上に載置する（ステップＳ２５）。載置された基板９０は、真空吸着口３３により吸着され、保持面３０により保持される。

基板９０をステージ３に向けて下降させると、基板９０とステージ３との間の雰囲気が加圧されることによって、基板９０に（＋Ｚ）方向の力が加わる。この（＋Ｚ）方向の力が加わることにより、リフトピン３５は基板９０を十分に支持できない状態となり、極端な場合には基板９０がリフトピン３５から浮いた状態となって、基板９０の姿勢が狂う原因となる。

本実施の形態における基板処理装置１では、リフトピン３５を下降せさている間、真空ポンプ３４を駆動して、基板９０とステージ３との間の雰囲気を排気することにより、当該雰囲気が加圧されることを防止する。また、この吸引動作によって、下降中の基板９０に（−Ｚ）方向の吸引力を働かせる。したがって、リフトピン３５が十分に基板９０を支持することができるため、基板９０を適切な姿勢で保持面３０上に載置することができる。

リフトピン３５がステージ３の内部に退避（下降）し、基板９０が真空吸着口３３に吸着されることにより、基板９０がステージ３の保持面３０に保持されると、塗布ユニット２が塗布処理工程を開始する（ステップＳ２６）。

本実施の形態における基板処理装置１では、塗布ユニット２に基板９０が載置された時点で、基板９０の姿勢は適切な状態（長手端部の伸びる方向がＸ軸方向に一致する姿勢）に決定されている。すなわち、従来の装置のように、塗布ユニット２において基板９０の姿勢を調整する必要はない。

基板９０の姿勢を決定する構成を塗布ユニット２に設けることは一般的に困難である。しかし、本実施の形態における基板処理装置１は、これらの構成を待機ユニット７に搭載することにより、構造を全体として簡素化することができる。

また、本実施の形態における基板処理装置１では、塗布ユニット２において塗布処理工程が行われている間に、待機ユニット７において次の基板９０の姿勢が決定される。したがって、比較的処理時間の長い塗布ユニット２において、さらに基板９０の姿勢を決定する場合に比べて、タクトタイムを短くすることができる。

塗布処理工程では、まず、ギャップセンサ４２が（＋Ｘ）方向に基板９０の表面を走査することによって、基板９０とスリットノズル４１とのギャップが測定される。その測定結果に応じて制御部５がスリットノズル４１のＸＺ平面内の姿勢（以下、「適正姿勢」と称する）を決定する。

次に、昇降機構４３，４４のＡＣサーボモータ４３ａ，４４ａがノズル支持部４０の両端部をそれぞれ昇降させることによって、スリットノズル４１を適正姿勢に調整する。この動作と並行して、リニアモータ４５，４６が架橋構造４をＸ軸方向に移動させることにより、スリットノズル４１を吐出開始位置に移動させる。なお、吐出開始位置とは、スリットノズル４１が基板９０のレジスト液を塗布しようとする領域の（＋Ｘ）側の端部にほぼ沿う位置である。

スリットノズル４１が吐出開始位置に移動すると、塗布ユニット２は、スリットノズル４１にレジスト液を供給することにより基板９０に対してレジスト液を吐出させつつ、リニアモータ４５，４６によって架橋構造４を（−Ｘ）方向に移動させることにより、スリットノズル４１による走査が行われる。すなわち、本実施の形態における基板処理装置１では、Ｘ軸方向がスリットノズル４１の走査方向となる。

本実施の形態における基板処理装置１は、スリットノズル４１の走査方向が基板９０の長手端部の伸びる方向となるように基板９０の姿勢が決定されている。これにより、塗布ユニット２において、長手方向のサイズの短いスリットノズル４１を使用することができる。したがって、スリットノズル４１の加工精度が向上するため、高精度の塗布処理を行うことができる。

スリットノズル４１が所定の位置まで移動して、スリットノズル４１による走査が終了すると、スリットノズル４１に対するレジスト液の供給を停止するとともに、スリットノズル４１を待機位置に移動させる。このようにして、基板９０の表面の所定の位置にレジスト液が塗布され、基板処理装置１における塗布処理工程が終了する。なお、待機位置とは、例えば図２に示すように、スリットノズル４１が開口３２の上方に配置される位置であって、スリットノズル４１が保持面３０に保持された基板９０の上方から退避した位置である。

