JP2000266902A - 光触媒タイルの製造方法及び装置 - Google Patents
光触媒タイルの製造方法及び装置Info
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
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- C04B41/009—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone characterised by the material treated
-
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C04B2111/00—Mortars, concrete or artificial stone or mixtures to prepare them, characterised by specific function, property or use
- C04B2111/00439—Physico-chemical properties of the materials not provided for elsewhere in C04B2111/00
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 タイル表面に膜厚の大きな高活性光触媒性被
膜を高成膜速度にて形成する。 【解決手段】 タイル２を加熱ゾーン３で加熱した後、
ＴｉＣｌ4蒸気発生炉５で発生させたＴｉＣｌ4蒸気が導
入される蒸着室４にて、ＴｉＣｌ4蒸気の加水分解で生
じたＴｉＯ2をタイル表面に蒸着させることにより、タ
イル表面にＴｉＯ2被膜を形成する。この蒸着室４へエ
アポンプ１１によって空気を供給する。必要に応じ、水
蒸気発生器１５を作動させて水蒸気を空気に添加する。
膜を高成膜速度にて形成する。 【解決手段】 タイル２を加熱ゾーン３で加熱した後、
ＴｉＣｌ4蒸気発生炉５で発生させたＴｉＣｌ4蒸気が導
入される蒸着室４にて、ＴｉＣｌ4蒸気の加水分解で生
じたＴｉＯ2をタイル表面に蒸着させることにより、タ
イル表面にＴｉＯ2被膜を形成する。この蒸着室４へエ
アポンプ１１によって空気を供給する。必要に応じ、水
蒸気発生器１５を作動させて水蒸気を空気に添加する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は光触媒タイル及びそ
の製造方法に係り、特に、タイル表面に光触媒機能を有
する被膜（以下「光触媒性被膜」と称す場合がある。）
を化学的蒸着法（ＣＶＤ）により製造する方法及び装置
に関する。
の製造方法に係り、特に、タイル表面に光触媒機能を有
する被膜（以下「光触媒性被膜」と称す場合がある。）
を化学的蒸着法（ＣＶＤ）により製造する方法及び装置
に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、鏡やレンズ、板ガラス等の透明基
材の表面を高度に親水化することにより、基材の曇りや
水滴形成を防止することを目的として、或いは、建材や
機械装置或いは各種物品の表面を高度に親水化すること
により、表面の汚れを防止し、表面の自己浄化（セルフ
クリーニング）機能を付与すると共に、汚れを落とし易
くして清掃を容易にするために、基材表面に光触媒性チ
タニア（ＴｉＯ2）等の光触媒性被膜を形成することが
行われている（特開平９−２４１０３８号公報、国際公
開ＷＯ９６／２９３７５、特開昭６１−８３１０６号公
報）。光触媒性チタニア等の光触媒機能を有する物質
は、光励起による親水化効果で基材表面を高度に親水化
し、水滴の形成を防止して、光の散乱による曇りを防止
