JP2004531759A - 照明装置 - Google Patents
照明装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2004531759A JP2004531759A JP2002584049A JP2002584049A JP2004531759A JP 2004531759 A JP2004531759 A JP 2004531759A JP 2002584049 A JP2002584049 A JP 2002584049A JP 2002584049 A JP2002584049 A JP 2002584049A JP 2004531759 A JP2004531759 A JP 2004531759A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- filter system
- reflection
- light
- reflection filter
- lighting device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000005286 illumination Methods 0.000 claims abstract description 44
- 230000008859 change Effects 0.000 claims abstract description 6
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 32
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 12
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 11
- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims description 7
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 claims description 7
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 3
- 229910004261 CaF 2 Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229920005372 Plexiglas® Polymers 0.000 claims description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 2
- 239000010436 fluorite Substances 0.000 claims description 2
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L calcium difluoride Chemical compound [F-].[F-].[Ca+2] WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 abstract description 4
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 5
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 2
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000000386 microscopy Methods 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 2
- 238000013519 translation Methods 0.000 description 2
- 230000006978 adaptation Effects 0.000 description 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 239000012491 analyte Substances 0.000 description 1
- 239000006117 anti-reflective coating Substances 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000001000 micrograph Methods 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 230000003685 thermal hair damage Effects 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B21/00—Microscopes
- G02B21/16—Microscopes adapted for ultraviolet illumination ; Fluorescence microscopes
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Microscoopes, Condenser (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Optical Filters (AREA)
Abstract
【解決手段】光源及び反射フィルタシステムを有すると共に、該光源からの光のビームが、複数の反射を実行しつつ該反射フィルタシステムを通過する形式の、好ましくはとりわけUV顕微鏡等の顕微鏡のための、照明装置において、前記反射フィルタシステム(4、14)の入射ビーム(11)は、該反射フィルタシステム(4、14)の射出ビーム(12)に対し、光学的ビーム路ずれ(13)及び/又は方向変化をなすよう構成される。
【選択図】図3
Description
【0001】
本発明は、照明装置に関し、特に、とりわけUV顕微鏡等の顕微鏡又は結像光学系を有する光学装置のための照明装置に関し、具体的には、光源と反射フィルタシステムを有すると共に、該光源からの光のビームが複数の反射を実行しつつ該反射フィルタシステムを通過する形式の照明装置に関する。
【背景技術】
【0002】
この種の照明装置は、例えばDE 199 31 954 A1(特許文献1)から既知である。この照明装置は、遠紫外DUV(Deep Ultraviolett)顕微鏡のための光源及び波長選択装置として作動する。DUV顕微鏡のための照明装置は、狭い照明波長範囲(これに適合するよう顕微鏡光学系が較正されている)の照明光を使用しなければならい。照明波長範囲は、強度最大のスペクトル位置並びにその半値幅によって特徴付けられる。適正な光源(例えば水銀ランプ)のスペクトルから所望の照明波長範囲を選択するためのものとしては、狭帯域透過フィルタシステム(Transmissions-Schmalbandfiltersysteme)も、反射フィルタシステムも知られている。これらのフィルタシステムは、照明光路に配され、選択された照明波長範囲の光を使用光として顕微鏡へ導く。
【0003】
【特許文献1】
ドイツ特許公開DE 199 31 954 A1
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
DUV(顕微鏡)の狭帯域透過フィルタシステムは、非常に狭い半値幅のピークを供給するため、最大の透過、従ってピークの極値は、当該狭帯域透過フィルタシステムの前方に存する入射光強度の凡そ20%に留まる。従って、狭帯域透過フィルタシステムは、DUV光のための効率的な波長選択装置をなさない。
【0005】
既知の反射フィルタシステムは、光源からの光がそれぞれ所定の入射角で入射し反射される複数の反射フィルタからなる。この反射フィルタシステムでは、選択された照明波長領域の光の反射された、従って使用可能な部分は、入射光強度の90%を明らかに越える。
【0006】
上記DE 199 31 954 A1から既知の反射フィルタシステムでは、各反射フィルタにおける反射角が30°未満になるように反射フィルタが配置される。このため、選択された照明波長領域の20nm未満の半値幅を生成することができる。使用する反射フィルタの種類に応じ、小さい入射角を有するそのような反射フィルタシステムによって、当該反射フィルタシステムから射出する光強度は、入射光強度の凡そ98%に達する。
【0007】
上記DE 199 31 954 A1の第1図は、そのような照明装置であって、DUV顕微鏡と組合わせたものを示している。そこでは、反射フィルタシステムは、光源とDUV顕微鏡との間に配設されているが、このような構造は、自ずから分かる通り、空間的要求(必要な空間)が非常に大きい。DUV顕微鏡を半導体検査顕微鏡として使用する場合、DUV顕微鏡をクリーンルームに設置してそこで作動しなければならない。クリーンルームを稼動するための費用は、その空間が大きくなるほど著しく増加するので、クリーンルームに設置される装置はできるだけ空間を節約して構成しなければならず、小さい設置面積しか要求しないものが理想的である。
【0008】
光学システム、とりわけ顕微鏡システムでは、赤外波長領域から可視波長領域を経てDUV波長領域にまで亘る照明波長領域をそれぞれ有する複数の照明光源を使用する必要があることがしばしばある。この場合、通常、相異なる3つまでの光源が光源ハウジングと共に光学機械的に組み込まれる。これは、照明光学系における一連の偏向ミラー及び/又はビーム結合要素を用いることによってようやく実現することができるが、複数の光学的ビーム路の拡大(伸長)ないし増加を伴うため不利である。
【0009】
それゆえ、本発明の課題は、この種の照明装置を、照明装置の空間的大きさを最小にすることが可能なように発展させかつこれを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【0010】
上記の課題を解決するために、本発明の一視点によれば、請求項1の特徴部に記載の特徴により解決される。即ち、本発明の照明装置は、反射フィルタシステムの入射ビームが、該反射フィルタシステムの射出ビームに対し、光学的ビーム路のずれないし変位(Versatz)及び/又は方向変化をなすよう構成されることを特徴とする
【発明の効果】
【0011】
本発明により、照明装置の空間的大きさを最小化することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【0012】
本発明により、第1に認識されていることは、光学的ビーム路ずれないし変位(ビーム路の光学的な移動ないしスライド)を実現することにより照明装置の空間的大きさを低減することができるということである。そのため、上記DE 199 31 954 A1の第1図に記載の実施例とは異なり、光源と反射フィルタシステムとの直線的配列は不要となり、寧ろ光源を顕微鏡の光軸の上方、下方又は側方にずらして配置することが可能となる。とりわけ半導体検査顕微鏡は、通常、非常に大きな物体(被検物)ステージ(テーブル)を有するが、この物体ステージは、非常に大きな半導体産物(例えばウェハ)を顕微鏡の対物レンズに対し中央部に位置決めして、半導体産物の領域全体を光学的に検査できるようにしなければならない。そのため、光学的ビーム路を適正化すると、顕微鏡ステージの上方又は下方にのみ光源を配置することが可能となる。上述の通り、顕微鏡の顕微鏡操作者を指向する側には、同様に、自由には大きな空間を使用することはできない。
【0013】
そのため、クリーンルームにおける実施に基づき空間的大きさの最小化に関したシステム全体に対する所与の条件設定(Vorgaben)は、大部分、購入者(利用者)によって予め与えられる。その限りにおいて、入射ビームと射出ビームとの間の光学的ビーム路の(平行)ずらしを行なう本発明の照明装置によって、顕微鏡における照明装置のこれらの設定条件を充足する配置が実現可能となる。
【0014】
