JP2005199072A - 心臓組織のアブレーションの予測および評価 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】上記の方法は一定のプローブをアブレーションする組織に接触する一定の位置まで一定の体内に導入する処理、および上記組織をアブレーションする前に上記プローブを用いて上記位置における1個以上の局所的なパラメータを測定する処理を含む。一定の器官のマップが表示されて、上記1個以上の局所的なパラメータに基づいて、上記プローブを用いて上記位置において供給される一定用量のエネルギーに対応して達成される組織の一定の予測されるアブレーションの程度が示される。この一定用量のエネルギーは上記プローブを用いて上記組織をアブレーションするために供給され、上記位置における一定の実際のアブレーションの程度が上記組織のアブレーションに続いて上記プローブにより測定される。この測定した実際のアブレーションの程度は上記の予測された程度に対して比較するために上記マップの上に表示される。
【選択図】 図1
Description
体内の一定のプローブをアブレーションする組織に対して接触した状態で一定の位置に導入する処理、
上記組織をアブレーションする前に上記プローブを用いて上記位置における1個以上の局所的なパラメータを測定する処理、
上記1個以上の局所的なパラメータに基づいて、上記プローブにより上記位置において供給される一定用量のエネルギーにおいて達成される組織のアブレーションの一定の予測される程度を示す上記器官の一定のマップを表示する処理、
上記プローブを用いて上記組織をアブレーションするために上記一定用量のエネルギーを供給する処理、
上記組織のアブレーション処理に続いて上記プローブを用いて上記位置におけるアブレーションの実際の程度を測定する処理、および
上記の予測された程度に対して比較するために上記マップの上に上記アブレーションの測定した実際の程度を表示する処理を含む。
体内の一定のプローブをアブレーションする組織に対して接触させる処理、
上記プローブが接触している組織に対するそのプローブの一定の位置および配向を測定する処理、
上記の測定した位置および配向に応答して上記プローブにより供給される一定用量のエネルギーに対応して達成される組織のアブレーションの程度を予測する処理、および
上記プローブを用いて上記組織をアブレーションするために上記一定用量のエネルギーを供給する処理を含む。
一定のプローブを備えており、このプローブは上記器官の中の所望の位置においてアブレーションする組織に接触するために体内に挿入されることに適合しており、さらにこのプローブは
少なくとも1個のセンサーを含み、このセンサーは上記組織をアブレーションする前後において上記位置における1個以上の局所的なパラメータを測定することに適合しており、さらに上記プローブは
一定のアブレーション装置を含み、このアブレーション装置は上記組織をアブレーションするために上記組織に対して一定用量のエネルギーを供給することに適合しており、さらに上記装置は
上記器官の一定のマップを表示することに適合している一定の表示装置、および
一定のコントローラを備えており、このコントローラは、上記少なくとも1個のセンサーにより測定される1個以上の局所的なパラメータに基づいて、上記一定用量のエネルギーに対応して達成される組織のアブレーションの一定の予測される程度、およびこの予測される程度に対して比較するための、上記組織のアブレーションに続いて決定されるアブレーションの一定の実際の程度を示す一定のマップを発生することに適合している。
一定のプローブを備えており、このプローブはアブレーションする組織に接触するために体内に挿入されることに適合しており、さらにこのプローブは
一定の位置センサーを含み、この位置センサーは上記プローブが接触する組織に対するそのプローブの位置および配向を示す一定の出力を発生することに適合しており、さらに上記プローブは
一定のアブレーション装置を含み、このアブレーション装置は上記組織をアブレーションするために上記組織に対して一定用量のエネルギーを供給することに適合しており、さらに上記装置は
上記器官の一定のマップを表示することに適合している一定の表示装置、および
