JP2005144227A - 洗浄装置および洗浄方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 洗浄装置は、被洗浄基板25の一方の表面に対して、超音波が印加された第1洗浄液を噴射するための超音波ノズル1と、被洗浄基板25の他方の表面に対して、第2洗浄液を噴射するためのジェットノズル11と、超音波ノズル1およびジェットノズル11に対して、被洗浄基板25を相対的に移動させるための基板送り手段とを備える。超音波ノズル1は、第2洗浄液が被洗浄基板25に衝突する第2衝突点72より、被洗浄基板25が移動する矢印61の向きの上流側20mm以上200mm以下に、第1洗浄液が衝突する第1衝突点71が位置するように配置されている。
【選択図】 図1
Description
(装置の構成)
図1から図3を参照して、本発明に基づく実施の形態1における洗浄装置および洗浄方法について説明する。
次に、本発明に基づく洗浄装置の作用と効果、また、本発明に基づく洗浄方法について説明する。図2は、被洗浄基板に付着している微粒子に対する超音波の作用を説明する拡大断面図である。図2(a)は、超音波が作用する前の状態を示す拡大断面図であり、図2(b)は、超音波が作用したときの拡大断面図である。図2(a)に示すように、被洗浄基板25の洗浄面75には、除去すべき微粒子33が付着している。被洗浄基板25が搬送され、微粒子33が、第2洗浄液22に接触すると、微粒子33が第2洗浄液22の中に浸漬する。この段階では、微粒子33の周りの洗浄面75の近傍には、第2洗浄液22が完全に浸透していない空間74が存在する。さらに被洗浄基板25が運搬されると、超音波ノズルから噴射された第1洗浄液を通じて、超音波振動が裏面76に伝播する。超音波振動は、被洗浄基板25を通じて、第2洗浄液22に伝播される。図2(b)に示すように、第2洗浄液22に超音波振動が伝播することによって、微粒子33の周り全体に第2洗浄液22が浸透する。すなわち、微粒子33の表面全体を第2洗浄液22が完全に覆うようになる。微粒子33は、第2洗浄液22のせん断流、第2洗浄液22の超音波振動、および被洗浄基板25の超音波振動によって、洗浄面75との付着力が弱められ、矢印62に示すように、洗浄面75から離脱する。
図4から図6を参照して、本発明に基づく実施の形態2における洗浄装置および洗浄方法について説明する。
このような複数の超音波ノズルを有する構成を採用することによって、対角線の長さが1mを越える大型の被洗浄基板に対しても、本発明を適用することができる。また、大型の被洗浄基板に対しては、その全幅に対応した長尺の超音波ノズルを製作することは困難であり、たとえ製作することができたとしても、非常に高額な製造装置になる。しかし、本発明を適用することによって、安価な洗浄装置を容易に形成することができる。
Claims (8)
- 被洗浄基板の一方の表面に対して、超音波が印加された第1洗浄液を噴射するための超音波ノズルと、
前記被洗浄基板の他方の表面に対して、第2洗浄液を噴射するためのジェットノズルと、
前記超音波ノズルおよび前記ジェットノズルに対して、前記被洗浄基板を相対的に移動させるための基板送り手段と
を備え、
前記超音波ノズルは、前記第2洗浄液が前記被洗浄基板に衝突する位置より、前記被洗浄基板が移動する向きの上流側20mm以上200mm以下の位置に、前記第1洗浄液が衝突するように配置された、洗浄装置。 - 前記被洗浄基板に衝突した直後の前記第2洗浄液のうち高速主流の流速が、15m/s以上200m/s以下である、請求項1に記載の洗浄装置。
- 前記被洗浄基板に対して、前記第2洗浄液が前記ジェットノズルから噴射される方向と前記被洗浄基板の送り方向とのなす角度が10°以上45°以下である、請求項1に記載の洗浄装置。
- 前記超音波の周波数は、400kHz以上2MHzである、請求項1に記載の洗浄装置。
- 前記ジェットノズルの噴射口は、長手方向を有するように形成され、
前記ジェットノズルの噴射口の長手方向の長さは、前記被洗浄基板の表面に平行で、前記被洗浄基板の送り方向に垂直な方向において、前記被洗浄基板の幅方向の長さより長くなっている、請求項1に記載の洗浄装置。 - 前記超音波ノズルの噴射口は、長手方向を有するように形成され、
前記超音波ノズルの噴射口の長手方向の長さは、前記被洗浄基板の表面に平行で、前記被洗浄基板の送り方向に垂直な方向において、前記被洗浄基板の幅方向の長さより長くなっている、請求項1に記載の洗浄装置。 - 噴射口が長手方向を有する前記超音波ノズルが2個以上配置され、
前記超音波ノズルは、それぞれの前記噴射口の長手方向が、前記被洗浄基板の送り方向に垂直になるように配置され、
一の前記超音波ノズルを、隣合う他の前記超音波ノズルに投影したときに、前記一の前記超音波ノズルの略半分が影と重なるように配置された、請求項1に記載の洗浄装置。 - 被洗浄基板の一方の表面に対して超音波が印加された第1洗浄液を噴射しながら、他方の表面に対して第2洗浄液を噴射して、前記他方の表面を洗浄する洗浄方法であって、
前記被洗浄基板の表面に付着した微粒子の周囲に前記第2洗浄液を浸透させる工程と、
前記第2洗浄液の流れによって前記微粒子を回転移動させる工程と、
前記超音波の作用によって前記微粒子を前記被洗浄基板の表面から浮上させる工程と、
前記微粒子をマグヌス効果によって前記被洗浄基板の表面の境界層から離脱させる工程と、
前記微粒子を前記第2洗浄液の高速主流によって、前記被洗浄基板の上方から離脱させる工程と
を含む、洗浄方法。
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