JP2005054101A - アゾアリールメルカプトアルキルポリエチレングリコール - Google Patents

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Abstract

【課題】 メルカプト基によって単分子膜を形成し、さらに光によって超分子ロタキサンの構造を制御することが可能なポリ、あるいはオリゴエチレングリコールを提供すること。また、光制御DDSや光制御バイオマテリアルの開発に資する光制御超分子ロタキサン
薄膜を提供すること。
【解決手段】 一般式
【化1】
Figure 2005054101

(式中m=2〜100, n= 2〜50, R=H、アルキル基、アルコキシ基)で表されるアゾアリールメルカプトアルキルポリエチレングリコール。
【選択図】 なし

Description

本発明は、新規化合物であるアゾアリールメルカプトアルキルポリエチレングリコールを用いた光制御ロタキサン薄膜としての用途に関する。
ポリエチレングリコール薄膜は、非特異的吸着を抑制するバイオマテリアルとして広く利用されている。中でもメルカプト基を導入したメルカプトポリエチレングリコールは、金属薄膜でコートされた基板や金コロイドに対して自己組織化膜を作製することができる有用な薄膜材料である。さらに、ポリ、あるいはオリゴエチレングリコールは、シクロデキストリン(CD)とホスト−ゲスト相互作用によって超分子ポリロタキサンを形成し、そのポリロタキサンはドラッグデリバリーシステム(DDS)に利用されている。
本発明は、メルカプト基によって単分子膜を形成し、さらに光によって超分子ロタキサンの構造を制御することが可能なポリ、あるいはオリゴエチレングリコールを提供するものであり、本新規化合物によって光制御DDSや光制御バイオマテリアルの開発に資する光
制御超分子ロタキサン薄膜を提供することができる。
本発明では、文献未記載の新規化合物であるアゾアリールメルカプトアルキルポリエチレングリコールが自己組織化膜を形成し、さらには、多糖類のα−CDと選択的にホスト−ゲスト相互作用をして超分子プソイドロタキサン構造をとる薄膜となることを見いだした。この超分子プソイドロタキサン構造をとったアゾアリールメルカプトアルキルポリエチレングリコールに光照射することで、α−CDが解離しない超分子ロタキサン構造をとることがわかった。即ち、本発明は下記のアゾアリールメルカプトアルキルポリエチレングリコールを提供するものである。
Figure 2005054101
(式中m=2〜100, n= 2〜50, R=H、アルキル基、アルコキシ基)で表されるアゾアリールメルカプトアルキルポリエチレングリコール。
上記一般式(1)で表される化合物において、m=2〜100, 好ましくはm=6〜50, 最も好ましくはm=6〜25、n=2〜50, 好ましくはn=5〜30, 最も好ましくはn=5〜20である。
本発明のアゾアリールメルカプトアルキルポリエチレングリコールは、文献未記載の新規化合物であり、その自己組織化膜はα−CDとホスト−ゲスト相互作用をし、光照射によってプソイドロタキサン−ロタキサン構造をコントロールするものである。
本発明のアゾアリールメルカプトアルキルポリエチレングリコールは、エチレングリコール2単位当たり1つのα−CDと相互作用してこれを取り込むことができる。即ち、―(C24O)2―で1つのα−CDと相互作用し得る。従って、例えば上記式(1)において
m=6であれば、この化合物は、そのエチレングリコール鎖にα−CDを最大で3個取り込
む。
本発明の化合物は、そのメルカプト基によって金属薄膜に対して自己組織化膜を形成する。この自己組織化膜において、エチレングリコール部分はランダムコイル状態である。更に、この自己組織化膜は、そのエチレングリコール部分にα−CDを取り込むことができ、プソイドロタキサン構造をとる薄膜となる。α−CDを取り込むことによって、このプソイドロタキサン薄膜におけるエチレングリコール鎖は伸張するようである。次に、このプソイドロタキサン薄膜は、光を照射し続けると、アゾアリール部位がトランス→シス光異性化することによって、ロタキサン構造をとる薄膜となる。
以下、本発明化合物の製造法を説明する。
A)本発明化合物の製造法
まず下記反応式に従って、ω−ヒドロキシ−1−アルキルハライドと4,4’−ビフェノールを反応させることによって4−(4−ω−ヒドロキシアルコキシフェニル)フェノールを得ることができる。
Figure 2005054101
この反応は、触媒として水酸化ナトリウム、水素化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等の塩基性化合物を用いて行うことができる。好ましくは炭酸カリウムが使用される。ハライドとしては、塩化物、臭化物、ヨウ化物を用いて行うことができ、好ましくは臭化物が使用される。使用される溶媒としては、ジオキサン、テトラヒドロフラン(THF)、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド(DMF)、アセトン等の有機溶媒、好ましくはアセトニトリルが使用される。ω−ヒドロキシ−1−アルキルハライドに対する4,4’−ビフェノールの反応割合は、前者1モルに対して後者を1モル以上、好ましくは2〜3モル程度とすればよい。触媒の使用量は、ω−ヒドロキシ−1−アルキルハライド1モルに対して1モル以上、好ましくは8〜10モル程度とすればよい。反応温度は、0〜120℃程度、好ましくは70〜80℃とすればよい。反応時間は6〜72時間程度とすればよい。
次に下記反応式に従って、オリゴエチレングリコールジクロライドと4−(4−ω−ヒドロキシアルコキシフェニル)フェノールを反応させることによって4,4’−(ω−ヒドロキシアルコキシ)(モノクロロオリゴエチレングリコキシ)ビフェニルを得ることができる。
Figure 2005054101
この反応は、触媒として水酸化ナトリウム、水素化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等の塩基性化合物を用いて行うことができる。好ましくは炭酸カリウムが使用される。さらに助触媒としてヨウ化ナトリウムを用いる。使用される溶媒としては、ジオキ
サン、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、アセトン等の有機溶媒、好ましくはアセトニトリルが使用される。4−(4−ω−ヒドロキシアルコキシフェニル)フェノールに対するオリゴエチレングリコールジクロライドの反応割合は、前者1モルに対して後者を1モル以上、好ましくは2〜3モル程度とすればよい。触媒及の使用量は、4−(4−ω−ヒドロキシアルコキシフェニル)フェノール1モルに対して1モル以上、好ましくは18〜22モル程度とすればよい。助触媒の使用量は0.1モル以上、好ましくは0.5モル程度とすればよい。反応温度は、0〜120℃程度、好ましくは70〜80℃とすればよい。反応時間は6〜72時間程度とすればよい。
次に下記反応式に従って、4,4’−(ω−ヒドロキシアルコキシ)(モノクロロオリゴエチレングリコキシ)ビフェニルとアゾベンゼン誘導体を反応させることによって4,4’−(ω−ヒドロキシアルコキシ)(アゾアリールオリゴエチレングリコキシ)ビフェニルを得ることができる。
Figure 2005054101
この反応は、触媒として水酸化ナトリウム、水素化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等の塩基性化合物を用いて行うことができる。好ましくは炭酸カリウムが使用される。さらに助触媒としてヨウ化ナトリウムを用いる。使用される溶媒としては、ジオキサン、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、アセトン等の有機溶媒、好ましくはアセトニトリルが使用される。4,4’−(ω−ヒドロキシアルコキシ)(モノクロロオリゴエチレングリコキシ)ビフェニルに対するアゾベンゼン誘導体の反応割合は、前者1モルに対して後者を1モル以上、好ましくは2〜3モル程度とすればよい。触媒及の使用量は、4,4’−(ω−ヒドロキシアルコキシ)(モノクロロオリゴエチレングリコキシ)ビフェニル1モルに対して1モル以上、好ましくは4〜7モル程度とすればよい。助触媒の使用量は0.1モル以上、好ましくは0.4〜0.6モル程度とすればよい。反応温度は、0〜120℃程度、好ましくは70〜80℃とすればよい。反応時間は6〜72時間程度とすればよい。
次に下記反応式に従って、4,4’−(ω−ヒドロキシアルコキシ)(アゾアリールオリゴエチレングリコキシ)ビフェニルとメタンスルホニルクロライド(MsCl)を反応させることによって、4,4’−(ω−メタンスルホニルオキシアルコキシ)(アゾアリールオリゴエチレングリコキシ)ビフェニルを得ることができる。
