JP2005097483A - 高圧ラジカル重合法ポリエチレン - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 高圧ラジカル重合法によって製造され、下記の要件(1)〜要件(4)を満たすポリエチレンおよびそれを中空成形して得られる中空成形体。
要件(1)メルトフローレートが0.1〜20g/10分である。
要件(2)密度が、925〜940kg/m3である。
要件(3)スウェル比が1.20〜1.45である。
要件(4)赤外吸収スペクトルによって求められる炭素数2000個あたりのビニル基の数(Vvn)と、炭素数2000個あたりのビニリデン基の数(Vvd)との比(Vvn/Vvd)が0.01〜0.30である。
【選択図】 なし
Description
(1)規格袋、ゴミ袋、米袋、パン包装、内袋、表面保護フィルム、ストレッチフィルム、ラップフィルム等の包装材料
(2)肥料や土などを入れる重包装に用いられる材料
(3)マルチフィルムや潅水チューブ等の農業資材
(4)牛乳容器、ジュース容器、酒容器、調味料容器等に用いられるコート材料
(5)電力ケーブル、通信ケーブル、電話線等の絶縁材料
(6)キャップや中栓等の射出成型材料
(7)マヨネーズ容器、ケチャップ容器、ドラム缶内容器等の中空成形容器材料
(8)液体の収納や輸送等に用いられるチューブ材料
(9)水道パイプ、ガス管等のパイプ用材料
(10)緩衝材等に使用される発泡体材料
(11)鋼管被覆材料
(12)粉末成型材料
すなわち、本発明は、
高圧ラジカル重合法によって製造され、下記の要件(1)〜要件(4)を満たすポリエチレン、および、前記ポリエチレンを中空成形して得られる中空成形体に係るものである。
要件(1)メルトフローレートが0.1〜20g/10分である。
要件(2)密度が、925〜940kg/m3である。
要件(3)スウェル比が1.20〜1.45である。
要件(4)赤外吸収スペクトルによって求められる炭素数2000個あたりのビニル基の数(Vvn)と、炭素数2000個あたりのビニリデン基の数(Vvd)との比(Vvn/Vvd)が0.01〜0.30である。
赤外吸収スペクトルによって求められる炭素数2000個あたりのビニル基の数(Vvn)と、炭素数2000個あたりのビニリデン基の数(Vvd)との比(Vvn/Vvd)が0.01〜0.30である(要件(4))。この比(Vvn/Vvd)として、好ましくは0.05〜0.20である。この比(Vvn/Vvd)が0.30を超えた場合、耐熱性や透明性や光沢が悪化することがあり、この比(Vvn/Vvd)が0.01未満のものは製造が難しいことがある。
本発明の高圧ラジカル重合法ポリエチレンの製造に用いられるラジカル発生剤の反応温度における半減期として、好ましくは5秒以下であり、より好ましくは1秒以下である。
安定剤としては、例えば、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール(BHT)、テトラキス[メチレン−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]メタン(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製、商品名:IRGANOX1010)やn−オクタデシル−3−(4’−ヒドロキシ−3,5’−ジ−t−ブチルフェニル)プロピオネート(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製、商品名:IRGANOX1076)等のフェノール系安定剤、ビス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイトやトリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト等のホスファイト系安定剤が挙げられる。
有機脂肪酸アミドの配合量は、本発明の高圧ラジカル重合法ポリエチレン100重量部に対し、通常、0.01〜0.5重量部である。
また、他の樹脂や安定剤、滑剤、帯電防止剤、加工性改良剤、抗ブロッキング剤等の少なくとも一種のマスターバッチを用意して、このマスターバッチを高圧ラジカル重合法ポリエチレンにドライブレンドする方法も挙げられる。
(1)規格袋、ゴミ袋、米袋、パン包装、内袋、表面保護フィルム、ストレッチフィルム、ラップフィルム等の包装材料
(2)肥料や土などを入れる重包装に用いられる材料
(3)マルチフィルムや潅水チューブ等の農業資材
(4)牛乳容器、ジュース容器、酒容器、調味料容器等に用いられるコート材料
(5)電力ケーブル、通信ケーブル、電話線等の絶縁材料
(6)キャップ、中栓等の射出成型材料
(7)マヨネーズ容器、ケチャップ容器、ドラム缶内容器等の中空成形容器材料
(8)液体の収納や輸送等に用いられるチューブ材料
(9)水道パイプ、ガス管等のパイプ用材料
(10)緩衝材等に使用される発泡体材料
(11)鋼管被覆材料
(12)粉末成型材料
(13)押出材料
実施例および比較例で用いた高圧ラジカル重合法ポリエチレンの物性は以下の方法で測定した。
JIS K6760に従って測定を行った。100℃沸騰水中で1時間アニーリングした後、測定に用いた。
JIS K7210に従って測定した。試験荷重は21.18N(2.16kgf)、測定温度は190℃であった。
JIS K7210に規定されたメルトフローレート測定装置を用い、メルトフローレート測定時に押出しされたストランドの直径Dを測定し、オリフィスの直径D0とストランドの直径Dの比(D/D0)をスウェル比(SR)の値とした。測定温度は190℃で行った。
ASTM D1003に従って測定した。この値が小さいほど透明性が良いことを示す。
JIS K7105に従って測定した。45度鏡面光沢度を測定した。この値が大きいほど光沢が優れることを示す。
ASTM D747−70に従ってオルゼン曲げ試験機を用いて測定した。試料は熱プレスで150℃にて1mm厚に成型し100℃沸騰水中で1時間アニーリングしたものを測定に用いた。この値が大きいものほど剛性が高く腰があることを示す。
東洋精機製作所製メルトテンションテスターを用い、190℃の温度でオリフィス穴から一定量のポリマーを強制的に押出し、モノフィラメント状に引張るときに生じる張力をストレンゲージで検出した。張力は、モノフィラメント状の溶融ポリマーが切断するまで引取ロールにより引取速度を一定の速度で上昇させながら測定し、引取開始から切断までの間に測定される張力の最高値をもって溶融張力とした。
押出速度:0.32g/min
オリフィス:直径2.095mm、長さ8.000mm
引取上昇速度:6.3m/min
この値が高いほど溶融張力があることを示す。但し、溶融張力が高すぎると引取性が悪化することがあるので、適度な値であることが望ましい。
ブラベンダー社のブラベンダープラストグラフを用いて、160℃、60rpmの条件で混練を行い、30分後のトルク値を測定した。
この値が小さいほど、押出負荷が小さいことを示す。
赤外吸収スペクトルの測定に用いた試料は、150℃の熱プレスを用いて、厚さ約0.5mmに成型した。赤外吸収スペクトルは、日本分光製FT/IR−480PLUS型フーリエ変換赤外分光光度計を用いて、積算回数128回、分解能4cm-1にて、透過光にて測定を行った。
得られた赤外吸収スペクトルから、ビニル基にあたる910cm-1の吸収バンド、ビニリデン基にあたる888cm-1の吸収バンド、トランスビニレン基にあたる965cm-1の吸収バンドにおいて、各吸収バンドのそれぞれのベースラインからの吸光度、A910、A888、A965を求めた。試料により各バンドの吸収強度が異なるため、各吸収バンドのそれぞれのベースラインは各バンドの高波数側と低波数側の2点で吸収曲線と接する直線とし、ビニル基では900cm-1付近と918cm-1付近で接する接線、ビニリデン基では875cm-1付近と900cm-1付近で接する接線、トランスビニレン基では948cm-1付近と980cm-1付近で接する接線として決定した。
各吸収バンドのベースラインからの吸光度から下記の式(1)〜(3)を用いて、ポリエチレンの2000炭素あたりの、ビニル基、ビニリデン基、トランスビニレン基の数を求めた。
2000炭素あたりのビニル基の数:Vvn
Vvn=0.231/(d×l)×A910 式(1)
2000炭素あたりのビニリデン基の数:Vvd
Vvd=0.271/(d×l)×A888 式(2)
2000炭素あたりのトランスビニレン基の数:Vtv
Vtv=0.328/(d×l)×A965 式(3)
式(1)〜(3)において、dは試料の密度(g/cm3)を表し、lはマイクロメーターを用いて測定した試料の厚み(cm)を表す。
引張弾性率の測定は、次のとおりに行った。ブロー成型したボトルから2cm×9cmの短冊状(厚み約0.5mm)に試料を切り出し、測定に用いた。引っ張り試験機を用いて、チャック間6cmになるように試料を取り付け、引張速度5mm/分で引張試験を行い、測定チャートからチャック間が0.06cm(1%)伸びた時の荷重Fを読み取った。引張弾性率(σ)は次の式(4)からもとめた。
σ=k×(F×L)/(w×t×ΔL) 式(4)
F:1%伸び(0.06cm)における荷重[kgf]
σ:引張弾性率[MPa]
w:試料片の幅[cm]
t:試料片の厚み[cm]
L:チャック間隔[cm]
ΔL:1%伸び(=0.06[cm])
k:単位変換係数 0.098[MPa/(kgf/cm2)]
反応温度における半減期は次のように求めた。
半減期は重合に用いた有機過酸化物それぞれについて、過酸化物初期濃度0.1mol/Lのベンゼン溶液のデータをもとに計算を行った。具体的には、有機過酸化物研究グループ編「有機化酸化物」(発行:株式会社化学工業社)記載の過酸化物初期濃度0.1mol/Lのベンゼン溶液での、半減期1分、半減期10時間、半減期100時間を得るための温度から、以下のように温度(T(℃))と半減期(t(1/2)(秒))の関係を求め、それをもとに目的の温度の半減期を求めた。
まず温度(T(℃))と半減期(t1/2(秒))の関係を、温度の逆数(1/(T+273.15)(1/℃))に対し半減期の自然対数(ln(t1/2))をプロットし、プロットについて直線近似を行い、1/(T+273.15)とln(t1/2)の関係を得た。得られた温度(T(℃))と半減期(t(1/2)(秒))の関係を、反応温度と半減期の関係とし、反応温度における半減期を求めた。
実施例1または実施例4で用いた高圧ラジカル重合法ポリエチレン(LD−1)は、次のとおりに製造した。管型の反応器を用いて、重合圧力240MPa、重合温度235℃、t−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート(235℃での半減期0.077秒)とt−ブチルパーオキシピバレート(235℃での半減期0.005秒)とt−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサネート(235℃での半減期0.003秒)をラジカル発生剤として、連鎖移動剤としてプロパンを用いて重合を行った。重合によって得られたポリエチレン100重量部に対して、滑剤としてオレイン酸アミド0.03重量部を添加した。その物性値を表1に示した。
実施例2または実施例5で用いた高圧ラジカル重合法ポリエチレン(LD−2)は、次のとおりに製造した。管型の反応器を用いて、重合圧力240MPa、重合温度220℃、t−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート(220℃での半減期0.227秒)とt−ブチルパーオキシピバレート(220℃での半減期0.012秒)とt−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサネート(220℃での半減期0.007秒)をラジカル発生剤として、連鎖移動剤としてプロパンを用いて重合を行った。重合によって得られたポリエチレン100重量部に対して、滑剤としてオレイン酸アミド0.03重量部を添加した。その物性値を表1に示した。
実施例3または実施例6で用いた高圧ラジカル重合法ポリエチレン(LD−3)は、次のとおりに製造した。管型の反応器を用いて、重合圧力240MPa、重合温度225℃、t−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート(225℃での半減期0.157秒)とt−ブチルパーオキシピバレート(225℃での半減期0.009秒)とt−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサネート(225℃での半減期0.006秒)をラジカル発生剤として、連鎖移動剤としてプロパンを用いて重合を行った。重合によって得られたポリエチレン100重量部に対して、滑剤としてオレイン酸アミド0.03部を添加した。その物性値を表1に示した。
比較例1または比較例3には、高圧ラジカル重合法ポリエチレン(LD−4)として、住友化学工業(株)製 スミカセンF102−0を用いた。その物性値を表1に示した。
比較例2には、高圧ラジカル重合法ポリエチレン(LD−5)として、住友化学工業(株)製 スミカセンF200を用いた。その物性値を表1に示した。
そして、得られたプレスシートを、23℃、湿度50%の恒温室に24時間以上放置した後、Haze、Glossの測定に用いた。実施例1〜3および比較例1〜2で用いたプレスシートのHaze、Glossを表2に示した。
日本製鋼所製NB−3B中空成型機を用いて、内容積約600mlの丸瓶の成型を行った。50mmφ押出機の温度設定は、シリンダー1を170℃、シリンダー2を190℃、シリンダー3を210℃、アダプターを210℃、クロスヘッドを210℃とした。ダイ内径17mmφの円形のダイと、15mmφの円形のコアを用いて、吐出量8kg/hr、金型温度30℃で成型を行った。パリソンコントロールを用いて目付量20gのボトルを得た。
得られたボトルのHaze、ボトル外面のGlossおよび引張弾性率の測定を行った。測定された物性値を表3に示した。
これに対して、本発明の要件である密度(要件(2))、スウェル比(要件(3))、ビニル基の数(Vvn)とビニリデン基の数(Vvd)との比(Vvn/Vvd)(要件(4))を満足しない比較例1および比較例2のプレスシート、および、比較例3のボトルは、透明性、光沢および剛性のいずれも不充分であることが分かる。
Claims (2)
- 高圧ラジカル重合法によって製造され、下記の要件(1)〜要件(4)を満たすポリエチレン。
要件(1)メルトフローレートが0.1〜20g/10分である。
要件(2)密度が、925〜940kg/m3である。
要件(3)スウェル比が1.20〜1.45である。
要件(4)赤外吸収スペクトルによって求められる炭素数2000個あたりのビニル基の数(Vvn)と、炭素数2000個あたりのビニリデン基の数(Vvd)との比(Vvn/Vvd)が0.01〜0.30である。 - 請求項1記載のポリエチレンを中空成形して得られる中空成形体。
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