する。また、親油性成分を多く含む汚れが付着し難くな
ると共に、表面の自己浄化及び作用が得られ、付着した
汚れも落ち易くなる。また、光触媒効果でＮＯｘやＳＯ
ｘ或いは有機物の分解が促進されることによっても上記
効果が高められる。
材の表面を高度に親水化することにより、基材の曇りや
水滴形成を防止することを目的として、或いは、建材や
機械装置或いは各種物品の表面を高度に親水化すること
により、表面の汚れを防止し、表面の自己浄化（セルフ
クリーニング）機能を付与すると共に、汚れを落とし易
くして清掃を容易にするために、基材表面に光触媒性チ
タニア（ＴｉＯ2）等の光触媒性被膜を形成することが
行われている（特開平９−２４１０３８号公報、国際公
開ＷＯ９６／２９３７５、特開昭６１−８３１０６号公
報）。光触媒性チタニア等の光触媒機能を有する物質
は、光励起による親水化効果で基材表面を高度に親水化
し、水滴の形成を防止して、光の散乱による曇りを防止
する。また、親油性成分を多く含む汚れが付着し難くな
ると共に、表面の自己浄化及び作用が得られ、付着した
汚れも落ち易くなる。また、光触媒効果でＮＯｘやＳＯ
ｘ或いは有機物の分解が促進されることによっても上記
効果が高められる。
【０００３】従来においてはＴｉＯ2等の光触媒性被膜
は、１００〜８００ｎｍ（特開平９−２４１０３８号公
報）或いは、約０．２μｍ以下（国際公開ＷＯ９６／２
９３７５）といった薄膜に形成されている。このような
光触媒機能を有する膜の形成方法として、特開平９−２
４１０３８号公報及び国際公開ＷＯ９６／２９３７５に
は、ＴｉＯ2粒子を含む懸濁液の塗布、焼成によるゾル
ゲル法が記載されている。
は、１００〜８００ｎｍ（特開平９−２４１０３８号公
報）或いは、約０．２μｍ以下（国際公開ＷＯ９６／２
９３７５）といった薄膜に形成されている。このような
光触媒機能を有する膜の形成方法として、特開平９−２
４１０３８号公報及び国際公開ＷＯ９６／２９３７５に
は、ＴｉＯ2粒子を含む懸濁液の塗布、焼成によるゾル
ゲル法が記載されている。
【０００４】また、特開昭６１−８３１０６号公報に
は、被膜形成法としてＣＶＤが記載されている。タイル
表面にＣＶＤによりＴｉＯ2被膜を形成する場合、一般
的には、図２に示す如く、タイル搬送ベルト１上にタイ
ル２を載せ、加熱ゾーン３に搬送して加熱した後、Ｔｉ
Ｃｌ4（四塩化チタン）蒸気発生炉５で発生させたＴｉ
Ｃｌ4蒸気が導入される蒸着室４に搬送し、蒸着室４内
で下記式の加水分解反応で生じたＴｉＯ2をタイル表面
に蒸着させ、その後、冷却ゾーン６で冷却することによ
り成膜が行われる。
は、被膜形成法としてＣＶＤが記載されている。タイル
表面にＣＶＤによりＴｉＯ2被膜を形成する場合、一般
的には、図２に示す如く、タイル搬送ベルト１上にタイ
ル２を載せ、加熱ゾーン３に搬送して加熱した後、Ｔｉ
Ｃｌ4（四塩化チタン）蒸気発生炉５で発生させたＴｉ
Ｃｌ4蒸気が導入される蒸着室４に搬送し、蒸着室４内
で下記式の加水分解反応で生じたＴｉＯ2をタイル表面
に蒸着させ、その後、冷却ゾーン６で冷却することによ
り成膜が行われる。
【０００５】ＴｉＣｌ4＋２Ｈ2Ｏ→ＴｉＯ2＋４ＨＣｌ このようなＣＶＤによるＴｉＯ2被膜の形成に当り、従
来では加熱ゾーンの温度は３００〜５００℃、ＴｉＣｌ
4蒸気発生炉の温度は３５℃程度とされ、０．０８μｍ
程度の厚さのＴｉＯ2被膜が形成されている。
来では加熱ゾーンの温度は３００〜５００℃、ＴｉＣｌ
4蒸気発生炉の温度は３５℃程度とされ、０．０８μｍ
程度の厚さのＴｉＯ2被膜が形成されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】従来のゾルゲル法によ
る成膜では均一な膜を形成することが困難である。ＣＶ
Ｄ法によれば均一な膜を形成することができるが、従来
のＣＶＤ条件では被膜を目的厚さに形成できないことが
あった。
る成膜では均一な膜を形成することが困難である。ＣＶ
Ｄ法によれば均一な膜を形成することができるが、従来
のＣＶＤ条件では被膜を目的厚さに形成できないことが
あった。
【０００７】即ち、上記の反応式の左辺のＨ2Ｏは空気
（大気）中の水分であるが、冬期など空気が乾燥してい
るときにはＨ2Ｏの供給が不十分となり、ＴｉＯ2の生成
速度が小さくなりがちである。また、要求厚さのＴｉＯ
2被膜を得るために、高濃度のＴｉＣｌ4ガスを導入した
り、蒸着室滞留時間を長くしたりすると、生成したＴｉ
Ｏ2被膜の光触媒活性は低下してしまいがちであった。
（大気）中の水分であるが、冬期など空気が乾燥してい
るときにはＨ2Ｏの供給が不十分となり、ＴｉＯ2の生成
速度が小さくなりがちである。また、要求厚さのＴｉＯ
2被膜を得るために、高濃度のＴｉＣｌ4ガスを導入した
り、蒸着室滞留時間を長くしたりすると、生成したＴｉ
Ｏ2被膜の光触媒活性は低下してしまいがちであった。
【０００８】本発明は上記従来の問題を解決し、タイル
表面に所定厚さの高活性な光触媒性被膜を形成すること
ができる光触媒タイルのＣＶＤ法による製造方法とその
ための装置を提供することを目的とする。
表面に所定厚さの高活性な光触媒性被膜を形成すること
ができる光触媒タイルのＣＶＤ法による製造方法とその
ための装置を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明の光触媒タイルの
製造方法は、ＴｉＣｌ4蒸気が導入される蒸着室にて、
該ＴｉＣｌ4蒸気の加水分解で生じたＴｉＯ2をタイル表
面に蒸着させることにより、タイル表面にＴｉＯ2を含
む被膜を形成する光触媒タイルの製造方法において、該
蒸着室内に空気を供給するものである。
製造方法は、ＴｉＣｌ4蒸気が導入される蒸着室にて、
該ＴｉＣｌ4蒸気の加水分解で生じたＴｉＯ2をタイル表
面に蒸着させることにより、タイル表面にＴｉＯ2を含
む被膜を形成する光触媒タイルの製造方法において、該
蒸着室内に空気を供給するものである。
【００１０】また、本発明の光触媒タイルの製造装置
は、ＴｉＣｌ4蒸気の発生手段と、該手段からＴｉＣｌ4
が導入される蒸着室とを有する光触媒タイルの製造装置
において、該蒸着室内に空気を供給する手段を設けたも
のである。
は、ＴｉＣｌ4蒸気の発生手段と、該手段からＴｉＣｌ4
が導入される蒸着室とを有する光触媒タイルの製造装置
において、該蒸着室内に空気を供給する手段を設けたも
のである。
【００１１】かかる光触媒タイルの製造方法及び装置に
よると、蒸着室内に空気を供給することにより該空気中
の水分を蒸着室内においてＴｉＣｌ4の加水分解反応に
関与させることができ、ＴｉＯ2の生成速度を大きく
し、ＴｉＯ2をより高活性にすることができる。この場
合、必要に応じ、この空気に水蒸気を添加することによ
り、ＴｉＯ2の生成速度をさらに大きく、さらに高活性
にすることができる。
よると、蒸着室内に空気を供給することにより該空気中
の水分を蒸着室内においてＴｉＣｌ4の加水分解反応に
関与させることができ、ＴｉＯ2の生成速度を大きく
し、ＴｉＯ2をより高活性にすることができる。この場
合、必要に応じ、この空気に水蒸気を添加することによ
り、ＴｉＯ2の生成速度をさらに大きく、さらに高活性
にすることができる。
【００１２】なお、蒸着により形成されたＴｉＯ2被膜
を５００〜９００℃で焼成（結晶化アニール）すること
により、被膜中のＴｉＯ2結晶相を更に増加させること
により、光触媒性能をより一層高めることができる。
を５００〜９００℃で焼成（結晶化アニール）すること
により、被膜中のＴｉＯ2結晶相を更に増加させること
により、光触媒性能をより一層高めることができる。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施の形態を詳細
に説明する。
に説明する。
【００１４】本発明において、タイル表面に形成する光
触媒性被膜の光触媒機能を有するＴｉＯ2は、ＺｒＯ2、
ＺｎＯ、ＳｎＯ2、ＷＯ3、Ｂｉ2Ｏ3、ＳｒＴｉＯ3、Ｆ
ｅ2Ｏ3、Ｖ2Ｏ5等の金属酸化物を含有していても良い。
触媒性被膜の光触媒機能を有するＴｉＯ2は、ＺｒＯ2、
ＺｎＯ、ＳｎＯ2、ＷＯ3、Ｂｉ2Ｏ3、ＳｒＴｉＯ3、Ｆ
ｅ2Ｏ3、Ｖ2Ｏ5等の金属酸化物を含有していても良い。
【００１５】本発明においては、このような光触媒性被
膜を０．８μｍより厚い被膜に形成するのが好ましい。
光触媒性被膜の厚みが０．８μｍ以下では干渉による虹
彩の問題があり、また、十分な光触媒効果を得ることが
できない。この光触媒性被膜が過度に厚いと被膜形成コ
ストが高騰するため、光触媒性被膜の厚みは０．８μｍ
より大きく２μｍ以下、特に０．８〜１．２μｍとする
のが好ましい。
膜を０．８μｍより厚い被膜に形成するのが好ましい。
光触媒性被膜の厚みが０．８μｍ以下では干渉による虹
彩の問題があり、また、十分な光触媒効果を得ることが
できない。この光触媒性被膜が過度に厚いと被膜形成コ
ストが高騰するため、光触媒性被膜の厚みは０．８μｍ
より大きく２μｍ以下、特に０．８〜１．２μｍとする
のが好ましい。
【００１６】本発明では、下記のような好適なＣＶＤ条
件を採用することが好ましい。
件を採用することが好ましい。
【００１７】 加熱ゾーン３の温度 従来法では加熱ゾーン３の温度は３００〜５００℃とさ
れていたが、本発明では、０．８μｍより厚い厚膜のＴ
ｉＯ2被膜を形成するために、この加熱ゾーン３の温度
を５００〜７００℃とするのが好ましい。このように、
タイル２の予熱温度を高めることにより、厚膜のＴｉＯ
2被膜を形成することが可能となる。
れていたが、本発明では、０．８μｍより厚い厚膜のＴ
ｉＯ2被膜を形成するために、この加熱ゾーン３の温度
を５００〜７００℃とするのが好ましい。このように、
タイル２の予熱温度を高めることにより、厚膜のＴｉＯ
2被膜を形成することが可能となる。
【００１８】 ＴｉＣｌ4蒸気発生炉５の温度 従来法では、ＴｉＣｌ4蒸気発生炉５の温度は３５℃程
度とされているが、本発明では、０．８μｍより厚い厚
膜のＴｉＯ2被膜を形成するために、このＴｉＣｌ4蒸気
発生炉５の温度は４５℃以上、特に５０〜７０℃とする
のが好ましい。このように、ＴｉＣｌ4蒸気発生炉５の
温度を高めることにより、大量のＴｉＣｌ4蒸気を発生
させて膜厚の厚いＴｉＯ2被膜を形成することができ
る。
度とされているが、本発明では、０．８μｍより厚い厚
膜のＴｉＯ2被膜を形成するために、このＴｉＣｌ4蒸気
発生炉５の温度は４５℃以上、特に５０〜７０℃とする
のが好ましい。このように、ＴｉＣｌ4蒸気発生炉５の
温度を高めることにより、大量のＴｉＣｌ4蒸気を発生
させて膜厚の厚いＴｉＯ2被膜を形成することができ
る。
【００１９】 蒸着室４内への空気供給 蒸着室４では、雰囲気中の湿気により加水分解が進行す
るが、この蒸着室の湿度が低く、加水分解のための水分
が不足する場合には、蒸着室内に空気を供給する。この
ためには、図１のように、エアポンプ１１、流量調節弁
１２、流量計１３、ダクト１４等よりなる空気供給装置
１０を設置すれば良い。また、このダクト１４に水蒸気
発生器１５からの水蒸気を導くダクト１６を接続し、蒸
着室４への供給空気に水蒸気を添加するようにしても良
い。
るが、この蒸着室の湿度が低く、加水分解のための水分
が不足する場合には、蒸着室内に空気を供給する。この
ためには、図１のように、エアポンプ１１、流量調節弁
１２、流量計１３、ダクト１４等よりなる空気供給装置
１０を設置すれば良い。また、このダクト１４に水蒸気
発生器１５からの水蒸気を導くダクト１６を接続し、蒸
着室４への供給空気に水蒸気を添加するようにしても良
い。
【００２０】大気中の湿度を計測し、エアポンプ１１や
水蒸気発生器１５を制御しても良い。
水蒸気発生器１５を制御しても良い。
【００２１】形成されるＴｉＯ2蒸着膜の膜厚は、蒸着
室４の滞留時間を調節したり、ＴｉＣｌ4蒸気発生炉５
の温度を調節してＴｉＣｌ4蒸着量を増減することによ
っても調節することができる。
室４の滞留時間を調節したり、ＴｉＣｌ4蒸気発生炉５
の温度を調節してＴｉＣｌ4蒸着量を増減することによ
っても調節することができる。
【００２２】なお、その他のＣＶＤ条件は次のような条
件を採用するのが好ましい。
件を採用するのが好ましい。
【００２３】 加熱ゾーンの滞留時間 ：１５〜３０分 蒸着室の雰囲気圧力 ：大気圧 蒸着室の温度 ：１５０〜２５０℃ 冷却ゾーンの冷却速度 ：３０〜４０℃／分 このようなＣＶＤ法によりＴｉＯ2蒸着膜を形成した後
は、形成されたＴｉＯ2蒸着膜を５００〜９００℃で焼
成して結晶化アニール処理するのが好ましい。このよう
な結晶化アニール処理を行うことにより、ＴｉＯ2結晶
相を更に増加させてＴｉＯ2光触媒性被膜の光触媒性能
を高めることができる。
は、形成されたＴｉＯ2蒸着膜を５００〜９００℃で焼
成して結晶化アニール処理するのが好ましい。このよう
な結晶化アニール処理を行うことにより、ＴｉＯ2結晶
相を更に増加させてＴｉＯ2光触媒性被膜の光触媒性能
を高めることができる。
【００２４】なお、ＣＶＤ法によるＴｉＯ2蒸着膜の形
成に当り、ＴｉＣｌ4と共に、ＳｉＣｌ4（四塩化珪素）
やＳｎＣｌ４（四塩化錫）等の他の蒸着原料を併用する
ことにより、ＴｉＯ2−ＳｉＯ2又はＴｉＯ2−ＳｎＯ2等
の複合光触媒性被膜を形成することができる。
成に当り、ＴｉＣｌ4と共に、ＳｉＣｌ4（四塩化珪素）
やＳｎＣｌ４（四塩化錫）等の他の蒸着原料を併用する
ことにより、ＴｉＯ2−ＳｉＯ2又はＴｉＯ2−ＳｎＯ2等
の複合光触媒性被膜を形成することができる。
【００２５】
【実施例】以下に実施例及び比較例を挙げて本発明をよ
り具体的に説明する。
り具体的に説明する。
【００２６】実施例１〜３ 図１に示すＣＶＤ法により、下記ＣＶＤ条件でタイル表
面にＴｉＯ2蒸着膜を形成し、形成されたＴｉＯ2蒸着膜
を６００℃で１時間焼成して結晶化アニール処理するこ
とにより、表１に示す厚さのＴｉＯ2光触媒性被膜を形
成した。なお、蒸着室滞留時間は、実施例１では４０
秒、実施例２では６０秒、実施例３では８０秒とした。
面にＴｉＯ2蒸着膜を形成し、形成されたＴｉＯ2蒸着膜
を６００℃で１時間焼成して結晶化アニール処理するこ
とにより、表１に示す厚さのＴｉＯ2光触媒性被膜を形
成した。なお、蒸着室滞留時間は、実施例１では４０
秒、実施例２では６０秒、実施例３では８０秒とした。
【００２７】 加熱ゾーン３の滞留時間 ：２０分 蒸着室４の容積 ：２ｍ3 蒸着室４の雰囲気 ：大気 蒸着室４の雰囲気圧力 ：大気圧 蒸着室４の温度 ：２００℃ ＴｉＣｌ4蒸気発生炉５の温度：６０℃ ＴｉＣｌ4の供給速度 ：１ｋｇ／Ｈｒ 大気温度 ：２０℃ 大気湿度 ：５０ＲＨ％ 空気供給量 ：２０Ｎｍ3／Ｈｒ 冷却ゾーン６の冷却速度 ：３０℃／秒 実施例４〜６ 蒸着室４へ供給される空気に対し０．４ｋｇ／Ｈｒの割
合で水蒸気を添加したこと以外は実施例１〜３と同様に
してＴｉＯ2被膜を形成した。被膜の膜厚を表１に示
す。
合で水蒸気を添加したこと以外は実施例１〜３と同様に
してＴｉＯ2被膜を形成した。被膜の膜厚を表１に示
す。
【００２８】比較例１〜３ 蒸着室４への空気供給を行わなかったこと以外は実施例
１〜３と同様にしてＴｉＯ2被膜を形成した。被膜の膜
厚を表１に示す。
１〜３と同様にしてＴｉＯ2被膜を形成した。被膜の膜
厚を表１に示す。
【００２９】また、これらの光触媒タイルについて、メ
チレンブルーを付着させ、このメチレンブルーの分解量
を次の方法により測定することにより光触媒効果を調
べ、結果を表１に示した。
チレンブルーを付着させ、このメチレンブルーの分解量
を次の方法により測定することにより光触媒効果を調
べ、結果を表１に示した。
【００３０】＜メチレンブルー分解試験方法＞タイルに
２×２ｃｍの開口部を持つマスクを置き、０．０１％濃
度のメチレンブルー・エタノール溶液を５マイクロリッ
トル滴下し、乾燥させる。乾燥後、タイルを照明室に入
れ、光を照射する。光源はＢＬＢランプを用い、光の照
射量は、試験片表面で２．０ｍＷ／ｃｍ2のＵＶ強度と
する。タイル表面のメチレンブルー残存量を、分光光度
計を用い青色光の反射率として経時的に計測し、初期量
の１／２となるまでの時間をメチレンブルー半減期とし
て求める。
２×２ｃｍの開口部を持つマスクを置き、０．０１％濃
度のメチレンブルー・エタノール溶液を５マイクロリッ
トル滴下し、乾燥させる。乾燥後、タイルを照明室に入
れ、光を照射する。光源はＢＬＢランプを用い、光の照
射量は、試験片表面で２．０ｍＷ／ｃｍ2のＵＶ強度と
する。タイル表面のメチレンブルー残存量を、分光光度
計を用い青色光の反射率として経時的に計測し、初期量
の１／２となるまでの時間をメチレンブルー半減期とし
て求める。
【００３１】
【表１】
【００３２】表１の通り、本発明例によると膜厚の大き
な光触媒活性の高いＴｉＯ2被膜を高成膜速度にて形成
することができる。
な光触媒活性の高いＴｉＯ2被膜を高成膜速度にて形成
することができる。
【００３３】
【発明の効果】以上詳述した通り、本発明の光触媒タイ
ルの製造方法及び装置によれば、光触媒性能に優れ、汚
れ防止ないし自己浄化作用等に優れた十分な膜厚の光触
媒被膜を有したタイルを効率良く製造することができ
る。
ルの製造方法及び装置によれば、光触媒性能に優れ、汚
れ防止ないし自己浄化作用等に優れた十分な膜厚の光触
媒被膜を有したタイルを効率良く製造することができ
る。
【００３４】このような本発明の光触媒タイルは、各種
内外装用建材として有効に利用することができ、その表
面を長期に亘り、清浄かつ美麗に保つことができる。
内外装用建材として有効に利用することができ、その表
面を長期に亘り、清浄かつ美麗に保つことができる。
【図１】本発明に係るＣＶＤによるＴｉＯ2蒸着膜の形
成方法を説明する系統図である。
成方法を説明する系統図である。
【図２】従来例に係るＣＶＤによるＴｉＯ2蒸着膜の形
成方法を説明する系統図である。
成方法を説明する系統図である。
１ タイル搬送ベルト ２ タイル ３ 加熱ゾーン ４ 蒸着室 ５ ＴｉＣｌ4蒸気発生炉 ６ 冷却ゾーン １０ 空気供給装置 １１ エアポンプ １２ 流量調節弁 １３ 流量計 １４，１６ ダクト １５ 水蒸気発生器
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 新開 誠司 愛知県常滑市鯉江本町５丁目１番地 株式 会社イナックス内 (72)発明者 西山 英之 愛知県常滑市鯉江本町５丁目１番地 株式 会社イナックス内 (72)発明者 森 稔勝 愛知県常滑市鯉江本町５丁目１番地 株式 会社イナックス内 (72)発明者 大貫 徹 愛知県常滑市鯉江本町５丁目１番地 株式 会社イナックス内 Ｆターム(参考） 2K009 BB02 CC03 DD03 DD09 EE02
Claims (5)
- 【請求項１】 ＴｉＣｌ4蒸気が導入される蒸着室に
て、該ＴｉＣｌ4蒸気の加水分解で生じたＴｉＯ2をタイ
ル表面に蒸着させることにより、タイル表面にＴｉＯ2
を含む被膜を形成する光触媒タイルの製造方法におい
て、 該蒸着室内に空気を供給することを特徴とする光触媒タ
イルの製造方法。 - 【請求項２】 請求項１において、該蒸着室内に供給さ
れる空気に水蒸気を添加することを特徴とする光触媒タ
イルの製造方法。 - 【請求項３】 請求項１又は２において、蒸着により形
成されたＴｉＯ2被膜を更に５００〜９００℃で焼成す
ることを特徴とする光触媒タイルの製造方法。 - 【請求項４】 ＴｉＣｌ4蒸気の発生手段と、該手段か
らＴｉＣｌ4が導入される蒸着室とを有する光触媒タイ
ルの製造装置において、 該蒸着室内に空気を供給する手段を設けたことを特徴と
する光触媒タイルの製造装置。 - 【請求項５】 請求項４において、前記空気供給手段か
ら蒸着室に供給される空気に水蒸気を添加する手段を設
けたことを特徴とする光触媒タイルの製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11074055A JP2000266902A (ja) | 1999-03-18 | 1999-03-18 | 光触媒タイルの製造方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11074055A JP2000266902A (ja) | 1999-03-18 | 1999-03-18 | 光触媒タイルの製造方法及び装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000266902A true JP2000266902A (ja) | 2000-09-29 |
Family
ID=13536135
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11074055A Pending JP2000266902A (ja) | 1999-03-18 | 1999-03-18 | 光触媒タイルの製造方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000266902A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005005686A1 (ja) * | 2003-07-10 | 2005-01-20 | Sumitomo Titanium Corporation | 金属酸化物被膜の成膜方法および蒸着装置 |
-
1999
- 1999-03-18 JP JP11074055A patent/JP2000266902A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005005686A1 (ja) * | 2003-07-10 | 2005-01-20 | Sumitomo Titanium Corporation | 金属酸化物被膜の成膜方法および蒸着装置 |
| JP2005029866A (ja) * | 2003-07-10 | 2005-02-03 | Sumitomo Titanium Corp | 金属酸化物被膜の成膜方法および蒸着装置 |
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| A977 | Report on retrieval |
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