照明装置の大きさの低減は、反射フィルタシステムの入射ビームと射出ビームとの間の方向変化によっても有利に達成することができる。これによって、例えば、光源は、顕微鏡架台の上部部分の側方に並置されるが、この場合、光源は、顕微鏡の操作者から見て後方に推移する方向に光を放射する。入射ビームと射出ビームとの間の方向変化を実現する場合は、反射フィルタシステムを通過した後、照明波長領域に関し選択された照明光は、横方向に顕微鏡に差込入射されうるであろう。極めて有利なことに、反射フィルタシステムの入射ビームと射出ビームとの間の光学的ビーム路ずれと方向変化を組み合わせることができる。そのため、例えば、光源を顕微鏡架台を越えた上方に、例えば操作者から見て顕微鏡の後方領域に、配設することもできる。
【0015】
具体的な一実施形態では、反射フィルタシステムにおいてそれぞれ反射を行う際の反射角は、ほぼ同一である。このため、同一の反射フィルタを使用することができるため、製造(工程)を簡素化し、製造費用を低減できるので有利である。
【0016】
とりわけ有利な一実施形態では、(第1の)反射フィルタシステムと切換え(交換)可能に構成される第2の反射フィルタシステムを備える。このため、第2の反射フィルタシステムによって、光源の他の波長ないし他の波長範囲(の光)を選択することが可能となり、必要な光源の数を削減することができるのでとりわけ有利である。具体的には、(複数の)偏向装置ないし(複数の)(方向)切換えミラーによって一方又は他方の何れか1つの反射フィルタシステムへ光源からの光を導くことができるように、複数の反射フィルタシステムを配することも可能である。また、光源からの光を同時に少なくとも2つの反射フィルタシステムへ導く1又は複数の50:50ビームスプリッタ、ダイクロイックビームスプリッタ等を使用することもできる。そのため、本発明の照明装置によって、複数の異なる波長ないし波長範囲(の光)による同時照明を保証することも可能である。
【0017】
具体的な一実施形態では、複数の反射フィルタシステムが設けられ、一方又は他方の何れか1つの反射フィルタシステムが光学的ビーム路にもたらされる。これは、例えば、フィルタ摺動装置により機械的な案内を実現することができる。この(反射フィルタシステムの)切換え(交換)は、機械的及び/又はモータ駆動的に行なうことができるが、半導体検査顕微鏡のための照明装置の場合は、モータ駆動的切換装置を使用すべきであろう。
【0018】
とりわけ有利には、切換可能に配設される複数の反射フィルタシステムは、光学的ビーム路の活性化位置(作動位置)に配される毎に、光源の像が、光学的ビーム路において同じ位置と大きさを有するように構成される。このため、システム全体の構成を更に有利な態様で簡素化することができる。
【0019】
VIS(visual可視光の略)−若しくはIR顕微鏡のための又はUV−若しくはDUV顕微鏡のための照明装置を使用すべき場合、光源は、ハウジングの中に配設される。このハウジングないしランプケースは、例えば調心装置(Justiermittel)、リフレクタ、コレクタ等の様々な光学要素を有する。その限りにおいて、ランプケースから出てくる光源からの光は、通常、ほぼコリメートされたビーム推移を有する。また、1又は複数の反射フィルタシステムを1つのハウジングに配することも可能である。これによって、とりわけ顕微鏡検査の分野で本発明の照明装置を使用する場合、当該分野で通例の個々の要素のモジュール構造化を実現することができる。顕微鏡の個々の要素との適合化を図るために、1又は複数の反射フィルタシステムのランプケースないしハウジングは、好ましくは規格化(標準化)されている機械的インタフェース(機械要素間連結部位)を有する。そのため、本発明の照明装置のハウジングを、他の種々の顕微鏡その他の装置(例えばスライド用などのプロジェクタ:Dia-Projektionappatrate)に容易に適用することができる。
【0020】
好ましい一実施形態では、光は、反射フィルタシステム内及び/又は反射フィルタシステムから射出される際に、少なくとも大幅にコリメートされて推移する。この方策によっても、顕微鏡又はスライド用プロジェクタのビーム路への容易な適合化を図ることができる。反射フィルタシステム内で複数の反射が行なわれる場合、各光学要素の空間的大きさは、同じビーム径ないしビーム断面に適合化されなければならないのであるが、この実施形態により、コリメートされて推移する光ビームは、反射フィルタシステム内での反射の前後において、ほぼ同じビーム断面を有することが保証される。
【0021】
とりわけ好ましい一実施形態では、反射フィルタシステムは、好ましくは反射ノッチフィルタとして構成される複数の反射フィルタを有する。この場合、1つの反射フィルタシステムに対し同じ構成の反射フィルタ(複数)が使用される。反射フィルタとしては、例えば黒色ガラス(Schwartzglas)からなり、その層に蒸着(気相析着)被膜が形成されたものが挙げられるが、そのような反射フィルタは、選択されるべき波長に関し、凡そ1の反射係数を有する。半導体検査顕微鏡に対しては、とりわけ“i線”の光、即ち365nmの波長のUV光、並びに248nmの波長のDUV光が重要である。他の全ての波長に関するそのような反射フィルタの反射係数は非常に小さいため、選択されない波長の光は、反射フィルタにおいて反射が行なわれる毎に減少する。そのため、具体的一実施形態では、反射フィルタシステム毎に少なくとも4つの反射フィルタが設けられる。4回反射を繰り返した後、反射フィルタシステムによって選択されない波長範囲の光は大幅に減少されるため、UV−ないしDUV顕微鏡と結合した本発明の照明装置によって、殆ど色収差がない顕微鏡結像を達成することができる。
【0022】
他の一実施形態によれば、反射フィルタシステムは、透光要素ないし部材を有する。この透光要素は、光の内部反射のために、それぞれ反射層を備える少なくとも2つの境界面を有する。この反射層は、反射ノッチフィルタと比肩する(同等の)特性を有する。透光要素において複数の反射を行なうという観点から、反射層を有する複数の境界面は、互いに対向するよう配置される。
【0023】
好ましい一実施形態では、透光要素の形状は、その境界面が互いにほぼ平行をなし、又は互いに僅かに楔状(の角度)をなして配置するように構成される。これによって、透光要素に入射する光がコリメートされて推移し、かつ境界面が互いに平行に配されている場合には、複数の反射が行なわれる場合であっても透光要素内でのコリメートされたビーム推移が可能となる。境界面が互いに僅かに楔状をなすように配される場合は、透光要素内での複数の反射によって、反射フィルタシステムから射出されるビームのビーム径を、反射フィルタシステムに入射する光ビームのビーム径に対して縮小又は拡大することができるため、他の光学要素がなくてもビーム形状を適合化することができるので有利である。この場合、透光要素内で複数の反射が行なわれる場合であっても各反射面の反射層が選択されるべき波長ないし選択されるべき波長範囲の光を依然として十分(大きな)効率(反射率)で反射するように、境界面間の楔の(頂)角を選択することができる。
【0024】
透光要素は、主として、ガラス、石英ガラス、ホタル石(CaF2)又はプレクシグラス(Plexiglas)から製造することができる。本発明の照明装置がUV波長領域の光を使用すべき場合には、透光要素は、主として石英ガラスから製造される。
【0025】
透光要素は、光源からの光のための、好ましくは反射防止膜を備える入射面及び射出面を有する。これによって、有利なことに、入射面ないし射出面で反射される光の割合を大幅に減少することができ、反射防止膜によって、照明装置の光(利用)効率(Lichtausbeute)を更に適正化することができる。
【0026】
光源の像の位置を顕微鏡又は結像光学系を有する他の光学装置のビーム路に適合化するために、反射フィルタシステムのビーム路又は反射フィルタシステムのハウジングに、ビーム形状成形要素(Strahlformungsmittel)が配される。ビーム形状成形要素は、例えば、レンズ(複数)又は湾曲した反射面(複数)から構成することができる。そのため、反射フィルタシステムによって選択された照明光が照明装置から射出される前、既に、後続する装置の光学的ビーム路の要求に対する適合化を最終的に行なうことができる。
【0027】
更に有利には、本発明の照明装置、とりわけ反射フィルタシステムに、冷却を行なうための受動的(パッシブ)及び/又は能動的(アクティブ)冷却要素を配することができる。反射フィルタシステムによって反射されなかった光は、通常、光トラップ(Lichtfallen)によって吸収されるが、この吸収された光は熱に転換される。光トラップで生成した熱が、他の光学要素に望ましくない膨張や熱損傷を引き起こし、遂には光学的ビーム路を不安定化したり照明状態を不安定化したりしないようにするために、上記冷却要素は、能動的(アクティブ)又は受動的(パッシブ)に熱を周囲へと逃す。受動的冷却要素は、例えば、反射フィルタシステムのハウジングから外部に突出する冷却フィンから構成することができる。能動的冷却要素は、例えば、ペルティエ冷却素子から構成することができる。
【0028】
反射フィルタシステムでの複数の反射は、反射の回数が多いほど、選択されない波長範囲の光を効果的に減少するので、できるだけ幅の狭い照明波長範囲を選択するために、反射フィルタシステムにおいて少なくとも2回反射が行なわれる。
【0029】
とりわけ好ましい一実施形態では、顕微鏡と本発明の照明装置を有する総合システムが構成される。この顕微鏡としては、UV顕微鏡、DUV顕微鏡、ラスタ顕微鏡、共焦点ラスタ顕微鏡、複共焦点(doppelkonfokal)ラスタ顕微鏡、蛍光顕微鏡が挙げられるが、とりわけ総合システムは、半導体検査顕微鏡及び/又は半導体測定顕微鏡を構成することができる。
【0030】
本発明の教示を有利に構成・展開する態様は幾つもある。そのため、一方では特許請求項1に従属する各請求項を、他方では以下に図面を用いて説明する本発明の好ましい実施例を参照することができる。図面を用いた本発明の好ましい実施例の説明と関連して、本発明の教示の有利な形態及び発展形態も一般的に説明される。
【実施例】
【0031】
図1は、従来技術から既知の、DUV顕微鏡2と結合した照明装置1の模式図である。照明装置1は、光源3と反射フィルタシステム4を有する。光源3からの光のビーム5は、複数の反射をしつつ反射フィルタシステム4を通過する。反射フィルタシステムでのそれぞれの反射の際の反射角は、この場合全て等しい。DUV顕微鏡2は、テレビカメラとして構成される検出器6を有する。照明光ビームは、ビームスプリッタ7によって検出光ビームから分離される。顕微鏡ステージ8に載置された物体(被検試料)9は、対物レンズ10によって検出器6に結像される。
【0032】
図2は、DUV顕微鏡2として構成された半導体検査顕微鏡に適合化された本発明の照明装置1の一実施例を示す。この照明装置1は、光源と反射フィルタシステムを有するが、反射フィルタシステムのビーム路は図3に詳細に示す。
【0033】
本発明によれば、照明装置1の反射フィルタシステム4は、入射ビーム11が射出ビーム12に対し光学的ビーム路のずれ(平行移動)13を有するように構成される。照明フィルタシステム4の入射ビーム11は、光源3(図3には示していない)を指向している。反射フィルタシステム4を通過した後、選択された照明光は、射出ビーム12の形状で、反射フィルタシステム4から射出し、DUV顕微鏡2(これも図3には示していない)に入射する。
【0034】
図3の反射フィルタシステム4によって、波長範囲365nm±8nmの光(i線)を選択することができる。図4に示した反射フィルタシステム14では、波長範囲248nm±7nmのDUV光が選択される。
【0035】
図3の反射フィルタシステム4と図4の反射フィルタシステム14を両方とも図2に示したDUV顕微鏡2に組み込むことができる。この場合、この2つの反射フィルタシステムは、モータ駆動で切換可能にハウジング15に配設される。そして、i線を選択するために設けられた反射フィルタシステム4か248nm線を選択するために設けられた反射フィルタシステム14の何れか一方が、全体として選択的に光学的ビーム路にもたらされる。
【0036】
