JP2005056936A5 - - Google Patents
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【特許請求の範囲】
【請求項１】 減圧された真空容器を有し、該真空容器内に試料を収容し真空処理する真空処理装置において、
少なくとも２個以上の磁場発生手段と、
前記真空容器内に配置した２次電子放出電極と、
前記２次電子放出電極に高周波電力を印加する高周波電源とを備えた
ことを特徴とする真空処理装置。
【請求項２】 減圧された真空容器を有し、該真空容器内に試料を収容し操作する真空処理装置において、
少なくとも２個以上の磁場発生手段と、
前記真空容器内に配置した２次電子放出電極と、
前記２次電子放出電極に高周波電力を印加する高周波電源とを備えた
ことを特徴とする真空処理装置。
【請求項３】 減圧された真空容器と、磁場発生手段と、前記真空容器内に配置した２次電子放出電極と、該２次電子放出電極の少なくとも真空側の面を覆う誘電体と、前記２次電子放出電極に高周波電力を印加する高周波電源とを有し、前記真空容器内に試料を収容し真空処理する真空処理装置のクリーニング方法において、
前記２次電子放出電極に高周波を印加するとともに、前記磁場発生手段の磁場形状または磁場強度を制御して前記真空容器内部をクリーニングする
ことを特徴とする真空処理装置のクリーニング方法。
【請求項４】 減圧された真空容器と、少なくとも２個以上の磁場発生手段と、該磁場発生手段の各々の磁場強度を独立に制御する磁場強度制御手段と、前記真空容器内に配置した試料を載置する電極と、該電極に高周波電力を印加する高周波電源とを有し、前記真空容器内に試料を収容し真空処理する真空処理装置のクリーニング方法において、
前記電極に誘電体またはウエハを載置した状態で高周波電力を印加するとともに、前記磁場発生手段の磁場形状または磁場強度を制御して２次電子が照射する真空容器内壁上の領域を特定し前記真空容器内部をクリーニングする
ことを特徴とする真空処理装置のクリーニング方法。
【請求項５】 減圧された真空容器と、少なくとも２個以上のプラズマ発生用磁場コイルと、該プラズマ発生用磁場コイルの各々の磁場強度を独立に制御する磁場強度制御手段と、前記真空容器内に配置した２次電子放出電極と、該２次電子放出電極の少なくとも真空側の面を覆う誘電体と、前記２次電子放出電極に高周波電力を印加する高周波電源とを有し、前記真空容器内に試料を収容し処理する真空処理装置のクリーニング方法において、
前記２次電子放出電極に高周波電力を印加するとともに、前記プラズマ発生用磁場コイルの磁場形状または磁場強度を制御して前記真空容器内部をクリーニングする
ことを特徴とする真空処理装置のクリーニング方法。
【請求項１】 減圧された真空容器を有し、該真空容器内に試料を収容し真空処理する真空処理装置において、
少なくとも２個以上の磁場発生手段と、
前記真空容器内に配置した２次電子放出電極と、
前記２次電子放出電極に高周波電力を印加する高周波電源とを備えた
ことを特徴とする真空処理装置。
【請求項２】 減圧された真空容器を有し、該真空容器内に試料を収容し操作する真空処理装置において、
少なくとも２個以上の磁場発生手段と、
前記真空容器内に配置した２次電子放出電極と、
前記２次電子放出電極に高周波電力を印加する高周波電源とを備えた
ことを特徴とする真空処理装置。
【請求項３】 減圧された真空容器と、磁場発生手段と、前記真空容器内に配置した２次電子放出電極と、該２次電子放出電極の少なくとも真空側の面を覆う誘電体と、前記２次電子放出電極に高周波電力を印加する高周波電源とを有し、前記真空容器内に試料を収容し真空処理する真空処理装置のクリーニング方法において、
前記２次電子放出電極に高周波を印加するとともに、前記磁場発生手段の磁場形状または磁場強度を制御して前記真空容器内部をクリーニングする
ことを特徴とする真空処理装置のクリーニング方法。
【請求項４】 減圧された真空容器と、少なくとも２個以上の磁場発生手段と、該磁場発生手段の各々の磁場強度を独立に制御する磁場強度制御手段と、前記真空容器内に配置した試料を載置する電極と、該電極に高周波電力を印加する高周波電源とを有し、前記真空容器内に試料を収容し真空処理する真空処理装置のクリーニング方法において、
前記電極に誘電体またはウエハを載置した状態で高周波電力を印加するとともに、前記磁場発生手段の磁場形状または磁場強度を制御して２次電子が照射する真空容器内壁上の領域を特定し前記真空容器内部をクリーニングする
ことを特徴とする真空処理装置のクリーニング方法。
【請求項５】 減圧された真空容器と、少なくとも２個以上のプラズマ発生用磁場コイルと、該プラズマ発生用磁場コイルの各々の磁場強度を独立に制御する磁場強度制御手段と、前記真空容器内に配置した２次電子放出電極と、該２次電子放出電極の少なくとも真空側の面を覆う誘電体と、前記２次電子放出電極に高周波電力を印加する高周波電源とを有し、前記真空容器内に試料を収容し処理する真空処理装置のクリーニング方法において、
前記２次電子放出電極に高周波電力を印加するとともに、前記プラズマ発生用磁場コイルの磁場形状または磁場強度を制御して前記真空容器内部をクリーニングする
ことを特徴とする真空処理装置のクリーニング方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003206498A JP4188773B2 (ja) | 2003-08-07 | 2003-08-07 | 真空処理装置および真空処理装置のクリーニング方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003206498A JP4188773B2 (ja) | 2003-08-07 | 2003-08-07 | 真空処理装置および真空処理装置のクリーニング方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2005056936A JP2005056936A (ja) | 2005-03-03 |
| JP2005056936A5 true JP2005056936A5 (ja) | 2006-02-23 |
| JP4188773B2 JP4188773B2 (ja) | 2008-11-26 |
Family
ID=34363339
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2003206498A Expired - Fee Related JP4188773B2 (ja) | 2003-08-07 | 2003-08-07 | 真空処理装置および真空処理装置のクリーニング方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4188773B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6136613B2 (ja) | 2012-09-21 | 2017-05-31 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理方法 |
-
2003
- 2003-08-07 JP JP2003206498A patent/JP4188773B2/ja not_active Expired - Fee Related
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