JP2005029866A5 - - Google Patents
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供給するTiCl4蒸気と水蒸気の比率は、H2O/TiCl4のモル比が0.05〜4となるようにすることが好ましい。このモル比が4より大きくなると、TiCl4が少なすぎて、成膜速度が低下する。このモル比が0.05未満では、気相中での粉体生成にTiCl4が消費される割合が増加し、TiCl4の利用率が低下する上に、基材への粉体付着量が増加し、製品の外観を損ねる結果となる。上記モル比は、より効率的な成膜を可能にするため 0.1〜3の範囲とすることがより好ましい。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003272936A JP4124046B2 (ja) | 2003-07-10 | 2003-07-10 | 金属酸化物被膜の成膜方法および蒸着装置 |
US10/564,015 US20070054044A1 (en) | 2003-07-10 | 2004-07-06 | Method for forming metal oxide coating film and vapor deposition apparatus |
EP04747371A EP1650325A4 (en) | 2003-07-10 | 2004-07-06 | METHOD FOR FORMING METAL OXIDE COATING FILM AND STEAM SEPARATION DEVICE |
PCT/JP2004/009903 WO2005005686A1 (ja) | 2003-07-10 | 2004-07-06 | 金属酸化物被膜の成膜方法および蒸着装置 |
CNA2004800194228A CN1820091A (zh) | 2003-07-10 | 2004-07-06 | 金属氧化物被膜的成膜方法及蒸镀装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003272936A JP4124046B2 (ja) | 2003-07-10 | 2003-07-10 | 金属酸化物被膜の成膜方法および蒸着装置 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005029866A JP2005029866A (ja) | 2005-02-03 |
JP2005029866A5 true JP2005029866A5 (ja) | 2006-05-18 |
JP4124046B2 JP4124046B2 (ja) | 2008-07-23 |
Family
ID=34055996
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003272936A Expired - Fee Related JP4124046B2 (ja) | 2003-07-10 | 2003-07-10 | 金属酸化物被膜の成膜方法および蒸着装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20070054044A1 (ja) |
EP (1) | EP1650325A4 (ja) |
JP (1) | JP4124046B2 (ja) |
CN (1) | CN1820091A (ja) |
WO (1) | WO2005005686A1 (ja) |
Families Citing this family (43)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20100226850A1 (en) * | 2006-01-20 | 2010-09-09 | Osaka Titanium Technologies C., Ltd | Method for producing titanium oxide |
CN101109072B (zh) * | 2007-06-25 | 2010-12-08 | 北京航空航天大学 | 磁控溅射真空室h2o内外压差逐级导入装置 |
US8039052B2 (en) * | 2007-09-06 | 2011-10-18 | Intermolecular, Inc. | Multi-region processing system and heads |
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JP5620146B2 (ja) | 2009-05-22 | 2014-11-05 | 三星ディスプレイ株式會社Samsung Display Co.,Ltd. | 薄膜蒸着装置 |
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US8882920B2 (en) | 2009-06-05 | 2014-11-11 | Samsung Display Co., Ltd. | Thin film deposition apparatus |
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KR101074792B1 (ko) * | 2009-06-12 | 2011-10-19 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 박막 증착 장치 |
KR101117719B1 (ko) * | 2009-06-24 | 2012-03-08 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 박막 증착 장치 |
KR101127575B1 (ko) * | 2009-08-10 | 2012-03-23 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 증착 가림막을 가지는 박막 증착 장치 |
JP5328726B2 (ja) | 2009-08-25 | 2013-10-30 | 三星ディスプレイ株式會社 | 薄膜蒸着装置及びこれを利用した有機発光ディスプレイ装置の製造方法 |
JP5677785B2 (ja) | 2009-08-27 | 2015-02-25 | 三星ディスプレイ株式會社Samsung Display Co.,Ltd. | 薄膜蒸着装置及びこれを利用した有機発光表示装置の製造方法 |
US8696815B2 (en) | 2009-09-01 | 2014-04-15 | Samsung Display Co., Ltd. | Thin film deposition apparatus |
US8876975B2 (en) | 2009-10-19 | 2014-11-04 | Samsung Display Co., Ltd. | Thin film deposition apparatus |
KR101084184B1 (ko) | 2010-01-11 | 2011-11-17 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 박막 증착 장치 |
KR101174875B1 (ko) | 2010-01-14 | 2012-08-17 | 삼성디스플레이 주식회사 | 박막 증착 장치, 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조방법 및 이에 따라 제조된 유기 발광 디스플레이 장치 |
KR101193186B1 (ko) | 2010-02-01 | 2012-10-19 | 삼성디스플레이 주식회사 | 박막 증착 장치, 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조방법 및 이에 따라 제조된 유기 발광 디스플레이 장치 |
KR101156441B1 (ko) | 2010-03-11 | 2012-06-18 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 박막 증착 장치 |
KR101202348B1 (ko) | 2010-04-06 | 2012-11-16 | 삼성디스플레이 주식회사 | 박막 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 표시 장치의 제조 방법 |
US8894458B2 (en) | 2010-04-28 | 2014-11-25 | Samsung Display Co., Ltd. | Thin film deposition apparatus, method of manufacturing organic light-emitting display device by using the apparatus, and organic light-emitting display device manufactured by using the method |
KR101223723B1 (ko) | 2010-07-07 | 2013-01-18 | 삼성디스플레이 주식회사 | 박막 증착 장치, 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조방법 및 이에 따라 제조된 유기 발광 디스플레이 장치 |
KR101673017B1 (ko) * | 2010-07-30 | 2016-11-07 | 삼성디스플레이 주식회사 | 박막 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 표시장치의 제조 방법 |
KR101738531B1 (ko) | 2010-10-22 | 2017-05-23 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법 및 이에 따라 제조된 유기 발광 디스플레이 장치 |
KR101723506B1 (ko) | 2010-10-22 | 2017-04-19 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기층 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법 |
KR20120045865A (ko) | 2010-11-01 | 2012-05-09 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 유기층 증착 장치 |
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KR20120065789A (ko) | 2010-12-13 | 2012-06-21 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 유기층 증착 장치 |
KR101760897B1 (ko) | 2011-01-12 | 2017-07-25 | 삼성디스플레이 주식회사 | 증착원 및 이를 구비하는 유기막 증착 장치 |
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KR101852517B1 (ko) | 2011-05-25 | 2018-04-27 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기층 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법 |
KR101857249B1 (ko) | 2011-05-27 | 2018-05-14 | 삼성디스플레이 주식회사 | 패터닝 슬릿 시트 어셈블리, 유기막 증착 장치, 유기 발광 표시장치제조 방법 및 유기 발광 표시 장치 |
KR101826068B1 (ko) | 2011-07-04 | 2018-02-07 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기층 증착 장치 |
KR20140118551A (ko) | 2013-03-29 | 2014-10-08 | 삼성디스플레이 주식회사 | 증착 장치, 유기 발광 표시 장치 제조 방법 및 유기 발광 표시 장치 |
KR102037376B1 (ko) | 2013-04-18 | 2019-10-29 | 삼성디스플레이 주식회사 | 패터닝 슬릿 시트, 이를 구비하는 증착장치, 이를 이용한 유기발광 디스플레이 장치 제조방법 및 유기발광 디스플레이 장치 |
JP6135455B2 (ja) * | 2013-10-25 | 2017-05-31 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 |
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KR101899545B1 (ko) | 2017-08-11 | 2018-09-17 | 고등기술연구원연구조합 | 구조체 촉매 제조 장치 |
KR102131933B1 (ko) * | 2018-08-17 | 2020-07-09 | 주식회사 넥서스비 | 원자층 증착 장치 및 이를 이용한 원자층 증착 방법 |
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-
2003
- 2003-07-10 JP JP2003272936A patent/JP4124046B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2004
- 2004-07-06 WO PCT/JP2004/009903 patent/WO2005005686A1/ja active Application Filing
- 2004-07-06 CN CNA2004800194228A patent/CN1820091A/zh active Pending
- 2004-07-06 US US10/564,015 patent/US20070054044A1/en not_active Abandoned
- 2004-07-06 EP EP04747371A patent/EP1650325A4/en not_active Withdrawn
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