Figure 2005054101
この反応は、触媒として水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、トリエチルアミン、ピリジン等の塩基性化合物を用いて行うことができる。好ましくはピリジンが使用される。使用される溶媒としては、ジオキサン、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、アセトン等の有機溶媒、好ましくはテトラヒドロフランが使
用される。4,4’−(ω−ヒドロキシアルコキシ)(アゾアリールオリゴエチレングリコキシ)ビフェニルに対するメタンスルホニルクロライドの反応割合は、前者1モルに対して後者を1モル以上、好ましくは20〜30モル程度とすればよい。触媒の使用量は、4,4’−(ω−ヒドロキシアルコキシ)(アゾアリールオリゴエチレングリコキシ)ビフェニル1モルに対して1モル以上、好ましくは18〜22モル程度とすればよい。反応温度は、0〜50℃程度、好ましくは20〜26℃とすればよい。反応時間は6〜72時間程度とすればよい。
次に下記反応式に従って4,4’−(ω−メタンスルホニルオキシアルコキシ)(アゾアリールオリゴエチレングリコキシ)ビフェニルとチオ酢酸カリウムを反応させることによって、4,4’−(ω−チオアセトキシアルコキシ)(アゾアリールオリゴエチレングリコキシ)ビフェニルを得ることができる。
Figure 2005054101
この反応に使用される溶媒としては、ジオキサン、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、アセトン等の有機溶媒、好ましくはジメチルホルムアミドが使用される。4,4’−(ω−メタンスルホニルオキシアルコキシ)(アゾアリールオリゴエチレングリコキシ)ビフェニルに対するチオ酢酸カリウムの反応割合は、前者1モルに対して後者を1モル以上、好ましくは8〜10モル程度とすればよい。反応温度は、0〜50℃程度、好ましくは20〜26℃とすればよい。反応時間は1〜12時間程度とすればよい。
次に下記反応式に従って4,4’−(ω−チオアセトキシアルコキシ)(アゾアリールオリゴエチレングリコキシ)ビフェニルを加水分解することによって本発明の一般式(1)で表されるアゾアリールメルカプトアルキルポリエチレングリコールを得ることができる。
Figure 2005054101
この反応は、触媒として水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等の塩基性化合物を用いて行うことができる。好ましくは炭酸カリウムが使用される。使用される溶媒としては、ジオキサン、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、アセトン、エタノール、メタノール等の有機溶媒と水の混合物、好ましくはエタノール−テトラヒドロフラン−水の混合物が使用される。4,4’−(ω−チオアセトキシアルコキシ)(アゾアリールオリゴエチレングリコキシ)ビフェニルに対する炭酸カリウムの反応割合は、前者1モルに対して後者を1モル以上、好ましくは4〜6モル程度とすればよい。反応温度は、0〜120℃程度、好ましくは80℃とすればよい。反応時間は1〜12時間程度とすればよい。このようにして得られる本発明化合物は、慣用されている分離精製手段に従って反応混合物から容易に単離、精製できる。
B)光制御ロタキサン薄膜の製造法
1)自己組織化膜の調製
一般式(1)のアゾアリールメルカプトアルキルポリエチレングリコールを溶媒に溶解させる。溶媒としては、エタノール、アセトン、クロロホルム、トルエン等の一般的な有機溶媒および水が挙げられ、エタノールが好ましい。濃度としては、1mM〜10mM、特に1mMが好ましい。濃度が薄いと自己組織化膜の形成時間が長くなる。
また、一般式(1)の化合物のアゾアリールメルカプトアルキルポリエチレングリコールにメルカプトアルキルアルコールを混合しても構わない。混合比としては、一般式(1)の化合物のモル数:メルカプトアルキルアルコールのモル数を、1:99〜100:0、好ましくは1:4とする。この混合物を溶媒に溶解させる。溶媒は、上述のものと同様である。一般式(1)の化合物にメルカプトアルキルアルコールを混合する場合においても、混合しない場合と同様に、濃度としては、1mM〜10mM、特に1mMが好ましい。
