JP2005191164A

JP2005191164A - 電磁波シールドフィルム

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Publication number: JP2005191164A
Application number: JP2003428733A
Authority: JP
Inventors: Hideo Murakami; 英生村上; Toshiyuki Otani; 寿幸大谷; Chikao Morishige; 地加男森重
Original assignee: Toyobo Co Ltd
Current assignee: Toyobo Co Ltd
Priority date: 2003-12-25
Filing date: 2003-12-25
Publication date: 2005-07-14
Anticipated expiration: 2023-12-25
Also published as: JP4765251B2

Abstract

【課題】光線透過率が高く、かつ着色が極めて少なく、さらに電磁波シールド特性が良好な電磁波シールドフィルムを提供する。さらに、電磁波シールド層と保護層との付着力に優れ、高温・高湿下で長期間保管した後でも視認性に優れる電磁波シールドフィルムをも提供する。
【解決手段】透明高分子フィルム（Ａ）と、透明導電層（Ｂ）と、保護層（Ｃ）とがこの順序で積層され、かつ波長５５０ｎｍにおける光線透過率が９０％以上であることを特徴とする電磁波シールドフィルム。さらに、好適な実施形態は、前記保護層（Ｃ）としてイオン性基を含有し、かつ、前記イオン性基濃度が２０〜１０００ｅｑ／ｔｏｎである、架橋構造を有する樹脂から構成させることにより、前記透明導電層（Ｂ）と保護層（Ｃ）との付着力を１００ｇ／１５ｍｍ以上とした電磁波シールドフィルムである。
【選択図】なし

Description

本発明は電磁波シールドフィルムに関するものであり、更に詳しくは液晶表示パネル用部材として用いることにより、視認性を低下させることなく電磁波による電子機器の誤動作を防止することが可能な電磁波シールドフィルムに関するものである。

液晶表示装置は、ＳＴＮ型やＴＦＴ型のカラー液晶表示パネルと、このパネルの背面に配設されたバックライトユニットとがケース内に収まってなる。

液晶表示パネルは、２枚の透明ガラスの間に液晶層を介在し、さらに透明ガラス基板や回路基板の上に駆動用ＩＣを設けたものである。

このような構成の液晶表示装置は、前記装置のバックライトから放出される電磁波により、液晶表示部にノイズが混入するなどの問題が知られている。

最近では、液晶表示パネルの大型化（２０インチ以上）にともない、バックライトユニットの蛍光灯が液晶表示パネルの直下に配置され、また蛍光灯の数も多くなり、この蛍光灯から生じる電磁波により液晶が誤動作するという問題が増えてきている。

一方、電磁波シールドフィルムとしては、透明基材に金属酸化物からなる導電性薄膜層と金属薄膜層を交互に積層し、金属酸化物からなる導電性薄膜層として、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）と酸化スズ（ＳｎＯ２）の混合焼結体（以下、ＩＴＯという）からなる電磁波シールドフィルムが開示されている（例えば、特許文献１、２を参照）。
特開２０００−６２０８２号公報特開２００１−２１０９８７号公報

しかしながら、上記のような電磁波シールドフィルムは電磁波シールド性に優れ、かつ透明性も良好であるが、薄膜層を多数積層するため非常に高価なものである。そのため、原理上電磁波が強く放出されるプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）などに使用されているにすぎない。一方、薄型大型ディスプレイの他の代表格である液晶ディスプレイパネル（ＬＣＤ）の場合、バックライトの蛍光灯から放出される電磁波はＰＤＰの場合と比べはるかに少ない。そのため、現在では、前記の多層薄膜構成の電磁波シールドフィルムよりも安価なＩＴＯ膜を透明基板に設けた電磁波シールドフィルムが液晶表示パネルとバックライトユニットの間に用いられている。

しかしながら、透明基材にＩＴＯ層を設けた構成からなる従来の電磁波シールドフィルムでは、透明導電膜（ＩＴＯ膜）自体が着色を帯び、かつ可視光領域の透過率が低いため、ディスプレイでの画像の視認性が低下するという問題があった。

本発明の目的は、光線透過率が高く、かつ着色が極めて少なく、さらに電磁波シールド特性が良好な電磁波シールドフィルムを提供することにある。さらに、電磁波シールド層と保護層との付着力に優れ、高温・高湿下で長期間保管した後でも視認性に優れる電磁波シールドフィルムを提供することにある。

本発明は、上記のような状況に鑑みなされたものであって、上記の課題を解決することができた電磁波シールドフィルムとは、以下の通りである。

即ち、本発明の第１の発明は、透明高分子フィルム（Ａ）と、透明導電層（Ｂ）と、保護層（Ｃ）とがこの順序で積層され、かつ波長５５０ｎｍにおける光線透過率が９０％以上であることを特徴とする電磁波シールドフィルムである。

第２の発明は、前記保護層（Ｃ）の屈折率が１．４０以上１．７０以下であることを特徴とする第１の発明に記載の電磁波シールドフィルムである。
第３の発明は、前記透明導電層（Ｂ）と保護層（Ｃ）との付着力が１００ｇ／１５ｍｍ以上であることを特徴とする第１または２の発明に記載の電磁波シールドフィルムである。

第４の発明は、前記保護層（Ｃ）が、イオン性基を含有し、前記イオン性基濃度が２０〜１０００ｅｑ／ｔｏｎであり、かつ架橋構造を有する樹脂から構成されていることを特徴とする第１〜３のいずれかの発明に記載の電磁波シールドフィルムである。
第５の発明は、第４の発明に記載の樹脂が、ポリエステル樹脂であることを特徴とする電磁波シールドフィルムである。

第６の発明は、前記透明高分子フィルム（Ａ）の透明導電層（Ｂ）と保護層（Ｃ）とを積層した面とは反対面に、透明高分子フィルム（Ａ）よりも屈折率の低い層（Ｄ）を設けてなることを特徴とする第１〜５のいずれかの発明に記載の電磁波シールドフィルムである。

本発明による電磁波シールドフィルムは、透明高分子フィルム（Ａ）と、透明導電層（Ｂ）と、保護層（Ｃ）とが順次積層された構成からなり、光線透過率が高く、かつ着色が極めて少なく、さらに電磁波シールド特性が良好であるため、特に大型液晶表示パネルに組み込んだ際に液晶の誤動作を防止でき、かつディスプレイの視認性にも優れている。さらに、特定のイオン性基濃度を有し、かつ架橋構造を有する樹脂から構成された保護層を用いることにより、透明導電層と保護層間の密着性が向上するため、高温・高湿下で長期間保管した後でも視認性に優れる、という利点がある。

本発明の電磁波シールドフィルムは、透明高分子フィルム（Ａ）と、透明導電層（Ｂ）と、保護層（Ｃ）を有する電磁波シールドフィルムであり、透明導電層（Ｂ）の酸化劣化の防止、傷つき防止等の観点からＡ／Ｂ／Ｃの積層構成からなる。また、透明高分子フィルム（Ａ）の両面に、透明導電層（Ｂ）と保護層（Ｃ）を設けてもよく、さらにＡ層の片面に透明導電層（Ｂ）や保護層（Ｃ）を複数設けてもよい。例えば、Ｃ／Ｂ／Ａ／Ｂ／Ｃ、Ａ／Ｂ／Ｃ／Ｂ／Ｃなどの積層構成が挙げられる。

本発明における透明高分子フィルムとは、有機高分子を溶融押出し又は溶液押出しをして、必要に応じ、長手方向及び／又は幅方向に延伸、冷却、熱固定を施して得たフィルムである。有機高分子としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−２、６−ナフタレート、ポリプロピレンテレフタレート、ナイロン６、ナイロン４、ナイロン６６、ナイロン１２、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルサルファン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、ポリアリレート、セルロースプロピオネート、ポリ塩化ビニール、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリエーテルイミド、ポリフェニレンスルフィド、ポリフェニレンオキサイド、ポリスチレン、シンジオタクチックポリスチレン、ノルボルネン系ポリマーなどが挙げられる。また、これらの有機高分子は他の有機重合体を少量共重合したり、ブレンドしたりしてもよい。これらのうち、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレンテレフタレート、ポリエチレン−２、６−ナフタレート、シンジオタクチックポリスチレン、ノルボルネン系ポリマーなどが好ましく用いられ、特に好ましくはポリエチレンテレフタレートである。

本発明で用いる透明高分子フィルム（Ａ）は、厚みが１０μｍを越え、３００μｍ以下の範囲にあることが好ましく、特に好ましくは７０〜２６０μｍの範囲である。フィルムの厚みが１０μｍ未満の場合には、透明導電層を成膜する際に輻射熱により基板の透明高分子フィルムが変形しやすくなり、２５０μｍを超えるとフィルムの柔軟性が低くなるためハンドリング性が低下する等の問題が生じやすくなる。

本発明で用いる透明高分子フィルム（Ａ）としては、二軸配向フィルムが機械的強度、寸法安定性、耐薬品性などの点から好適である。

また、前記透明高分子フィルム（Ａ）と透明導電層（Ｂ）との間の密着性を向上させるために、前記透明高分子フィルムの表面に予めコロナ放電処理、プラズマ処理、サンドブラストを用いた粗面化処理等の表面処理を施す、またはそれらの中間層として密着性改質樹脂から構成された公知の密着性改質層を設けてもよい。

透明高分子フィルム（Ａ）と保護層（Ｃ）の間に設けられる透明導電層（Ｂ）の構成材料としては、Ｉｎ２Ｏ３、ＳｎＯ２、ＩＴＯ、酸化亜鉛（ＺｎＯ）等の金属酸化物が好適である。これらの中でも、透明性と導電性の面からＩＴＯが特に好適である。透明導電層（Ｂ）の膜厚は、１０〜１００ｎｍが好ましく、２０〜８０ｎｍがより好ましい。透明導電層（Ｂ）の膜厚が１０ｎｍに満たないと、十分な電磁波シールド特性が得られにくい。一方、透明導電層（Ｂ）の膜厚が１００ｎｍを超えると、耐屈曲性や光線透過率が低下しやすくなる。

透明導電層（Ｂ）を透明高分子フィルム（Ａ）や保護層（Ｃ）の上に形成させる方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の各種成膜法がある。これらの中でも、スパッタリング法は密着性、安定性の面から好ましい。

透明高分子フィルム（Ａ）や透明導電層（Ｂ）上に設けられる保護層（Ｃ）は、屈折率が１．４０以上１．７０以下の範囲にあることが、透明性を向上させ、ディスプレイに組み込んだ際の視認性を向上させる点から好ましい。一般的な低屈折材料として、無機物ではＳｉＯ₂（１．４６）、ＣａＦ₂（１．３８）が挙げられるが、ＣａＦ₂は耐水性（水に溶ける）がないため好ましくない。また、有機物ではフッ素含有ポリマーが挙げられるが、市販で入手できるものでは１．４０が下限である。一方、屈折率が１．７０を超えると、光線透過率が低下しやすくなる。例えば、透明導電層（Ｂ）の材料としてＩＴＯを用いる場合、ＩＴＯの屈折率が１．９〜２．０であるため、保護層（Ｃ）の屈折率が１．７０を超えると、波長５５０ｎｍにおける光線透過率を９０％以上とすることが困難となる。

さらに、長期間安定な電磁波シールド性や視認性を得るためには、保護層（Ｃ）と透明導電層（Ｂ）との密着性を向上させることが好ましい。このような機能を有する保護層（Ｃ）として、イオン性基を含有し、イオン性基濃度が２０〜１０００ｅｑ／ｔｏｎであり、かつ架橋構造を有する樹脂から構成されるものが挙げられる。イオン性基を樹脂に導入するためには、主鎖となる樹脂を重合する際にイオン性基含有単量体を含有させ、共重合させることが好ましい。次いで、前記のイオン性基を導入した樹脂を架橋剤で架橋させることが好ましい。

保護層（Ｃ）として用いることができる樹脂としては、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、メタクリル樹脂、ウレタンアクリル樹脂、シリコンアクリル樹脂、メラミン樹脂、ポリシロキサン樹脂などが好ましい。中でも、生産性の観点から、ポリエステル樹脂が好ましい。

ポリエステル樹脂は、多価カルボン酸類と多価アルコール類をエステル化反応またはエステル交換反応をさせ、ついで重縮合して一般的に製造される。
前記の多価カルボン酸類としては、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、オルソフタル酸、１，５−ナフタレンジカルボン酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、ジフェン酸、スルホテレフタル酸、５−スルホイソフタル酸、４−スルホフタル酸、４−スルホナフタレン−２，７−ジカルボン酸、５〔４−スルホフェノキシ〕イソフタル酸、スルホテレフタル酸、およびまたはそれらの金属塩、アンモニウム塩などの芳香族ジカルボン酸、ｐ−オキシ安息香酸、ｐ−（ヒドロキシエトキシ）安息香酸などの芳香族オキシカルボン酸、コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸等の脂肪族ジカルボン酸、フマール酸、マレイン酸、イタコン酸、ヘキサヒドロフタル酸、テトラヒドロフタル酸、等の不飽和脂肪族、および、脂環族ジカルボン酸等を、また多価カルボン酸としては他にトリメリット酸、トリメシン酸、ピロメリット酸等の三価以上の多価カルボン酸等を例示できる。

前記の多価アルコール類としては脂肪族多価アルコール類、脂環族多価アルコール類、芳香族多価アルコール類等を例示できる。

脂肪族多価アルコール類としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、１，３−プロパンジオール、２，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール等の脂肪族ジオール類、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、グリセリン、ペンタエルスリトール等のトリオールおよびテトラオール類等を例示できる。

脂環族多価アルコール類としては、１，４−シクロヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、スピログリコール、水素化ビスフェノールＡ、水素化ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加物およびプロピレンオキサイド付加物、トリシクロデカンジオール、トリシクロデカンジメタノール等を例示できる。

芳香族多価アルコール類としては、パラキシレングリコール、メタキシレングリコール、オルトキシレングリコール、１，４−フェニレングリコール、１，４−フェニレングリコールのエチレンオキサイド付加物、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加物およびプロピレンオキサイド付加物等を例示できる。

さらにポリエステルポリオールとして、ε−カプロラクトン等のラクトン類を開環重合して得られる、ラクトン系ポリエステルポリオール類等を例示することができる。これらの他、ポリエステル高分子末端の極性基を封鎖する目的にて単官能単量体がポリエステルに導入される場合がある。

単官能単量体としては、安息香酸、クロロ安息香酸、ブロモ安息香酸、パラヒドロキシ安息香酸、スルホ安息香酸モノアンモニウム塩、スルホ安息香酸モノナトリウム塩、シクロヘキシルアミノカルボニル安息香酸、ｎ−ドデシルアミノカルボニル安息香酸、ターシャルブチル安息香酸、ナフタレンカルボン酸、４−メチル安息香酸、３−メチル安息香酸、サリチル酸、チオサリチル酸、フェニル酢酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、オクタンカルボン酸、ラウリル酸、ステアリル酸、およびこれらの低級アルキルエステル、等のモノカルボン酸類、あるいは脂肪族アルコール、芳香族アルコール、脂環族アルコール等のモノアルコールを用いることができる。
本発明においてはこれらのうち不飽和単量体を必須成分とし、他の成分はポリエステル樹脂のガラス転移温度、モノマーとの相溶性、等により適宜選択される。

ポリエステル樹脂に導入されるイオン性基としては、スルホン酸アルカリ金属塩基あるいはスルホン酸アンモニウム塩基を有するモノあるいはジカルボン酸等を好ましく用いることができるほか、例えばカルボン酸アルカリ金属塩基あるいはカルボン酸アンモニウム塩基を有する単量体、硫酸基、リン酸基、ホスホン酸基、ホスフィン酸基もしくはそれらのアンモニウム塩、金属塩等のアニオン性基、または第１級ないし第３級アミン基等のカチオン性基単量体などをもちいることができる。

カルボン酸アルカリ金属塩基あるいはカルボン酸アンモニウム塩基を導入する場合には、ポリエステルの重合末期にトリメリット酸等の多価カルボン酸を系内に導入することにより高分子末端にカルボキシル基を付加し、さらにこれをアンモニア、水酸化ナトリウム等にて中和することによりカルボン酸塩の基に交換する方法を用いることができる。

また、スルホン酸アルカリ金属塩基あるいはスルホン酸アンモニウム塩基を有するモノあるいはジカルボン酸を含有することによりこれらのイオン性基をポリエステル樹脂に導入することができる。塩としてはアンモニウム系イオン、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｃｕ、Ｆｅ等の塩があげられ、特に好ましいものはＫ塩またはＮａ塩である。本発明では５−ナトリウムスルホイソフタル酸、あるいはメタナトリウムスルホ安息香酸を用いることが好ましい。またカルボン酸塩の基とスルホン酸塩の基を使用しても良い。

本発明において、保護層（ｃ）を構成するのに好適なポリエステル樹脂として、下記のポリエステル樹脂が例示できる。

ａ）芳香族系単量体を８０ｍｏｌ％以上含有する多価カルボン酸類と、エチレングリコールを０〜９０ｍｏｌ％、プロピレングリコールを１００〜１０ｍｏｌ％とから得られるポリエステル樹脂

ｂ）芳香族系単量体を８０ｍｏｌ％以上含有する多価カルボン酸類と、２，３−ブタンジオールを５〜８０ｍｏｌ％、エチレングリコールを９５〜２０ｍｏｌ％とから得られるポリエステル樹脂

ｃ）芳香族系単量体を８０ｍｏｌ％以上含有する多価カルボン酸類と、Ｃ２〜Ｃ４の脂肪族系グリコール類を７０〜９５ｍｏｌ％、トリシクロデカン骨格を有するモノあるいは多価アルコール類５〜３０ｍｏｌ％とから得られるポリエステル樹脂

ｄ）芳香族系単量体を８０ｍｏｌ％以上含有する多価カルボン酸類と、Ｃ２〜Ｃ４の脂肪族系グリコール類を７０〜９５ｍｏｌ％、ヒドロキシメチルトリシクロデカンを５〜３０ｍｏｌ％とから得られるポリエステル樹脂

ｅ）芳香族系単量体を８０ｍｏｌ％以上含有する多価カルボン酸類と、Ｃ２〜Ｃ４の脂肪族系グリコール類を７０〜９５ｍｏｌ％、トリシクロデカンジメタノールを５〜３０ｍｏｌ％とから得られるポリエステル樹脂

ｆ）芳香族系単量体を８０ｍｏｌ％以上含有する多価カルボン酸類と、Ｃ２〜Ｃ４の脂肪族系グリコール類を７０〜９５ｍｏｌ％、シクロヘキサン骨格を有するモノあるいは多価アルコール類を５〜３０ｍｏｌ％とから得られるポリエステル樹脂

ｇ）芳香族系単量体を８０ｍｏｌ％以上含有する多価カルボン酸類と、Ｃ２〜Ｃ４の脂肪族系グリコール類を７０〜９５ｍｏｌ％、シクロヘキサンジオールを５〜３０ｍｏｌ％とから得られるポリエステル樹脂

ｈ）芳香族系単量体を８０ｍｏｌ％以上含有する多価カルボン酸類と、Ｃ２〜Ｃ４の脂肪族系グリコール類を７０〜９５ｍｏｌ％、水添ビフェノールを５〜３０ｍｏｌ％とから得られるポリエステル樹脂

ｉ）芳香族系単量体を８０ｍｏｌ％以上含有する多価カルボン酸類と、Ｃ２〜Ｃ４の脂肪族系グリコール類を７０〜９５ｍｏｌ％、水添ビスフェノールＡを５〜３０ｍｏｌ％とから得られるポリエステル樹脂

ｊ）ナフタレン骨格を有するモノあるいは二価以上のカルボン酸１〜２０ｍｏｌ％を含む芳香族系単量体を８０ｍｏｌ％以上含有する多価カルボン酸類と、Ｃ２〜Ｃ４の脂肪族系グリコール類を７０〜１００ｍｏｌ％、脂環族系単量体０〜３０ｍｏｌ％を含有する多価アルコール類、とから得られるポリエステル樹脂

さらに、前記の芳香族系単量体は、テレフタル酸及びイソフタル酸であることが好ましい。テレフタル酸とイソフタル酸の組成比は、９０／１０〜４０／６０［ｍｏｌ％］が好ましく、さらに好ましくは８０／２０〜５０／５０［ｍｏｌ％］であり、特に好ましくは８５／１５〜６０／４０［ｍｏｌ％］である。

