JP2005086090A - Tftアレイ基板の製造方法及び液晶表示装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 5つのステップ(A)〜(E)を含み5回の写真製版が行われるTFTアレイ基板の製造において、ソース電極8、ソース配線9及びドレイン電極10を形成する第2の金属薄膜を成膜する前にその被成膜面に実施される第2の洗浄工程にて、被成膜面に付着したシリコン弗化物またはメタル弗化物等の弗素系反応生成物を含む汚染物質を除去する除去処理としてTMAH溶液を用いた洗浄を行った。これにより下層膜(ゲート絶縁膜5)と第2の金属薄膜(Cr)との密着力が向上し、下層膜と第2の金属薄膜からなる電極または配線との密着力不足に起因する断線不良を低減することができ、表示品位に優れた信頼性の高い液晶表示装置を高い歩留まりで製造することが可能となった。
【選択図】図4
Description
第1の絶縁膜、半導体膜、オ−ミックコンタクト膜を順次成膜した後、第2回目の写真製版及びエッチングにより前記半導体膜とオ−ミックコンタクト膜とをバターニングするステップ、
第2の洗浄工程が実施された被成膜面に第2の金属薄膜を成膜して、第3回目の写真製版及びエッチングによりソース電極を有するソース配線及びドレイン電極を形成し、さらに前記オーミックコンタクト膜の不要な部分をエッチングにより除去して半導体活性層を有する薄膜トランジスタを形成するステップ、
第2の絶縁膜を成膜した後、第4回目の写真製版及びエッチングにより、少なくとも前記ドレイン電極表面まで貫通する第1のコンタクトホールと前記第1の金属薄膜表面まで貫通する第2のコンタクトホールを形成するステップ、
第3の洗浄工程が実施された被成膜面に透明導電性膜を成膜して、第5回目の写真製版及びエッチングにより前記第1のコンタクトホールを介して前記ソース配線及びドレイン電極に接続された画素電極及びソース端子と、前記第2のコンタクトホールを介して前記ゲート配線に接続されたゲート端子を形成するステップを含み、
前記第1、第2及び第3の洗浄工程のうち少なくとも1つの洗浄工程において、前記被成膜面に付着した弗素系反応生成物を含む汚染物質を除去する除去処理を行うことを特徴とする。
第1の絶縁膜、半導体膜、オーミックコンタクト膜を順次成膜した後、第2の洗浄工程が実施された被成膜面に第2の金属薄膜を成膜して、第2回目の写真製版及び数回のエッチングにより、ソース電極を有するソース配線、ドレイン電極及び半導体活性層を有する薄膜トランジスタを形成するステップ、
第2の絶縁膜を成膜した後、第3回目の写真製版及びエッチングにより、少なくとも前記ドレイン電極表面まで貫通する第1のコンタクトホールと前記第1の金属薄膜表面まで貫通する第2のコンタクトホールを形成するステップ、
第3の洗浄工程が実施された被成膜面に透明導電性膜を成膜して、第4回目の写真製版及びエッチングにより前記第1のコンタクトホールを介して前記ソース配線及びドレイン電極に接続された画素電極及びソース端子と、前記第2のコンタクトホールを介して前記ゲート配線に接続されたゲート端子を形成するステップを含み、
前記第1、第2及び第3の洗浄工程のうち少なくとも1つの洗浄工程において、前記被成膜面に付着した弗素系反応生成物を含む汚染物質を除去する除去処理を行うことを特徴とする。
以下に、本発明の実施の形態1によるTFTアレイ基板の製造方法について図4を用いて説明する。本実施の形態によるTFTアレイ基板の製造方法は、図4に示すように(A)〜(E)の5つのステップから構成され、5回の写真製版を含むものである。
本発明の実施の形態2による液晶表示装置用TFTアレイ基板の製造方法について図5及び図6を用いて説明する。本実施の形態によるTFTアレイ基板の製造方法は、図5に示すように(A)〜(D)の4つのステップから構成され、4回の写真製版を含むものである。
上記実施の形態1及び実施の形態2では、第2の金属薄膜を成膜する前にその被成膜面に実施される第2の洗浄工程(図4(k)及び図5(h))において、弗素系反応生成物を含む汚染物質を除去する除去処理としてTMAH溶液を用いた洗浄を行ったが、本実施の形態では、TMAH溶液の代わりにオゾン溶解水またはオゾンガスを用いた洗浄を行う例について説明する。なお、その他の工程については上記実施の形態1または実施の形態2と同様であるので、ここでは説明を省略する。
上記実施の形態1〜実施の形態3では、第2の金属薄膜を成膜する前にその被成膜面に実施される第2の洗浄工程において、弗素系反応生成物を含む汚染物質を除去する除去処理であるTMAH溶液、オゾン溶解水またはオゾンガスを用いた洗浄を実施した。本実施の形態ではさらに、第2の洗浄工程のみならず、透明導電性膜を成膜する前にその被成膜面に実施される第3の洗浄工程においても、弗素系反応生成物を含む汚染物質を除去する除去処理であるTMAH溶液、オゾン溶解水またはオゾンガスを用いた洗浄を行う例について説明する。
Claims (8)
- 絶縁性基板上に複数本形成されそれぞれゲート電極を有するゲート配線、前記ゲート配線と交差するよう複数本形成されそれぞれソース電極を有するソース配線、前記ゲート電極上にゲート絶縁膜を介して設けられた半導体層と前記ソース電極及びドレイン電極よりなる薄膜トランジスタ、前記ドレイン電極と電気的に接続された画素電極を備えたTFTアレイ基板の製造方法であって、前記ゲート配線を形成する第1の金属薄膜を成膜する前にその被成膜面に実施される第1の洗浄工程、前記ソース配線及び前記ドレイン電極を形成する第2の金属薄膜を成膜する前にその被成膜面に実施される第2の洗浄工程及び前記画素電極を形成する透明導電性膜を成膜する前にその被成膜面に実施される第3の洗浄工程を含み、これら第1、第2及び第3の洗浄工程のうち少なくとも一つの洗浄工程において、前記被成膜面に付着した弗素系反応生成物を含む汚染物質を除去する除去処理を行うことを特徴とするTFTアレイ基板の製造方法。
- 第1の洗浄工程が実施された透明絶縁性基板の被成膜面に第1の金属薄膜を成膜して、第1回目の写真製版及びエッチングによりゲート電極を有するゲート配線を形成するステップ、
第1の絶縁膜、半導体膜、オ−ミックコンタクト膜を順次成膜した後、第2回目の写真製版及びエッチングにより前記半導体膜とオ−ミックコンタクト膜とをバターニングするステップ、
第2の洗浄工程が実施された被成膜面に第2の金属薄膜を成膜して、第3回目の写真製版及びエッチングによりソース電極を有するソース配線及びドレイン電極を形成し、さらに前記オーミックコンタクト膜の不要な部分をエッチングにより除去して半導体活性層を有する薄膜トランジスタを形成するステップ、
第2の絶縁膜を成膜した後、第4回目の写真製版及びエッチングにより、少なくとも前記ドレイン電極表面まで貫通する第1のコンタクトホールと前記第1の金属薄膜表面まで貫通する第2のコンタクトホールを形成するステップ、
第3の洗浄工程が実施された被成膜面に透明導電性膜を成膜して、第5回目の写真製版及びエッチングにより前記第1のコンタクトホールを介して前記ソース配線及びドレイン電極に接続された画素電極及びソース端子と、前記第2のコンタクトホールを介して前記ゲート配線に接続されたゲート端子を形成するステップを含み、
前記第1、第2及び第3の洗浄工程のうち少なくとも1つの洗浄工程において、前記被成膜面に付着した弗素系反応生成物を含む汚染物質を除去する除去処理を行うことを特徴とするTFTアレイ基板の製造方法。 - 第1の洗浄工程が実施された透明絶縁性基板の被成膜面に第1の金属薄膜を成膜して、第1回目の写真製版及びエッチングによりゲート電極を有するゲート配線を形成するステップ、
第1の絶縁膜、半導体膜、オーミックコンタクト膜を順次成膜した後、第2の洗浄工程が実施された被成膜面に第2の金属薄膜を成膜して、第2回目の写真製版及び数回のエッチングにより、ソース電極を有するソース配線、ドレイン電極及び半導体活性層を有する薄膜トランジスタを形成するステップ、
第2の絶縁膜を成膜した後、第3回目の写真製版及びエッチングにより、少なくとも前記ドレイン電極表面まで貫通する第1のコンタクトホールと前記第1の金属薄膜表面まで貫通する第2のコンタクトホールを形成するステップ、
第3の洗浄工程が実施された被成膜面に透明導電性膜を成膜して、第4回目の写真製版及びエッチングにより前記第1のコンタクトホールを介して前記ソース配線及びドレイン電極に接続された画素電極及びソース端子と、前記第2のコンタクトホールを介して前記ゲート配線に接続されたゲート端子を形成するステップを含み、
前記第1、第2及び第3の洗浄工程のうち少なくとも1つの洗浄工程において、前記被成膜面に付着した弗素系反応生成物を含む汚染物質を除去する除去処理を行うことを特徴とするTFTアレイ基板の製造方法。 - 請求項1〜請求項3のいずれか一項に記載のTFTアレイ基板の製造方法であって、前記弗素系反応生成物は、シリコン弗化物またはメタル弗化物であることを特徴とするTFTアレイ基板の製造方法。
- 請求項1〜請求項3のいずれか一項に記載のTFTアレイ基板の製造方法であって、前記弗素系反応生成物を含む汚染物質を除去する除去処理において、TMAH(テトラメチルアンモニウムハイドロオキシド)を含む溶液を用いたことを特徴とするTFTアレイ基板の製造方法。
- 請求項1〜請求項3のいずれか一項に記載のTFTアレイ基板の製造方法であって、前記弗素系反応生成物を含む汚染物質を除去する除去処理において、オゾン溶解水を用いたことを特徴とするTFTアレイ基板の製造方法。
- 請求項1〜請求項3のいずれか一項に記載のTFTアレイ基板の製造方法であって、前記弗素系反応生成物を含む汚染物質を除去する除去処理において、オゾンガスを用いたことを特徴とするTFTアレイ基板の製造方法。
- 請求項1〜請求項7のいずれか一項に記載の製造方法によって製造されたTFTアレイ基板と、透明電極を有する対向電極基板の間に液晶が配置されていることを特徴とする液晶表示装置。
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