JP2005026476A - 配線基板および配線基板の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明は、基板内に貫通配線6が形成されている配線基板本体2の両面に夫々形成された導体パターン11、13を有し,前記配線基板本体2の両面の導体パターン11、13と貫通配線6とが電気的に接続されていることを特徴とする配線基板である。
【選択図】 図16
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、配線基板本体の両面に導体パターンを形成された配線基板、及び、該配線基板の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
高密度の配線を構築する従来技術として、例えば、特許文献1のように、セラミック基板の表裏両面に導体パターンを形成し、前記導体パターンを多層に積層することで、多層回路基板を構成するものが知られている。
【0003】
【特許文献1】
特開平5−175657号公報
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、上記従来の技術においては、基板の表裏両面に形成された導体パターンは導通することは考慮されていなかった。セラミック基板を介して両側の導体パターンを導通させるためには、例えば、ワイヤボンディング等によって接続用の外部配線を設けることも考えられるが、これでは接続に手間を要するとともに、基板のコンパクト化も実現できなくなる。
【0005】
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、極めて簡単な構成で、複雑な配線の接続や、配線の高密度化を実現できる配線基板、及び、配線基板の製造方法に関するものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】
上記目的のため、本発明は、基板内に貫通配線が形成されている配線基板本体の両面に夫々形成された導体パターンを有し,前記配線基板本体の両面の導体パターンと貫通配線とが電気的に接続されていることを特徴とする配線基板である。
【0007】
また、本発明は、基板内に貫通配線が形成されている配線基板本体の一方の面側に第1の保護体を設けた状態で、前記配線基板本体の他方の面に第1の導体パターンを形成した後、前記第1の保護体を前記一方の面側から取り去り、前記他方の面側に第2の保護体を設けた状態で、前記配線基板本体の一方の面に第2の導体パターンを形成する、ことを特徴とする配線基板の製造方法である。
【0008】
この発明によれば、配線基板本体の両面への導体パターンの形成を行うだけで、貫通配線を介して、極めて簡単な方法により、配線基板本体の両面の導体パターンが電気導通可能に接続されている配線基板が得られる。しかも、この発明では、配線基板本体の両面の導体パターンの接続を、基板内の貫通配線によって行うので、別途、接続用の外部配線を形成するといった手間も必要無い。
【0009】
更に、本発明は、基板内に貫通配線が形成されている配線基板本体の両面に導電性膜を前記貫通配線と電気導通可能に接続して形成し、次いで、前記配線基板本体の一方の面側に第1の保護体を設け、次に、前記配線基板本体の他方の面側に、第1の導体パターンに応じたレジストマスクを形成し、その後、前記配線基板本体の他方の面側におけるレジストマスクが形成されていない箇所の前記導電性膜を除去することにより第1の導体パターンを形成し、次いで、前記配線基板本体の他方の面側におけるレジストマスクを除去し、次に、前記配線基板本体の一方の面側に設けられた第1の保護体を除去し、その後、前記配線基板本体の他方の面側に第2の保護体を設け、次いで、前記配線基板本体の一方の面側に、第2の導体パターンに応じたレジストマスクを形成し、次に、前記配線基板本体の一方の面側におけるレジストマスクが形成されていない箇所の前記導電性膜を除去することにより第2の導体パターンを形成し、その後、前記配線基板本体の一方の面側におけるレジストマスクを除去し、その後、前記配線基板本体の他方の面側に設けられた第2の保護体を除去する、ことを特徴とする配線基板の製造方法である。
【0010】
この発明によれば、極めて簡単に、配線基板本体の両面に導体パターンを有する配線基板が得られる。