一般式(1)の化合物にメルカプトアルキルアルコールを混合する目的は、自己組織化膜が形成される基板における一般式(1)の化合物の密度を低下させることである。即ち、基板における一般式(1)の化合物の密度が高いと、一般式(1)の化合物は、大きな分子であるα−CD(外径=約13Å)を取り込み難くなる。そこで、一般式(1)の化合物と同様にメルカプト基により単分子膜を形成するメルカプトアルキルアルコールを混合することによって、基板における一般式(1)の化合物間の距離を広げることができる。
また、メルカプトアルキルアルコールのアルキル数と、一般式(1)の化合物のアゾアリールメルカプトアルキルポリエチレングリコールのアルキル数とを、ほぼ同数にすることによって、均質な自己組織化膜を得ることができる。従って、例えば、一般式(1)の化合物であるアゾアリールメルカプトヘキサエチレングリコールには、市販のメルカプトウンデカノールを混合することが好ましい。
上述のようにして得られる溶液中に、金属薄膜をコートした基板を、公知の方法によって浸漬すると、自己組織化膜を得ることができる。
金属薄膜としては、金、銀、銅、白金などをはじめとする金属薄膜一般が好ましく、金または銀薄膜がより好ましい。
反応温度は、溶媒が蒸発して無くならない程度の温度であればよく、例えば、0℃〜50℃、好ましくは室温である。また、反応時間としては、使用する溶媒および濃度などによって異なるが、5分〜2時間が好ましい。
得られる自己組織化膜の膜厚は、膜形成過程を表面プラズモン分光法(SPR)を用いてin situで観測し、そのSPRスペクトルをFresnelの式に対してフィッティングし、そしてそのディップのシフト量から求めることができる。自己組織化膜の膜厚とは、自己組織化膜を形成した状態の、本発明の化合物のメルカプト基からアゾアリール基までの長さを意味する。得られる自己組織化膜の膜厚は、一般式(1)におけるmおよびnの値によって異なり、例えば、2.0nm〜40nmである。
2)プソイドロタキサン薄膜の調製(α−CDの取り込み)
次に、得られた自己組織化膜を、α−CD水溶液を加えて浸漬させると、プソイドロタキサン薄膜が得られる。
α−CD水溶液の濃度としては、大過剰が好ましく、例えば、7.25mg/ml〜145mg/ml(飽和濃度)である。
反応温度としては、15〜25℃が好ましい。また、反応時間は、一般式(1)の化合物におけるmの数やα−CD水溶液濃度などによって異なるが、5分〜10日間程度である。
得られるプソイドロタキサン薄膜の膜厚は、一般式(1)におけるmおよびnの値によって異なり、例えば、2.5nm〜47nmである。
3)光制御
上記のプソイドロタキサン膜に、300〜400nm、好ましくは350nmの光を照射し続けると、一般式(1)の化合物におけるアゾアリール部位がトランス→シス光異性化して、ロタキサン構造が得られる(シス異性体)。照射を止めると、プソイドロタキサン構造に戻る(トランス異性体)(図5)。
本発明のアゾアリールメルカプトアルキルポリエチレングリコールは、メルカプトアルキル基による自己組織化膜作製能を持ち、オリゴエチレングリコールによって分子認識能を示し、さらにアゾアリール部位が光異性化することによってロタキサン構造をとらせることができる光制御ロタキサン薄膜として有効に利用できる。
以下、実施例を挙げて本発明を説明する。
アゾアリールメルカプトヘキサエチレングリコールの合成
(1)(10−ヒドロキシデシル)ビフェノールモノエーテルの合成
Figure 2005054101
三口フラスコ(2l)に窒素雰囲気下10−ブロモ−1−デカノール4.78g(20mmol)、4,4’−ビフェノール7.44g(40mmol)、炭酸カリウム27.6g(200mmol)、ヨウ化ナトリウム300mg(2mmol)、アセトニトリル1lを入れ、24時間加熱還流した。放冷後アセトニトリルを留去し、過剰のビフェノールを取り除くために残さに5wt%水酸化ナトリウム水溶液500mlを注ぎ、生成した白色沈殿を収集した。収集した沈殿はさらに5wt%水酸化ナトリウム水溶液250mlで洗浄した後、5wt%塩酸200mlで中和した。沈殿をTHF250mlに溶かし、不溶成分をろ別した。THFを留去し、減圧乾燥してそのまま次の反応に用いた。
