JP2005101100A - 現像処理装置及び現像処理方法 - Google Patents
現像処理装置及び現像処理方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005101100A JP2005101100A JP2003330334A JP2003330334A JP2005101100A JP 2005101100 A JP2005101100 A JP 2005101100A JP 2003330334 A JP2003330334 A JP 2003330334A JP 2003330334 A JP2003330334 A JP 2003330334A JP 2005101100 A JP2005101100 A JP 2005101100A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- developer
- nozzle
- nozzle portion
- moving mechanism
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Coating Apparatus (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Abstract
【解決手段】 ノズル部を基板の一端側から他端側に亘って移動させる移動機構と、この移動機構に設けられ、ノズル部を上下にガイドするエアベアリングシリンダからなり、ノズル部の現像液吐出口から吐出される現像液の吐出圧によってノズル部を基板の表面から浮上させた状態で前記移動機構により移動させることで基板表面に現像液を均一に塗布していく。
【選択図】 図4
Description
基板を水平に保持する基板保持部と、
前記基板の有効領域の幅に対応する長さに亘って現像液吐出口が形成され、基板の表面に対して現像液を供給するノズル部と、
このノズル部をその長手方向と交差する方向に基板の一端側から他端側に亘って移動させる移動機構と、
この移動機構に設けられ、ノズル部を上下にガイドするガイド部と、
前記ノズル部の現像液吐出口から吐出される現像液の吐出圧によってノズル部を基板の表面から浮上させた状態で前記移動機構により移動させることを特徴とする。
基板を水平に保持する基板保持部と、
前記基板の有効領域の幅に対応する長さに亘って現像液吐出口が形成され、基板の表面に対して現像液を供給するノズル部と、
このノズル部をその長手方向と交差する方向に基板の一端側から他端側に亘って移動させる移動機構と、
この移動機構に設けられ、ノズル部を上下にガイドするガイド部と、
前記基板の側方に設けられた助走板と、
前記ノズル部の移動時に助走板と対向する位置に形成された流体吐出口と、を備え、
前記流体吐出口から助走板の表面に流体を吐出したときの吐出圧によってノズル部を基板の表面から浮上させると共に現像液吐出口から現像液を吐出させながらノズル部を前記移動機構により移動させることを特徴とする。
基板を水平に保持する基板保持部と、
前記基板の有効領域の幅に対応する長さに亘って現像液吐出口が形成され、基板の表面に対して現像液を供給するノズル部と、
このノズル部を長手方向と交差する方向に基板の一端側から他端側に亘って移動させる移動機構と、
この移動機構に設けられ、ノズル部を上下にガイドするガイド部と、
前記基板の側方に設けられ、前記移動機構によるノズル部の移動路に沿って設けられた第1の磁石部と、
前記ノズル部において、前記移動機構による移動時に第1の磁石部と対向する位置に当該第1の磁石部と反発する第2の磁石部と、を備え、
前記第1の磁石部と第2の磁石部との反発力によってノズル部を基板の表面から浮上させると共に現像液吐出口から現像液を吐出させながらノズル部を前記移動機構により移動させることを特徴とする。
基板を水平に保持する基板保持部と、
前記基板の表面に対して現像液を供給する現像液吐出口を有するノズル部と、
前記ノズル部を基板の上方を移動させるための移動機構と、
この移動機構に設けられ、ノズル部を上下にガイドするガイド部と、
前記ノズル部の吐出口から基板表面に吐出される現像液の吐出圧によってノズル部を基板の表面から浮上させた状態で前記移動機構により移動させることを特徴とする。当該他の発明は、例えばノズル部から一筆書きの要領で基板上に現像液を塗布していく手法に好適である。
基板を基板保持部に水平に保持させる工程と、
次いで前記ノズル部を、移動機構に設けたガイド部により上下にガイドした状態で現像液吐出口から現像液を吐出させ、その吐出圧により浮上させる工程と、
前記ノズル部を浮上させたまま前記移動機構によりノズル部の長手方向と交差する方向に基板の一端側から他端側に亘って移動させて基板の表面に現像液を供給する工程と、を備えたことを特徴とする。
基板を基板保持部に水平に保持させる工程と、
前記ノズル部を移動機構に設けたガイド部により上下にガイドした状態で、前記ノズル部に設けられた流体吐出口から、前記基板の側方に設けられた助走板に対して流体を吐出させ、その吐出圧によってノズル部を基板の表面から浮上させる工程と、
前記ノズル部を浮上させたまま前記現像液吐出口から現像液を吐出させながら、前記移動機構によりノズル部の長手方向と交差する方向に基板の一端側から他端側に亘って移動させて基板の表面に現像液を供給する工程と、を備えたことを特徴とする。
基板を基板保持部に水平に保持させる工程と、
前記のノズル部を移動機構に設けたガイド部により上下にガイドした状態で、前記ノズル部に設けられた第1の磁石部と前記基板の側方にノズル部の移動路に沿って設けられた第2の磁石部との反発力によってノズル部を基板の表面から浮上させる工程と、
前記ノズル部を浮上させたまま前記現像液吐出口から現像液を吐出させながら、前記移動機構によりノズル部の長手方向と交差する方向に基板の一端側から他端側に亘って移動させて基板の表面に現像液を供給する工程と、を備えたことを特徴とする。
基板を基板保持部に水平に保持させる工程と、
次いで前記ノズル部を、移動機構に設けたガイド部により上下にガイドした状態で現像液吐出口から基板の表面に現像液を吐出させ、その吐出圧により浮上させる工程と、
前記ノズル部を浮上させたまま前記移動機構によりノズル部を移動させながら基板の表面に現像液を供給する工程と、を備えたことを特徴とする。
E 隙間
2 スピンチャック
28 助走板
40 ノズル部
41 吐出口
5 エアベアリングシリンダ
50 X軸移動機構
51 Z軸移動機構
52 ノズル支持体
53 シリンダ
54 ガイド軸
55 固定部
56 ガイド部支持体
Claims (13)
- 基板の表面に現像液を供給する現像処理装置において、
基板を水平に保持する基板保持部と、
前記基板の有効領域の幅に対応する長さに亘って現像液吐出口が形成され、基板の表面に対して現像液を供給するノズル部と、
このノズル部をその長手方向と交差する方向に基板の一端側から他端側に亘って移動させる移動機構と、
この移動機構に設けられ、ノズル部を上下にガイドするガイド部と、
前記ノズル部の現像液吐出口から吐出される現像液の吐出圧によってノズル部を基板の表面から浮上させた状態で前記移動機構により移動させることを特徴とする現像処理装置。 - 前記基板は円形状であり、前記基板の側方における前記現像液吐出口の移動軌跡の対向領域には、基板と同じ高さ位置に助走板が設けられたことを特徴とする請求項1記載の現像処理装置。
- 基板の表面に現像液を供給する現像処理装置において、
基板を水平に保持する基板保持部と、
前記基板の有効領域の幅に対応する長さに亘って現像液吐出口が形成され、基板の表面に対して現像液を供給するノズル部と、
このノズル部をその長手方向と交差する方向に基板の一端側から他端側に亘って移動させる移動機構と、
この移動機構に設けられ、ノズル部を上下にガイドするガイド部と、
前記基板の側方に設けられた助走板と、
前記ノズル部の移動時に助走板と対向する位置に形成された流体吐出口と、を備え、
前記流体吐出口から助走板の表面に流体を吐出したときの吐出圧によってノズル部を基板の表面から浮上させると共に現像液吐出口から現像液を吐出させながらノズル部を前記移動機構により移動させることを特徴とする現像処理装置。 - 流体は、空気、不活性ガス又は水であることを特徴とする請求項3記載の現像処理装置。
- 基板保持部に保持される基板と前記流体が吐出される領域との間には、助走板に吐出される流体による影響を避けるために遮蔽部材が設けられていることを特徴とする請求項3または4記載の現像処理装置。
- 基板の表面に現像液を供給する現像処理装置において、
基板を水平に保持する基板保持部と、
前記基板の有効領域の幅に対応する長さに亘って現像液吐出口が形成され、基板の表面に対して現像液を供給するノズル部と、
このノズル部をその長手方向と交差する方向に基板の一端側から他端側に亘って移動させる移動機構と、
この移動機構に設けられ、ノズル部を上下にガイドするガイド部と、
前記基板の側方に設けられ、前記移動機構によるノズル部の移動路に亘って設けられた第1の磁石部と、
前記ノズル部において、前記移動機構による移動時に第1の磁石部と対向する位置に当該第1の磁石部と反発する第2の磁石部と、を備え、
前記第1の磁石部と第2の磁石部との反発力によってノズル部を基板の表面から浮上させると共に現像液吐出口から現像液を吐出させながらノズル部を前記移動機構により移動させることを特徴とする現像処理装置。 - 基板の表面に現像液を供給する現像処理装置において、
基板を水平に保持する基板保持部と、
前記基板の表面に対して現像液を供給する現像液吐出口を有するノズル部と、
前記ノズル部を基板の上方を移動させるための移動機構と、
この移動機構に設けられ、ノズル部を上下にガイドするガイド部と、
前記ノズル部の吐出口から基板表面に吐出される現像液の吐出圧によってノズル部を基板の表面から浮上させた状態で前記移動機構により移動させることを特徴とする現像処理装置。 - ガイド部は、縦向きに設けられたシリンダ内にガイド軸が遊嵌され、ガイド軸の外周面からシリンダの内周面との間の隙間にガスが吹き出しているガスベアリングシリンダであることを特徴とする請求項1ないし7のいずれかに記載の現像処理装置。
- 基板の有効領域の幅に対応する長さに亘って現像液吐出口が形成されたノズル部を用いて基板に現像液を供給し、現像処理を行う方法において、
基板を基板保持部に水平に保持させる工程と、