また、配線基板本体の両面に、夫々、導体パターンを形成する際、導体パターンを形成する反対面側に保護体を設けているので、配線基板本体の両面の双方に形成された導電性膜または導体パターンを保護することができる。
【0011】
更に、本発明の製造方法は、全工程を、貫通配線を形成する導電性材料である金属の溶融温度よりも低い温度で行うことも採用可能である。
【0012】
この方法によれば、貫通配線を形成する導電性材料が溶融することはなく、貫通配線や配線基板本体の特性の安定維持等に有効に寄与する。仮に、配線基板の製造工程において、貫通配線の導電性材料を溶融させる場合は、導電性材料の溶融や再凝固により、貫通電極が変形して電気的特性に影響を与えたり(例えば抵抗値の増大)、配線基板本体に熱応力による歪みや破損を生じさせるといった不都合の発生原因になる。しかし、本発明において、全工程を、貫通配線を形成する導電性材料である金属の溶融温度よりも低い温度で行うことで、前述のような不都合を回避できる。
【0013】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態につき、図面を参照して説明する。
図1〜図3は、本発明の実施の形態による配線基板1(図16参照)を製造するために使用される配線基板本体2(図3、5参照)を製造するため、基板2A(図1参照)に貫通配線6を設ける工程を示す図である。
【0014】
まず、図1に示すように、表裏両面3、4を貫通する貫通孔5が、複数、設けられている基板2A(孔加工基板)を用意する。基板2Aは、本実施の形態では、シリコン基板であるが、これに限定されず、例えば、セラミック製のもの、ガラス製のもの等も採用可能である。また、貫通孔5は、ここでは、径が数十μm程度の微細孔であるが、孔径や孔の断面形状には特に限定は無い。
次に、図2に示すように、配線基板本体2の両面3、4および複数の貫通孔5の表面3内面に、熱酸化処理によって、SiO2(酸化シリコン)8を形成する。
【0015】
次に、図3に示すように、貫通孔5に、導電性材料を充填して貫通配線6を形成する。本実施態様において具体的には、導電性材料としてAu−Sn合金等の導電性金属材料を採用し、これを加熱溶融状態(溶融金属)で貫通孔5に充填した後、冷却、固化することで貫通配線6を形成している。
【0016】
これにより、本発明の実施の形態による配線基板1を製造するために使用される、貫通配線6が形成された配線基板本体2(貫通配線付き基板)が得られる。尚、基板2Aの貫通孔5は、図4に示すように、基板2Aの一部にのみに形成されても良く、例えば、基板2Aに1つのみの貫通孔5が形成されているものであっても良い。
【0017】
図5〜16は、本発明の第1の実施の形態による配線基板1の製造方法における工程を示している。
まず、図5に示すように、図3を参照して説明した、貫通配線6が形成された配線基板本体2を用意する。
次に、図6に示すように、配線基板本体2の両面3、4に導電性膜9として金属膜を形成する。この導電性膜9は、貫通配線6と接するように形成して、貫通配線6との間の通電性を確保する。なお、ここでは、Au−Sn合金等の導電性金属の蒸着によって導電性膜9を形成しているが、導電性膜9の形成方法としては、これに限定されず、例えば、めっき法等、各種採用可能である。
【0018】
次に、図7に示すように、配線基板本体2の裏面(一方の面)4側に第1の保護体10aを設ける。ここで、設けられる第1の保護体10aとしては、工程や条件等により、様々なものを選択可能であるが、例えば、市販されている熱剥離シートや、紫外線剥離型シートを用いることができる。ここで、熱剥離シートや紫外線剥離型シートとしては、例えば、常温では粘着材層の粘着力で配線基板本体2に付着させることができ、加熱によって、粘着材層が発泡あるいは液化あるいは硬化(紫外線剥離型シートの場合は、紫外線の照射によって、粘着材層が硬化)して粘着力を失い、配線基板本体2から簡単に剥せるようになるものであるが、粘着力を失う加熱温度が、貫通配線6を形成する導電性材料(金属)の溶融温度よりも低いものを採用する。例えば、貫通配線6を形成する、組成比Au80wt%、Sn20wt%であるAu−Snの溶融温度は280℃であるが、この場合、粘着力を失う温度が280℃に達しないものを採用する。
