JP2000200698A5 - - Google Patents
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Description
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明のプラズマ処理装置は、真空室内に基板を載置する電極と、前記電極に対向し真空室の一面に配置されたハニカム状の誘電体と、前記誘電体上に配置された高周波誘導結合用コイルと、前記コイルに高周波電力を印加する高周波電源とを備えたプラズマ処理装置であって、前記誘電体は板状部と１以上の梁部で一体的に構成され、前記板状部の外周が梁部で囲まれた構成であるものである。
【課題を解決するための手段】
本発明のプラズマ処理装置は、真空室内に基板を載置する電極と、前記電極に対向し真空室の一面に配置されたハニカム状の誘電体と、前記誘電体上に配置された高周波誘導結合用コイルと、前記コイルに高周波電力を印加する高周波電源とを備えたプラズマ処理装置であって、前記誘電体は板状部と１以上の梁部で一体的に構成され、前記板状部の外周が梁部で囲まれた構成であるものである。
また、本発明のプラズマ処理方法は、真空室内にガスを導入しながら排気することで、真空室内を所定の圧力に保ちながら、基板を載置する電極に対向して配置されたハニカム状の誘電体上の高周波誘導結合用コイルに高周波電力を印加することでプラズマを発生させるプラズマ処理方法であって、前記誘電体は板状部と１以上の梁部で一体的に構成されるものであり、かつ、前記板状部の外周は梁部で囲まれる構成であるものである。
また、上記ハニカム状の誘電体は、板状部と１以上の梁部で一体的に構成され、前記板状部の外周が梁部で囲まれた構成であるので、板状部と真空室が接するようにして真空室を封止し、若しくは板状部の外周の梁部と真空室が接するようにして真空室を封止するのに好適である。
Claims (2)
- 真空室内に基板を載置する電極と、前記電極に対向し真空室の一面に配置されたハニカム状の誘電体と、前記誘電体上に配置された高周波誘導結合用コイルと、前記コイルに高周波電力を印加する高周波電源とを備えたプラズマ処理装置であって、前記誘電体は板状部と１以上の梁部で一体的に構成され、前記板状部の外周が梁部で囲まれた構成であることを特徴とするプラズマ処理装置。
- 真空室内にガスを導入しながら排気することで、真空室内を所定の圧力に保ちながら、基板を載置する電極に対向して配置されたハニカム状の誘電体上の高周波誘導結合用コイルに高周波電力を印加することでプラズマを発生させるプラズマ処理方法であって、前記誘電体は板状部と１以上の梁部で一体的に構成されるものであり、かつ、前記板状部の外周は梁部で囲まれる構成であることを特徴とするプラズマ処理方法。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP00193299A JP4017274B2 (ja) | 1999-01-07 | 1999-01-07 | プラズマ処理方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP00193299A JP4017274B2 (ja) | 1999-01-07 | 1999-01-07 | プラズマ処理方法及び装置 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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| JP2000200698A5 true JP2000200698A5 (ja) | 2005-10-06 |
| JP4017274B2 JP4017274B2 (ja) | 2007-12-05 |
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ID=11515395
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP00193299A Expired - Fee Related JP4017274B2 (ja) | 1999-01-07 | 1999-01-07 | プラズマ処理方法及び装置 |
Country Status (1)
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1999
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