JP2005062148A - 平坦なパターン形成済み媒体検査用の方法と装置 - Google Patents
平坦なパターン形成済み媒体検査用の方法と装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005062148A JP2005062148A JP2003374208A JP2003374208A JP2005062148A JP 2005062148 A JP2005062148 A JP 2005062148A JP 2003374208 A JP2003374208 A JP 2003374208A JP 2003374208 A JP2003374208 A JP 2003374208A JP 2005062148 A JP2005062148 A JP 2005062148A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- defect
- review
- subsystem
- candidate
- module
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 67
- 230000007547 defect Effects 0.000 claims abstract description 208
- 238000012552 review Methods 0.000 claims abstract description 64
- 230000008569 process Effects 0.000 claims abstract description 28
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 42
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 31
- 238000004422 calculation algorithm Methods 0.000 claims description 22
- 230000006870 function Effects 0.000 claims description 15
- 238000012360 testing method Methods 0.000 claims description 10
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 5
- 238000005070 sampling Methods 0.000 claims description 5
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 claims description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims description 3
- 238000005457 optimization Methods 0.000 claims description 3
- 238000009499 grossing Methods 0.000 claims description 2
- 238000013442 quality metrics Methods 0.000 claims 3
- 230000007704 transition Effects 0.000 claims 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 abstract description 29
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 7
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 8
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 8
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 3
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 2
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 2
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 2
- 238000012887 quadratic function Methods 0.000 description 2
- 230000008439 repair process Effects 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 238000010200 validation analysis Methods 0.000 description 2
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 1
- 238000004590 computer program Methods 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000012913 prioritisation Methods 0.000 description 1
- 238000007670 refining Methods 0.000 description 1
- 238000012827 research and development Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
- G01N21/956—Inspecting patterns on the surface of objects
- G01N21/95607—Inspecting patterns on the surface of objects using a comparative method
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
- G06T7/00—Image analysis
- G06T7/0002—Inspection of images, e.g. flaw detection
- G06T7/0004—Industrial image inspection
- G06T7/001—Industrial image inspection using an image reference approach
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
- G01N2021/9513—Liquid crystal panels
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- Pathology (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Computer Vision & Pattern Recognition (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Quality & Reliability (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Immunology (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Image Processing (AREA)
- Image Analysis (AREA)
Abstract
【解決手段】本発明は平面状の物品の表面の欠陥を光学的検査するというより一般的な問題に対する有効な解決方法であるが、LCDフラット・パネル表示装置を形成する集積回路とともに蒸着されている大型ガラス板上のパターン欠陥を検出する場合にも特に役立つ。
【選択図】図2A
Description
本出願は、内容全体が参照により本明細書に組み込まれている、2002年11月1日に出願された米国仮出願番号60/423008の出願日の優先を主張する2003年5月16日に出願された米国特許出願第10/439991号の継続出願である。
連邦政府後援研究開発に基づき実施された発明の権利に関する申告
該当なし
コンパクト・ディスクで提出される「シーケンス・リスティング」、表、またはコンピュータ・プログラム・リスティング付録への参照
該当なし
本発明の一特徴は、利用可能な高解像度DRSモジュール14、16、18をスケジュールされた欠陥候補にディスパッチし、モジュールによる移動距離を最小限に抑えながらキャプチャされた欠陥候補の数とDRS価値を最大にすることにより欠陥再検討に費やされる労力を最適化する処理工程である。ディスパッチ・アルゴリズムの一特定の実施形態はグラフ理論に基づくものであり、ここでは理解を目的として説明する。本発明は、アルゴリズムの具体的な内容で制限されず、また動的ディスパッチ機能を実現する他の方法も使用することができる。
k=argmin{C* i,C* i+1} (1)
本発明の他の特徴は、DRSカメラ・モジュールの焦点を運動的に調節し、最適な焦点を求める処理工程である。これは、後述のように、モジュールが目標の欠陥候補位置に向かって運動している間に実行される。
システムは、DRSによって収集された高解像度イメージを使用して検査対象の物品上に見つかった欠陥候補の同時実行再検討および自動分類を実行することができる。
(a)自動再検討、および
(b)自動分類。
a)処理工程の欠陥
修復可能な欠陥、または
キラー欠陥。
Claims (14)
- 平坦なパターン形成済み媒体の検査方法であって、
比較的低い解像度のイメージングおよび位置決定プロトコルを使用するイメージング手段を通じて平坦なパターン形成済み媒体の欠陥を検出すること、
比較的高い解像度のイメージングおよび位置決定プロトコルに従ってイメージング機能を使用して、前記検出ステップにより指摘されている欠陥を再検討すること
を含む方法。 - 前記再検討ステップで、動的に最適化されたオンザフライの自動焦点イメージング機能を使用する請求項1に記載の方法。
- テスト対象の平坦なパターン形成済み物体内の欠陥候補のオンザフライ再検討および分類と同時に欠陥の検出を行うための方法であって、
物体のイメージを取得し、前記物体の欠陥候補を検出し、第1の比較的低い動作解像度に従って複数の欠陥検出サブシステム・モジュールが動作する欠陥検出サブシステムを通じて、再検討価値値を前記欠陥候補に割り当てること、
すべて同時に実行しながら、前記欠陥候補の周辺の小さな領域のイメージを取得し、前記小さな領域を再検討し、第2の比較的高い解像度に従って動作する複数の欠陥再検討サブシステム・モジュールを有する欠陥再検討サブシステムを通して、前記小さな領域を分類することを含む方法。 - 前記欠陥再検討サブシステム・モジュールによりキャプチャされた高い優先度の欠陥候補の数を最大にし、前記同時実行の高解像度の再検討において運動を最適化するため動的欠陥再検討サブシステム・モジュールのディスパッチ・アルゴリズムを使用して、前記欠陥再検討サブシステム・モジュールが移動する距離を最小にすることを含む請求項3に記載の方法。
- 前記ディスパッチ・アルゴリズムはさらに、
それぞれの欠陥再検討サブシステムについて、また前記運動最適化の繰り返し毎に、その関連するモジュールのそれぞれの欠陥候補および現在位置に対応するノードを持ち、前記ノードの間にある実現可能な運動に対応する円弧を持つグラフ理論の意味での順方向実現可能移動グラフを構成すること、
欠損している他の欠陥のコストを表す関数から選択した適当なコスト関数、目標の欠陥候補の必要な運動および再検討価値の距離、およびそれによるその結果のグラフを得ることに応じて、前記欠陥候補の第2の候補に前記欠陥候補のうちの第1のものからのモジュールの移動を指定する各前記円弧のコストを関連付けること、
欠陥再検討サブシステム・モジュールの現在の位置から走査方向に沿って考慮したウインドウの終わりまでの欠陥−欠陥遷移の順序付けられたシーケンスにより表される最小コスト経路を見つけることに関してその結果のグラフを解くこと、
欠陥再検討サブシステム・モジュールの運動を制御するため欠陥再検討サブシステム・モジュール用の運動データを計算することを含む請求項4に記載の方法。 - 目標の候補位置から所定の距離で始め、欠陥再検討サブシステム・モジュールの運動中に、イメージング要素に自動的に焦点を合わせること、
イメージ上で計算された焦点品質測定基準の少なくともサンプルを使用して焦点品質測定曲線を取得すること、
平滑化関数を使用して焦点品質測定基準曲線のサンプルを補間し、焦点合わせ光学系を移動させるために使用されるz段の最大焦点を判別すること、
前記焦点品質測定基準曲線を目標の候補位置の最もシャープな焦点に合わせて最大化するz軸位置にz段を向けることを含む請求項3に記載の方法。 - 前記焦点合わせステップは、
欠陥再検討サブシステムのイメージング要素からイメージ・データのシーケンスをキャプチャすることを含み、前記取得するステップが、
イメージ上で計算した前記焦点品質測定結果とイメージ・データのシーケンスを合わせて使用し、焦点品質曲線のサンプリングを行うことを含む請求項6に記載の方法。 - 欠陥検出サブシステム内で欠陥候補のシーケンスを生成すること、
複数の欠陥再検討サブシステム・モジュールによるイメージングのためシーケンスをキューに入れて、スケジューリングすること、
欠陥再検討サブシステム・モジュールをディスパッチし、際立った欠陥候補の比較的高い解像度のイメージングを実行し、比較的大きな解像度のイメージ・データと関連付けられている欠陥候補のシーケンスを作成すること、
欠陥候補に、
自動再検討処理ステップと、
自動分類処理ステップとを伴う2段階処理を実行すること、
自動再検討処理ステップの間に、高解像度候補イメージと、知られている欠陥状態のシステム・メモリ内に格納されている基準イメージとを比較し、前記比較が、
a)イメージング装置の感度と
b)センサ・ピクセル感度の変動とのうち少なくとも1つについて補正することを含むテストと基準との間の知られている変動を補正することを含むこと、
センサ・ピクセル・レベルで空間的不整合を補正し、その結果、候補位置に正当な欠陥の存在することの妥当性を確認するか、または低解像度DDSの知られている限界による人為的影響を含む偽欠陥として欠陥を棄却すること、
自動分類処理のため正当な欠陥に関する情報を伝達すること、それ以降、
自動分類処理を実行中に、比較的高い解像度の欠陥イメージを自動分類処理の出力と組み合わせて使用し、欠陥の関連する特徴を抽出すること、
分類処理を通じて欠陥の種類に関する最終結果を下すこと
を含む請求項3に記載の方法。 - 平坦なパターン形成済み媒体検査用の装置であって、
比較的低い解像度のイメージングおよび位置決定プロトコルを使用するイメージング手段によって欠陥候補を検出する検出サブシステムと、
比較的高い解像度のイメージングと位置決定プロトコルを使用して前記検出サブシステムにより指摘された欠陥の再検討と同時に動作する再検討サブシステムと
を備える装置。 - 前記検出サブシステムがさらに、再検討価値値を前記欠陥候補に割り当てる動作をする請求項9に記載の装置。
- テスト対象の物体内の現象に関する欠陥検出、同時実行オンザフライ欠陥再検討、および分類を行うための装置であって、
物体のイメージを取得し、欠陥候補を検出し、第1の比較的低い動作解像度に応じて再検討価値値を前記欠陥候補に割り当てる複数の欠陥検出サブシステム・モジュールを備える欠陥検出サブシステムと、
欠陥候補周辺の小さな領域のイメージを同時に取得し、前記欠陥候補を再検討し、比較的高い解像度を使用して前記欠陥候補を欠陥として分類する複数の欠陥再検討サブシステム・モジュールを備える欠陥再検討サブシステムを備える装置。 - 欠陥検出サブシステムは、第1の可動ガントリ上に取り付けられ、欠陥再検討サブシステムは、第2の可動ガントリ上に取り付けられる請求項11に記載の装置。
- 欠陥検出サブシステムは、第1の可動ガントリ上に取り付けられ固定されている複数の検出モジュールを備え、欠陥再検討サブシステムは、第2の可動ガントリに沿って動くように取り付けられた複数の欠陥再検討サブシステム・モジュールを備える請求項11に記載の装置。
- 前記再検討モジュールの第1のものの運動が前記再検討モジュールのうちの第2のものの位置により制限され、さらに、
欠陥再検討サブシステム・モジュールのうちの1つの欠陥候補および現在位置に対応するノードおよび欠陥再検討サブシステム・モジュールの現在位置から第1の選択された欠陥候補までの、また第2の選択された欠陥候補の間での実現可能な運動に対応する円弧を持つ順方向流れグラフを構成し、
一方の欠陥候補から他の欠陥候補までのモジュールの移動を示す円弧毎に、欠損している他の欠陥のコスト、必要な運動の距離、およびその結果のグラフを得るためのキャプチャされた欠陥の価値を含む、コスト係数の関数としてコストを円弧に割り当て、
欠陥再検討サブシステム・モジュールの現在位置から考察しているy軸ウィンドウの終わりまでの最小コスト経路についてその結果のグラフを解き、
欠陥再検討サブシステム・モジュールの運動を制御するため欠陥再検討サブシステム・モジュール用の運動データを計算する動作をするコントローラを備える請求項13に記載の装置。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US42300802P | 2002-11-01 | 2002-11-01 | |
US60/423,008 | 2002-11-01 | ||
US10/439,991 US20040086166A1 (en) | 2002-11-01 | 2003-05-16 | Method and apparatus for flat patterned media inspection |
US10/439,991 | 2003-05-16 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005062148A true JP2005062148A (ja) | 2005-03-10 |
JP2005062148A5 JP2005062148A5 (ja) | 2006-12-28 |
JP4859340B2 JP4859340B2 (ja) | 2012-01-25 |
Family
ID=46123448
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003374208A Expired - Lifetime JP4859340B2 (ja) | 2002-11-01 | 2003-11-04 | 平坦なパターン形成済み媒体検査用の方法と装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US20040086166A1 (ja) |
JP (1) | JP4859340B2 (ja) |
KR (1) | KR100997355B1 (ja) |
TW (1) | TWI285045B (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006078303A (ja) * | 2004-09-09 | 2006-03-23 | Sokkia Co Ltd | 測定装置の制御方法 |
JP2006343312A (ja) * | 2005-06-10 | 2006-12-21 | Inus Technology Inc | 3次元測定データの分析結果再計算システム及び方法 |
WO2007094627A1 (en) * | 2006-02-15 | 2007-08-23 | Dongjin Semichem Co., Ltd | System for testing a flat panel display device and method thereof |
JP2008209295A (ja) * | 2007-02-27 | 2008-09-11 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 寸法測定装置 |
JP2009503495A (ja) * | 2005-07-30 | 2009-01-29 | シーイービーティー・カンパニー・リミティッド | マイクロカラムを用いた微細パターンおよび形状検査装置 |
JP2009133696A (ja) * | 2007-11-29 | 2009-06-18 | Panasonic Corp | 基板の検査方法及び基板の検査装置 |
JP2010066236A (ja) * | 2008-09-12 | 2010-03-25 | Olympus Corp | 基板検査装置 |
JP2020507765A (ja) * | 2017-02-09 | 2020-03-12 | グラステク インコーポレイテッド | ガラスシートの光学特性をオンライン測定するためのシステム及び関連方法 |
Families Citing this family (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7077019B2 (en) * | 2003-08-08 | 2006-07-18 | Photon Dynamics, Inc. | High precision gas bearing split-axis stage for transport and constraint of large flat flexible media during processing |
US20060194129A1 (en) * | 2005-02-25 | 2006-08-31 | Horn Douglas M | Substrate edge focus compensation |
US20060258023A1 (en) * | 2005-05-10 | 2006-11-16 | Lsi Logic Corporation | Method and system for improving integrated circuit manufacturing yield |
US8749534B2 (en) * | 2008-02-11 | 2014-06-10 | Ati Technologies Ulc | Low-cost and pixel-accurate test method and apparatus for testing pixel generation circuits |
TW200942805A (en) * | 2008-04-08 | 2009-10-16 | Delta Electronics Inc | Method for mapping the shortest route after optical inspecting |
US9035673B2 (en) * | 2010-01-25 | 2015-05-19 | Palo Alto Research Center Incorporated | Method of in-process intralayer yield detection, interlayer shunt detection and correction |
US10354405B2 (en) * | 2010-05-17 | 2019-07-16 | Kla-Tencor Corporation | Run-time correction of defect locations during defect review |
JP5566265B2 (ja) * | 2010-11-09 | 2014-08-06 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置、プログラム、コンピュータ記憶媒体及び基板の搬送方法 |
US9535273B2 (en) * | 2011-07-21 | 2017-01-03 | Photon Dynamics, Inc. | Apparatus for viewing through optical thin film color filters and their overlaps |
JP2013123812A (ja) * | 2011-12-13 | 2013-06-24 | Canon Inc | 検査装置、検査方法、コンピュータプログラム |
KR101516053B1 (ko) | 2012-10-29 | 2015-05-04 | 삼성전기주식회사 | 패턴 매칭 시스템 및 패턴 매칭 방법 |
JP6176789B2 (ja) * | 2014-01-31 | 2017-08-09 | 有限会社共同設計企画 | 電子部品検査装置 |
KR20150095053A (ko) * | 2014-02-12 | 2015-08-20 | 한화테크윈 주식회사 | 제품 검사의 유효성 검증 장치 및 방법 |
US9671647B2 (en) | 2014-03-31 | 2017-06-06 | Samsung Display Co., Ltd. | Curved display device |
US10394082B2 (en) | 2014-03-31 | 2019-08-27 | Samsung Display Co., Ltd. | Curved display device |
CN106248684B (zh) * | 2015-06-03 | 2019-12-17 | 法国圣戈班玻璃公司 | 用于检测透明基底的内部瑕疵的光学装置及方法 |
US10267750B2 (en) | 2017-02-09 | 2019-04-23 | Glasstech, Inc. | System and associated method for online detection of small defects on/in a glass sheet |
CN112577971A (zh) * | 2019-09-30 | 2021-03-30 | 深圳中科飞测科技股份有限公司 | 一种检测方法、系统及设备 |
JP7318899B2 (ja) * | 2020-01-02 | 2023-08-01 | レベル スリー コミュニケーションズ,エルエルシー | 二次ストレージにコンテンツアイテムを格納するためのシステムおよび方法 |
Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11132720A (ja) * | 1997-10-30 | 1999-05-21 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 点欠陥検出装置及び方法 |
JP2000009661A (ja) * | 1998-06-26 | 2000-01-14 | Ntn Corp | フラットパネル検査装置 |
JP2000081324A (ja) * | 1998-06-29 | 2000-03-21 | Hitachi Ltd | 欠陥検査方法およびその装置 |
JP2000088563A (ja) * | 1998-09-08 | 2000-03-31 | Hitachi Ltd | 外観検査方法および外観検査装置 |
JP2000266691A (ja) * | 1999-03-16 | 2000-09-29 | Olympus Optical Co Ltd | 外観検査装置 |
JP2002039959A (ja) * | 2000-07-26 | 2002-02-06 | Hitachi Ltd | 欠陥検査方法および欠陥検査システム |
JP2002195956A (ja) * | 2000-12-25 | 2002-07-10 | Nikon Corp | 欠陥検査装置 |
JP2002250698A (ja) * | 2001-02-26 | 2002-09-06 | Horiba Ltd | 平面表示パネルの欠陥検査装置 |
JP2002310962A (ja) * | 2001-04-19 | 2002-10-23 | Hitachi Ltd | 画像分類方法並びに観察方法及びその装置 |
JP2003042973A (ja) * | 2001-07-27 | 2003-02-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | パターン検査における画像処理方法及びパターン検査装置 |
JP2003185596A (ja) * | 2001-12-20 | 2003-07-03 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 薄型板状体の撮像処理方法および撮像処理装置 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4589140A (en) * | 1983-03-21 | 1986-05-13 | Beltronics, Inc. | Method of and apparatus for real-time high-speed inspection of objects for identifying or recognizing known and unknown portions thereof, including defects and the like |
US4579455A (en) * | 1983-05-09 | 1986-04-01 | Kla Instruments Corporation | Photomask inspection apparatus and method with improved defect detection |
US4805123B1 (en) * | 1986-07-14 | 1998-10-13 | Kla Instr Corp | Automatic photomask and reticle inspection method and apparatus including improved defect detector and alignment sub-systems |
IL99823A0 (en) * | 1990-11-16 | 1992-08-18 | Orbot Instr Ltd | Optical inspection method and apparatus |
IL102659A (en) * | 1992-07-27 | 1997-07-13 | Orbot Instr Ltd | Apparatus and method for comparing and aligning two digital representations of an image |
US6226395B1 (en) * | 1996-04-22 | 2001-05-01 | Malcolm T. Gilliland | Method and apparatus for determining the configuration of a workpiece |
JPH09297032A (ja) * | 1996-05-02 | 1997-11-18 | Pioneer Electron Corp | 経路設定方法および装置 |
JP3139998B2 (ja) * | 1998-12-01 | 2001-03-05 | 株式会社東京精密 | 外観検査装置及び方法 |
JP2001005166A (ja) * | 1999-06-17 | 2001-01-12 | Nec Corp | パターン検査方法及びパターン検査装置 |
US20030118245A1 (en) * | 2001-12-21 | 2003-06-26 | Leonid Yaroslavsky | Automatic focusing of an imaging system |
JP3993817B2 (ja) * | 2002-12-11 | 2007-10-17 | 株式会社日立製作所 | 欠陥組成分析方法及び装置 |
-
2003
- 2003-05-16 US US10/439,991 patent/US20040086166A1/en not_active Abandoned
- 2003-10-17 US US10/688,326 patent/US7386161B2/en active Active
- 2003-10-28 TW TW092129894A patent/TWI285045B/zh not_active IP Right Cessation
- 2003-10-31 KR KR1020030076822A patent/KR100997355B1/ko active IP Right Grant
- 2003-11-04 JP JP2003374208A patent/JP4859340B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11132720A (ja) * | 1997-10-30 | 1999-05-21 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 点欠陥検出装置及び方法 |
JP2000009661A (ja) * | 1998-06-26 | 2000-01-14 | Ntn Corp | フラットパネル検査装置 |
JP2000081324A (ja) * | 1998-06-29 | 2000-03-21 | Hitachi Ltd | 欠陥検査方法およびその装置 |
JP2000088563A (ja) * | 1998-09-08 | 2000-03-31 | Hitachi Ltd | 外観検査方法および外観検査装置 |
JP2000266691A (ja) * | 1999-03-16 | 2000-09-29 | Olympus Optical Co Ltd | 外観検査装置 |
JP2002039959A (ja) * | 2000-07-26 | 2002-02-06 | Hitachi Ltd | 欠陥検査方法および欠陥検査システム |
JP2002195956A (ja) * | 2000-12-25 | 2002-07-10 | Nikon Corp | 欠陥検査装置 |
JP2002250698A (ja) * | 2001-02-26 | 2002-09-06 | Horiba Ltd | 平面表示パネルの欠陥検査装置 |
JP2002310962A (ja) * | 2001-04-19 | 2002-10-23 | Hitachi Ltd | 画像分類方法並びに観察方法及びその装置 |
JP2003042973A (ja) * | 2001-07-27 | 2003-02-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | パターン検査における画像処理方法及びパターン検査装置 |
JP2003185596A (ja) * | 2001-12-20 | 2003-07-03 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 薄型板状体の撮像処理方法および撮像処理装置 |
Cited By (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4551164B2 (ja) * | 2004-09-09 | 2010-09-22 | 株式会社 ソキア・トプコン | 測定装置 |
JP2006078303A (ja) * | 2004-09-09 | 2006-03-23 | Sokkia Co Ltd | 測定装置の制御方法 |
JP2006343312A (ja) * | 2005-06-10 | 2006-12-21 | Inus Technology Inc | 3次元測定データの分析結果再計算システム及び方法 |
USRE48998E1 (en) | 2005-06-10 | 2022-03-29 | 3D Systems, Inc. | System and method for recalculating analysis report of 3D scan data |
JP4708980B2 (ja) * | 2005-06-10 | 2011-06-22 | 株式会社 アイナス技術 | 3次元測定データの分析結果再計算方法 |
JP2009503495A (ja) * | 2005-07-30 | 2009-01-29 | シーイービーティー・カンパニー・リミティッド | マイクロカラムを用いた微細パターンおよび形状検査装置 |
US7859274B2 (en) | 2006-02-15 | 2010-12-28 | Dongjin Semichem Co., Ltd. | System for testing a flat panel display device and method thereof |
JP2009527018A (ja) * | 2006-02-15 | 2009-07-23 | ドウジン セミケム カンパニー リミテッド | 平板表示装置の検査システム及び検査方法 |
WO2007094627A1 (en) * | 2006-02-15 | 2007-08-23 | Dongjin Semichem Co., Ltd | System for testing a flat panel display device and method thereof |
JP2008209295A (ja) * | 2007-02-27 | 2008-09-11 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 寸法測定装置 |
JP2009133696A (ja) * | 2007-11-29 | 2009-06-18 | Panasonic Corp | 基板の検査方法及び基板の検査装置 |
JP2010066236A (ja) * | 2008-09-12 | 2010-03-25 | Olympus Corp | 基板検査装置 |
JP2020507765A (ja) * | 2017-02-09 | 2020-03-12 | グラステク インコーポレイテッド | ガラスシートの光学特性をオンライン測定するためのシステム及び関連方法 |
JP7094028B2 (ja) | 2017-02-09 | 2022-07-01 | グラステク インコーポレイテッド | ガラスシートの光学特性をオンライン測定するためのシステム及び関連方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4859340B2 (ja) | 2012-01-25 |
US20040086166A1 (en) | 2004-05-06 |
TWI285045B (en) | 2007-08-01 |
US7386161B2 (en) | 2008-06-10 |
US20040109598A1 (en) | 2004-06-10 |
KR100997355B1 (ko) | 2010-11-29 |
TW200415910A (en) | 2004-08-16 |
KR20040038876A (ko) | 2004-05-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4859340B2 (ja) | 平坦なパターン形成済み媒体検査用の方法と装置 | |
TWI474363B (zh) | Pattern evaluation device and pattern evaluation method | |
US9892503B2 (en) | Monitoring changes in photomask defectivity | |
CN104183517B (zh) | 智能型弱点图形诊断方法与系统 | |
JP7226852B2 (ja) | 基板上の流動的対象を自動的にマッピングするための方法およびシステム | |
JP4762351B2 (ja) | 撮像検査装置および撮像検査方法 | |
CN110501347A (zh) | 一种快速自动化光学检测系统及方法 | |
JP2010127748A (ja) | 欠陥レビュー装置及び欠陥レビュー方法 | |
WO2010098004A1 (ja) | 欠陥観察方法および欠陥観察装置 | |
KR101270384B1 (ko) | 반도체 불량 해석 장치, 불량 해석 방법 및 불량 해석 프로그램 | |
CN109314067B (zh) | 在逻辑及热点检验中使用z层上下文来改善灵敏度及抑制干扰的系统及方法 | |
CN100520379C (zh) | 用于检查具有图样的平的介质的方法和装置 | |
WO2012057230A1 (ja) | 欠陥検査方法及びその装置 | |
JP2822937B2 (ja) | 半導体装置の製造システム及び欠陥検査方法 | |
JP2000081324A (ja) | 欠陥検査方法およびその装置 | |
JP2005315792A (ja) | 欠陥検査分類装置 | |
JP3047881B2 (ja) | 半導体装置の製造システム及び半導体装置の製造方法 | |
JP2565585B2 (ja) | スクライブライン交差領域の位置検出方法 | |
JP2010085145A (ja) | 検査装置及び検査方法 | |
JPH10256326A (ja) | パターン検査方法及び検査装置 | |
JP3201396B2 (ja) | 半導体デバイスの製造方法 | |
JPH04316346A (ja) | パターン認識方法 | |
JP3271622B2 (ja) | 半導体デバイスの製造方法 | |
JP2007165647A (ja) | 欠陥修正装置及び欠陥修正方法 | |
JP4886981B2 (ja) | チップ検査装置及びチップ検査方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20061106 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20061106 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090727 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090811 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20091111 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20091116 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20100112 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20100115 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100205 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100803 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20101104 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20101109 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20101203 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20101208 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20110104 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20110107 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110203 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20111004 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20111101 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4859340 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141111 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |