JP2005140935A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005140935A5 JP2005140935A5 JP2003376238A JP2003376238A JP2005140935A5 JP 2005140935 A5 JP2005140935 A5 JP 2005140935A5 JP 2003376238 A JP2003376238 A JP 2003376238A JP 2003376238 A JP2003376238 A JP 2003376238A JP 2005140935 A5 JP2005140935 A5 JP 2005140935A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- exposure
- chuck
- load
- unload position
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 22
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 7
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 2
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003376238A JP4020261B2 (ja) | 2003-11-05 | 2003-11-05 | 露光方法、露光装置、及び基板製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003376238A JP4020261B2 (ja) | 2003-11-05 | 2003-11-05 | 露光方法、露光装置、及び基板製造方法 |
Related Child Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2007211211A Division JP2007306034A (ja) | 2007-08-14 | 2007-08-14 | 露光装置及び基板製造方法 |
| JP2007211212A Division JP2007293376A (ja) | 2007-08-14 | 2007-08-14 | 露光装置及び基板製造方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2005140935A JP2005140935A (ja) | 2005-06-02 |
| JP2005140935A5 true JP2005140935A5 (enExample) | 2005-11-24 |
| JP4020261B2 JP4020261B2 (ja) | 2007-12-12 |
Family
ID=34687371
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2003376238A Expired - Fee Related JP4020261B2 (ja) | 2003-11-05 | 2003-11-05 | 露光方法、露光装置、及び基板製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4020261B2 (enExample) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4860966B2 (ja) * | 2005-09-02 | 2012-01-25 | Nskテクノロジー株式会社 | 露光パターンの転写方法及び露光装置 |
| US7440076B2 (en) * | 2005-09-29 | 2008-10-21 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, device manufacturing method and device manufactured thereby |
| JP4726814B2 (ja) * | 2007-01-16 | 2011-07-20 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 基板の位置決め装置及び位置決め方法 |
| US7923660B2 (en) * | 2007-08-15 | 2011-04-12 | Applied Materials, Inc. | Pulsed laser anneal system architecture |
| JP2009295950A (ja) * | 2008-05-09 | 2009-12-17 | Nsk Ltd | スキャン露光装置およびスキャン露光方法 |
| JP2010169949A (ja) * | 2009-01-23 | 2010-08-05 | Hitachi High-Technologies Corp | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 |
| CN102257437B (zh) * | 2009-11-25 | 2014-05-28 | 恩斯克科技有限公司 | 预对准装置以及预对准方法 |
| JP2011158718A (ja) * | 2010-02-01 | 2011-08-18 | Hitachi High-Technologies Corp | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 |
| JP5843161B2 (ja) * | 2011-05-13 | 2016-01-13 | 株式会社ニコン | 露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 |
| WO2017158943A1 (ja) * | 2016-03-18 | 2017-09-21 | コニカミノルタ株式会社 | パターニング装置及び有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法 |
| WO2019047244A1 (zh) * | 2017-09-11 | 2019-03-14 | 深圳市柔宇科技有限公司 | 机械手臂、曝光机前单元和温度控制方法 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3571243B2 (ja) * | 1999-02-22 | 2004-09-29 | 日立ハイテク電子エンジニアリング株式会社 | プロキシミティ露光方法及び装置 |
| JP2000250227A (ja) * | 1999-03-02 | 2000-09-14 | Adtec Engineeng Co Ltd | 露光装置 |
| JP2000292942A (ja) * | 1999-04-06 | 2000-10-20 | Adtec Engineeng Co Ltd | 露光装置及び露光方法 |
| JP2001093808A (ja) * | 1999-09-21 | 2001-04-06 | Nikon Corp | 露光方法及び露光装置 |
| JP4538884B2 (ja) * | 2000-03-08 | 2010-09-08 | 凸版印刷株式会社 | 大型基板の露光装置 |
| JP2003068600A (ja) * | 2001-08-22 | 2003-03-07 | Canon Inc | 露光装置、および基板チャックの冷却方法 |
-
2003
- 2003-11-05 JP JP2003376238A patent/JP4020261B2/ja not_active Expired - Fee Related
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR101422853B1 (ko) | 기판 처리 시스템 | |
| CN100565789C (zh) | 加热处理装置和方法 | |
| CN101443131B (zh) | 集成热单元 | |
| CN100552503C (zh) | 制造平板显示器的系统和方法 | |
| JP2005140935A5 (enExample) | ||
| JP2005510055A5 (enExample) | ||
| JPH1084029A (ja) | 処理システム | |
| CN100576086C (zh) | 光刻装置及其方法 | |
| JPH1074818A (ja) | 処理装置 | |
| JP3648129B2 (ja) | 塗布現像処理方法及び塗布現像処理システム | |
| JP2011142237A (ja) | 基板処理装置 | |
| JP3771214B2 (ja) | 電子部品の実装方法 | |
| JP4463081B2 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
| KR20100137372A (ko) | 기판 반송 장치, 기판 반송 방법, 도포ㆍ현상 장치 및 기억 매체 | |
| JP2013069874A (ja) | 基板処理システム、基板搬送方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | |
| JP4949064B2 (ja) | 基板処理装置 | |
| WO2007094229A1 (ja) | 基板の処理方法及びコンピュータ読み取り可能な記憶媒体 | |
| TW471995B (en) | Wafer polishing apparatus | |
| JP4515331B2 (ja) | 基板の処理システム | |
| JP2010161407A (ja) | 基板処理システム | |
| JP5661584B2 (ja) | 基板処理システム、基板搬送方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | |
| JP7476295B2 (ja) | 冷却ユニット、基板処理装置、及び基板処理方法 | |
| KR102666544B1 (ko) | 포토리소그래피 장치용 처리 블록 및 이를 이용한 포토리소그래피 장치 | |
| CN218273081U (zh) | 一种单面数字光刻机 | |
| JP2013003157A (ja) | 露光ユニット及びそれを用いた露光方法 |