【0019】
第1の保護体10aは、導体パターンを形成する際、配線基板本体2における導体パターンが形成される面に対し反対側の面側を、埃、熱、薬品等から保護するものである。また、上述したように、加熱によって、配線基板本体2から簡単に除去できる保護体10a(前記熱剥離シートあるいは前記紫外線剥離型シート)であれば、配線基板本体2側からの除去作業によって配線基板本体2や導電性膜9を傷めるといった心配が無い。
【0020】
次に、図8に示すように、配線基板本体2の表面(他方の面)3側に、この製造方法によって得る配線基板1(図16参照)の第1の導体パターン11に応じたレジストマスク12を形成する。
【0021】
ここで、前記レジストマスク12を形成する工程の一例を、図17を参照して説明する。
図7に示すように、配線基板本体2の裏面4側への第1の保護体10aの取り付けが完了したら、配線基板本体2を乾燥ベーク(図17中「S1」)し、冷却(図17中「S2」)した後、表面3側にレジスト液を塗布してレジスト膜を形成(図17中「S3」)し、プリベーク(図17中「S4」)してレジスト膜を予備硬化し、冷却(図17中「S5」)後、フォトリソグラフィー(図17中「S6」のフォトリソ)、すなわち、レジスト膜のマスクアライメント及び露光(ここでは紫外線照射)を行い、現像(図17中「S7」)する。これにより、所望のパターン形状のレジストマスク12を形成できる。次に、ポストベーク(図17中「S8」)、冷却(図17中「S9」)の後、デスカム(descumu。図17中「S10」)を行うことで、図8の配線基板本体2(レジストマスク12を有する)を得る。但し、S1の乾燥ベーク、S4のプリベーク、S8のポストベークは、いずれも、貫通配線6を形成する金属溶融温度よりも低い温度で行う。例えば、貫通配線6が溶融温度350℃のAn−Sn合金で形成されたものである場合、乾燥ベークを150℃程度、プリベークを80℃程度、ポストベークを140℃程度で行う。レジストマスク12の形成工程(図17の工程)は、全工程にわたって、貫通配線6を形成する金属の溶融温度よりも低い温度で行うようになっており、これにより、貫通配線6、配線基板本体2に、熱応力による歪み等の悪影響を与えることを防止できる。
【0022】
次に、図9に示すように、配線基板本体2の他方の面側におけるレジストマスク12が形成されていない箇所の金属膜9を除去(エッジング)する。これにより、配線基板本体2の他方の面に第1の導体パターン11が形成される。エッジングは、例えば、レーザ光の照射や、配線基板本体の表面3をエッジング液に浸けること等により行う。
【0023】
次に、図10、図11に示すように、レジストマスク12の除去、並びに、配線基板本体2の裏面4側における第1の保護体10aの剥離を行う。なお、レジストマスク12の除去、第1の保護体10aの剥離は、順序が逆であってもよい。第1の保護体10aの剥離は、例えば、第1の保護体10aが熱剥離シートである場合は、該熱剥離シートの加熱であるが、この剥離のための加熱温度は、貫通配線6を形成する金属材料の溶融温度よりも低いものである。
【0024】
次に、図12に示すように、第1の導体パターン11が形成されている配線基板本体2の表面3側に第2の保護体10bを設ける。この第2の保護体10bとしては、図7を参照して説明した保護体10aと同様のものを採用でき、配線基板本体2に設ける手法も保護体10aと同様で、以下、配線基板本体2の裏面4側へのレジストマスク12の形成(図13参照)、金属膜9の除去(エッジング)による裏面4での第2の導体パターン13の形成(図14参照)、配線基板本体2の裏面4側におけるレジストマスク12の剥離(図15参照)、配線基板本体2の表面3側における第2の保護体10bの剥離(図16参照)を行う。図13から16の工程は、図8〜11を参照して説明した工程と同様に行う。これにより、配線基板本体2の表裏両面に導体パターン11、13を有する配線基板が得られる。
【0025】
次に、図18〜29を参照して、本発明の第2の実施の形態による配線基板1の製造方法における工程を示す。
本発明の第2の実施の形態による配線基板1の製造方法において、本発明の第1の実施の形態による配線基板1の製造方法と異なる点は、本発明の第2の実施の形態では、レジストマスク12の形成後に、第1の保護体10a、10bを形成し(図20、21等参照)、第1の保護体10a、10bの剥離の後に、レジストマスク12の剥離を行う(図23、24等参照)点である。即ち、本発明の第2の実施の形態による配線基板1の製造方法において、配線基板本体2に保護体10を設けた状態で実行する工程の数が、本発明の第1の実施の形態による配線基板1の製造方法よりも少なくなっている。
【0026】
以下、本発明の第2の実施の形態による配線基板1の製造方法における工程を、詳細に説明する。この実施の形態でも、第1の実施の形態にて用いた配線基板本体2(図3、5参照)を配線基板本体として使用する。
まず、図18に示すように、配線基板本体2を用意し、図19に示すように、配線基板本体2の両面3、4に導電性膜9として金属膜を形成する。図18、19で示す工程は、第1の実施の形態にて図5、6を参照して説明したものと同様である。
【0027】
次に、図20に示すように、配線基板本体2の表面(他方の面)3側に、この製造方法によって得る配線基板1(図29参照)の第1の導体パターン11に応じたレジストマスク12を形成する。レジストマスク12を形成する工程としては、一例として、第1の実施の形態にて図17を参照して説明した手法と同様のものを採用できる。
次に、図21に示すように、配線基板本体2の裏面(一方の面)4側に第1の保護体10aを設ける。この詳細は、第1の実施の形態にて図7を参照して説明した手法と同様である。
【0028】
次に、図22に示すように、配線基板本体2の他方の面側におけるレジストマスク12が形成されていない箇所の金属膜9を除去(エッジング)する。これにより、配線基板本体2の他方の面に第1の導体パターン11が形成される。エッジングは、例えば、レーザ光の照射や、配線基板本体の表面3をエッジング液に浸けること等により行う。
【0029】
次に、図23、24に示すように、配線基板本体2の裏面4側における第1の保護体10aの剥離、並びに、レジストマスク12の除去を行う。第1の保護体10aの剥離は、例えば、第1の保護体10aが熱剥離シートである場合は、該熱剥離シートの加熱であるが、この剥離のための加熱温度は、貫通配線6を形成する金属材料の溶融温度よりも低いものである。
【0030】
次に、配線基板本体2の裏面4側へのレジストマスク12の形成(図25参照)、第1の導体パターン11が形成されている配線基板本体2の表面3側への第2の保護体10bの形成(図26参照)、金属膜9の除去(エッジング)による裏面4での第2の導体パターン13の形成(図27参照)、配線基板本体2の表面3側における第2の保護体10bの剥離(図28参照)、配線基板本体2の裏面4側におけるレジストマスク12の剥離(図29参照)、を行うことで、配線基板1が得られる。これら各工程(図25〜29を参照して説明した工程)は、図20〜24を参照して説明した工程において、配線基板本体2の表面3に対して行う作業を裏面4に対して行い、裏面4に対して行う作業を表面3に対して行うものであり、詳細の説明を略す。
【0031】
以上、述べたような、本発明の第2の実施の形態による配線基板1の製造方法は、フォトリソグラフィ技術を利用して、配線基板本体2の表面3側および裏面4側にレジストマスク12を形成する工程(図20、25に示す工程)にて、配線基板本体2の裏面4側および表面3側が傷付くおそれがない場合に、裏面4および表面3に保護体10を設けることを省略するものである。
【0032】
尚、以上記載したような、本発明の第1の実施の形態による配線基板1の製造方法によれば、本発明の第2の実施の形態による配線基板1の製造方法に比べ、配線基板本体2の両面3、4に導電性膜を形成した後、レジストマスク12の形成を行う前に、配線基板本体2に対し保護体10を設け、その後、レジストマスク12の形成、導体パターン11の形成、レジストマスク12の除去を行い、それから、保護体10を除去するため、導体パターン11形成時に、導体パターン11に対し反対面側を確実に保護することができる。
【0033】
本発明に係る配線基板1は、配線基板本体2の両面に導体パターン11、13を有しており、さらに、配線基板本体2に、両側の導体パターン11、13を電気導通可能に接続する貫通配線を形成している。この配線基板1は、配線基板本体2に形成する導体パターン11、13の設計及び導体パターン11、13同士を接続する貫通配線6の形成位置の設定によって、配線基板本体2の両側の導体パターン11、13を貫通配線6を介して接続した構成の回路の設計を行えるので、例えば、ワイヤボンディング等による外部配線を設けて、配線基板本体2の両側の導体パターン11、13を接続する場合に比べて、回路設計の自由度が高く、複雑な回路も容易に形成できる。これにより、導体パターン11、13の高密度を図ることも容易となる。
本発明に係る製造方法においては、配線基板本体2における貫通配線6の形成位置の調整(第1、第2の実施形態においては、基板2Aに対する貫通孔5(図1参照)の形成位置の調整)及び/又は、レジストマスクの形状の調整によって、両側の導体パターン11、13が貫通配線6で接続されている構造の回路の設計を容易に行える。
【0034】
なお、本発明に係る配線基板1では、配線基板本体2の両面あるいは片面に導体パターン11、13を多層に積層した構造(但し、導体パターン11、13間の電気絶縁性を保つ)も採用可能であり、この場合には、配線基板本体2の貫通配線6を介して、配線基板本体2の両側の導体パターン11、13を接続する回路を構成することで、より複雑な回路の構築が可能になり、また、配線の高密度化も一層、容易となる。
【0035】
【発明の効果】
以上の説明のように、本発明によれば、極めて簡単な構成により、配線基板本体の両面に形成された導体パターンを配線することができる。
【0036】
また、配線基板本体の両面に、夫々、導体パターンを形成する際、導体パターンを形成する反対面側に保護体を設けているので、配線基板本体の両面の双方に形成された導電性膜または導体パターンを保護することができる。
【0037】
更に、本発明の製造方法は、全工程を、貫通配線を形成する導電性材料である金属の溶融温度よりも低い温度で行うことも採用可能であり、これにより、貫通配線を形成する導電性材料が溶融することはなく、貫通配線や配線基板本体の形状、特性等の安定維持に有効に寄与できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態による配線基板を製造するために使用される配線基板本体を製造する工程を示す図である。
【図2】本発明の実施の形態による配線基板を製造するために使用される配線基板本体を製造する工程を示す図である。
【図3】本発明の実施の形態による配線基板を製造するために使用される配線基板本体を製造する工程を示す図である。
【図4】本発明の実施の形態による配線基板を製造するために使用される基板の一例を示す図である。
【図5】本発明の第1の実施の形態による配線基板の製造方法における工程を示す図である。
【図6】本発明の第1の実施の形態による配線基板の製造方法における工程を示す図である。
【図7】本発明の第1の実施の形態による配線基板の製造方法における工程を示す図である。
【図8】本発明の第1の実施の形態による配線基板の製造方法における工程を示す図である。
【図9】本発明の第1の実施の形態による配線基板の製造方法における工程を示す図である。
【図10】本発明の第1の実施の形態による配線基板の製造方法における工程を示す図である。
【図11】本発明の第1の実施の形態による配線基板の製造方法における工程を示す図である。
【図12】本発明の第1の実施の形態による配線基板の製造方法における工程を示す図である。
【図13】本発明の第1の実施の形態による配線基板の製造方法における工程を示す図である。
【図14】本発明の第1の実施の形態による配線基板の製造方法における工程を示す図である。
【図15】本発明の第1の実施の形態による配線基板の製造方法における工程を示す図である。
【図16】本発明の第1の実施の形態による配線基板の製造方法における工程を示す図である。
【図17】本発明の実施の形態によるレジストマスクを形成する詳細な工程を示す図である。
【図18】本発明の第2の実施の形態による配線基板の製造方法における工程を示す図である。
【図19】本発明の第2の実施の形態による配線基板の製造方法における工程を示す図である。
【図20】本発明の第2の実施の形態による配線基板の製造方法における工程を示す図である。
【図21】本発明の第2の実施の形態による配線基板の製造方法における工程を示す図である。
【図22】本発明の第2の実施の形態による配線基板の製造方法における工程を示す図である。
【図23】本発明の第2の実施の形態による配線基板の製造方法における工程を示す図である。
【図24】本発明の第2の実施の形態による配線基板の製造方法における工程を示す図である。
【図25】本発明の第2の実施の形態による配線基板の製造方法における工程を示す図である。
【図26】本発明の第2の実施の形態による配線基板の製造方法における工程を示す図である。
【図27】本発明の第2の実施の形態による配線基板の製造方法における工程を示す図である。
【図28】本発明の第2の実施の形態による配線基板の製造方法における工程を示す図である。
【図29】本発明の第2の実施の形態による配線基板の製造方法における工程を示す図である。
【符号の説明】
1‥‥配線基板、2‥‥配線基板本体、2A‥‥基板、3‥‥表面(他方の面)、4‥‥裏面(一方の面)、5‥‥貫通孔、6‥‥貫通配線、8‥‥酸化シリコン、9‥‥金属膜(導電性膜)、10a‥‥第1の保護体、10b‥‥第2の保護体、11‥‥第1の導体パターン、12‥‥レジストマスク、13‥‥第2の導体パターン
Claims (4)
- 基板(2A)内に貫通配線(6)が形成されている配線基板本体(2)の両面(3、4)に夫々形成された導体パターン(11、13)を有し,前記配線基板本体の両面の導体パターンと貫通配線とが電気的に接続されていることを特徴とする配線基板(1)。
- 基板(2A)内に貫通配線(6)が形成されている配線基板本体(2)の一方の面(4)側に第1の保護体(10a)を設けた状態で、前記配線基板本体の他方の面(3)に第1の導体パターン(11)を形成した後、
前記第1の保護体を前記一方の面側から取り去り、
前記他方の面側に第2の保護体(10b)を設けた状態で、前記配線基板本体の一方の面に第2の導体パターン(13)を形成する、ことを特徴とする配線基板(1)の製造方法。 - 基板(2A)内に貫通配線(6)が形成されている配線基板本体(2)の両面(3、4)に導電性膜(9)を前記貫通配線と電気導通可能に接続して形成し、
次いで、前記配線基板本体の一方の面(4)側に第1の保護体(10a)を設け、
次に、前記配線基板本体の他方の面(3)側に、第1の導体パターン(11)に応じたレジストマスク(12)を形成し、
その後、前記配線基板本体の他方の面側におけるレジストマスクが形成されていない箇所の前記導電性膜を除去することにより第1の導体パターンを形成し、
次いで、前記配線基板本体の他方の面側におけるレジストマスクを除去し、
次に、前記配線基板本体の一方の面側に設けられた第1の保護体を除去し、
その後、前記配線基板本体の他方の面側に第2の保護体(10b)を設け、
次いで、前記配線基板本体の一方の面側に、第2の導体パターン(13)に応じたレジストマスクを形成し、
次に、前記配線基板本体の一方の面側におけるレジストマスクが形成されていない箇所の前記導電性膜を除去することにより第2の導体パターンを形成し、
その後、前記配線基板本体の一方の面側におけるレジストマスクを除去し、
その後、前記配線基板本体の他方の面側に設けられた第2の保護体を除去する、ことを特徴とする配線基板の製造方法。 - 全工程を、貫通配線を形成する導電性材料である金属の溶融温度よりも低い温度で行うことを特徴とする請求項2又は3に記載の配線基板の製造方法。
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Cited By (3)
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---|---|---|---|---|
JP2010141250A (ja) * | 2008-12-15 | 2010-06-24 | Dainippon Printing Co Ltd | 有機薄膜太陽電池およびその製造方法 |
WO2011078345A1 (ja) * | 2009-12-25 | 2011-06-30 | 株式会社フジクラ | 貫通配線基板及びその製造方法 |
JP2011134982A (ja) * | 2009-12-25 | 2011-07-07 | Fujikura Ltd | 貫通配線基板及びその製造方法 |
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