塗布処理工程が終了すると、基板処理装置１は基板９０を搬出し、待機ユニット７において待機している他の基板９０が存在するか否かを判定する。待機している基板９０がある場合には、ステップＳ２１からの処理を繰り返す。このとき、待機している基板９０は、待機ユニット７によって塗布ユニット２における処理に適した姿勢に調整されているため、塗布ユニット２は、当該基板９０が保持面３０に載置されると直ちに塗布処理を開始することができる。一方、待機ユニット７に待機している基板９０が存在しない場合には基板処理装置１は処理を終了する。

以上のように、第１の実施の形態における基板処理装置１は、待機ユニット７において、姿勢決定部７３が基板９０の姿勢を決定することにより、基板９０を待機させている間に基板９０の姿勢を調整しておくことができるため、タクトタイムを短縮することができる。したがって、基板９０の姿勢を効率よく、かつ適切に決定することができる。

また、リフトピン３５が搬送ユニット６によって塗布ユニット２に向けて搬送する基板９０を上昇位置で支持するとともに、ステージ３に対して下降することによって基板９０をステージに載置することにより、基板９０の姿勢を維持したまま、塗布ユニット２に容易に基板９０を受け渡すことができる。

また、昇降機構３６およびリフトピン３５によって基板９０がステージ３に対して下降している間に真空ポンプ３４が排気を行うことにより、基板９０を下降させている間に基板９０の姿勢が変化してしまうことを防止することができる。

また、姿勢決定部７３は、スリットノズル４１の走査方向に対して基板９０の姿勢を決定することにより、塗布ユニット２において、基板９０の姿勢調整を行う必要がない。したがって、塗布ユニット２に基板９０の姿勢を決定する機能構成を設ける必要がない。

また、姿勢決定部７３は、基板９０の端部が伸びる方向を決定することによって基板９０の姿勢を決定することにより、基板９０の姿勢を容易に決定することができる。特に、基板９０の形状が矩形である場合に、基板９０の端部のうち対向する２辺の端部の伸びる方向を決定することにより、さらに容易に基板９０の姿勢を決定することができる。

また、コロ搬送部７１が、フォトセンサ７４によって検出される基板９０の端部位置に応じて、基板９０をＹ軸方向に移動させることにより、基板９０の位置を容易に決定することができる。

また、基板９０の形状が、対向しない辺の長さが互いに異なる矩形である場合に、待機ユニット７の保持機構７２が、基板９０をほぼ９０°回転させて、基板９０の向きを変更することにより、下流側において所望される基板９０の向きに関わらず、基板処理装置の設計を自由に行うことができる。

＜２． 第２の実施の形態＞
第１の実施の形態では、基板９０の向きを変更してから基板９０の姿勢を決定するように構成していたが、これらの動作の順序はこれに限られるものではない。

図９は、このような原理に基づいて構成した第２の実施の形態における待機ユニット８を示す平面図である。また、図１０は、待機ユニット８の保持機構８２を示す側面図である。なお、第２の実施の形態における基板処理装置１の構成は、待機ユニット７の代わりに待機ユニット８を備えることを除いて、第１の実施の形態における基板処理装置１とほぼ同様である。

待機ユニット８は、待機ユニット８の各構成が取り付けられる基台８０、基板９０をＹ軸方向にコロ搬送するコロ搬送部８１、保持機構８２、および姿勢決定部８３ａ，８３ｂ，８４ａ，８４ｂを備える。なお、図９において図示を省略しているが、待機ユニット８は、待機ユニット７のフォトセンサ７４と同様の構成を有しており、基板９０の（＋Ｙ）側の端部位置を検出することができる。

コロ搬送部８１は、第１の実施の形態におけるコロ搬送部７１とほぼ同様の機能および構成を有しており、複数の回転軸部８１０と複数の支持部材８１１とを備えている。このコロ搬送部８１により、第２の実施の形態における基板処理装置１に搬入された基板９０は、まず（＋Ｙ）方向に搬送される。

保持機構８２は、テーブル８２０、複数の支持パッド８２１、支持部材８２１ａないし８２１ｅ、支柱部材８２２、昇降機構８２３、ベース８２４、回転軸８２５、回転モータ８２６、およびタイミングベルト８２７を備える。なお、支柱部材８２２、昇降機構８２３、ベース８２４、回転軸８２５、回転モータ８２６、およびタイミングベルト８２７は、第１の実施の形態における支柱部材７２２、昇降機構７２３、ベース７２４、回転軸７２５、回転モータ７２６、およびタイミングベルト７２７とに相当する構成であり、ほぼ同様の機能を有しているため説明を省略する。

長手方向がＹ軸に沿うように配置されるテーブル８２０は、裏面中央に支柱部材８２２のが固設されることにより支持される。また、テーブル８２０には、上面に支持パッド８２１が取り付けられた支持部材８２１ａないし８２１ｅがＸ軸に沿う方向に、コロ搬送部８１と干渉しないように固設される。保持機構８２は、この支持パッド８２１が基板９０の裏面に当接することにより基板９０を略水平方向に保持する。

支持部材８２１ａ，８２１ｂは支持部材８２１ｃないし８２１ｅよりもＹ軸方向の幅が広い柱状の部材であって、それらのＸ軸方向の両端部にはそれぞれ姿勢決定部８３ａ，８３ｂが対向する向きに設けられている。

姿勢決定部８３ａ（８３ｂ）は、制御部５からの制御信号に応じて、Ｘ軸方向に進退する付勢ピンを備えており、この付勢ピンによって基板９０の端部をテーブル８２０側に付勢する。また、２つの姿勢決定部８３ａは、制御部５によって互いのＸ軸方向の位置が等しくなるように、すなわち、各姿勢決定部８３ａの付勢ピンがＹ軸方向に配列するように制御される。

これにより、各姿勢決定部８３ａの付勢ピンが同期して基板９０の端部を付勢し、基板９０の（＋Ｘ）側端部の伸びる方向が決定される。なお、姿勢決定部８３ｂについても同様の制御が行われることにより、基板９０の（−Ｘ）側端部の伸びる方向が決定される。すなわち、待機ユニット８は、姿勢決定部８３ａ，８３ｂによって基板９０をＸ軸方向に挟み込むことにより、基板９０の端部のうちＸ軸方向に対向する２辺の端部の伸びる方向を決定する。

さらに、テーブル８２０のＹ軸方向の両端部には、姿勢決定部８４ａ，８４ｂがそれぞれ対向するように設けられている。

姿勢決定部８４ａ，８４ｂはそれぞれ、移動部材８４０、付勢ピン８４１、および駆動機構８４２を備えている。移動部材８４０のＸ軸方向の両端部には一対の付勢ピン８４１が立設されている。この一対の付勢ピン８４１のＹ軸方向の位置は互いに等しく、Ｘ軸に沿う方向に配列している。また、付勢ピン８４１のＺ軸方向の位置は支持パッド８２１によって支持された基板９０の端部に当接することができる位置となっている。

駆動機構８４２は、移動部材８４０を付勢ピン８４１と一体的に進退駆動させる機能を有する。駆動機構８４２が移動部材８４０を進退させる方向は、例えば図示しないガイド部材によってＹ軸方向となるように規定される。

このような構成により、姿勢決定部８４ａの駆動機構８４２が移動部材８４０を（−Ｙ）方向に移動させることにより、一対の付勢ピン８４１が基板９０の（＋Ｙ）側端部に当接し、基板９０の（＋Ｙ）側端部の伸びる方向が決定される。一方、姿勢決定部８４ｂの駆動機構８４２が移動部材８４０を（＋Ｙ）方向に移動させることにより、一対の付勢ピン８４１が基板９０の（−Ｙ）側端部に当接し、基板９０の（＋Ｙ）側端部の伸びる方向が決定される。すなわち、待機ユニット８は、姿勢決定部８４ａ，８４ｂによって基板９０をＹ軸方向に挟み込むことにより、基板９０の端部のうちＹ軸方向に対向する２辺の端部の伸びる方向を決定する。

このように、第２の実施の形態における基板処理装置１の待機ユニット８は、姿勢決定部８３ａ，８３ｂ，８４ａ，８４ｂによって、基板９０の端部のうち４辺の伸びる方向を決定する。

以上が、第２の実施の形態における基板処理装置１の構成の説明である。

次に、第２の実施の形態における基板処理装置１の動作について説明する。図１１は、第２の実施の形態における基板処理装置１の動作を示す流れ図である。

本実施の形態における基板処理装置１においても、基板９０が搬入されることにより処理が開始され（ステップＳ３１）、コロ搬送部８１が、図示しないフォトセンサによって基板９０の端部が検出されるまで、当該基板９０を（＋Ｙ）方向にコロ搬送する（ステップＳ３２，Ｓ３３）。

基板９０が所定の位置まで搬送されると、待機ユニット８は、昇降機構８２３を駆動してテーブル８２０を姿勢調整位置まで上昇させる（ステップＳ３４）。なお、姿勢調整位置とは、支持パッド８２１によって支持された基板９０がコロ搬送部８１から離間する位置であって、搬送ユニット６の搬送経路の高さ位置（上方位置）より下方の位置である。

テーブル８２０が姿勢調整位置まで上昇すると、姿勢決定工程が実行される（ステップＳ３５）。姿勢決定工程では、姿勢決定部８３ａ，８３ｂが付勢ピンをＸ軸方向に移動させて基板９０の長手端部の伸びる方向を決定する。この動作と並行して、姿勢決定部８４ａ，８４ｂが付勢ピン８４１をＹ軸方向に移動させて基板９０の短手端部の伸びる方向を決定する。

このように、基板９０の４つの端部がすべて付勢されることにより、基板９０の姿勢および位置が決定される。したがって、基板９０の端部のうち４辺の伸びる方向を決定することにより、第１の実施の形態における待機ユニット７のように、２辺の伸びる方向を決定する場合に比べて高精度に基板９０の姿勢を決定することができる。また、基板９０の位置についても姿勢を決定する動作と同時に決定することができ、第１の実施の形態におけるステップＳ１７およびＳ１９のように、別途基板９０の位置調整（搬送ユニット６に対する位置調整）を行う必要がない。

待機ユニット８は、基板９０の姿勢を決定した後、回転モータ８２６を駆動して回転軸８２５を９０°回転させ、基板９０の向きを変更する（ステップＳ３６）。なお、待機ユニット８の姿勢決定部８３ａ，８３ｂ，８４ａ，８４ｂは、前述のように保持機構８２に取り付けられている。したがって、ステップＳ３６において、姿勢決定部８３ａ，８３ｂ，８４ａ，８４ｂによる付勢を継続したまま基板９０の向きを変更することができる。これにより、向きを変更するための回転によって基板９０の姿勢がズレることはない。

基板９０の向きが、当該基板９０の長手方向がＸ軸に沿う向きに変更されると、待機ユニット８は、テーブル８２０を上方位置まで上昇させ、姿勢決定部８３ａ，８３ｂ，８４ａ，８４ｂによる付勢を解除して、以後、待機ユニット７におけるステップＳ２２ないしＳ２７と同様の処理を行う。

以上のように、第２の実施の形態における基板処理装置１においても、第１の実施の形態における基板処理装置１と同様の効果を得ることができる。

また、姿勢決定部８３ａ，８３ｂ，８４ａ，８４ｂは、基板９０の端部のうち４辺の端部の伸びる方向を決定することより、当該方向を高精度に決定することができる。

また、保持機構８２は、基板９０を付勢することにより基板９０の位置を固定しつつ、基板９０を回転させることにより、回転による姿勢のズレを防止することができる。

＜３． 変形例＞
以上、本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく様々な変形が可能である。

例えば、第１の実施の形態における基板処理装置１では、基板９０の向きを変更する処理（ステップＳ１５）および基板９０の受け渡しを行う処理（ステップＳ２５）は、いずれも待機ユニット７のテーブル７２０が上方位置にあるときに行っているが、これらの処理はそれぞれ異なる高さ位置で行われてもよい。

また、第２の実施の形態における待機ユニット８では、姿勢調整位置と上方位置とが異なる高さ位置として設定されていたが、これらは同じ高さ位置とされていてもよい。

また、フォトセンサ７４の代わりに、ストッパ部材を設けることにより、コロ搬送部７１によって（＋Ｙ）方向に搬送される基板９０が所定の位置に停止するように構成してもよい。

本発明に係る基板処理装置を示す平面図である。 塗布ユニットおよび制御部を示す斜視図である。 第１の実施の形態における待機ユニットを示す平面図である。 第１の実施の形態における待機ユニットの主に保持機構に係る構成を示す側面図である。 姿勢決定部の正面図である。 姿勢決定部の側面図である。 第１の実施の形態における基板処理装置が基板を処理する動作を示す流れ図である。 第１の実施の形態における基板処理装置が基板を処理する動作を示す流れ図である。 第２の実施の形態における待機ユニットの平面図である。 第２の実施の形態における待機ユニットの主に保持機構に係る構成を示す側面図である。 第２の実施の形態における基板処理装置の動作を示す流れ図である。

符号の説明

１ 基板処理装置
２ 塗布ユニット
３ ステージ
３０ 保持面
３３ 真空吸着口
３４ 真空ポンプ
３５ リフトピン
３６ 昇降機構
４ 架橋構造
４１ スリットノズル
４５，４６ リニアモータ
５ 制御部
６ 搬送ユニット
７，８ 待機ユニット
７１，８１ コロ搬送部
７２，８２ 保持機構
７２６，８２６ 回転モータ
７３，７３ａ，７３ｂ，８３ａ，８３ｂ，８４ａ，８４ｂ 姿勢決定部
７４ フォトセンサ
９０ 基板

Claims (12)

1. 基板に所定の処理液の膜を形成する基板処理装置であって、
   基板を待機させる待機ユニットと、
   前記待機ユニットにおいて、前記基板の姿勢を決定する姿勢決定手段と、
   前記姿勢決定手段によって決定された姿勢を維持しつつ、前記基板を搬送する搬送ユニットと、
   前記搬送ユニットによって搬送された前記基板を保持台に保持し、前記基板の主面にスリットノズルから所定の処理液を供給しつつ、前記スリットノズルを前記基板の主面に沿った走査方向に相対移動させることにより、前記所定の処理液の膜を形成する塗布ユニットと、
   を備えることを特徴とする基板処理装置。
2. 請求項１に記載の基板処理装置であって、
   前記塗布ユニットが、
   前記搬送ユニットによって搬送された前記基板を上昇位置で支持するとともに、前記保持台に対して下降することによって前記基板を前記保持台に載置する昇降手段を備えることを特徴とする基板処理装置。
3. 請求項２に記載の基板処理装置であって、
   前記塗布ユニットが、
   前記昇降手段によって前記基板が前記保持台に対して下降している間に、前記基板と前記保持台との間の雰囲気を排気する排気手段をさらに備えることを特徴とする基板処理装置。
4. 請求項１ないし３のいずれかに記載の基板処理装置であって、
   前記姿勢決定手段は、前記走査方向に対して前記基板の姿勢を決定することを特徴とする基板処理装置。
5. 請求項１ないし４のいずれかに記載の基板処理装置であって、
   前記姿勢決定手段は、前記基板の端部の伸びる方向を決定することによって前記基板の姿勢を決定することを特徴とする基板処理装置。
6. 請求項５に記載の基板処理装置であって、
   前記基板の形状が矩形であり、
   前記姿勢決定手段は、前記基板の端部のうち対向する２辺の端部の伸びる方向を決定することを特徴とする基板処理装置。
7. 請求項５に記載の基板処理装置であって、
   前記基板の形状が矩形であり、
   前記姿勢決定手段は、前記基板の端部のうち４辺の端部の伸びる方向を決定することを特徴とする基板処理装置。
8. 請求項５ないし７のいずれかに記載の基板処理装置であって、
   前記待機ユニットが、
   前記基板の端部位置を検出する検出手段と、
   前記検出手段によって検出される前記基板の端部位置に応じて、前記基板を所定の方向に移動させる移動手段と、
   を有することを特徴とする基板処理装置。
9. 請求項１ないし８のいずれかに記載の基板処理装置であって、
   前記基板の形状が、対向しない辺の長さが互いに異なる矩形であり、
   前記基板をほぼ９０°回転させることにより、前記基板の向きを変更する回転手段をさらに備えることを特徴とする基板処理装置。
10. 請求項９に記載の基板処理装置であって、
    前記回転手段は、前記基板を付勢することにより前記基板の位置を固定しつつ、前記基板を回転させることを特徴とする基板処理装置。
11. 対向しない辺の長さが互いに異なる矩形の基板に所定の処理液の膜を形成する基板処理装置であって、
    基板を待機させる待機ユニットと、
    前記待機ユニットにおいて、前記基板の姿勢を決定する姿勢決定手段と、
    前記姿勢決定手段によって決定された姿勢を維持しつつ、前記基板を搬送する搬送ユニットと、
    前記搬送ユニットによって搬送された前記基板を保持台に保持し、スリットノズルから処理液を供給しつつ、前記スリットノズルを支持する架橋構造体を前記基板の主面に沿って移動させる塗布ユニットと、
    を備え、
    前記待機ユニットが、
    前記基板をほぼ９０°回転させることにより、前記基板の向きを変更する回転手段を有し、
    前記塗布ユニットは、前記搬送ユニットによる前記基板の搬送方向と前記架橋構造体の移動方向とが直交するように配置されることを特徴とする基板処理装置。
12. 前記基板を保持台に保持し、前記基板の主面にスリットノズルから所定の処理液を供給しつつ、前記スリットノズルを前記基板の主面に沿った走査方向に相対移動させることにより、前記所定の処理液の膜を形成する塗布ユニットに基板を搬送する基板搬送方法であって、
    基板を待機させる待機ユニットにおいて、前記基板の姿勢を決定する姿勢決定工程と、
    前記姿勢決定工程において決定された姿勢を維持しつつ、前記基板を前記塗布ユニットの上方に搬送する搬送工程と、
    前記塗布ユニットの上方まで搬送された前記基板を前記保持台に対して下降させることにより、前記基板を前記保持台に載置する載置工程と、
    を有することを特徴とする基板搬送方法。

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