図5と図6は、図2に示したハウジング15の内部を詳細に示した斜視図である。図5では、図3の反射フィルタシステム4が照明ビーム路にもたらされている。図6は、図5のハウジング15において、図4の反射フィルタシステム14が照明ビーム路にもたらされている作動状態のものを示している。図5及び図6の反射フィルタシステム4、14は両方とも、プレート16に適合化されている。プレート16は、回転軸線17の周りで回動可能に支承されており、モータ18によって回転可能になっている。プレート16には2つの回転位置が設けられている。即ち、図5に示した回転位置0°と、図6に示した回転位置180°である。この空間節約的で、コンパクトかつ堅固な構造によって、ただ1つの光源3によって、波長248nmの光か波長365nmの光の何れか一方を、選択でき、或いは顕微鏡の照明光として使用することができる。反射フィルタシステム4、14において光ビームが折畳んだ様にないしジグザグに推移することにより、空間節約的な構造が一層促進されることを、ここで特に強調しておく。
【0037】
図2から分かる通り、光源3がハウジング19に配設され、第2の光源(これは、可視光明視野及び白色光コンフォーカルモードのためのものである)が2つの他のハウジング20に配設されている。
【0038】
図3と図4に、反射フィルタシステムハウジングの機械的インタフェース21を示した。これは、図5及び図6にも示している。顕微鏡2に適合化するための機械的インタフェースもランプケース19に適合化するための機械的インタフェースも、顕微鏡検査に関して通常の測定及び作動態様に適するよう、規格化(標準化)される。
【0039】
図3及び図4から分かる通り、反射フィルタシステム4、14内の光も、反射フィルタシステム4、14に入射する際の光及び該システム4、14から射出する際の光も、少なくとも大幅にコリメートされて推移する。反射フィルタシステム4、14は、何れも反射ノッチフィルタとして構成される4つの反射フィルタ22を有する。これに応じて、図3の反射フィルタ22は、365nmの波長の光を反射(出射)し、図4の反射フィルタ22は、248nmの波長の光を反射(出射)する。
【0040】
図7に、透光要素23を使用するタイプの本発明の反射フィルタシステム4の第2実施例を示した。この反射フィルタシステム4の場合も、入射ビーム11と射出ビーム12の間に、光学的ビーム路のずれ(ビーム路の光学的な平行移動ないしスライド)13が実現されている。透光要素23は、反射層25をそれぞれ備えた2つの境界面24を有する。透光要素23の形状は、2つの境界面24が互いに平行に配置されるようなものに選択される。透光要素23は、この実施例では、石英ガラスから製造される。光源3(図7には示していない)からの光は、透光要素23の入射面26において透光要素23に入射する。透光要素23内で全部で6回反射した後、照明波長範囲に関して選択が行なわれた光は、射出面27において透光要素23から射出する。入射面26にも射出面27にも反射防止膜を備え、入射面26における選択されるべき光の反射ができるだけ少なくなるよう、即ち選択されるべき光が透光要素23にできるだけ多く入射するようにする。内部、即ち透光要素23内への使用光の反射(戻り)ができるだけ少なくなるように、射出面27にも反射防止膜が構成される。このようにして、意図しない反射による使用光の損失が最小化される。
【0041】
図3に示した反射フィルタシステム4のビーム路には、ビーム形状成形要素28及び29が配されている。ビーム形状成形要素28及び29は、一方では収束レンズとして、他方では発散レンズとして構成される。これによって、光源3の像の位置は、反射フィルタシステム14が光源3に関連して持つような位置にもたらされる。
【0042】
図3及び図4の反射フィルタシステム4、14には、それぞれ冷却要素30が配設されている。この冷却要素30は、光源からの光を最初に反射する第1の反射フィルタ22の後部に配される。冷却要素30は、この実施例では、受動的(パッシブ)に構成され、この第1の反射フィルタ22によって反射されない光に対する光トラップとして作動する。
【0043】
図3及び図4の反射フィルタシステム4、14の4つの反射フィルタ22において、それぞれ全部で4回の反射が行なわれる。
【0044】
上記実施例は、本発明の保護されるべき教示を説明するためのものに過ぎず、当該教示は実施例に限定されるものではないことを、ここに強調しておく。
【図面の簡単な説明】
【0045】
【図1】DUV顕微鏡に適合化された従来技術から既知の照明装置の模式図。
【図2】DUV顕微鏡に適合化された本発明の照明装置の第1実施例の斜視図。
【図3】反射フィルタシステムの一例の光学的ビーム路の模式図。
【図4】反射フィルタシステムの他の一例の光学的ビーム路の模式図。
【図5】2つの反射フィルタシステムを含むハウジングの具体的一実施例を詳細に示した斜視図。
【図6】他の切換状態を示した図5のハウジング。
【図7】本発明の反射フィルタシステムの第2実施例の模式図。
【符号の説明】
【0046】
1 照明装置
2 DUV顕微鏡
3 光源
4 反射フィルタシステム
5 3からの光ビーム
6 検出器
7 ビームスプリッタ
8 顕微鏡ステージ
9 物体(被検試料)
10 対物レンズ
11 入射ビーム
12 射出ビーム
13 光学的ビーム路ずれ(移動)
14 第2の反射システム
15 4、14のハウジング
16 プレート
17 回転軸線
18 モータ
19 3のハウジング(ランプケース)
20 第2の光源のハウジング
21 機械的インタフェース
22 反射フィルタ
23 透光要素
24 境界面
25 反射層
26 入射面
27 射出面
28 ビーム形状成形要素
29 ビーム形状成形要素
30 冷却要素
Claims (19)
- 光源及び反射フィルタシステムを有すると共に、該光源からの光のビームが、複数の反射を実行しつつ該反射フィルタシステムを通過する形式の、好ましくはとりわけUV顕微鏡等の顕微鏡のための、照明装置において、
前記反射フィルタシステム(4、14)の入射ビーム(11)は、該反射フィルタシステム(4、14)の射出ビーム(12)に対し、光学的ビーム路のずれ(13)及び/又は方向変化を有するよう構成されること
を特徴とする照明装置。 - 前記反射フィルタシステム(4、14)における各反射の際の反射角は、それぞれ、少なくともほぼ同一であること
を特徴とする請求項1に記載の照明装置。 - 前記光源(3)からの光の他の波長を選択するために、前記(第1の)反射フィルタシステム(4、14)と切換え可能に配設される第2の反射フィルタシステム(4、14)を備えること
を特徴とする請求項1又は2に記載の照明装置。 - 機械的及び/又はモータ駆動的切換装置が配設されること
を特徴とする請求項3に記載の照明装置。 - 前記光源(3)は、ハウジング(19)に配設されること
を特徴とする請求項1〜4の何れか1項に記載の照明装置。 - 前記1又は複数の反射フィルタシステム(4、14)は、ハウジング(15)に配設されること
を特徴とする請求項1〜5の何れか1項に記載の照明装置。 - 前記ハウジング(15、19、20)は、好ましくは規格化された、機械的インタフェース(21)を有すること
を特徴とする請求項5又は6に記載の照明装置。 - 前記反射フィルタシステム(4、14)内の光及び/又は該反射フィルタシステム(4、14)から射出する際の光は、少なくとも大幅にコリメートされて推移すること
を特徴とする請求項1〜7の何れか1項に記載の照明装置。 - 前記反射フィルタシステム(4、14)は、好ましくは反射ノッチフィルタとして構成される、反射フィルタ(22)を有すること
を特徴とする請求項1〜8の何れか1項に記載の照明装置。 - 1つの反射フィルタシステム(4、14)が、少なくとも2つの反射フィルタ(22)を有すること
を特徴とする請求項9に記載の照明装置。 - 前記反射フィルタシステム(4)は、透光要素(23)を有し、該透光要素(23)において光を反射するために、少なくとも2つの境界面(24)が(それぞれ)反射層(25)を有すること
を特徴とする請求項1〜8の何れか1項に記載の照明装置。 - 前記複数の境界面(24)は、互いに対向するよう構成されること
を特徴とする請求項11に記載の照明装置。 - 前記複数の境界面(24)が少なくとも互いにほぼ平行をなし又は互いに僅かに楔状をなすような形状になるよう前記透光要素(23)は構成されること
を特徴とする請求項11又は12に記載の照明装置。 - 前記透光要素(23)は、主として、ガラス、石英ガラス、CaF2(ホタル石)、プレクシグラス等から製造されること
を特徴とする請求項11〜13の何れか1項に記載の照明装置。 - 前記透光要素(23)は、前記光源(3)からの光のための、好ましくは反射防止膜を備える、入射面(26)及び射出面(27)を有すること
を特徴とする請求項11〜14の何れか1項に記載の照明装置。 - 前記反射フィルタシステム(4、14)の光路又は該反射フィルタシステム(4、14)のハウジング(15)に、例えばレンズから構成されるビーム形状成形要素(28、29)を有すること
を特徴とする請求項1〜15の何れか1項に記載の照明装置。 - 前記反射フィルタシステム(4、14)に、受動的(パッシブ)及び/又は能動的(アクティブ)冷却要素(30)を有すること
を特徴とする請求項1〜16の何れか1項に記載の照明装置。 - 前記反射フィルタシステム(4、14)において少なくとも2回反射が実行されるよう構成されること
を特徴とする請求項1〜17の何れか1項に記載の照明装置。 - 請求項1〜18の何れか1項に記載の照明装置を備えることを特徴とする、とりわけ半導体検査ないし半導体測定顕微鏡等の、顕微鏡。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE10119992A DE10119992A1 (de) | 2001-04-23 | 2001-04-23 | Beleuchtungseinrichtung |
PCT/EP2002/003974 WO2002086580A2 (de) | 2001-04-23 | 2002-04-10 | Reflexionsfiltersystem in beleuchtungseinrichtung |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004531759A true JP2004531759A (ja) | 2004-10-14 |
JP2004531759A5 JP2004531759A5 (ja) | 2005-12-22 |
JP4076444B2 JP4076444B2 (ja) | 2008-04-16 |
Family
ID=7682495
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002584049A Expired - Fee Related JP4076444B2 (ja) | 2001-04-23 | 2002-04-10 | 照明装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7268940B2 (ja) |
EP (1) | EP1381902B1 (ja) |
JP (1) | JP4076444B2 (ja) |
DE (2) | DE10119992A1 (ja) |
WO (1) | WO2002086580A2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006154238A (ja) * | 2004-11-29 | 2006-06-15 | Olympus Corp | 紫外線顕微鏡 |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1572297A1 (en) * | 2002-11-28 | 2005-09-14 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Device for treating human skin by means of radiation |
DE10329406B4 (de) * | 2003-06-26 | 2009-04-02 | Carl Zeiss Jena Gmbh | Transmissions-Filtereinrichtung |
JP2006215374A (ja) * | 2005-02-04 | 2006-08-17 | Canon Inc | 結像光学系及びそれを用いた画像読取装置 |
US7764424B2 (en) * | 2006-05-15 | 2010-07-27 | Olympus Corporation | Light source apparatus and microscope apparatus |
US8774613B1 (en) | 2010-11-03 | 2014-07-08 | Lockheed Martin Corporation | Latent fingerprint imaging system |
US20130223832A1 (en) * | 2012-02-24 | 2013-08-29 | Lockheed Martin Corporation | System and method for controlling scattered light in a reflective optical filter |
US20130215499A1 (en) * | 2012-02-21 | 2013-08-22 | Semrock, Inc. | Notch filter system using spectral inversion |
JP2018146765A (ja) * | 2017-03-06 | 2018-09-20 | 河合光学株式会社 | 光学フィルターの形成方法 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2881663A (en) * | 1956-11-08 | 1959-04-14 | Frank K Dearborn | Optical filters |
US3498693A (en) * | 1967-01-24 | 1970-03-03 | Zenith Radio Corp | Radiation translating devices |
US4088884A (en) * | 1976-01-26 | 1978-05-09 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Wide aperture optical communications detector |
JPS54103060A (en) * | 1978-01-31 | 1979-08-14 | Fujitsu Ltd | Optical filter |
US4487478A (en) * | 1982-02-09 | 1984-12-11 | Pda Engineering | Laser protection device |
US4669811A (en) * | 1983-11-17 | 1987-06-02 | Pilkington P.E. Limited | Optical filtering apparatus |
JPH0894832A (ja) * | 1994-09-26 | 1996-04-12 | Fujitsu Ltd | 光学バンドパスフィルタ |
JPH08313728A (ja) * | 1995-05-16 | 1996-11-29 | Nikon Corp | 帯域フィルター |
US5867329A (en) | 1996-05-31 | 1999-02-02 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Multiple-pass reflection filter |
JP2001013319A (ja) * | 1999-07-02 | 2001-01-19 | Olympus Optical Co Ltd | 光学フィルター及びそれを備えた照明光学系 |
US6339498B1 (en) * | 1999-04-27 | 2002-01-15 | Olympus Optical Co., Ltd. | Ultraviolet microscope optical system and optical filter used in the same optical system |
DE19931954A1 (de) * | 1999-07-10 | 2001-01-11 | Leica Microsystems | Beleuchtungseinrichtung für ein DUV-Mikroskop |
-
2001
- 2001-04-23 DE DE10119992A patent/DE10119992A1/de not_active Withdrawn
-
2002
- 2002-04-10 DE DE50213740T patent/DE50213740D1/de not_active Expired - Lifetime
- 2002-04-10 WO PCT/EP2002/003974 patent/WO2002086580A2/de active Application Filing
- 2002-04-10 EP EP02732589A patent/EP1381902B1/de not_active Expired - Lifetime
- 2002-04-10 US US10/475,559 patent/US7268940B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2002-04-10 JP JP2002584049A patent/JP4076444B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006154238A (ja) * | 2004-11-29 | 2006-06-15 | Olympus Corp | 紫外線顕微鏡 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE10119992A1 (de) | 2002-10-24 |
US7268940B2 (en) | 2007-09-11 |
US20040136057A1 (en) | 2004-07-15 |
EP1381902A2 (de) | 2004-01-21 |
WO2002086580A2 (de) | 2002-10-31 |
DE50213740D1 (de) | 2009-09-17 |
EP1381902B1 (de) | 2009-08-05 |
JP4076444B2 (ja) | 2008-04-16 |
WO2002086580A3 (de) | 2003-05-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP7201731B2 (ja) | 光計測において照明を提供するためのシステム | |
US7706043B2 (en) | Device for confocal illumination of a specimen | |
JP6096814B2 (ja) | スペクトル検出を伴う光走査型顕微鏡 | |
JP6310917B2 (ja) | 光学装置および光学顕微鏡 | |
US20020097489A1 (en) | Total internal reflection fluorescence microscope having a conventional white-light source | |
US7532414B2 (en) | Reflective optical system | |
US7405874B2 (en) | Microscope for epi fluorescence and total internal reflection microscopy | |
US8270088B2 (en) | Laser combining mechanism for use in a laser scanning microscope, and a laser scanning microscope that uses it | |
JP2001272606A (ja) | 照明光学系及び照明光学系を備えた顕微鏡 | |
KR20060102278A (ko) | 프로젝터용 이미징 시스템 및 대응하는 프로젝터 | |
JP7520100B2 (ja) | 複合ビームコンバイナを用いるマルチモード広角照明 | |
JP2002055283A (ja) | マルチバンド照明型走査顕微鏡およびその光学要素 | |
JP4076444B2 (ja) | 照明装置 | |
GB2416439A (en) | Laser scanning microscope | |
US20090273831A1 (en) | Light module, optical tweezers generator and dark field microscope | |
US7764424B2 (en) | Light source apparatus and microscope apparatus | |
JP2000347106A (ja) | 少なくとも一つの光線分離器を有する顕微鏡 | |
JP2010128473A (ja) | 分散素子及び分散素子を備える光学機器 | |
JP5576649B2 (ja) | 分光器、及び、それを備えた光学装置 | |
TW579434B (en) | Inspection-microscope for several wavelength-ranges and reflection-reduction-layer for an inspection-microscope for several wavelength-ranges | |
JP2002090640A (ja) | 紫外線顕微鏡 | |
JP2004212800A (ja) | 顕微鏡照明装置及びそれを用いた共焦点顕微鏡 | |
CN107636449A (zh) | 用于以由空间选择性波长滤波器所修改的照明源将样本成像的系统及方法 | |
JP2987218B2 (ja) | 倍率可変型光学装置 | |
JP4855136B2 (ja) | 光源装置および顕微鏡装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20041206 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20041206 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070822 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070904 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20071204 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20080108 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20080129 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110208 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110208 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120208 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130208 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140208 Year of fee payment: 6 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |