JP2005281166A - デンドロンおよびデンドリマー - Google Patents
デンドロンおよびデンドリマー Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005281166A JP2005281166A JP2004095408A JP2004095408A JP2005281166A JP 2005281166 A JP2005281166 A JP 2005281166A JP 2004095408 A JP2004095408 A JP 2004095408A JP 2004095408 A JP2004095408 A JP 2004095408A JP 2005281166 A JP2005281166 A JP 2005281166A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- synthesis
- dendrimer
- yield
- dendron
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Pyridine Compounds (AREA)
- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
- Other Resins Obtained By Reactions Not Involving Carbon-To-Carbon Unsaturated Bonds (AREA)
Abstract
【課題】新たな機能、物性を発揮する新規なデンドロンまたはデンドリマーを提供する
【解決手段】 下記一般式（Ｉ）で表される部分構造を分枝部として有するデンドロンまたはデンドリマー。
(式中、ＴＣはデンドロンのフォーカルポイント方向、デンドリマーのコア方向につながることを意味し、ＴＴは末端方向へとつながることを意味する。
Ｘは２価のヘテロ原子を表す。
Ｌ１およびＬ２はそれぞれ２価の連結基を表し、Ｒは水素原子または置換基を表す。)
【選択図】なし
【解決手段】 下記一般式（Ｉ）で表される部分構造を分枝部として有するデンドロンまたはデンドリマー。
(式中、ＴＣはデンドロンのフォーカルポイント方向、デンドリマーのコア方向につながることを意味し、ＴＴは末端方向へとつながることを意味する。
Ｘは２価のヘテロ原子を表す。
Ｌ１およびＬ２はそれぞれ２価の連結基を表し、Ｒは水素原子または置換基を表す。)
【選択図】なし
Description
本発明は、ナノテクノロジー、電子材料、ドラッグデリバリーなどに応用できる新規デンドリマーおよびデンドロンに関する。
デンドリマーは高度に構造の規制された樹状巨大分子である。ほぼ球の形をしたナノサイズの分子で、多数の機能化された末端を持っている。また、ナノメートルスケールの孤立空間を持つことから、従来の物質系にはない新規な機能や物性が期待され、ナノテクノロジー、バイオケミカルなど幅広い分野で研究されている。近年ではドラッグデリバリー、遺伝子導入、エネルギー捕捉−光活性分子、触媒、分子量・サイズの標準物質、センサー・ナノスケール科学など極めて広い分野で注目を集めている。
一般的に、以下に模式的に示した通り、規則正しい枝分かれ構造が中心から３次元的に広がっているものをデンドリマー、一方向へのみ伸びている形のもの（扇状の形をしたもの）をデンドロンと呼ぶ。
また、それぞれの中心のことを、デンドリマーの場合にはコア、デンドロンの場合にはフォーカルポイントと呼ぶ。デンドリマーは枝分かれと枝分かれの間がある決まった化学結合の繰り返しになっており、その繰り返しの数を世代という言葉で表現する。世代が高いほどデンドリマーは大きくなり、球状に近づくといわれている。最近、デンドリマーに関する本が相次いで出版されており（例えば、非特許文献１および２参照。）、この分野への関心の高さを示している。
デンドリマーの合成方法については最近かなり確立されたものになりつつある。コアから外側に向かって合成を進めるダイバージェント法、末端官能基から内側に向かって合成を進めるコンバージェント法、あるいはそれら二つを組み合わせたものなど数多くの報告例がある。
「Topics in Current Chemistry」 228巻、Dendrimer V、C．A．Schalley、F．Vogtle編、２００３年、Springer刊 「デンドリマーの科学と機能」、岡田鉦彦編、株式会社アイピーシー刊）
デンドリマーの合成方法については最近かなり確立されたものになりつつある。コアから外側に向かって合成を進めるダイバージェント法、末端官能基から内側に向かって合成を進めるコンバージェント法、あるいはそれら二つを組み合わせたものなど数多くの報告例がある。
「Topics in Current Chemistry」 228巻、Dendrimer V、C．A．Schalley、F．Vogtle編、２００３年、Springer刊 「デンドリマーの科学と機能」、岡田鉦彦編、株式会社アイピーシー刊）
本発明は、新たな機能、物性を発揮する新規なデンドリマー及びデンドロンを提供すること課題とする。
本発明の目的は以下のような新規な化合物によって解決された。
（１）下記一般式（Ｉ）で表される構造を各分枝の繰り返し単位として有するデンドロン。
（式中、ＴＣはデンドロンのフォーカルポイント方向につながることを意味し、ＴＴは末端方向へとつながることを意味する。Ｘはヘテロ原子で構成される２価の基を表す。Ｌ１およびＬ２はそれぞれ２価の連結基を表し、Ｒは水素原子または置換基を表す。それぞれの繰り返し単位において、Ｘ、Ｒ、Ｌ１およびＬ２は同じであっても異なっていてもよい。）
（２）前記一般式（I）において、Ｘで表される２価の基が、−Ｓ−、−ＳＯ−、または−ＳＯ２−であることを特徴とする前記（１）に記載のデンドロン。
（３）前記一般式（I）において、Ｘで表される２価の基が、−Ｓ−であることを特徴とする前記（１）に記載のデンドロン。
（４）下記一般式（Ｉ）で表される構造を各分枝の繰り返し単位として有するデンドリマー。
（式中、ＴＣはデンドリマーのコア方向につながることを意味し、ＴＴは末端方向へとつながることを意味する。Ｘはヘテロ原子で構成される２価の基を表す。Ｌ１およびＬ２はそれぞれ２価の連結基を表し、Ｒは水素原子または置換基を表す。それぞれの繰り返し単位において、Ｘ、Ｒ、Ｌ１およびＬ２は同じであっても異なっていてもよい。）
（５）前記一般式（I）において、Ｘで表される２価の基が、−Ｓ−、−ＳＯ−、または−ＳＯ２−であることを特徴とする前記（４）に記載のデンドリマー。
（６）前記一般式（I）において、Ｘで表される２価の基が、−Ｓ−であることを特徴とする前記（４）に記載のデンドリマー。
（１）下記一般式（Ｉ）で表される構造を各分枝の繰り返し単位として有するデンドロン。
（２）前記一般式（I）において、Ｘで表される２価の基が、−Ｓ−、−ＳＯ−、または−ＳＯ２−であることを特徴とする前記（１）に記載のデンドロン。
（３）前記一般式（I）において、Ｘで表される２価の基が、−Ｓ−であることを特徴とする前記（１）に記載のデンドロン。
（４）下記一般式（Ｉ）で表される構造を各分枝の繰り返し単位として有するデンドリマー。
（５）前記一般式（I）において、Ｘで表される２価の基が、−Ｓ−、−ＳＯ−、または−ＳＯ２−であることを特徴とする前記（４）に記載のデンドリマー。
（６）前記一般式（I）において、Ｘで表される２価の基が、−Ｓ−であることを特徴とする前記（４）に記載のデンドリマー。
本発明の内容をさらに詳しく述べる。
本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物の構造的な特徴は、アセタールに代表される、ジェミナール炭素（一般式（Ｉ）中のＣで表される）にヘテロ原子置換基（−Ｘ−Ｌ２−ＴＴ）が２個あるいはそれ以上結合した構造を有することが特徴である。本発明においては該ヘテロ原子置換基はそれぞれ同一のものであっても、またそれぞれ異なるものであってもよいが、同一のもののほうが好ましい。本発明はこれらの構造がデンドリマー、デンドロンに特徴的な枝分かれ構造を構築する上で大きな利点を有するという発見に基づいている。アセタール構造は古くから知られているように、一般にケトンやアルデヒドのようなカルボニル化合物とアルコールやチオールを脱水反応させることにより容易に合成が可能であり、また大量合成も極めて容易な反応として知られている。
また、本発明の一般式（Ｉ）においてＸが、例えば酸素原子のものは、カルボニル化合物等価体として、ジェミナール炭素上に２個の離脱性基を有する化合物を用い、酸素原子を含む基としてはアルコール性水酸基を有する化合物（アルコール類、フェノール類が好ましいが、フェノール類がより好ましい）との求核置換反応により製造できる。
また、本発明の一般式（Ｉ）においてＸが、例えば酸素原子のものは、カルボニル化合物等価体として、ジェミナール炭素上に２個の離脱性基を有する化合物を用い、酸素原子を含む基としてはアルコール性水酸基を有する化合物（アルコール類、フェノール類が好ましいが、フェノール類がより好ましい）との求核置換反応により製造できる。
本発明の一般式（Ｉ）におけるＴＣはデンドロンにおいてはフォーカルポイント側に、デンドリマーにおいてはコア側に結合していることを表す。また、ＴＴは末端側に結合していることを表す。合成的な観点から見ると、ダイバージェント法ではＴＣ側からＴＴ側へと世代数を増やし、コンバージェント法ではＴＴ側からＴＣ側へと世代数を増やすことになる。本発明の化合物を得るためには、世代数を増やす反応において、アセタール化反応を用いることが最も効果的である。
Ｘはヘテロ原子で構成される２価の基を表す。ヘテロ原子としては酸素原子、硫黄原子、セレン原子、テルル原子があげられるが、分子の安定性の点で硫黄原子を含む２価の基が好ましい。その中でも、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−から選ばれる２価の基が特に好ましい。
Ｌ１およびＬ２はそれぞれ単なる結合または２価の連結基を表し、それぞれ同じであっても異なっていてもよい。２価の連結基の場合、２価であればどのようなものでもよいが、より好ましくはそれぞれ置換基を有していてもよいアルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基、ヘテロアリーレン基、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｐ＝Ｏ（Ｒ１）−、−Ｎ（Ｒ１）−、−ＣＯ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−または−Ｓｉ（Ｒ１）（Ｒ２）−などがあげられ、これらを適宜組み合わせたものも好ましい。ここで、Ｒ１およびＲ２は水素原子または置換基を表し、好ましい置換基としては、それぞれ置換されていてもよいアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルコキシ基などがあげられる。
この連結基Ｌ１およびＬ２の具体例としては、−ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、１，２−フェニレン、１，３−フェニレン、１，４−フェニレン、α，２−トリレン、α，３−トリレン、α，４−トリレン、ｏ−キシリレン、ｍ−キシリレン、ｐ−キシリレン、および、これらの２価の基と−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｐ＝Ｏ（Ｒ１）−、−Ｎ（Ｒ１）−、−ＣＯ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−または−Ｓｉ（Ｒ１）（Ｒ２）−を組み合わせた２価の基が好ましい。
Ｘはヘテロ原子で構成される２価の基を表す。ヘテロ原子としては酸素原子、硫黄原子、セレン原子、テルル原子があげられるが、分子の安定性の点で硫黄原子を含む２価の基が好ましい。その中でも、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−から選ばれる２価の基が特に好ましい。
Ｌ１およびＬ２はそれぞれ単なる結合または２価の連結基を表し、それぞれ同じであっても異なっていてもよい。２価の連結基の場合、２価であればどのようなものでもよいが、より好ましくはそれぞれ置換基を有していてもよいアルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基、ヘテロアリーレン基、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｐ＝Ｏ（Ｒ１）−、−Ｎ（Ｒ１）−、−ＣＯ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−または−Ｓｉ（Ｒ１）（Ｒ２）−などがあげられ、これらを適宜組み合わせたものも好ましい。ここで、Ｒ１およびＲ２は水素原子または置換基を表し、好ましい置換基としては、それぞれ置換されていてもよいアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルコキシ基などがあげられる。
この連結基Ｌ１およびＬ２の具体例としては、−ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、１，２−フェニレン、１，３−フェニレン、１，４−フェニレン、α，２−トリレン、α，３−トリレン、α，４−トリレン、ｏ−キシリレン、ｍ−キシリレン、ｐ−キシリレン、および、これらの２価の基と−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｐ＝Ｏ（Ｒ１）−、−Ｎ（Ｒ１）−、−ＣＯ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−または−Ｓｉ（Ｒ１）（Ｒ２）−を組み合わせた２価の基が好ましい。
Ｒは水素原子または置換基を表す。置換基の例としてはそれぞれ置換基を有していてもよいアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基または−Ｘ−Ｌ２−ＴＴがあげられる。Ｒがアルキル基、アリール基またはヘテロアリール基などの水素原子または−Ｘ−Ｌ２−ＴＴ以外の場合には化学式量として１〜５００が好ましく、１〜２００がさらに好ましく、１〜１２０が最も好ましい。この置換基Ｒの具体例としてはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、フェニル基、４−メトキシフェニル基、シクロプロピル基、４−ピリジル基などがあげられる。
本発明のデンドロン又はデンドリマーにおいて世代数は２以上であり、好ましくは、２〜５００、より好ましくは２〜１００であり、最も好ましくは２〜２０である。
本発明のデンドロン又はデンドリマーにおいて世代数は２以上であり、好ましくは、２〜５００、より好ましくは２〜１００であり、最も好ましくは２〜２０である。
また、本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物において、Ｘ＝Ｓの場合には過酸、過酸化水素、過マンガン酸カリウム、Ｎ−オキシド類などの酸化剤を用いて酸化し、スルホキシドやスルホンへと変換したデンドロンおよびデンドリマーも容易に合成することが可能であり、一般式（Ｉ）で表される化合物同様に有用である。
本発明のチオアセタール構造を分枝構造として有するデンドリマー、デンドロンおよびこれらのＸの部分を−ＳＯ−基又は−ＳＯ２−基に酸化して得られるスルホキシド化合物やスルホン化合物はこれまで知られていない新規な化合物である。
本発明のデンドロンおよびデンドリマーは様々なフォーカルポイントやコアを有するものに適用でき、合成的にも高い汎用性を有している。すなわち、各世代のデンドロン合成中間体として、フォーカルポイントに反応性の高いメルカプト基を有する段階を経るため、このメルカプト基を利用して極めて多様な物質に結合させることができる。例えば、アルデヒド、ケトンなどのカルボニル化合物あるいはその等価体と縮合反応させて、チオアセタールを形成させる方法、ハライドやスルホナートなどの求核置換反応に対して活性な化合物と求核置換反応を行い、チオエーテルを形成させる方法、α，β−不飽和エステルなどの共役付加受容性化合物との反応（付加反応や付加脱離反応）でチオエーテルを形成させる方法、金や銀などチオールと結合を形成する金属と反応させ、金属表面に結合する方法、ハロゲン化銀などの金属塩と反応させ、表面に化学吸着させる方法や金属イオンの塩を形成させる方法などを用いることができる。
上記フォーカルポイント又はコアについてより詳しく述べる。前記（化２）のフォーカルポイント又はコアは本発明の一般式（Ｉ）表される繰り返し単位のうち、末端から最も遠い分枝構造に対して結合するＴＣを意味している。デンドロンのフォーカルポイントは１価の基であり、デンドリマーのコアは２価以上の基であり、好ましくは２ないし５０価、より好ましくは２ないし２０価、最も好ましくは２ないし１６価である。フォーカルポイント又はコアはそれぞれ置換基を有していてもよく、鎖状あるいは環状の飽和炭化水素、鎖状あるいは環状の不飽和炭化水素、芳香族炭化水素、非芳香族へテロ環、芳香族へテロ環などが好ましい。置換基としてはメルカプト基、水酸基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン（フッ素、塩素、臭素、ヨウ素など）、ヒドラジノ基、アゾ基、イソシアナト基、イソチオシアナト基、チオシアナト基、カルボキシル基、スルホ基、アシル基、ホルミル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、アルコキシスルホニル基、スルホニル基、アミノ基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルフェニル基、スルフィニル基、アルコキシ基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、シリル基、シリルオキシ基、ヘテロ環基などが挙げられる。
以下に本発明の化合物の具体的な例を示すが、本発明の範囲はこれらの具体例に限定されるものではない。
以下に本発明の化合物の具体的な例を示すが、本発明の範囲はこれらの具体例に限定されるものではない。
本発明の化合物の合成法について述べる。
本発明の化合物はデンドリマー合成法において、特にコンバージェント法（収束法）と呼ばれる方法によって効率よく合成が可能である。
以下に述べる合成法で記述が及ばない部分については、デンドリマーおよびデンドロンの一般的合成法について記載されているケミカル・レビュー（Chemical Review），２００１年，１０１巻，３８１９−３８６７頁に詳細にまとめられており、引用された参考文献も参考にすることができる。
このコンバージェント法による本発明のデンドロン又はデンドリマーの製造方法の工程をまずは概略的に述べると、
第一ステップとして、保護されたチオール部を有するカルボニル化合物、あるいはその等価体に対して、表面末端に相当する官能基を有するチオールを用いてチオアセタールを形成する反応を行う。第二ステップでは、得られたチオアセタールの保護されたチオール基をチオールへと変換する。ここで得られたチオール化合物は第一ステップで使用したチオールよりも世代が１つ高いチオールである。第二ステップは一工程で変換を行ってもよいし、二工程以上をかけて行ってもよい。
第一ステップと第二ステップを一サイクルとして、これを繰り返し行うことによって、より大きな世代のデンドロンを合成することができる。なお、第一ステップで用いる保護されたチオール部を有するカルボニル化合物、あるいはその等価体は各サイクルにおいて、同一であってもよいし、異なっていてもよい。
また、スルフィドを酸化することによりスルホキシドまたはスルホンへと変換することができる。その方法としては、一般的な酸化反応を用いることができる。例えば、過酸化水素、ｔ−ブチルヒドロペルオキシドなどのヒドロペルオキシド類、ｍ−クロロ過安息香酸などの過酸類、オキソンなどの過硫酸類、Ｎ−メチルモルホリン−Ｎ−オキシドなどのＮ−オキシド類、過マンガン酸カリウムなどの金属酸化物、過ホウ酸など種々の酸化剤を用いることができる。溶媒としては水、塩化メチレン、クロロホルムなどのハロゲン系溶媒、酢酸、プロピオン酸などのカルボン酸系溶媒、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルなどのエーテル系溶媒などを好ましく使用することができる。
本発明のデンドロン及びデンドリマーは末端表面に種々の官能基を有することができる。これらは必要な場合には保護した形でデンドロン及びデンドリマーとしたのちに脱保護により形成することもできる。これら官能基は所望の機能に応じてさらに他の化合物を結合するために用いることもできる。官能基の例としてはメルカプト基、水酸基、ハロゲン（フッ素、塩素、臭素、ヨウ素など）、ヒドラジノ基、イソシアナト基、イソチオシアナト基、チオシアナト基、カルボキシル基、スルホ基、アシル基、ホルミル基、アミノ基、アルケニル基、アルキニル基などが挙げらる。
本発明のデンドロン及びデンドリマーは、テトラヒドロフラン、トルエン、酢酸エチル、塩化メチレン、クロロホルムなどの汎用の有機溶媒に可溶で、成形加工性に優れており、前記の用途に広く利用できる。
本発明の化合物はデンドリマー合成法において、特にコンバージェント法（収束法）と呼ばれる方法によって効率よく合成が可能である。
以下に述べる合成法で記述が及ばない部分については、デンドリマーおよびデンドロンの一般的合成法について記載されているケミカル・レビュー（Chemical Review），２００１年，１０１巻，３８１９−３８６７頁に詳細にまとめられており、引用された参考文献も参考にすることができる。
このコンバージェント法による本発明のデンドロン又はデンドリマーの製造方法の工程をまずは概略的に述べると、
第一ステップとして、保護されたチオール部を有するカルボニル化合物、あるいはその等価体に対して、表面末端に相当する官能基を有するチオールを用いてチオアセタールを形成する反応を行う。第二ステップでは、得られたチオアセタールの保護されたチオール基をチオールへと変換する。ここで得られたチオール化合物は第一ステップで使用したチオールよりも世代が１つ高いチオールである。第二ステップは一工程で変換を行ってもよいし、二工程以上をかけて行ってもよい。
第一ステップと第二ステップを一サイクルとして、これを繰り返し行うことによって、より大きな世代のデンドロンを合成することができる。なお、第一ステップで用いる保護されたチオール部を有するカルボニル化合物、あるいはその等価体は各サイクルにおいて、同一であってもよいし、異なっていてもよい。
また、スルフィドを酸化することによりスルホキシドまたはスルホンへと変換することができる。その方法としては、一般的な酸化反応を用いることができる。例えば、過酸化水素、ｔ−ブチルヒドロペルオキシドなどのヒドロペルオキシド類、ｍ−クロロ過安息香酸などの過酸類、オキソンなどの過硫酸類、Ｎ−メチルモルホリン−Ｎ−オキシドなどのＮ−オキシド類、過マンガン酸カリウムなどの金属酸化物、過ホウ酸など種々の酸化剤を用いることができる。溶媒としては水、塩化メチレン、クロロホルムなどのハロゲン系溶媒、酢酸、プロピオン酸などのカルボン酸系溶媒、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルなどのエーテル系溶媒などを好ましく使用することができる。
本発明のデンドロン及びデンドリマーは末端表面に種々の官能基を有することができる。これらは必要な場合には保護した形でデンドロン及びデンドリマーとしたのちに脱保護により形成することもできる。これら官能基は所望の機能に応じてさらに他の化合物を結合するために用いることもできる。官能基の例としてはメルカプト基、水酸基、ハロゲン（フッ素、塩素、臭素、ヨウ素など）、ヒドラジノ基、イソシアナト基、イソチオシアナト基、チオシアナト基、カルボキシル基、スルホ基、アシル基、ホルミル基、アミノ基、アルケニル基、アルキニル基などが挙げらる。
本発明のデンドロン及びデンドリマーは、テトラヒドロフラン、トルエン、酢酸エチル、塩化メチレン、クロロホルムなどの汎用の有機溶媒に可溶で、成形加工性に優れており、前記の用途に広く利用できる。
本発明の化合物は以上述べた特徴を有しており、様々な用途に利用することが可能である。デンドリマー、デンドロンの機能としては末端に機能性基を結合し、表面の機能を利用するもの、薬剤などを内包させ、光や熱などの刺激によってこれらを放出させる機能を利用するもの、色素や蛍光色素を内部に閉じこめることにより、これらを安定化させ、あるいは色素間の相互作用の低減を図り、あるいは規則的な配列をさせる目的で利用するものなど極めて多くの応用が提案されており、本発明の化合物はこれらのすべてに適用することができる。
例えば、アンゲバンテ・へミー・インターナショナル・エディション（Angew． Chem． Int． Ed．），２００１年，４０巻，７４頁にはデンドリマー、デンドロンを用いて機能性化合物を内包する手法が多数示されている。ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサイエティ（Journal of American Chemical Society），１９９６年，１１８巻，３９７８頁、同１９９９年，１２１巻，１０６５８頁に記されているような電荷の移動への利用、アプライド・フィジックス・レター（Applied Physics Letter），８０巻，７頁（２００２年）に示されるようなレーザー発振への応用、Ｏ ｐｌｕｓ Ｅ，１９９８年，８月，９９８頁に示されるような光増幅機能の応用、特開２００３−３２７６４５号に記載のような色素を内包した光硬化樹脂への応用、特開２００３−２７７７４１号
に記載のような有機ＥＬ発光素子や液晶表示装置への応用、特開平６−５７１９１号に記載のようなインク組成物への応用、特開２００３−３２７６８７号に記載のようなイオン伝導性電解質への応用などさまざまな用途に応用可能であり、本発明のデンドリマーのコアおよびデンドロンのフォーカルポイント、デンドリマーの末端（表面）の官能基、分枝構造の様式については上記の用途例に応じて適宜選択することができる。さらに、本発明の範囲は以上述べた例に限定されず、広い範囲に応用ができる。
に記載のような有機ＥＬ発光素子や液晶表示装置への応用、特開平６−５７１９１号に記載のようなインク組成物への応用、特開２００３−３２７６８７号に記載のようなイオン伝導性電解質への応用などさまざまな用途に応用可能であり、本発明のデンドリマーのコアおよびデンドロンのフォーカルポイント、デンドリマーの末端（表面）の官能基、分枝構造の様式については上記の用途例に応じて適宜選択することができる。さらに、本発明の範囲は以上述べた例に限定されず、広い範囲に応用ができる。
次に本発明を実施例に基づきさらに詳細に説明する。
実施例１ 化合物（４）の合成
合成〔１−１〕 ４−（４−（６−ブロモヘキシルオキシ）フェニル）ベンゾニトリルの合成
４０ｇの４−（４−ヒドロキシフェニル）ベンゾニトリルと４２ｇの炭酸カリウム、２５０ｇの１，６−ジブロモヘキサンを混合し、ジメチルホルムアミド中で１００℃、５時間反応した。冷却後、１リットルの水に注ぎ、クロロホルムで抽出を行い、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製したのち、クロロホルム−ヘキサンから再結晶して目的物を得た。収量３９ｇ、収率５４％
実施例１ 化合物（４）の合成
合成〔１−１〕 ４−（４−（６−ブロモヘキシルオキシ）フェニル）ベンゾニトリルの合成
４０ｇの４−（４−ヒドロキシフェニル）ベンゾニトリルと４２ｇの炭酸カリウム、２５０ｇの１，６−ジブロモヘキサンを混合し、ジメチルホルムアミド中で１００℃、５時間反応した。冷却後、１リットルの水に注ぎ、クロロホルムで抽出を行い、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製したのち、クロロホルム−ヘキサンから再結晶して目的物を得た。収量３９ｇ、収率５４％
合成〔１−２〕 ２−（４−ヒドロキシフェニルチオ）ピリジンの合成
窒素雰囲気下、１２７ｇの４−ヒドロキシチオフェノール、１１２ｇのクロロピリジン、１４０ｇの炭酸カリウムを混合し、２５０ｍＬのジメチルホルムアミドを加えて撹拌し、７５℃に加熱した。さらに１１０℃で５時間加熱し、反応がほぼ終了した時点で１．５Ｌの水に注いだ。析出した結晶を濾取し、水洗を行い、乾燥した。収量１８４ｇ、収率９１．８％
窒素雰囲気下、１２７ｇの４−ヒドロキシチオフェノール、１１２ｇのクロロピリジン、１４０ｇの炭酸カリウムを混合し、２５０ｍＬのジメチルホルムアミドを加えて撹拌し、７５℃に加熱した。さらに１１０℃で５時間加熱し、反応がほぼ終了した時点で１．５Ｌの水に注いだ。析出した結晶を濾取し、水洗を行い、乾燥した。収量１８４ｇ、収率９１．８％
合成〔１−３〕 ２−（４−（（１，３−ジオキソラン−２−イル）メトキシ）フェニルチオ）ピリジンの合成
３０ｇの２−（４−ヒドロキシフェニルチオ）ピリジン、２７．１ｇの２−ブロモメチル−１，３−ジオキソラン、３１ｇの炭酸カリウム、１２０ｍＬのジメチルスルホキシドを混合し、触媒量のヨウ化ナトリウムを添加したのち油浴温度を９５〜１００℃として、４時間反応した。さらに油浴温度１２０℃まで昇温して２時間反応した。
反応終了後、冷却し水８００ｍＬを添加すると結晶が析出した。この結晶を濾取し、水洗、乾燥したのち、メタノールに溶解し、自然ろ過を行ったのち、水を加えて結晶を析出させた。この結晶をろ過、水洗して目的物３９ｇを得た。収率９１．１％
３０ｇの２−（４−ヒドロキシフェニルチオ）ピリジン、２７．１ｇの２−ブロモメチル−１，３−ジオキソラン、３１ｇの炭酸カリウム、１２０ｍＬのジメチルスルホキシドを混合し、触媒量のヨウ化ナトリウムを添加したのち油浴温度を９５〜１００℃として、４時間反応した。さらに油浴温度１２０℃まで昇温して２時間反応した。
反応終了後、冷却し水８００ｍＬを添加すると結晶が析出した。この結晶を濾取し、水洗、乾燥したのち、メタノールに溶解し、自然ろ過を行ったのち、水を加えて結晶を析出させた。この結晶をろ過、水洗して目的物３９ｇを得た。収率９１．１％
合成〔１−４〕 ２−（４−（２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニルチオ）エトキシ）フェニルチオ）ピリジンの合成
３０ｇの２−（４−（（１，３−ジオキソラン−２−イル）メトキシ）フェニルチオ）ピリジン、２７．５ｇの４−ヒドロキシチオフェノール、３２ｇのパラトルエンスルホン酸を塩化メチレンに溶解し、加熱環流を行った。２日間反応を行ったのち、溶媒を留去し、水、酢酸エチルを加え、炭酸カリウムで塩基性として抽出を行った。有機相を濃縮すると結晶が析出したので、これを濾取し、少量の酢酸エチルで洗浄後、乾燥して目的物を得た。収量３８ｇ、収率７６．２％
３０ｇの２−（４−（（１，３−ジオキソラン−２−イル）メトキシ）フェニルチオ）ピリジン、２７．５ｇの４−ヒドロキシチオフェノール、３２ｇのパラトルエンスルホン酸を塩化メチレンに溶解し、加熱環流を行った。２日間反応を行ったのち、溶媒を留去し、水、酢酸エチルを加え、炭酸カリウムで塩基性として抽出を行った。有機相を濃縮すると結晶が析出したので、これを濾取し、少量の酢酸エチルで洗浄後、乾燥して目的物を得た。収量３８ｇ、収率７６．２％
合成〔１−５〕 ２−（４−（２，２−ビス（４−（６−（４−（シアノフェニル）フェノキシ）ヘキシルオキシ）フェニルチオ）エトキシ）フェニルチオ）ピリジンの合成
２０ｇの２−（４−（２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニルチオ）エトキシ）フェニルチオ）ピリジンと３１ｇの４−（４−（６−ブロモヘキシルオキシ）フェニル）ベンゾニトリルを混合し、２５ｇの炭酸カリウム、触媒量のヨウ化ナトリウムを加え、ジメチルホルムアミド中で８５℃で反応を行った。反応終了後、水を加え析出した油状物をクロロホルムで抽出し、カラムクロマトグラフィーで精製した。収量３７ｇ、収率８５．８％
２０ｇの２−（４−（２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニルチオ）エトキシ）フェニルチオ）ピリジンと３１ｇの４−（４−（６−ブロモヘキシルオキシ）フェニル）ベンゾニトリルを混合し、２５ｇの炭酸カリウム、触媒量のヨウ化ナトリウムを加え、ジメチルホルムアミド中で８５℃で反応を行った。反応終了後、水を加え析出した油状物をクロロホルムで抽出し、カラムクロマトグラフィーで精製した。収量３７ｇ、収率８５．８％
合成〔１−６〕 ヨウ化２−（４−（２，２−ビス（４−（６−（４−（シアノフェニル）フェノキシ）ヘキシルオキシ）フェニルチオ）エトキシ）フェニルチオ）−１−メチルピリジニウムの合成
１０ｇの２−（４−（２，２−ビス（４−（６−（４−（シアノフェニル）フェノキシ）ヘキシルオキシ）フェニルチオ）エトキシ）フェニルチオ）ピリジンをクロロホルム２０ｍＬに溶解し、１０ｍＬのヨウ化メチルを加えて加熱環流した。反応終了後、溶媒と過剰のヨウ化メチルを減圧留去して除き、クロロホルムに溶解してシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製した。収量７．５ｇ、収率６５．９％
１０ｇの２−（４−（２，２−ビス（４−（６−（４−（シアノフェニル）フェノキシ）ヘキシルオキシ）フェニルチオ）エトキシ）フェニルチオ）ピリジンをクロロホルム２０ｍＬに溶解し、１０ｍＬのヨウ化メチルを加えて加熱環流した。反応終了後、溶媒と過剰のヨウ化メチルを減圧留去して除き、クロロホルムに溶解してシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製した。収量７．５ｇ、収率６５．９％
合成〔１−７〕 ４−（２，２−ビス（４−（６−（４−（シアノフェニル）フェノキシ）ヘキシルオキシ）フェニルチオ）エトキシ）ベンゼンチオールの合成
ヨウ化２−（４−（２，２−ビス（４−（６−（４−（シアノフェニル）フェノキシ）ヘキシルオキシ）フェニルチオ）エトキシ）フェニルチオ）−１−メチルピリジニウム７ｇをテトラヒドロフランに溶解し、窒素雰囲気下でヒドラジン一水和物２ｍＬを加えた。ＴＬＣで反応を追跡し、原点成分が消失したのを確認して、４ｍＬの酢酸を加えた。この反応混合物を濃縮し、水、クロロホルムを加えて抽出を行い、有機相をカラムクロマトグラフィーで精製して油状物を得た。この油状物は放置するとワックス状に固化した。収量４．０ｇ、収率７０．２％
ヨウ化２−（４−（２，２−ビス（４−（６−（４−（シアノフェニル）フェノキシ）ヘキシルオキシ）フェニルチオ）エトキシ）フェニルチオ）−１−メチルピリジニウム７ｇをテトラヒドロフランに溶解し、窒素雰囲気下でヒドラジン一水和物２ｍＬを加えた。ＴＬＣで反応を追跡し、原点成分が消失したのを確認して、４ｍＬの酢酸を加えた。この反応混合物を濃縮し、水、クロロホルムを加えて抽出を行い、有機相をカラムクロマトグラフィーで精製して油状物を得た。この油状物は放置するとワックス状に固化した。収量４．０ｇ、収率７０．２％
合成〔１−８〕 テトラキス（３−ホルミルフェノキシメチル）メタンの合成
５ｇの四臭化ペンタエリトリチルと９．５ｇの３−ヒドロキシベンツアルデヒド、１１ｇの炭酸カリウム、触媒量のヨウ化ナトリウムを混合し、ジメチルホルムアミドを加えて１３０℃で６時間反応した。冷却後、水を加え析出した結晶を濾取した。この結晶をジメチルホルムアミドを加え、ろ過後、濾液にメタノールを加え、析出した結晶を濾取した。収量６．１ｇ、収率８５．６％
５ｇの四臭化ペンタエリトリチルと９．５ｇの３−ヒドロキシベンツアルデヒド、１１ｇの炭酸カリウム、触媒量のヨウ化ナトリウムを混合し、ジメチルホルムアミドを加えて１３０℃で６時間反応した。冷却後、水を加え析出した結晶を濾取した。この結晶をジメチルホルムアミドを加え、ろ過後、濾液にメタノールを加え、析出した結晶を濾取した。収量６．１ｇ、収率８５．６％
合成〔１−９〕 具体的化合物例（４）の合成
７２ｍｇのテトラキス（３−ホルミルフェノキシメチル）メタンと１ｇの４−（２，２−ビス（４−（６−（４−（シアノフェニル）フェノキシ）ヘキシルオキシ）フェニルチオ）エトキシ）ベンゼンチオールをジクロロメタンに溶解し、パラトルエンスルホン酸を触媒として加え、加熱環流した。ＴＬＣでスポットが収束するのを確認して反応を終了させ、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製した。収量１２０ｍｇ、収率１１．３％。明確な融点を示さない無色固体。
ｎｍｒデータ（ＣＤＣｌ3）：δＨ ６．６−７．７５（２４０Ｈ，ｍ）、５．１２（４Ｈ，ｓ）、４．３８（８Ｈ，ｔ）、４．１０（１６Ｈ，ｄ）、３．８０−４．１０（７２Ｈ，ｍ）、１．６６−１．９０（６４Ｈ，ｂ）、１．４０−１．６５（６４Ｈ，ｂ）
７２ｍｇのテトラキス（３−ホルミルフェノキシメチル）メタンと１ｇの４−（２，２−ビス（４−（６−（４−（シアノフェニル）フェノキシ）ヘキシルオキシ）フェニルチオ）エトキシ）ベンゼンチオールをジクロロメタンに溶解し、パラトルエンスルホン酸を触媒として加え、加熱環流した。ＴＬＣでスポットが収束するのを確認して反応を終了させ、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製した。収量１２０ｍｇ、収率１１．３％。明確な融点を示さない無色固体。
ｎｍｒデータ（ＣＤＣｌ3）：δＨ ６．６−７．７５（２４０Ｈ，ｍ）、５．１２（４Ｈ，ｓ）、４．３８（８Ｈ，ｔ）、４．１０（１６Ｈ，ｄ）、３．８０−４．１０（７２Ｈ，ｍ）、１．６６−１．９０（６４Ｈ，ｂ）、１．４０−１．６５（６４Ｈ，ｂ）
実施例２
化合物（６）の合成
合成〔２−１〕 ２−（４−ホルミルフェニル）−１，３−ジオキソランの合成
１３４ｇのテレフタルアルデヒド、６２ｇのエチレングリコールに４００ｍＬのトルエンを加え、２ｇのパラトルエンスルホン酸を添加してアゼオトロピック条件下で脱水反応を行った。反応で水の反応が止まった時点からさらに２時間加熱環流を行い、冷却した。反応液を重曹水に注ぎ、有機相を濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製した。収量１２２ｇ、収率６８．５％
化合物（６）の合成
合成〔２−１〕 ２−（４−ホルミルフェニル）−１，３−ジオキソランの合成
１３４ｇのテレフタルアルデヒド、６２ｇのエチレングリコールに４００ｍＬのトルエンを加え、２ｇのパラトルエンスルホン酸を添加してアゼオトロピック条件下で脱水反応を行った。反応で水の反応が止まった時点からさらに２時間加熱環流を行い、冷却した。反応液を重曹水に注ぎ、有機相を濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製した。収量１２２ｇ、収率６８．５％
合成〔２−２〕２−（４−ヒドロキシメチルフェニル）−１，３−ジオキソランの合成
１００ｇ ２−（４−ホルミルフェニル）−１，３−ジオキソランに水３００ｍＬ、氷５００ｇを加えて撹拌した。これに水素化ホウ素ナトリウムを少しずつ加えた。ＴＬＣで原料の消失を確認したのち、酢酸エチルで２回抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、目的物を得た。収量９５ｇ、収率９３．８％
１００ｇ ２−（４−ホルミルフェニル）−１，３−ジオキソランに水３００ｍＬ、氷５００ｇを加えて撹拌した。これに水素化ホウ素ナトリウムを少しずつ加えた。ＴＬＣで原料の消失を確認したのち、酢酸エチルで２回抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、目的物を得た。収量９５ｇ、収率９３．８％
合成〔２−３〕 ４−クロロメチルベンズアルデヒドの合成
８０ｇの２−（４−ヒドロキシメチルフェニル）−１，３−ジオキソランに濃塩酸３００ｍＬを加え、２４時間加熱環流を行った。冷却後、析出した結晶を濾取し、水洗を行ったのち、室温で乾燥し、メタノール−水から再結晶を行った。収量４７ｇ、収率６８．４％
８０ｇの２−（４−ヒドロキシメチルフェニル）−１，３−ジオキソランに濃塩酸３００ｍＬを加え、２４時間加熱環流を行った。冷却後、析出した結晶を濾取し、水洗を行ったのち、室温で乾燥し、メタノール−水から再結晶を行った。収量４７ｇ、収率６８．４％
合成〔２−４〕 ４−（（５−ニトロピリジン−２−イル）チオメチル）ベンズアルデヒドの合成
４０ｇの２−メルカプト−５−ニトロピリジンに２００ｍＬのアセトンを加え水冷下で撹拌した。この反応液に４３．６ｇの４−クロロメチルベンズアルデヒドと４５ｇの炭酸カリウムを加え、反応を行った。反応終了後、水１Ｌを加え、析出した結晶を濾取し、水洗後、メタノールで洗浄し、乾燥を行った。収量６５，５ｇ、収率９３．３％
４０ｇの２−メルカプト−５−ニトロピリジンに２００ｍＬのアセトンを加え水冷下で撹拌した。この反応液に４３．６ｇの４−クロロメチルベンズアルデヒドと４５ｇの炭酸カリウムを加え、反応を行った。反応終了後、水１Ｌを加え、析出した結晶を濾取し、水洗後、メタノールで洗浄し、乾燥を行った。収量６５，５ｇ、収率９３．３％
合成〔２−５〕 ２−（（４−ビス（４−ブロモフェニルチオ）メチル）フェニルメチルチオ）−５−ニトロピリジンの合成
６１．１ｇの４−（（５−ニトロピリジン−２−イル）チオメチル）ベンズアルデヒドをジクロロメタンに溶解し、１００ｇの４−ブロモベンゼンチオールを加え、６ｇのパラトルエンスルホン酸を添加した。室温で４日間反応したのち、反応混合物に水を加え、抽出を行い、有機相を濃縮したのち、酢酸エチルとヘキサンを加えて結晶を得た。収量１２９．０ｇ、収率７７．０％
６１．１ｇの４−（（５−ニトロピリジン−２−イル）チオメチル）ベンズアルデヒドをジクロロメタンに溶解し、１００ｇの４−ブロモベンゼンチオールを加え、６ｇのパラトルエンスルホン酸を添加した。室温で４日間反応したのち、反応混合物に水を加え、抽出を行い、有機相を濃縮したのち、酢酸エチルとヘキサンを加えて結晶を得た。収量１２９．０ｇ、収率７７．０％
合成〔２−６〕 ４−（ビス（４−ブロモフェニルチオ））メチルフェニルメタンチオールの合成
窒素雰囲気下、７０ｇの２−（（４−ビス（４−ブロモフェニルチオ）メチル）フェニルメチルチオ）−５−ニトロピリジンをジメチルホルムアミドに溶解し、２５ｍＬの包水ヒドラジンを加えて７０℃で反応した。反応終了後、冷却し、３０ｍＬの酢酸を加えたのち、水、酢酸エチルを加えて抽出を行った。有機相を水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、有機相を濃縮し、残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、目的物を得た。収量３９．２ｇ、収率６９．３％
窒素雰囲気下、７０ｇの２−（（４−ビス（４−ブロモフェニルチオ）メチル）フェニルメチルチオ）−５−ニトロピリジンをジメチルホルムアミドに溶解し、２５ｍＬの包水ヒドラジンを加えて７０℃で反応した。反応終了後、冷却し、３０ｍＬの酢酸を加えたのち、水、酢酸エチルを加えて抽出を行った。有機相を水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、有機相を濃縮し、残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、目的物を得た。収量３９．２ｇ、収率６９．３％
合成〔２−７〕 具体的化合物例（６）の合成
１２ｇの４−（ビス（４−ブロモフェニルチオ））メチルフェニルメタンチオールをジクロロメタンに溶解し、合成〔２−４〕で合成したべンズアルデヒド２ｇを加えて室温で撹拌した。これに触媒量のメタンスルホン酸を加えた。液体クロマトグラフィーで反応の進行を確認し、反応を停止した。水を加えて抽出を行ったのち、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製を行い、目的物を得た。収量２．１ｇ、収率２２．５％。明確な融点を示さない無色固体。
ｎｍｒデータ（ＣＤＣｌ3）：δＨ ９．２７（１Ｈ，ｄ）、８．２３（１Ｈ，ｄｄ）、７．０３−７．４１（２９Ｈ，ｍ）、５．３４（２Ｈ，ｓ）、４．５０（２Ｈ，ｓ）、４．３２（１Ｈ，ｓ）、３．７２（２Ｈ，ｄ）、３．４８（２Ｈ，ｄ）
１２ｇの４−（ビス（４−ブロモフェニルチオ））メチルフェニルメタンチオールをジクロロメタンに溶解し、合成〔２−４〕で合成したべンズアルデヒド２ｇを加えて室温で撹拌した。これに触媒量のメタンスルホン酸を加えた。液体クロマトグラフィーで反応の進行を確認し、反応を停止した。水を加えて抽出を行ったのち、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製を行い、目的物を得た。収量２．１ｇ、収率２２．５％。明確な融点を示さない無色固体。
ｎｍｒデータ（ＣＤＣｌ3）：δＨ ９．２７（１Ｈ，ｄ）、８．２３（１Ｈ，ｄｄ）、７．０３−７．４１（２９Ｈ，ｍ）、５．３４（２Ｈ，ｓ）、４．５０（２Ｈ，ｓ）、４．３２（１Ｈ，ｓ）、３．７２（２Ｈ，ｄ）、３．４８（２Ｈ，ｄ）
実施例３
化合物（７）の合成
合成〔２−７〕で得た化合物例（６）１０ｇをジメチルホルムアミド５０ｍＬに溶解し、８ｇの包水ヒドラジンを加え、窒素雰囲気下で１００℃に加熱した。ＴＬＣで反応終了を確認し、反応を停止した。水および酢酸エチルを加えて抽出を行ったのち、有機相を濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製を行い、目的物を得た。収量５．５ｇ、収率６０．８％。明確な融点を示さない無色固体。
ｎｍｒデータ（ＣＤＣｌ3）：δＨ ７．０−７．４（２８Ｈ，ｍ）、５．３８（２Ｈ，ｓ）、４．３５（１Ｈ，ｓ）、３．６８−３．８（４Ｈ，ｍ）、３．５０（２Ｈ，ｄ）、１．７６（１Ｈ，ｔ）
化合物（７）の合成
合成〔２−７〕で得た化合物例（６）１０ｇをジメチルホルムアミド５０ｍＬに溶解し、８ｇの包水ヒドラジンを加え、窒素雰囲気下で１００℃に加熱した。ＴＬＣで反応終了を確認し、反応を停止した。水および酢酸エチルを加えて抽出を行ったのち、有機相を濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製を行い、目的物を得た。収量５．５ｇ、収率６０．８％。明確な融点を示さない無色固体。
ｎｍｒデータ（ＣＤＣｌ3）：δＨ ７．０−７．４（２８Ｈ，ｍ）、５．３８（２Ｈ，ｓ）、４．３５（１Ｈ，ｓ）、３．６８−３．８（４Ｈ，ｍ）、３．５０（２Ｈ，ｄ）、１．７６（１Ｈ，ｔ）
実施例４
化合物（８）の合成
実施例３で得た化合物（７）４．５ｇをテトラヒドロフランに溶解し、合成〔２−４〕で合成したベンズアルデヒド０．５６ｇを加えて５℃で撹拌した。これに触媒量のメタンスルホン酸を加えた。液体クロマトグラフィーで反応の進行を確認し、反応を停止した。水を加えて抽出を行ったのち、有機相をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製を行い、目的物を得た。収量０．８ｇ、収率１６．０％。明確な融点を示さない無色固体。
ｎｍｒデータ（ＣＤＣｌ３）：δＨ ９．２４（１Ｈ，ｄ）、８．２０（１Ｈ，ｄｄ）、７．０−７．４（６１Ｈ，ｍ）、５．３５（４Ｈ，ｓ）、４．５８（１Ｈ，ｓ）、４．４７（２Ｈ，ｓ）、４．３５（２Ｈ，ｓ）、３．６８−３．８０（６Ｈ，ｍ）、３．５８（２Ｈ，ｄ）、３．４９（４Ｈ，ｄ）
化合物（８）の合成
実施例３で得た化合物（７）４．５ｇをテトラヒドロフランに溶解し、合成〔２−４〕で合成したベンズアルデヒド０．５６ｇを加えて５℃で撹拌した。これに触媒量のメタンスルホン酸を加えた。液体クロマトグラフィーで反応の進行を確認し、反応を停止した。水を加えて抽出を行ったのち、有機相をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製を行い、目的物を得た。収量０．８ｇ、収率１６．０％。明確な融点を示さない無色固体。
ｎｍｒデータ（ＣＤＣｌ３）：δＨ ９．２４（１Ｈ，ｄ）、８．２０（１Ｈ，ｄｄ）、７．０−７．４（６１Ｈ，ｍ）、５．３５（４Ｈ，ｓ）、４．５８（１Ｈ，ｓ）、４．４７（２Ｈ，ｓ）、４．３５（２Ｈ，ｓ）、３．６８−３．８０（６Ｈ，ｍ）、３．５８（２Ｈ，ｄ）、３．４９（４Ｈ，ｄ）
実施例５
化合物（９）の合成
実施例４で得た化合物（８）１ｇをジメチルホルムアミド５ｍＬに溶解し、１ｇの抱水ヒドラジンを加え、窒素雰囲気下で１００℃に加熱した。ＴＬＣで反応終了を確認し、反応を停止した。水およびクロロホルムを加えて抽出を行ったのち、有機相を濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製を行い、目的物を得た。収量０．４５ｇ、収率４７．２％。明確な融点を示さない無色固体。
ｎｍｒデータ（ＣＤＣｌ３）：δＨ ７．０５−７．３８（６０Ｈ，ｍ）、５．３３（４Ｈ、ｓ）、４．５７（１Ｈ，ｓ）、４．３５（２Ｈ，ｓ）、３．６５−３．８（８Ｈ，ｍ）、３．６０（２Ｈ，ｄ），３．４８（４Ｈ，ｄ）、１．７７（１Ｈ，ｔ）
化合物（９）の合成
実施例４で得た化合物（８）１ｇをジメチルホルムアミド５ｍＬに溶解し、１ｇの抱水ヒドラジンを加え、窒素雰囲気下で１００℃に加熱した。ＴＬＣで反応終了を確認し、反応を停止した。水およびクロロホルムを加えて抽出を行ったのち、有機相を濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製を行い、目的物を得た。収量０．４５ｇ、収率４７．２％。明確な融点を示さない無色固体。
ｎｍｒデータ（ＣＤＣｌ３）：δＨ ７．０５−７．３８（６０Ｈ，ｍ）、５．３３（４Ｈ、ｓ）、４．５７（１Ｈ，ｓ）、４．３５（２Ｈ，ｓ）、３．６５−３．８（８Ｈ，ｍ）、３．６０（２Ｈ，ｄ），３．４８（４Ｈ，ｄ）、１．７７（１Ｈ，ｔ）
実施例６ 化合物（１０）の合成
実施例５で得た化合物（９）１．６ｇをテトラヒドロフランに溶解し、合成例〔２−４〕で合成したベンズアルデヒド０．１ｇを加えて５℃で攪拌した。これに触媒量のインジウムトリフルオロメタンスルホン酸塩を加えた。液体クロマトグラフィーで反応の進行を確認し、反応を停止した。水を加えて抽出を行ったのち、有機相をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製を行い、目的物を得た。収量０．８０ｇ、収率４７．５％。明確な融点を示さない無色固体。
ｎｍｒデータ（ＣＤＣｌ３）：δＨ ９．２２（１Ｈ，ｄ）、８．１５（１Ｈ、ｄｄ）、７．０−７．４（１２５Ｈ，ｍ）、５．３６（８Ｈ，ｓ）、４．６０（２Ｈ，ｓ）、４．５６（１Ｈ，ｓ）、４．４５（２Ｈ，ｓ）、４．３５（４Ｈ，ｓ）、３．６５−３．８０（１４Ｈ，ｍ）、３．５８（４Ｈ、ｄ）、３．５５（２Ｈ，ｄ）、３．４６（８Ｈ，ｄ）
実施例５で得た化合物（９）１．６ｇをテトラヒドロフランに溶解し、合成例〔２−４〕で合成したベンズアルデヒド０．１ｇを加えて５℃で攪拌した。これに触媒量のインジウムトリフルオロメタンスルホン酸塩を加えた。液体クロマトグラフィーで反応の進行を確認し、反応を停止した。水を加えて抽出を行ったのち、有機相をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製を行い、目的物を得た。収量０．８０ｇ、収率４７．５％。明確な融点を示さない無色固体。
ｎｍｒデータ（ＣＤＣｌ３）：δＨ ９．２２（１Ｈ，ｄ）、８．１５（１Ｈ、ｄｄ）、７．０−７．４（１２５Ｈ，ｍ）、５．３６（８Ｈ，ｓ）、４．６０（２Ｈ，ｓ）、４．５６（１Ｈ，ｓ）、４．４５（２Ｈ，ｓ）、４．３５（４Ｈ，ｓ）、３．６５−３．８０（１４Ｈ，ｍ）、３．５８（４Ｈ、ｄ）、３．５５（２Ｈ，ｄ）、３．４６（８Ｈ，ｄ）
実施例７
化合物（１１）の合成
実施例６で得た化合物（１０）０．４ｇをジメチルホルムアミド３ｍＬに溶解し、０．８ｇのメチルヒドラジンを加え、窒素雰囲気下で１００℃に加熱した。ＴＬＣで反応終了を確認し、反応を停止した。水およびクロロホルムを加えて抽出を行ったのち、有機相を濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製を行い、目的物を得た。収量０．２７ｇ、収率６９．１％。明確な融点を示さない無色固体。
ｎｍｒデータ（ＣＤＣｌ３）：δＨ ７．０−７．４（１２４Ｈ，ｍ）、５．３５（８Ｈ，ｓ）、４．６０（２Ｈ，ｓ）、４．５４（１Ｈ，ｓ）、４．３５（４Ｈ，ｓ）、３．６５−３．８０（１６Ｈ，ｍ）、３．５７（４Ｈ，ｄ）、３．５５（２Ｈ，ｄ）、３．４６（８Ｈ，ｄ）、１．７２（１Ｈ，ｔ）
化合物（１１）の合成
実施例６で得た化合物（１０）０．４ｇをジメチルホルムアミド３ｍＬに溶解し、０．８ｇのメチルヒドラジンを加え、窒素雰囲気下で１００℃に加熱した。ＴＬＣで反応終了を確認し、反応を停止した。水およびクロロホルムを加えて抽出を行ったのち、有機相を濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製を行い、目的物を得た。収量０．２７ｇ、収率６９．１％。明確な融点を示さない無色固体。
ｎｍｒデータ（ＣＤＣｌ３）：δＨ ７．０−７．４（１２４Ｈ，ｍ）、５．３５（８Ｈ，ｓ）、４．６０（２Ｈ，ｓ）、４．５４（１Ｈ，ｓ）、４．３５（４Ｈ，ｓ）、３．６５−３．８０（１６Ｈ，ｍ）、３．５７（４Ｈ，ｄ）、３．５５（２Ｈ，ｄ）、３．４６（８Ｈ，ｄ）、１．７２（１Ｈ，ｔ）
参考例
以下、本発明の化合物の機能を示すが、本発明の範囲はこれらに限定されるものではない。
以下、本発明の化合物の機能を示すが、本発明の範囲はこれらに限定されるものではない。
既述の合成方法に準じて下記化合物（ＮＢＤ−１）、（ＮＢＤ−２）、（ＮＢＤ−３）および（ＮＢＤ−４）を合成した。
（ＮＢＤ−１）、（ＮＢＤ−２）、（ＮＢＤ−３）および（ＮＢＤ−４）をそれぞれ５×１０-5Ｍのテトラヒドロフラン溶液とし、蛍光を観察した。一方、（ＮＢＤ−１）、（ＮＢＤ−２）、（ＮＢＤ−３）および（ＮＢＤ−４）をそれぞれ５％のテトラヒドロフラン溶液とし、ガラス板状に展開、乾燥し薄膜を形成させ、それぞれに３６５ｎｍの紫外光を照射して蛍光を観察した。これらの結果を表に示した。
以上の結果より、本発明の化合物は蛍光色素の濃度消光を防止する効果が極めて大きいことが分かる。この効果を利用することによって、波長変換デバイスなど様々な用途に応用可能であることがわかる。
Claims (6)
- 下記一般式（Ｉ）で表される構造を各分枝の繰り返し単位として有するデンドロン。
- 前記一般式（I）において、Ｘで表される２価の基が、−Ｓ−、−ＳＯ−、または−ＳＯ２−であることを特徴とする請求項１に記載のデンドロン。
- 前記一般式（I）において、Ｘで表される２価の基が、−Ｓ−であることを特徴とする請求項１に記載のデンドロン。
- 下記一般式（Ｉ）で表される構造を各分枝の繰り返し単位として有するデンドリマー。
- 前記一般式（I）において、Ｘで表される２価の基が、−Ｓ−、−ＳＯ−、または−ＳＯ２−であることを特徴とする請求項４に記載のデンドリマー。
- 前記一般式（I）において、Ｘで表される２価の基が、−Ｓ−であることを特徴とする請求項４に記載のデンドリマー。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004095408A JP2005281166A (ja) | 2004-03-29 | 2004-03-29 | デンドロンおよびデンドリマー |
| EP05727688A EP1730106A4 (en) | 2004-03-29 | 2005-03-28 | DENDRON AND DENDRIMERE, PROCESS FOR MANUFACTURING THESE ELEMENTS, AND METHOD FOR MANUFACTURING THIOACETAL COMPOUND |
| US10/594,430 US7977491B2 (en) | 2004-03-29 | 2005-03-28 | Dendron and dendrimer, method of producing the same, and method of producing a thioacetal compound |
| CNB2005800047793A CN100567264C (zh) | 2004-03-29 | 2005-03-28 | 树枝状分子和树枝状高分子、其生产方法以及生产硫缩醛化合物的方法 |
| PCT/JP2005/006545 WO2005092847A1 (en) | 2004-03-29 | 2005-03-28 | Dendron and dendrimer, method of producing the same, and method of producing a thioacetal compound |
| KR1020067013516A KR20060130088A (ko) | 2004-03-29 | 2005-03-28 | 덴드론 및 덴드리머, 그의 제조 방법 및 티오아세탈화합물의 제조 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004095408A JP2005281166A (ja) | 2004-03-29 | 2004-03-29 | デンドロンおよびデンドリマー |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2005281166A true JP2005281166A (ja) | 2005-10-13 |
Family
ID=35179944
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2004095408A Pending JP2005281166A (ja) | 2004-03-29 | 2004-03-29 | デンドロンおよびデンドリマー |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2005281166A (ja) |
| CN (1) | CN100567264C (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005281444A (ja) * | 2004-03-29 | 2005-10-13 | Fuji Photo Film Co Ltd | デンドロン又はデンドリマーの製造方法 |
| JP2008201682A (ja) * | 2007-02-16 | 2008-09-04 | Kyushu Univ | デンドロンとメソゲンとを有する化合物、液晶組成物及び光素子 |
| JP2012118330A (ja) * | 2010-12-01 | 2012-06-21 | Lg Display Co Ltd | 液晶表示装置 |
| KR101901245B1 (ko) * | 2010-11-30 | 2018-09-21 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정표시장치 |
| CN113501969A (zh) * | 2021-08-13 | 2021-10-15 | 东华理工大学 | 一种钍基金属有机框架材料及其制备方法和应用 |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2702115C2 (ru) * | 2012-04-13 | 2019-10-04 | Аркема Инк. | Батарея на основе сераорганических соединений |
| CN106187802A (zh) * | 2016-07-04 | 2016-12-07 | 武汉工程大学 | 一种新型化合物四[（对乙酰氨基苯氧基）甲基]甲烷及其合成方法 |
| CN106065065A (zh) * | 2016-07-04 | 2016-11-02 | 武汉工程大学 | 新型化合物四[（对乙酰氨基苯氧基）甲基]甲烷作为固化剂在环氧树脂体系的应用 |
| CN106242981A (zh) * | 2016-07-04 | 2016-12-21 | 武汉工程大学 | 一种新型化合物四[（对氨基苯氧基）甲基]甲烷及其合成方法 |
| WO2018117073A1 (ja) * | 2016-12-19 | 2018-06-28 | 富士フイルム株式会社 | 波長変換用発光性樹脂組成物及びその製造方法、並びに波長変換部材及び発光素子 |
| CN115926165B (zh) * | 2022-12-01 | 2024-07-05 | 安徽农业大学 | 一种主链含硫缩醛的可降解高分子材料及其制备方法 |
Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001163971A (ja) * | 1999-12-13 | 2001-06-19 | Nitto Denko Corp | （アルコキシメチル）エステルデンドリマーおよびその製造法 |
| JP2001187751A (ja) * | 1999-12-28 | 2001-07-10 | Nippon Shokubai Co Ltd | 新規トレン誘導体とその製造方法 |
| JP2002220468A (ja) * | 2000-11-24 | 2002-08-09 | Communication Research Laboratory | 新規チオエーテル誘導体、その製造方法及び用途 |
| WO2004029018A1 (ja) * | 2002-09-26 | 2004-04-08 | Kyowa Hakko Kogyo Co., Ltd. | グリセロール誘導体 |
| JP2004189664A (ja) * | 2002-12-11 | 2004-07-08 | Nippon Soda Co Ltd | 新規含硫黄多分岐化合物 |
| WO2005092847A1 (en) * | 2004-03-29 | 2005-10-06 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Dendron and dendrimer, method of producing the same, and method of producing a thioacetal compound |
| JP2005281172A (ja) * | 2004-03-29 | 2005-10-13 | Fuji Photo Film Co Ltd | チオアセタール化合物の製造方法およびデンドリマー、デンドロンの製造方法 |
| JP2005281444A (ja) * | 2004-03-29 | 2005-10-13 | Fuji Photo Film Co Ltd | デンドロン又はデンドリマーの製造方法 |
-
2004
- 2004-03-29 JP JP2004095408A patent/JP2005281166A/ja active Pending
-
2005
- 2005-03-28 CN CNB2005800047793A patent/CN100567264C/zh not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001163971A (ja) * | 1999-12-13 | 2001-06-19 | Nitto Denko Corp | （アルコキシメチル）エステルデンドリマーおよびその製造法 |
| JP2001187751A (ja) * | 1999-12-28 | 2001-07-10 | Nippon Shokubai Co Ltd | 新規トレン誘導体とその製造方法 |
| JP2002220468A (ja) * | 2000-11-24 | 2002-08-09 | Communication Research Laboratory | 新規チオエーテル誘導体、その製造方法及び用途 |
| WO2004029018A1 (ja) * | 2002-09-26 | 2004-04-08 | Kyowa Hakko Kogyo Co., Ltd. | グリセロール誘導体 |
| JP2004189664A (ja) * | 2002-12-11 | 2004-07-08 | Nippon Soda Co Ltd | 新規含硫黄多分岐化合物 |
| WO2005092847A1 (en) * | 2004-03-29 | 2005-10-06 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Dendron and dendrimer, method of producing the same, and method of producing a thioacetal compound |
| JP2005281172A (ja) * | 2004-03-29 | 2005-10-13 | Fuji Photo Film Co Ltd | チオアセタール化合物の製造方法およびデンドリマー、デンドロンの製造方法 |
| JP2005281444A (ja) * | 2004-03-29 | 2005-10-13 | Fuji Photo Film Co Ltd | デンドロン又はデンドリマーの製造方法 |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005281444A (ja) * | 2004-03-29 | 2005-10-13 | Fuji Photo Film Co Ltd | デンドロン又はデンドリマーの製造方法 |
| JP4568517B2 (ja) * | 2004-03-29 | 2010-10-27 | 富士フイルム株式会社 | デンドロン又はデンドリマーの製造方法 |
| JP2008201682A (ja) * | 2007-02-16 | 2008-09-04 | Kyushu Univ | デンドロンとメソゲンとを有する化合物、液晶組成物及び光素子 |
| KR101901245B1 (ko) * | 2010-11-30 | 2018-09-21 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정표시장치 |
| JP2012118330A (ja) * | 2010-12-01 | 2012-06-21 | Lg Display Co Ltd | 液晶表示装置 |
| KR101878180B1 (ko) * | 2010-12-01 | 2018-07-13 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정표시장치 |
| CN113501969A (zh) * | 2021-08-13 | 2021-10-15 | 东华理工大学 | 一种钍基金属有机框架材料及其制备方法和应用 |
| CN113501969B (zh) * | 2021-08-13 | 2023-02-24 | 东华理工大学 | 一种钍基金属有机框架材料及其制备方法和应用 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN100567264C (zh) | 2009-12-09 |
| CN1918117A (zh) | 2007-02-21 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3935267B2 (ja) | 新規なレジスト用酸発生剤 | |
| CN100567264C (zh) | 树枝状分子和树枝状高分子、其生产方法以及生产硫缩醛化合物的方法 | |
| JP2001253883A (ja) | 新規なメルカプト置換イミダゾリルポルフィリン金属錯体単量体及びこれを繰り返し単位として有する重合体並びにこれらの製造方法 | |
| WO2010055376A1 (zh) | 手性胺-（硫）脲双功能催化剂及其合成方法和应用 | |
| TW202330466A (zh) | 萘二硫醇和其衍生物，及其製造方法和用途 | |
| US7977491B2 (en) | Dendron and dendrimer, method of producing the same, and method of producing a thioacetal compound | |
| Hiba et al. | Multi-arm dendronized polymer as a unimolecular micelle: Synthesis, characterization and application as organocatalyst in the synthesis of N-unsubstituted 1, 2, 3-triazoles | |
| KR100445909B1 (ko) | 유기 단분자 색소 물질과 발색단을 포함하는 비선형 광학고분자 화합물 | |
| JP4200212B2 (ja) | アゾアリールメルカプトアルキルポリエチレングリコール | |
| US8513417B2 (en) | Method for synthesis of nitroxyl radical | |
| JP4376540B2 (ja) | 金属表面修飾剤および新規含硫黄化合物 | |
| JP5230956B2 (ja) | 第４級アンモニウム塩を用いた疎水性巨大分子の可溶化方法 | |
| EP1218366B1 (fr) | Procede de preparation d'inhibiteurs cox-2 | |
| JP4937515B2 (ja) | 硫黄原子含有環状化合物およびその製造方法並びに架橋性組成物 | |
| JP4568517B2 (ja) | デンドロン又はデンドリマーの製造方法 | |
| JP3653535B2 (ja) | 新規チオエーテル誘導体、その製造方法及び用途 | |
| JP4696275B2 (ja) | インドール化合物の製法及び触媒 | |
| JP4595299B2 (ja) | ポルフィリン化合物の製造方法 | |
| JP4204854B2 (ja) | 新規硫黄化合物 | |
| KR100601039B1 (ko) | 신규 형광 덴드리머 및 그의 제조방법 | |
| KR0163291B1 (ko) | 과산화수소수와 h2wo4를 이용한 2-술포닐티아졸 카르복실산 유도체의 제조방법 | |
| JP4317938B2 (ja) | ２，６−ジアシル化化合物をスペーサとして有する亜鉛ポルフイリンダイマ−及びその製造方法 | |
| JP3858027B2 (ja) | 水溶性デンドリマー分子ワイヤー及びその合成方法 | |
| JP5057632B2 (ja) | ポルフィリン化合物の製造方法 | |
| JP5448565B2 (ja) | アミノ化フラーレン及びアミノ化フラーレンの製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060519 |
|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20061206 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090630 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090828 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20100608 |