白色固体
粗収率74%
22303、M=342.48。
(2)ヘキサエチレングリコール(10−ヒドロキシデシルビフェニル)モノエーテルモノクロライドの合成
Figure 2005054101
三口フラスコ(100ml)に窒素雰囲気下(10−ヒドロキシデシル)ビフェノールモノエーテル342mg(1mmol)、ヘキサエチレングリコールジクロライド957mg(3mmol)、炭酸カリウム2.76g(20mmol)、ヨウ化ナトリウムスパチュラ2杯、アセトニトリル50mlを入れ、48時間加熱還流した。放冷後反応液を水100mlに注ぎ、クロロホルム100mlで抽出した。クロロホルムを留去し、GPC(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー)にて目的物を精製した。
白色固体
収率46%
34538Cl、M=625.24。
(3)ヘキサエチレングリコール(10−ヒドロキシデシルビフェニル)(フェニルアゾフェニル)エーテルの合成
Figure 2005054101
三口フラスコ(100ml)に窒素雰囲気下ヘキサエチレングリコール(10−ヒドロキシデシルビフェニル)モノエーテル312mg(0.5mmol)、フェニルアザフェノール198mg(1mmol)、炭酸カリウム690mg(5mmol)、ヨウ化ナトリウムスパチュラ1杯、アセトニトリル50mlを入れ、24時間加熱還流した。放冷後反応液を水100mlに注ぎ、クロロホルム100mlで抽出した。クロロホルムを留去し、GPCにて目的物を精製した。
オレンジ色固体
収率77%
466229、M=787.00。
(4)ヘキサエチレングリコール(10−メシルオキシデシルビフェニル)(フェニルアゾフェニル)エーテルの合成
Figure 2005054101
三口フラスコ(100ml)にヘキサエチレングリコール(10−ヒドロキシデシルビフェニル)(フェニルアゾフェニル)エーテル394mg(0.5mmol)、メタンス
ルホニルクロライド1.15g(10mmol)、ピリジン790mg(10mmol)、クロロホルム50mlを入れ、20〜26℃で4日間撹拌した。反応液を水100mlに注ぎ、抽出した。クロロホルムを留去し、GPCにて目的物を単離した。
オレンジ色固体
収率88%
4764211S、M=865.09。
(5)ヘキサエチレングリコール(10−チオアセトキシデシルビフェニル)(フェニルアゾフェニル)エーテルの合成
Figure 2005054101
三口フラスコ(100ml)に窒素雰囲気下ヘキサエチレングリコール(10−メシルオキシデシルビフェニル)(フェニルアゾフェニル)エーテル433mg(0.5mmol)、チオアセチルカリウム570mg(5mmol)、脱水DMF50mlを入れ、20〜26℃で6時間撹拌した。反応液を水100mlに注ぎ、クロロホルム100mlで二回抽出した。クロロホルム、DMFを留去し、減圧乾燥してそのまま次の反応に用いた。
オレンジ色固体
粗収率100%
486429S、M=845.10。
(6)ヘキサエチレングリコール(10−チオールデシルビフェニル)(フェニルアゾフェニル)エーテルの合成
Figure 2005054101
三口フラスコ(100ml)に窒素雰囲気下ヘキサエチレングリコール(10−チオアセトキシデシルビフェニル)(フェニルアゾフェニル)エーテル423mg(0.5mmol)、エタノール40ml、水20ml、THF60mlを入れ、撹拌した。炭酸カリウム0.5gを加え、窒素雰囲気下6時間加熱還流した。反応液を5wt%塩酸100mlに注ぎ、クロロホルム100mlで抽出した。クロロホルム、エタノールを留去し、GPCにて目的物を単離した。
オレンジ色固体
収率64%
466228S、M=803.06
1H−NMR;(CDCl3、400MHz)δ:1.3〜1.9(16H、m、CH2
、2.52(2H、q、J=7.3Hz、CH2S)、3.6〜3.9(20H、m、C
2O)、3.97(2H、t、J=6.6Hz、PhOCH2)、4.15(2H、t、J=4.8Hz、PhOCH2)、4.20(2H、t、J=4.8Hz、PhOCH2)、6.93(2H、d、J=8.8Hz、ArH)、6.95(2H、d、J=8.4H
z、ArH)、7.02(2H、d、J=8.8Hz、ArH)、7.4〜7.6(7H、m、ArH)、7.87(2H、d、J=7.6Hz、ArH)、7.90(2H、d、J=8.8Hz、ArH)。
4−メチルアゾアリールメルカプトヘキサエチレングリコールの合成
(1)トリルアゾフェノールの合成
Figure 2005054101
三口フラスコ(100ml)にトルイジン535mg(5mmol)、濃塩酸10mlを入れ、0℃で撹拌した。亜硝酸ナトリウム414mg(6mmol)の水溶液5mlを滴下し、1時間0℃で撹拌した。三口フラスコ(300ml)に窒素雰囲気下フェノール564mg(6mmol)、炭酸水素ナトリウム10.08g(120mmol)、水50mlを入れ、0℃で撹拌した。この溶液にジアゾニウム塩溶液を滴下し、さらに窒素雰囲気下0℃で2時間撹拌した。反応液を5wt%塩酸100mlに注ぎ、生成した固体をろ別し、洗浄して減圧乾燥した。
黄色固体
収率83%
13122O、M=212.25。
(2)ヘキサエチレングリコール(10−ヒドロキシデシルビフェニル)(トリルアゾフェニル)エーテルの合成
Figure 2005054101
三口フラスコ(100ml)に窒素雰囲気下ヘキサエチレングリコール(10−ヒドロキシデシルビフェニル)モノエーテルクロライド312mg(0.5mmol)、トリルアザフェノール212mg(1mmol)、炭酸カリウム690mg(5mmol)、ヨウ化ナトリウムスパチュラ1杯、アセトニトリル50mlを入れ、24時間加熱還流した。放冷後反応液を水100mlに注ぎ、クロロホルム100mlで抽出した。クロロホルムを留去し、GPCにて目的物を精製した。
オレンジ色固体
収率 68%
476429、M=801.03。
(3)ヘキサエチレングリコール(10−メシルオキシデシルビフェニル)(トリルアゾフェニル)エーテルの合成
Figure 2005054101
三口フラスコ(100ml)にヘキサエチレングリコール(10−ヒドロキシデシルビフェニル)(トリルアゾフェニル)エーテル401mg(0.5mmol)、メタンスルホニルクロライド1.15g(10mmol)、ピリジン790mg(10mmol)、THF50mlを入れ、20〜26℃で24時間撹拌した。反応液を水100mlに注ぎ、酢酸エチル150mlで抽出した。酢酸エチル層を5wt%塩酸100mlで二回洗浄した後酢酸エチル、THFを留去し、GPCにて目的物を単離した。
オレンジ色固体
収率 85%
4866211S、M=879.24。
(4)ヘキサエチレングリコール(10−チオアセトキシデシルビフェニル)(トリルアゾフェニル)エーテルの合成
Figure 2005054101
三口フラスコ(100ml)に窒素雰囲気下ヘキサエチレングリコール(10−メシルオキシデシルビフェニル)(トリルアゾフェニル)エーテル440mg(0.5mmol)、チオアセチルカリウム570mg(5mmol)、脱水DMF50mlを入れ、20〜26℃で6時間撹拌した。反応液を水100mlに注ぎ、クロロホルム100mlで二回抽出した。クロロホルム、DMFを留去し、減圧乾燥してそのまま次の反応に用いた。
オレンジ色固体
粗収率100%
496629S、M=859.13。
(5)ヘキサエチレングリコール(10−チオールデシルビフェニル)(トリルアゾフェニル)エーテルの合成
Figure 2005054101
三口フラスコ(300ml)に窒素雰囲気下ヘキサエチレングリコール(10−チオアセトキシデシルビフェニル)(トリルアゾフェニル)エーテル430mg(0.5mmol)、エタノール40ml、水20ml、THF60mlを入れ、撹拌した。炭酸カリウム0.5gを加え、窒素雰囲気下6時間加熱還流した。反応液を5wt%塩酸100ml
に注ぎ、クロロホルム100mlで抽出した。クロロホルム、エタノールを留去し、GPCにて目的物を単離した。
オレンジ色固体
収率56%
476428S、M=817.09
1H−NMR;(CDCl3、400MHz)δ:1.3〜2.0(16H、m、CH2
、2.39(3H、s、CH3)、2.52(2H、q、J=6.9Hz、CH2S)、3.6〜3.9(20H、m、CH2O)、3.97(2H、t、J=6.4Hz、PhO
CH2)、4.15(2H、t、J=4.8Hz、PhOCH2)、4.19(2H、t、J=4.6Hz、PhOCH2)、6.93(2H、d、J=8.8Hz、ArH)、6
.95(2H、d、J=8.0Hz、ArH)、7.01(2H、d、J=8.8Hz、ArH)、7.29(2H、d、J=8.0Hz、ArH)、7.4〜7.5(4H、m、ArH)、7.78(2H、d、J=8.0Hz、ArH)、7.88(2H、d、J=8.8Hz、ArH)。
実施例1のようにして合成したアゾアリールメルカプトヘキサエチレングリコールと市販のメルカプトウンデカノールのエタノール溶液を各々調製し、混合比1:4で1mMの溶
液とした。金薄膜基板上へこの溶液を注入し、膜形成過程を表面プラズモン分光法(SPR
)を用いてin situで観測した。およそ1時間半(図1)で安定した自己組織化膜が作製さ
れ、エタノールで洗浄しても膜がはがれることなく安定していた。
SPRスペクトル(図2)をFresnelの式に対してフィッティングし、そのディップのシフ
ト量から膜厚が3.7nmの膜であることが確認された。
この膜に対してα−CD水溶液(飽和濃度:145mg/ml)を加えたとき、ディップが高角側へ屈折率変化以上のシフトをした(図3)。フィッティングの結果、2.1nmの膜厚増大に相当することがわかった。これはホスト−ゲスト相互作用によりプソイドロタキサンが形成され、エチレングリコール鎖が伸張し、さらにはCDが膜表面部分に吸着するためと考えられる。一方、同じ膜試料にβ−CD溶液を加えても、屈折率変化に対応するシフトしか見られなかったので、この膜が分子認識により選択的にα−CDを取り込んでいることがわかった。
また、このα−CDのプソイドロタキサン膜に350nmの光を照射し続けると、膜厚の減少
が観測された(図4)。アゾベンゼンのトランス→シス光異性化による構造変化がおこるためと考えられる。そして、このロタキサン薄膜を水で洗浄すると、α−CD注入前よりディップは高角側へシフトしていた。この高角側へのシフトは、光照射を止めた数時間後、再度水で洗浄することによって、CD注入前のディップの位置に回復させることができた。よって、照射中はアゾベンゼンのシス体がストッパーとなってポリロタキサン構造をとり、包接されたCDが鎖から抜けるのを抑制するが、照射を止めることで、アゾベンゼンがシスからトランスへ逆異性化し、再びプソイドロタキサンとなるためと考えられる。以上の結果より、アゾベンゼン誘導体で修飾されたメルカプトオリゴエチレングリコール単分子膜はα−CDを選択的にとりこみ、光制御可能なロタキサンを形成する自己組織化膜として有用であることが示された。
アゾアリールメルカプトヘキサエチレングリコールとメルカプトウンデカノールの混合自己組織化単分子膜の生成過程を入射角を固定し、反射率の変化から観測した。混合比1:4で1mMエタノール溶液を試料セルに注入(Injection)し、ほぼ一定値となった約1時間半後、エタノールで洗浄(Rinse)した。 エタノール中にアゾアリールメルカプトヘキサエチレングリコールとメルカプトウンデカノールのエタノール溶液を加えたときの表面プラズモンのディップのシフト。■:エタノール中のディップ(実験結果)、●:アゾアリールメルカプトヘキサエチレングリコールとメルカプトウンデカノールの自己組織化膜が生成した後のディップ(実験結果)、−:膜厚を求めるためのフィッティング曲線。 アゾアリールメルカプトヘキサエチレングリコールとメルカプトウンデカノールの混合自己組織化膜にα−CD水溶液を加え、ロタキサンを形成したときのディップのシフト。■:アゾアリールメルカプトヘキサエチレングリコールとメルカプトウンデカノール混合膜(水中、実験結果)、×:混合膜にα−CD溶液を加えても、H-G相互作用が起こらないことを仮定したときのシミュレーションカーブ、●:混合膜にα−CD溶液を加え、ロタキサンを形成したときのディップ(実験結果)、−:ロタキサンを形成したときの膜厚の変化を求めるためのフィッティングカーブ。 固定した角度での反射率の観測。350nmの光照射後の反射率の減少は、アゾベンゼンのトランス→シス光異性化による膜厚の減少であると考えられる。 アゾベンゼンのトランス→シス光異性化。

Claims (2)

  1. 一般式
    Figure 2005054101
    (式中m=2〜100, n= 2〜50, R=H、アルキル基、アルコキシ基)で表されるアゾアリールメルカプトアルキルポリエチレングリコール。
  2. α−シクロデキストリンとの光制御可能なロタキサン薄膜を形成するための式(1)の化合物の使用。
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