イオン性基含有単量体をポリエステル樹脂に導入し、ポリエステル樹脂にイオン性基を与えた場合、透明導電性薄膜との付着力が強固なものとなる。イオン性基含有単量体としては、前述したスルホン酸アルカリ金属塩基あるいはスルホン酸アンモニウム塩基を有するモノあるいはジカルボン酸等を好ましく用いることができる。さらに、例えば、カルボン酸アルカリ金属塩基あるいはカルボン酸アンモニウム塩基を有する単量体、硫酸基、リン酸基、ホスホン酸基、ホスフィン酸基もしくはそれらのアンモニウム塩、金属塩等のアニオン性基、または第１級ないし第３級アミン基等のカチオン性基単量体などを用いることができる。

これらイオン性基の含有量は、スルホン酸基およびまたはその塩の基を含め、前記ポリエステル樹脂に対し、２０〜１０００ｅｑ／ｔｏｎの範囲が好ましい。前記イオン性基の含有量の下限は、付着力（透明導電層（Ｂ）と保護層（Ｃ）との間の密着性）を安定して確保する観点から決められたものである。一方、前記イオン性基の含有量の上限は、耐湿熱性を安定して確保する観点から決められたものであり、さらに好ましくは５００ｅｑ／ｔｏｎであり、特に好ましくは２００ｅｑ／ｔｏｎである。また、架橋構造を有しない場合には耐熱性が不足する場合があるので、前記イオン性基を導入したポリエステル樹脂を、例えばイソシアネート系の架橋剤で架橋させることが好ましい。

保護層（Ｃ）の膜厚は、３０ｎｍ〜３００ｎｍが好ましい。保護層（Ｃ）の膜厚が３０ｎｍ未満では、十分な光学特性が得られない場合があり、また３００ｎｍを超えても十分な光線透過率が得られない場合がある。

前記の保護層（Ｃ）の形成方法としては、コーティング法を用いることが好ましい。コーティング法としては、エアドクタコート法、ナイフコート法、ロッドコート法、正回転ロールコート法、リバースロールコート法、グラビアコート法、キスコート法、ビードコート法、スリットオリフェスコート法、キャストコート法などが用いられる。保護層を構成する樹脂に架橋構造を付与する場合には、塗布、乾燥後に加熱もしくは紫外線、電子線照射によりエネルギーを印加することが好ましい。

また、光線透過率をさらに向上させるために、熱可塑性樹脂フィルム（Ａ）上に透明導電層（Ｂ）と保護層（Ｃ）を積層した面とは反対の面に熱可塑性樹脂フィルムよりも屈折率の低い層を設けることが好ましい。

以下に、実施例により本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例によりなんら限定されるものではない。なお、実施例および比較例で得られた電磁波シ−ルドフィルムの評価は以下の方法で行った。

（１）イオン性基含有量
樹脂０．２ｇを２０ｍｌのクロロホルムに溶解し、０．１ＮのＫＯＨエタノール溶液で滴定し、樹脂１０⁶ｇ（１ｔｏｎ）当りの当量（ｅｑ／ｔｏｎ）を求めた。

（２）樹脂の屈折率
樹脂を含む塗布液を、乾燥後の塗膜が約５００μｍになるようにテフロン（登録商標）製シート上に塗布し、乾燥して得られた樹脂膜を前記シートより剥離して、測定用試料を作成した。次いで、ＪＩＳ−Ｋ７１４２（Ａ法）に準拠し、アッベ屈折計（アタゴ（株）社製）を用いて前記樹脂膜の屈折率を測定した。

（３）透明導電性薄膜中の組成分析
インジウム−スズ複合酸化物薄膜中の酸化スズの重量％とは、薄膜中のインジウムとスズの組成を原子吸光分析で求め、インジウムとスズが薄膜中で完全酸化物であると仮定して、Ｉｎ₂Ｏ₃、ＳｎＯ₂の比重（Ｉｎ₂Ｏ₃は７．１８、ＳｎＯ₂は６．９５）を用いて算出した値である。

（４）全光線透過率及びヘイズ
ＪＩＳ−Ｋ７１０５に準拠し、ヘイズメーター（日本電色工業製、ＮＤＨ−１００１ＤＰ）を用いて、全光線透過率及びヘイズを測定した。

（５）光線透過率
自記分光光度計（日立製作所製、Ｕ−３５００型）を用い、波長５５０ｎｍにおける光線透過率を測定した。

（６）カラー（ａ値、ｂ値）
ＪＩＳ−Ｋ７１０５に準拠し、色差計（日本電色工業製、ＺＥ−２０００）を用いて、標準の光Ｃ／２でカラーａ、ｂ値を測定した。なお、カラーａ値は赤味を示す尺度であり、数値が高いほど赤色が強くなり、マイナスに数値が高くなるほど緑色が強くなることを意味する。また、ｂ値は黄味を示す尺度であり、数値が高いほど黄色が強くなり、マイナスに数値が高くなるほど青色が強くなることを意味する。

（７）表面抵抗率
ＪＩＳ−Ｋ７１９４に準拠し、表面抵抗計（三菱油化製、Lotest AMCP-T400）を用いて、４端子法にて測定した。

（８）付着力
厚み４０μｍのアイオノマーフィルムを、ポリエステル系接着剤を用いて、厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムにラミネートし、付着力測定用積層体を作製した。この付着力測定用積層体のアイオノマー面と、透明導電性フィルムの透明導電性薄膜面上に作製した保護層（ｃ）を対向させ、１３０℃でヒートシールした。この積層体を付着力測定用積層体と透明導電性フィルムとを１８０度剥離法で剥離し、この剥離力を付着力とした。この時の剥離速度は１０００ｍｍ／分とした。

（９）耐環境性
電磁波シールドフィルムに対し、下記の２つの耐湿熱条件でそれぞれ耐久試験を行った。
（ｉ）６０℃、９０％ＲＨの環境下で１０００時間放置
（ii）８０℃、６０％ＲＨの環境下で１０００時間放置
次いで、耐久試験後の電磁波シールドフィルムを３７インチの液晶表示パネルに組み込み、目視で観察できる光学欠点の数を下記の基準により評価した。本評価は、高温・高湿下で長期間保管した後の視認性を評価する、いわば、耐久性に関するものである。
○：目視で観察できる欠点はみられない
△：目視で観察できる欠点が３個未満
×：目視で観察できる欠点が３個以上

実施例１
片面に易接着層を有する二軸配向透明ＰＥＴフィルム（東洋紡績（株）製、Ａ４１４０、厚み１２５μｍ）を真空暴露するために、真空チェンバー中で巻き返し処理を行なった。このときの圧力は０．００２Ｐａであり、暴露時間は２０分とした。また、センターロールの表面温度は４０℃とした。

次に、ＰＥＴフィルムの易接着層を有する表面に、インジウム−スズ複合酸化物からなる透明導電性薄膜を成膜した。このとき、スパッタリング前の圧力を０．００１Ｐａとし、ターゲットとして酸化スズを１０質量％含有する酸化インジウム（三井金属鉱業（株）製、密度７．１ｇ／ｃｍ³）を用いて、２Ｗ／ｃｍ²のＤＣ電力を印加した。また、Ａｒガスを１３０ｓｃｃｍ、Ｏ₂ガスを１０ｓｃｃｍの流速で流し、０．４Ｐａの雰囲気下で、ＤＣマグネトロンスパッタリング法により成膜した。ただし、通常のＤＣではなく、アーク放電を防止するために、日本イーエヌアイ製ＲＰＧ−１００を用いて５μｓ幅のパルスを５０ｋＨｚ周期で印加した。また、センターロールの表面温度を５０℃に制御して、スパッタリングを行った。

また、雰囲気の酸素分圧をスパッタプロセスモニター（伯東製、ＳＰＭ２００）にて常時観測しながら、インジウム−スズ複合酸化物薄膜中の酸化度が一定になるように酸素ガスの流量計およびＤＣ電源にフィートバックした。以上のようにして、厚さ２２ｎｍのインジウム−スズ複合酸化物からなる透明導電性薄膜を堆積した。

さらに、共重合ポリエステル樹脂（東洋紡績（株）製、バイロンＲＶ２８０；イオン性基量１２０ｅｑ／ｔｏｎ）２．５質量部及びイソシアネート系架橋剤（日本ポリウレタン工業（株）製コロネートＬ）２．０質量部及び溶剤として、メチルエチルケトン６７．０質量部、トルエン２８．５質量部を混合し、保護層（Ｃ）形成用塗布液を調製した。次に、前記で調整した保護層（Ｃ）形成用塗布液を、前記の透明導電性薄膜上にバーコート法を用いてコーティングした。使用したワイヤーバーは１０番であった。次いで、１５０℃で２分間の熱処理を行ない、電磁波シールドフィルムを作製した。なお、保護層（Ｃ）の屈折率は１．５５であり、厚さは０.１μｍであった。

実施例２
実施例１において、保護層（Ｃ）に用いる樹脂として、イオン性基を有しない共重合ポリエステル樹脂（東洋紡績（株）製、バイロンＲＶ２００；イオン性基量０ｅｑ／ｔｏｎ）を用いること以外は実施例１と同様にして、電磁波シールドフィルムを作製した。

実施例３
実施例１において、保護層（Ｃ）として、膜厚が０．１μｍのフッ素樹脂（ＪＳＲ製、ＪＮ７２１２；屈折率１．４０）からなる層を用いること以外は実施例１と同様にして、電磁波シールドフィルムを作製した。

実施例４
実施例１において、保護層（Ｃ）として、膜厚が０．１μｍのポリシロキサン系のポリマー（コルコート製、コルコートＰ；屈折率１．４５）からなる層を用いること以外は実施例１と同様にして、電磁波シールドフィルムを作成した。

実施例５
実施例１で得られた電磁波シールドフィルムを用いて、透明導電層（Ｂ）、保護層（Ｃ）を設けた面とは反対の面に、さらに膜厚が０．１μｍのフッ素樹脂（ＪＳＲ製、ＪＮ７２１２；屈折率１．４０）からなる層を設けた。

比較例１
保護層（Ｃ）を設けなかったこと以外は実施例１と同様にして、電磁波シールドフィルムを作成した。

実施例１〜５では、透明高分子フィルム（Ａ）上の片面に透明導電層（Ｂ）を設け、更にその透明導電層上に保護層（Ｃ）を設けることにより、波長５５０ｎｍにおける光線透過率がいずれも９０％以上と透明性に優れ、液晶表示ディスプレイに組み込んだ際に視認性に優れる、電磁波シールドフィルムが得られた。

特に、実施例１及び５の電磁波シールドフィルムは、イオン性基を含有する保護層（Ｃ）を設けたことにより透明導電層との付着力が極めて優れるため、液晶表示パネルに組み込み、高温・高湿下で長期間使用しても、優れた視認性を維持することができる。

また、実施例５の電磁波シールドフィルムは、透明高分子フィルム（Ａ）の透明導電層（Ｂ）と保護層（Ｃ）とを積層した面とは反対面に、透明高分子フィルム（Ａ）よりも屈折率の低い層（Ｄ）を設けた構成であるため、さらに透明性に優れていた。

比較例１では、保護層（Ｃ）がないため５５０ｎｍでの透過率が低く、ＩＴＯによる着色性のため液晶表示パネルに組み込んだ際に良好な視認性が得られなかった。

本発明の電磁波シ−ルドフィルムは、光線透過率が高く、着色が極めて少なく、電磁波シールド特性が良好であるため、液晶表示パネル用部材として用いることにより、視認性を低下させることなく電磁波による電子機器の誤動作を防止することができ、特に２０インチ以上の大型の液晶表示パネルに極めて有用である。

Claims

透明高分子フィルム（Ａ）と、透明導電層（Ｂ）と、保護層（Ｃ）とがこの順序で積層され、かつ波長５５０ｎｍにおける光線透過率が９０％以上であることを特徴とする電磁波シールドフィルム。
前記保護層（Ｃ）の屈折率が１．４０以上１．７０以下であることを特徴とする請求項１記載の電磁波シールドフィルム。
前記透明導電層（Ｂ）と保護層（Ｃ）との付着力が１００ｇ／１５ｍｍ以上であることを特徴とする請求項１または２記載の電磁波シールドフィルム。
前記保護層（Ｃ）が、イオン性基を含有し、前記イオン性基濃度が２０〜１０００ｅｑ／ｔｏｎであり、かつ架橋構造を有する樹脂から構成されていることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の電磁波シールドフィルム。
請求項４記載の樹脂が、ポリエステル樹脂であることを特徴とする電磁波シールドフィルム。
前記透明高分子フィルム（Ａ）の透明導電層（Ｂ）と保護層（Ｃ）とを積層した面とは反対面に、透明高分子フィルム（Ａ）よりも屈折率の低い層（Ｄ）を設けてなることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の電磁波シールドフィルム。