一定のコントローラを備えており、このコントローラは、上記プローブの位置および配向に基づいて、上記一定用量のエネルギーに対応して達成される組織のアブレーションの一定の程度の予測を計算することに適合しており、上記用量をその予測に対応して調節することを可能にする。
(1)一定の被験者の体内における一定の器官の中の組織をアブレーションするための方法において、
一定のプローブをアブレーションする組織に接触する一定の位置まで体内に導入する処理、
前記組織をアブレーションする前に前記プローブを用いて前記位置における1個以上の局所的なパラメータを測定する処理、
前記プローブを用いて前記位置に供給される一定用量のエネルギーに対応して達成される組織のアブレーションの一定の予測される程度を前記1個以上の局所的なパラメータに基づいて示す前記器官の一定のマップを表示する処理、
前記プローブを用いて前記組織をアブレーションするために前記一定用量のエネルギーを供給する処理、
前記組織のアブレーションに続いて前記プローブを用いて前記位置における実際のアブレーションの程度を測定する処理、
前記測定した実際のアブレーションの程度を前記予測された程度に対して比較するために前記マップ上に表示する処理を含む方法。
(2)前記プローブを前記位置の中に導入する処理が前記プローブが前記組織に接触する位置におけるそのプローブの各座標を決定するための当該プローブの中における一定の位置センサーを用いる処理を含む実施態様1に記載の方法。
(3)前記1個以上の局所的なパラメータを測定する処理が前記位置センサーを用いて前記組織内のプローブの侵入の深さおよび前記組織に対するプローブの一定の配向の角度の内の少なくとも一つを測定する処理を含む実施態様2に記載の方法。
(4)前記マップを表示する処理が前記器官の内側の多数個の位置において前記プローブを前記組織に接触させる処理、および前記マップを発生するために前記多数個の位置における前記プローブの各座標を記録する処理を含む実施態様2に記載の方法。
(5)前記マップを表示する処理がさらに前記多数個の位置におけるそれぞれの電位を測定する処理、およびそれぞれの測定した電位に基づいて前記マップ上に電気的な活性の一定の指示を示す処理を含む実施態様4に記載の方法。
(7)前記超音波を感知する処理が前記組織の一定の温度を推定するために前記組織の中の超音波の一定の伝播速度を評価する処理を含む実施態様6に記載の方法。
(8)前記超音波を感知する処理が前記反射した超音波に応答して血液の流量を評価する処理を含む実施態様6に記載の方法。
(9)前記実際のアブレーションの程度を測定する処理が前記一定用量のエネルギーの供給後に前記1個以上のトランスデユーサを用いて前記組織から反射した超音波を感知する処理を含む実施態様6に記載の方法。
(10)前記1個以上の局所的なパラメータを測定する処理が前記組織に対する前記プローブの一定の配向の角度を測定する処理を含み、前記マップを表示する処理が前記配向の角度に応答して前記アブレーションの程度を予測する処理を含む実施態様1に記載の方法。
(12)さらに、前記マップに応答して前記エネルギーの用量を調節する処理を含む実施態様1に記載の方法。
(13)前記一定用量を供給する処理が前記プローブに固定されている一定の電極を介して前記組織の中に高周波(RF)エネルギーを伝達する処理を含む実施態様1に記載の方法。
(14)前記一定用量を供給する処理が前記組織の中の一連の相互に隣接している部位をアブレーションする処理を含み、前記測定した実際のアブレーションの程度を表示する処理がそれぞれの部位の間の重なりの一定の視覚的な指示を行なう処理を含む実施態様1に記載の方法。
(15)前記器官が一定の心臓を含み、前記プローブが一定のカテーテルを含む実施態様1に記載の方法。
一定のプローブをアブレーションする組織に接触する一定の位置まで体内に導入する処理、
前記プローブが接触している組織に対するそのプローブの一定の位置および配向を測定する処理、
前記測定した位置および配向に応答して前記プローブにより供給される一定用量のエネルギーに対応して達成される組織のアブレーションの程度を予測する処理、および
前記プローブを用いて前記組織をアブレーションするために前記一定用量のエネルギーを供給する処理を含む方法。
(17)前記位置および配向を測定する処理が前記プローブの中の一定の位置センサーを用いてそのプローブの位置および配向の各座標を決定する処理を含む実施態様16に記載の方法。
(18)前記位置センサーが1個以上のセンサー・コイルを含み、前記各座標を決定する処理がそれぞれの座標を決定するために前記センサー・コイルを用いて一定の外部から供給される磁場を感知する処理を含む実施態様17に記載の方法。
(19)前記位置および配向を測定する処理が前記プローブを前記器官の内側の多数個の位置において組織に対して接触させる処理、前記多数個の位置におけるプローブの各座標を記録して前記器官の一定のマップを発生する処理、およびこのマップを用いて前記組織に対するプローブの配向の角度を決定する処理を含む実施態様17に記載の方法。
(20)前記位置および配向を決定する処理がさらに前記プローブの各座標および前記マップに基づいてそのプローブの前記組織の中への進入の深さを決定する処理を含み、前記アブレーションの程度を予測する処理が前記プローブの侵入の深さおよび配向の角度に応答して前記アブレーションの予測される程度を推定する処理を含む実施態様19に記載の方法。
(22)さらに、前記マップに応答して前記エネルギーの用量を調節する処理を含む実施態様16に記載の方法。
(23)前記一定用量を供給する処理が前記プローブに固定されている一定の電極を介して前記組織の中に高周波(RF)エネルギーを伝達する処理を含む実施態様16に記載の方法。
(24)前記器官が一定の心臓を含み、前記プローブが一定のカテーテルを含む実施態様16に記載の方法。
(25)一定の被験者の体内における一定の器官の中の組織をアブレーションするための装置において、
一定のプローブを備えており、このプローブが前記器官の中の所望の位置においてアブレーションする組織に接触するために前記体内に挿入することに適合しており、さらにこのプローブが
少なくとも1個のセンサーを含み、このセンサーが前記組織のアブレーションの前後において前記位置における1個以上の局所的なパラメータを測定することに適合しており、さらに
一定のアブレーション装置を含み、このアブレーション装置が前記組織をアブレーションするためにその組織に一定用量のエネルギーを供給することに適合しており、さらに前記装置が
前記器官の一定のマップを表示することに適合している一定の表示装置、および
一定のコントローラを備えており、このコントローラが、前記少なくとも1個のセンサーにより測定された1個以上の局所的なパラメータに基づいて、前記一定用量のエネルギーに対応して達成される組織のアブレーションの一定の予測される程度、およびこの予測される程度に対して比較するための前記組織のアブレーションの後に決定される実際のアブレーションの程度を示すマップを発生することに適合している装置。
(27)前記コントローラが前記位置センサーの出力に応答して前記組織の中のプローブの侵入の深さおよび前記組織に対するプローブの配向の角度の内の少なくとも一方を決定すること、および前記侵入の深さおよび配向の角度の少なくとも一方に応答してそのアブレーションの程度を予測することに適合している実施態様26に記載の装置。
(28)前記コントローラが、前記プローブが前記器官の内側の多数個の位置において前記組織に接触する時に、前記位置センサーの出力を処理することにより前記マップを発生することに適合している実施態様26に記載の装置。
(29)前記少なくとも1個のセンサーがさらに一定の電気的なセンサーを含み、この電気的なセンサーが前記多数個の位置における電位を測定することに適合しており、前記コントローラがそれぞれの測定された電位に基づいて前記マップ上に電気的な活性の一定の指示を行なうことに適合している実施態様28に記載の装置。
(30)前記少なくとも1個のセンサーが1個以上の超音波トランスデユーサを含み、これらのトランスデユーサが超音波を前記組織の中に伝達してその組織から反射する超音波に応答して一定の出力信号を発生することに適合している実施態様25に記載の装置。
(32)前記コントローラが前記1個以上の超音波トランスデユーサからの出力信号に応答して前記組織の中の血流を評価することに適合している実施態様30に記載の装置。
(33)前記コントローラが前記一定用量のエネルギーの供給後に前記1個以上の超音波トランスデユーサからの出力信号に基づいて前記実際のアブレーションの程度を決定することに適合している実施態様30に記載の装置。
(34)前記コントローラが前記組織に対する前記プローブの配向の角度を決定すること、およびその配向の角度に応答して前記アブレーションの程度を予測することに適合している実施態様25に記載の装置。
(35)前記1個以上の局所的なパラメータが前記組織の中のプローブの侵入の深さ、前記プローブと前記組織との間の一定の電気的なインピーダンス、前記組織の一定の温度および前記組織に付随する血液の一定の流量の内の少なくとも一つを含む実施態様25に記載の装置。
(37)前記アブレーション装置が一定の電極を含み、この電極が前記組織をアブレーションするために高周波(RF)エネルギーを供給することに適合している実施態様25に記載の装置。
(38)前記プローブが前記組織の中における一連の相互に隣接している部位をアブレーションすることに適合しており、前記コントローラが前記各部位の間における重なりの視覚的な指示を行なうことに適合している実施態様25に記載の装置。
(39)前記器官が一定の心臓を含み、前記プローブが一定のカテーテルを含む実施態様25に記載の装置。
(40)一定の被験者の体内における一定の器官の中の組織をアブレーションするための装置において、
一定のプローブを備えており、このプローブが前記アブレーションする組織に接触するために前記体内に挿入することに適合しており、さらにこのプローブが
一定の位置センサーを含み、このセンサーが前記プローブが接触する組織に対するそのプローブの一定の位置および配向を示す一定の出力を発生することに適合しており、さらに
一定のアブレーション装置を含み、このアブレーション装置が前記組織をアブレーションするためにその組織に一定用量のエネルギーを供給することに適合しており、さらに前記装置が
前記器官の一定のマップを表示することに適合している一定の表示装置、および
一定のコントローラを備えており、このコントローラが、前記プローブの位置および配向に基づいて、前記一定用量のエネルギーに対応して達成される組織のアブレーションの一定の予測される程度を計算して、前記用量をその予測に応答して調節可能にすることに適合している装置。
(42)前記コントローラが、前記プローブが前記器官の内側の多数個の位置において前記組織に対して接触する時に、前記位置センサーの出力を処理してその多数個の位置における前記プローブの各位置座標を記録することにより前記器官の一定のマップを発生することに適合している実施態様40に記載の装置。
(43)前記コントローラが前記マップを用いて前記組織に対する前記プローブの一定の配向の角度を決定することに適合している実施態様42に記載の装置。
(44)前記コントローラが前記プローブの各位置座標および前記マップに基づいてそのプローブの前記組織内への進入の深さを決定すること、および前記プローブの侵入の深さおよび配向の角度に応答して前記アブレーションの程度を予測することに適合している実施態様43に記載の装置。
(45)前記プローブが一定のセンサーを含み、このセンサーが前記プローブと前記組織との間の一定の電気的なインピーダンス、前記組織の一定の温度および前記組織に付随する血液の一定の流量から成る局所的なパラメータの一定のリストから選択される少なくとも1個の局所的なパラメータを測定することに適合しており、前記コントローラが前記少なくとも1個の局所的なパラメータに応答して前記アブレーションの程度を予測することに適合している実施態様40に記載の装置。
(47)前記アブレーション装置が一定の電極を含み、この電極が前記組織をアブレーションするために高周波(RF)エネルギーを供給することに適合している実施態様40に記載の装置。
(48)前記器官が一定の心臓を含み、前記プローブが一定のカテーテルを含む実施態様40に記載の装置。
21 コンソール
22 カテーテル
23 オペレータ
24 心臓
26 電極
28 外部ラジエータ
30 コントローラ
32 接続箱
34 センサーのモニターおよびコントロール・ユニット
36 位置決めシステムのコントロール・ユニット
37 表示装置
38 出力発生装置
39 マップ
42 心臓組織
44 位置/配向センサー
45 感知コイル
46 トランスデユーサ
48 先端電極
50 温度センサー
52 表層
53 深層
54 裏層
80 マップ
86 外形
88 地形図的な凹み
90 アブレーションの外傷部分
92 隙間
Claims (22)
- 一定の被験者の体内における一定の器官の中の組織をアブレーションするための方法において、
一定のプローブをアブレーションする組織に接触する一定の位置まで体内に導入する処理、
前記組織をアブレーションする前に前記プローブを用いて前記位置における1個以上の局所的なパラメータを測定する処理、
前記プローブを用いて前記位置に供給される一定用量のエネルギーに対応して達成される組織のアブレーションの一定の予測される程度を前記1個以上の局所的なパラメータに基づいて示す前記器官の一定のマップを表示する処理、
前記プローブを用いて前記組織をアブレーションするために前記一定用量のエネルギーを供給する処理、
前記組織のアブレーションに続いて前記プローブを用いて前記位置における実際のアブレーションの程度を測定する処理、
前記測定した実際のアブレーションの程度を前記予測された程度に対して比較するために前記マップ上に表示する処理を含む方法。 - 一定の被験者の体内における一定の器官の中の組織をアブレーションするための方法において、
一定のプローブをアブレーションする組織に接触する一定の位置まで体内に導入する処理、
前記プローブが接触している組織に対するそのプローブの一定の位置および配向を測定する処理、
前記測定した位置および配向に応答して前記プローブにより供給される一定用量のエネルギーに対応して達成される組織のアブレーションの程度を予測する処理、および
前記プローブを用いて前記組織をアブレーションするために前記一定用量のエネルギーを供給する処理を含む方法。 - 一定の被験者の体内における一定の器官の中の組織をアブレーションするための装置において、
一定のプローブを備えており、このプローブが前記器官の中の所望の位置においてアブレーションする組織に接触するために前記体内に挿入することに適合しており、さらにこのプローブが
少なくとも1個のセンサーを含み、このセンサーが前記組織のアブレーションの前後において前記位置における1個以上の局所的なパラメータを測定することに適合しており、さらに
一定のアブレーション装置を含み、このアブレーション装置が前記組織をアブレーションするためにその組織に一定用量のエネルギーを供給することに適合しており、さらに前記装置が
前記器官の一定のマップを表示することに適合している一定の表示装置、および
一定のコントローラを備えており、このコントローラが、前記少なくとも1個のセンサーにより測定された1個以上の局所的なパラメータに基づいて、前記一定用量のエネルギーに対応して達成される組織のアブレーションの一定の予測される程度、およびこの予測される程度に対して比較するための前記組織のアブレーションの後に決定される実際のアブレーションの程度を示すマップを発生することに適合している装置。 - 前記少なくとも1個のセンサーが一定の位置センサーを含み、この位置センサーが前記体内のプローブの各座標を示す一定の出力を供給することに適合している請求項3に記載の装置。
- 前記コントローラが前記位置センサーの出力に応答して前記組織の中のプローブの侵入の深さおよび前記組織に対するプローブの配向の角度の内の少なくとも一方を決定すること、および前記侵入の深さおよび配向の角度の少なくとも一方に応答してそのアブレーションの程度を予測することに適合している請求項4に記載の装置。
- 前記コントローラが、前記プローブが前記器官の内側の多数個の位置において前記組織に接触する時に、前記位置センサーの出力を処理することにより前記マップを発生することに適合している請求項4に記載の装置。
- 前記少なくとも1個のセンサーがさらに一定の電気的なセンサーを含み、この電気的なセンサーが前記多数個の位置における電位を測定することに適合しており、前記コントローラがそれぞれの測定された電位に基づいて前記マップ上に電気的な活性の一定の指示を行なうことに適合している請求項6に記載の装置。
- 前記少なくとも1個のセンサーが1個以上の超音波トランスデユーサを含み、これらのトランスデユーサが超音波を前記組織の中に伝達してその組織から反射する超音波に応答して一定の出力信号を発生することに適合している請求項3に記載の装置。
- 前記コントローラが前記1個以上の超音波トランスデユーサからの出力信号に応答して前記組織の中における超音波の伝播速度を測定すること、およびその伝播速度に基づいて前記組織の一定の温度を推定することに適合している請求項8に記載の装置。
- 前記コントローラが前記1個以上の超音波トランスデユーサからの出力信号に応答して前記組織の中の血流を評価することに適合している請求項8に記載の装置。
- 前記コントローラが前記一定用量のエネルギーの供給後に前記1個以上の超音波トランスデユーサからの出力信号に基づいて前記実際のアブレーションの程度を決定することに適合している請求項8に記載の装置。
- 前記コントローラが前記組織に対する前記プローブの配向の角度を決定すること、およびその配向の角度に応答して前記アブレーションの程度を予測することに適合している請求項3に記載の装置。
- 前記1個以上の局所的なパラメータが前記組織の中のプローブの侵入の深さ、前記プローブと前記組織との間の一定の電気的なインピーダンス、前記組織の一定の温度および前記組織に付随する血液の一定の流量の内の少なくとも一つを含む請求項3に記載の装置。
- 前記コントローラが前記マップに応答して前記エネルギーの用量を調節することに適合している請求項3に記載の装置。
- 前記アブレーション装置が一定の電極を含み、この電極が前記組織をアブレーションするために高周波(RF)エネルギーを供給することに適合している請求項3に記載の装置。
- 前記プローブが前記組織の中における一連の相互に隣接している部位をアブレーションすることに適合しており、前記コントローラが前記各部位の間における重なりの視覚的な指示を行なうことに適合している請求項3に記載の装置。
- 一定の被験者の体内における一定の器官の中の組織をアブレーションするための装置において、
一定のプローブを備えており、このプローブが前記アブレーションする組織に接触するために前記体内に挿入することに適合しており、さらにこのプローブが
一定の位置センサーを含み、このセンサーが前記プローブが接触する組織に対するそのプローブの一定の位置および配向を示す一定の出力を発生することに適合しており、さらに
一定のアブレーション装置を含み、このアブレーション装置が前記組織をアブレーションするためにその組織に一定用量のエネルギーを供給することに適合しており、さらに前記装置が
前記器官の一定のマップを表示することに適合している一定の表示装置、および
一定のコントローラを備えており、このコントローラが、前記プローブの位置および配向に基づいて、前記一定用量のエネルギーに対応して達成される組織のアブレーションの一定の予測される程度を計算して、前記用量をその予測に応答して調節可能にすることに適合している装置。 - 前記位置センサーが1個以上のセンサー・コイルを含み、これらのセンサー・コイルが外部から供給される一定の磁場に応答して前記位置および配向を指示する出力を発生することに適合している請求項17に記載の装置。
- 前記コントローラが、前記プローブが前記器官の内側の多数個の位置において前記組織に対して接触する時に、前記位置センサーの出力を処理してその多数個の位置における前記プローブの各位置座標を記録することにより前記器官の一定のマップを発生することに適合している請求項17に記載の装置。
- 前記コントローラが前記マップを用いて前記組織に対する前記プローブの一定の配向の角度を決定することに適合している請求項19に記載の装置。
- 前記コントローラが前記プローブの各位置座標および前記マップに基づいてそのプローブの前記組織内への進入の深さを決定すること、および前記プローブの侵入の深さおよび配向の角度に応答して前記アブレーションの程度を予測することに適合している請求項20に記載の装置。
- 前記プローブが一定のセンサーを含み、このセンサーが前記プローブと前記組織との間の一定の電気的なインピーダンス、前記組織の一定の温度および前記組織に付随する血液の一定の流量から成る局所的なパラメータの一定のリストから選択される少なくとも1個の局所的なパラメータを測定することに適合しており、前記コントローラが前記少なくとも1個の局所的なパラメータに応答して前記アブレーションの程度を予測することに適合している請求項17に記載の装置。
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