次いで前記ノズル部を、移動機構に設けたガイド部により上下にガイドした状態で現像液吐出口から現像液を吐出させ、その吐出圧により浮上させる工程と、
前記ノズル部を浮上させたまま前記移動機構によりノズル部の長手方向と交差する方向に基板の一端側から他端側に亘って移動させながら基板の表面に現像液を供給する工程と、を備えたことを特徴とする現像処理方法。 - 基板の有効領域の幅に対応する長さに亘って現像液吐出口が形成されたノズル部を用いて基板に現像液を供給する方法において、
基板を基板保持部に水平に保持させる工程と、
前記ノズル部を移動機構に設けたガイド部により上下にガイドした状態で、前記ノズル部に設けられた流体吐出口から、前記基板の側方に設けられた助走板に対して流体を吐出させ、その吐出圧によってノズル部を基板の表面から浮上させる工程と、
前記ノズル部を浮上させたまま前記現像液吐出口から現像液を吐出させながら、前記移動機構によりノズル部の長手方向と交差する方向に基板の一端側から他端側に亘って移動させて基板の表面に現像液を供給する工程と、を備えたことを特徴とする現像処理方法。 - 基板の有効領域の幅に対応する長さに亘って現像液吐出口が形成されたノズル部を用いて基板に現像液を供給する方法において、
基板を基板保持部に水平に保持させる工程と、
前記ノズル部を移動機構に設けたガイド部により上下にガイドした状態で、前記ノズル部に設けられた第1の磁石部と前記基板の側方にノズル部の移動路に沿って設けられた第2の磁石部との反発力によってノズル部を基板の表面から浮上させる工程と、
前記ノズル部を浮上させたまま前記現像液吐出口から現像液を吐出させながら、前記移動機構によりノズル部の長手方向と交差する方向に基板の一端側から他端側に亘って移動させて基板の表面に現像液を供給する工程と、を備えたことを特徴とする現像処理方法。 - 現像液吐出口が形成されたノズル部を用いて基板に現像液を供給し、現像処理を行う方法において、
基板を基板保持部に水平に保持させる工程と、
次いで前記ノズル部を、移動機構に設けたガイド部により上下にガイドした状態で現像液吐出口から基板の表面に現像液を吐出させ、その吐出圧により浮上させる工程と、
前記ノズル部を浮上させたまま前記移動機構によりノズル部を移動させながら基板の表面に現像液を供給する工程と、を備えたことを特徴とする現像処理方法。 - ガイド部は、縦向きに設けられたシリンダ内にガイド軸が遊嵌され、ガイド軸の外周面からシリンダの内周面との間の隙間にガスが吹き出しているガスベアリングシリンダであることを特徴とする請求項9ないし12いずれかに記載の現像処理方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003330334A JP4037813B2 (ja) | 2003-09-22 | 2003-09-22 | 現像処理装置及び現像処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003330334A JP4037813B2 (ja) | 2003-09-22 | 2003-09-22 | 現像処理装置及び現像処理方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005101100A true JP2005101100A (ja) | 2005-04-14 |
JP4037813B2 JP4037813B2 (ja) | 2008-01-23 |
Family
ID=34459334
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003330334A Expired - Fee Related JP4037813B2 (ja) | 2003-09-22 | 2003-09-22 | 現像処理装置及び現像処理方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4037813B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013187365A (ja) * | 2012-03-08 | 2013-09-19 | Toshiba Corp | 塗布装置及び塗布体の製造方法 |
CN113745098A (zh) * | 2015-10-09 | 2021-12-03 | 东京毅力科创株式会社 | 基板处理方法和基板处理装置 |
-
2003
- 2003-09-22 JP JP2003330334A patent/JP4037813B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013187365A (ja) * | 2012-03-08 | 2013-09-19 | Toshiba Corp | 塗布装置及び塗布体の製造方法 |
US9275914B2 (en) | 2012-03-08 | 2016-03-01 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Coating apparatus and manufacturing method of coated body |
TWI583454B (zh) * | 2012-03-08 | 2017-05-21 | Toshiba Kk | And a method of manufacturing the same |
CN113745098A (zh) * | 2015-10-09 | 2021-12-03 | 东京毅力科创株式会社 | 基板处理方法和基板处理装置 |
CN113745098B (zh) * | 2015-10-09 | 2024-01-12 | 东京毅力科创株式会社 | 基板处理方法和基板处理装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4037813B2 (ja) | 2008-01-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100375036B1 (ko) | 반도체처리용도포막형성장치 | |
KR100827793B1 (ko) | 액처리방법 및 액처리장치 | |
TWI384572B (zh) | 清潔裝置和浸潤微影裝置 | |
CN100437358C (zh) | 曝光装置及器件制造方法 | |
KR101227636B1 (ko) | 유체 핸들링 구조체, 리소그래피 장치 및 디바이스 제조 방법 | |
KR100897862B1 (ko) | 리소그래피 장치 및 리소그래피 장치 클리닝 방법 | |
KR101043017B1 (ko) | 침지 리소그래피 장치, 건조 디바이스, 침지 메트롤로지 장치 및 디바이스 제조 방법 | |
US7841787B2 (en) | Rinsing method, developing method, developing system and computer-read storage medium | |
TW514959B (en) | Film forming unit | |
JP2005310953A (ja) | 基板の処理方法及び基板の処理装置 | |
US6364547B1 (en) | Solution processing apparatus | |
JP4343025B2 (ja) | 現像装置及び現像方法 | |
KR20150027669A (ko) | 기판 처리 장치 및 처리액 도포 방법 | |
JP2010093265A (ja) | 処理液供給ユニットとこれを利用した基板処理装置及び方法 | |
JP4037813B2 (ja) | 現像処理装置及び現像処理方法 | |
KR101050508B1 (ko) | 리소그래피 장치 및 디바이스 제조 방법 | |
JP3721320B2 (ja) | 基板処理装置及び基板処理方法 | |
JP4330788B2 (ja) | 膜形成装置 | |
KR101895410B1 (ko) | 기판처리장치 | |
KR20160149351A (ko) | 기판 처리 방법 및 장치 | |
JP2001196300A (ja) | 液処理装置 | |
JP2001189266A (ja) | 基板処理装置 | |
JP3920514B2 (ja) | 塗布膜形成装置 | |
JP2006294820A (ja) | 塗布装置及びフォトマスクブランクの製造方法 | |
JP2005340381A (ja) | 基板処理装置及び基板処理方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050715 |
|
A977 | Report on retrieval |
Effective date: 20061114 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20070724 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
A521 | Written amendment |
Effective date: 20070925 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20071016 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Effective date: 20071101 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 |
|
R150 | Certificate of patent (=grant) or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 3 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101109 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 6 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131109 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |