JP2018146765A - 光学フィルターの形成方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】バンドパスフィルターのような透過する部材を使用しない反射を利用して、特定波長を出射することができる光学フィルターの形成方法を提供する。【解決手段】第１の波長範囲において反射率が約９９％以上を有する第１の反射体と、第２の波長範囲において反射率が約９９％以上を有する第２の反射体とを有し、第１の波長範囲と第２の波長範囲の反射率が約９９％以上の共通波長範囲は、連続した範囲を一つのみ有したものであり、共通波長範囲以外の波長範囲において、第１の反射体、第２の反射体の内、何れか一方が反射率が約１０％以下であり、第１の反射体と第２の反射体をずらして対向させ、入射光は、第１の反射体に対して鋭角に入射させ、その後、第２の反射体に反射させて、第２の反射体から共通波長範囲以外の波長範囲は反射率が１００％より０％に近い値、共通波長範囲は反射率が０％より１００％に近い値として出射させる。【選択図】図５
Description
本発明は、光学フィルターの形成方法に係り、特に、バンドパスフィルターのような透過する部材を使用しない反射を利用して、特定波長を出射することができる光学フィルターの形成方法に関する。
従来、例えば、特定波長を選択的に取り出す膜として、バンドパスフィルター(BPF)がある。
このバンドパスフィルターにあっては、誘電体多層膜により特定の波長のみを透過する機能を有するため、素材が透過する部材に限られるという問題点があった。
本発明は、上記問題点を考慮してなされたもので、透過する部材を使用しない反射を利用して、特定波長を出射することができる光学フィルターの形成方法を提供することを目的とする。
請求項１記載の光学フィルターの形成方法は、第１の波長範囲（Ａ）において反射率が約９５％以上、好ましくは、約９９％以上を有する第１の反射波長特性を有する第１の反射体と、第２の波長範囲（Ｂ）において反射率が約９５％以上、好ましくは、約９９％以上を有する第２の反射波長特性を有する第２の反射体とを有し、前記第１の波長範囲と前記第２の波長範囲の反射率が約９５％以上、好ましくは、約９９％以上の共通波長範囲（Ｃ）は、連続した範囲を一つのみ有したものであり、前記共通波長範囲（Ｃ）以外の波長範囲において、前記第１の反射体、前記第２の反射体の内、何れか一方が反射率が約１０％以下であり、入射光が前記第１の反射体に入射し、出射光が前記第２の反射体から出射するように、前記第１の反射体と前記第２の反射体をずらして対向させ、前記入射光は、前記第１の反射体に対して、鋭角に入射させ、その後、少なくとも、前記第２の反射体に反射させて、前記第２の反射体から前記共通波長範囲（Ｃ）以外の波長範囲は反射率が１００％より０％に近い値、前記共通波長範囲（Ｃ）は反射率が０％より１００％に近い値として出射させるものである。
また、請求項２記載の光学フィルターの形成方法は、第１の波長範囲（Ａ）において反射率が約９５％以上、好ましくは、約９９％以上を有する第１の反射波長特性を有する第１、第３の反射体と、第２の波長範囲（Ｂ）において反射率が約９５％以上、好ましくは、約９９％以上を有する第２の反射波長特性を有する第２、第４の反射体とを有し、前記第１の波長範囲と前記第２の波長範囲の反射率が約９５％以上、好ましくは、約９９％以上の共通波長範囲（Ｃ）は、連続した範囲を一つのみ有したものであり、前記共通波長範囲（Ｃ）以外の波長範囲において、前記第１の反射体、前記第２の反射体の内、何れか一方が反射率が約１０％以下であり、前記共通波長範囲（Ｃ）以外の波長範囲において、前記第３の反射体、前記第４の反射体の内、何れか一方が反射率が約１０％以下であり、入射光が前記第１の反射体に入射し、出射光が前記第２の反射体から出射するように、前記第１の反射体と前記第２の反射体をずらして対向させ、前記第２の反射体から光が前記第３の反射体に入射し、出射光が前記第４の反射体から出射するように、前記第３の反射体と前記第４の反射体をずらして対向させ、前記入射光は、前記第１の反射体に対して、鋭角に入射させ、その後、少なくとも、前記第２の反射体、前記第３の反射体、前記第４の反射体に反射させて、前記第４の反射体から前記共通波長範囲（Ｃ）以外の波長範囲は反射率が１００％より０％に近い値、前記共通波長範囲（Ｃ）は反射率が０％より１００％に近い値として出射させるものである。
また、請求項３記載の光学フィルターの形成方法は、第１の波長範囲（Ａ）において反射率が約９５％以上、好ましくは、約９９％以上を有する第１、第３の反射波長特性を有する第１の反射体と、第２の波長範囲（Ｂ）において反射率が約９５％以上、好ましくは、約９９％以上を有する第２、第４の反射波長特性を有する第２の反射体とを有し、前記第１、第３の波長範囲と前記第２、第４の波長範囲の反射率が約９５％以上、好ましくは、約９９％以上の共通波長範囲（Ｃ）は、連続した範囲を一つのみ有したものであり、前記共通波長範囲（Ｃ）以外の波長範囲において、前記第１、第３の反射体、前記第２、第４の反射体の内、何れか一方が反射率が約１０％以下であり、入射光が前記第１の反射体に入射し、出射光が前記第２の反射体から出射するように、前記第１の反射体と前記第２の反射体をずらして対向させ、前記第２の反射体から光が前記第４の反射体に入射し、出射光が前記第３の反射体から出射するように、前記第４の反射体と前記第３の反射体をずらして対向させ、前記入射光は、前記第１の反射体に対して、鋭角に入射させ、その後、少なくとも、前記第２の反射体、前記第４の反射体、前記第３の反射体に反射させて、前記第３の反射体から前記共通波長範囲（Ｃ）以外の波長範囲は反射率が１００％より０％に近い値、前記共通波長範囲（Ｃ）は反射率が０％より１００％に近い値として出射させるものである。
請求項１記載の光学フィルターの形成方法によれば、第１の波長範囲（Ａ）において反射率が約９５％以上、好ましくは、約９９％以上を有する第１の反射波長特性を有する第１の反射体と、第２の波長範囲（Ｂ）において反射率が約９５％以上、好ましくは、約９９％以上を有する第２の反射波長特性を有する第２の反射体と、前記第１の波長範囲と前記第２の波長範囲の反射率が約９５％以上、好ましくは、約９９％以上の共通波長範囲（Ｃ）は、連続した範囲を一つのみ有したものであり、前記共通波長範囲（Ｃ）以外の波長範囲において、前記第１の反射体、前記第２の反射体の内、何れか一方が反射率が約１０％以下であり、入射光が前記第１の反射体に入射し、出射光が前記第２の反射体から出射するように、前記第１の反射体と前記第２の反射体をずらして対向させ、前記入射光は、前記第１の反射体に対して、鋭角に入射させ、その後、少なくとも、前記第２の反射体に反射させて、前記第２の反射体から前記共通波長範囲（Ｃ）以外の波長範囲は反射率が１００％より０％に近い値、前記共通波長範囲（Ｃ）は反射率が０％より１００％に近い値として出射させるため、従来のバンドパスフィルターのような透過する部材を使用しないで、反射を利用して、共通波長範囲（Ｃ）（特定波長）を出射することができる。
また、請求項２記載の光学フィルターの形成方法によれば、第１の波長範囲（Ａ）において反射率が約９５％以上、好ましくは、約９９％以上を有する第１の反射波長特性を有する第１、第３の反射体と、第２の波長範囲（Ｂ）において反射率が約９５％以上、好ましくは、約９９％以上を有する第２の反射波長特性を有する第２、第４の反射体と、前記第１の波長範囲と前記第２の波長範囲の反射率が約９５％以上、好ましくは、約９９％以上の共通波長範囲（Ｃ）は、連続した範囲を一つのみ有したものであり、前記共通波長範囲（Ｃ）以外の波長範囲において、前記第１の反射体、前記第２の反射体の内、何れか一方が反射率が約１０％以下であり、前記共通波長範囲（Ｃ）以外の波長範囲において、前記第３の反射体、前記第４の反射体の内、何れか一方が反射率が約１０％以下であり、入射光が前記第１の反射体に入射し、出射光が前記第２の反射体から出射するように、前記第１の反射体と前記第２の反射体をずらして対向させ、前記第２の反射体から光が前記第３の反射体に入射し、出射光が前記第４の反射体から出射するように、前記第３の反射体と前記第４の反射体をずらして対向させ、前記入射光は、前記第１の反射体に対して、鋭角に入射させ、その後、少なくとも、前記第２の反射体、前記第３の反射体、前記第４の反射体に反射させて、前記第４の反射体から前記共通波長範囲（Ｃ）以外の波長範囲は反射率が１００％より０％に近い値、前記共通波長範囲（Ｃ）は反射率が０％より１００％に近い値として出射させるため、従来のバンドパスフィルターのような透過する部材を使用しないで、反射を少なくとも４回利用して、ノイズの少ない（ＳＮ比が大きい）共通波長範囲（Ｃ）（特定波長）を出射することができる。
また、請求項３記載の光学フィルターの形成方法によれば、第１の波長範囲（Ａ）において反射率が約９５％以上、好ましくは、約９９％以上を有する第１の反射波長特性を有する第１、第３の反射体と、第２の波長範囲（Ｂ）において反射率が約９５％以上、好ましくは、約９９％以上を有する第２の反射波長特性を有する第２、第４の反射体と、前記第１の波長範囲と前記第２の波長範囲の反射率が約９５％以上、好ましくは、約９９％以上の共通波長範囲（Ｃ）は、連続した範囲を一つのみ有したものであり、前記共通波長範囲（Ｃ）以外の波長範囲において、前記第１の反射体、前記第２の反射体の内、何れか一方が反射率が約１０％以下であり、前記共通波長範囲（Ｃ）以外の波長範囲において、前記第３の反射体、前記第４の反射体の内、何れか一方が反射率が約１０％以下であり、入射光が前記第１の反射体に入射し、出射光が前記第２の反射体から出射するように、前記第１の反射体と前記第２の反射体をずらして対向させ、前記第２の反射体から光が前記第４の反射体に入射し、出射光が前記第３の反射体から出射するように、前記第４の反射体と前記第３の反射体をずらして対向させ、前記入射光は、前記第１の反射体に対して、鋭角に入射させ、その後、少なくとも、前記第２の反射体、前記第４の反射体、前記第３の反射体に反射させて、前記第３の反射体から前記共通波長範囲（Ｃ）以外の波長範囲は反射率が１００％より０％に近い値、前記共通波長範囲（Ｃ）は反射率が０％より１００％に近い値として出射させるため、従来のバンドパスフィルターのような透過する部材を使用しないで、反射を少なくとも４回利用して、ノイズの少ない（ＳＮ比が大きい）共通波長範囲（Ｃ）（特定波長）を出射することができる。
本発明の一実施例の光学フィルターの形成方法を図面（図１乃至図５）を参照して説明する。
図１に示すＦは光学フィルターで、光学フィルターＦは、本体１０内に第１の反射体１、第２の反射体２を有している。
図１に示すＦは光学フィルターで、光学フィルターＦは、本体１０内に第１の反射体１、第２の反射体２を有している。
本願発明の光学フィルターの形成方法においては、説明を後述するが、第１の反射体１は、図３に示すように、第１の波長範囲（Ａ）において反射率が約９９％以上を有する第１の反射波長特性を有するものであり、第２の反射体２は、図４に示すように、第２の波長範囲（Ｂ）において反射率が約９９％以上を有するものであり、第１の波長範囲（Ａ）と第２の波長範囲（Ｂ）の反射率が約９９％以上の共通波長範囲（Ｃ）は、連続した範囲を一つのみ有したものであり、共通波長範囲（Ｃ）以外の波長範囲において、第１の反射体１、第２の反射体２の内、何れか一方が反射率が１０％以下であり、入射光が第１の反射体１に入射し、出射光が第２の反射体２から出射するように、第１の反射体１と第２の反射体２をずらして対向させ、前記入射光は、第１の反射体１に対して、鋭角に入射させ、その後、少なくとも、第２の反射体２に反射させて、第２の反射体２から前記共通波長範囲（Ｃ）以外の波長範囲は反射率が１００％より０％に近い値、共通波長範囲（Ｃ）は反射率が０％より１００％に近い値として出射させるものである。
即ち、第１の反射体１は、数種の屈折率の異なる薄膜を組み合わせ、特定の波長の反射を弱めたり強めたりできる光学薄膜で形成され、第１の反射体１の構成は、例えば、図２に示すように、基板（例えば、白板ガラスＢＫ７）に蒸着された
第１層 ＳｉＯ2 膜厚 ９２．０７ｎｍ、
第２層 ＴｉＯ2 膜厚 １１６．０９ｎｍ、
第３層 ＳｉＯ2 膜厚 ２４．９１ｎｍ、
第４層 ＴｉＯ2 膜厚 ７．３４ｎｍ、
第５層 ＳｉＯ2 膜厚 １４９．２９ｎｍ、
第６層 ＴｉＯ2 膜厚 １３．１ｎｍ、
第７層 ＳｉＯ2 膜厚 １３．７６ｎｍ、
第８層 ＴｉＯ2 膜厚 ９５．０６ｎｍ、
第９層 ＳｉＯ2 膜厚 １１．０３ｎｍ、
第１０層 ＴｉＯ2 膜厚 １３．９８ｎｍ、
第１１層 ＳｉＯ2 膜厚 １７１．４ｎｍ、
第１２層 ＴｉＯ2 膜厚 １６．８２ｎｍ、
第１３層 ＳｉＯ2 膜厚 ６．３９ｎｍ、
第１４層 ＴｉＯ2 膜厚 ７５．２９ｎｍ、
第１５層 ＳｉＯ2 膜厚 ３．６１ｎｍ、
第１６層 ＴｉＯ2 膜厚 ２５．１ｎｍ、
第１７層 ＳｉＯ2 膜厚 １８２．４４ｎｍ、
第１８層 ＴｉＯ2 膜厚 ２５．５４ｎｍ、
第１９層 ＳｉＯ2 膜厚 １．９５ｎｍ、
第２０層 ＴｉＯ2 膜厚 ６９．２２ｎｍ、
第２１層 ＳｉＯ2 膜厚 １．４１ｎｍ、
第２２層 ＴｉＯ2 膜厚 ２３．５ｎｍ、
第２３層 ＳｉＯ2 膜厚 １８２．８５ｎｍ、
第２４層 ＴｉＯ2 膜厚 １１９．４７ｎｍ、
第２５層 ＳｉＯ2 膜厚 １８２．６６ｎｍ、
第２６層 ＴｉＯ2 膜厚 １１９．１４ｎｍ、
第２７層 ＳｉＯ2 膜厚 １８２．１７ｎｍ、
第２８層 ＴｉＯ2 膜厚 １１８．８６ｎｍ、
第２９層 ＳｉＯ2 膜厚 １８１．５９ｎｍ、
第３０層 ＴｉＯ2 膜厚 １１８．６２ｎｍ、
第３１層 ＳｉＯ2 膜厚 １８１．５２ｎｍ、
第３２層 ＴｉＯ2 膜厚 １１８．６ｎｍ、
第３３層 ＳｉＯ2 膜厚 １８１．４１ｎｍ、
第３４層 ＴｉＯ2 膜厚 １１８．５４ｎｍ、
第３５層 ＳｉＯ2 膜厚 １８１．３ｎｍ、
第３６層 ＴｉＯ2 膜厚 １１８．４４ｎｍ、
第３７層 ＳｉＯ2 膜厚 １８１．１４ｎｍ、
第３８層 ＴｉＯ2 膜厚 １１８．３５ｎｍ、
第３９層 ＳｉＯ2 膜厚 １８１．１６ｎｍ、
第４０層 ＴｉＯ2 膜厚 １１８．４５ｎｍ、
第４１層 ＳｉＯ2 膜厚 １８１．３５ｎｍ、
第４２層 ＴｉＯ2 膜厚 １１８．５６ｎｍ、
第４３層 ＳｉＯ2 膜厚 １８１．４１ｎｍ、
第４４層 ＴｉＯ2 膜厚 １１８．５８ｎｍ、
第４５層 ＳｉＯ2 膜厚 １８１．３５ｎｍ、
第４６層 ＴｉＯ2 膜厚 １１８．４４ｎｍ、
第４７層 ＳｉＯ2 膜厚 １８１．０６ｎｍ、
第４８層 ＴｉＯ2 膜厚 ２２．２５ｎｍ、
第４９層 ＳｉＯ2 膜厚 ０．５ｎｍ、
第５０層 ＴｉＯ2 膜厚 ９６．０６ｎｍ、
第５１層 ＳｉＯ2 膜厚 １８１．３５ｎｍ、
第５２層 ＴｉＯ2 膜厚 １１８．８５ｎｍ、
第５３層 ＳｉＯ2 膜厚 １８２．０３ｎｍ、
第５４層 ＴｉＯ2 膜厚 １１９．３９ｎｍ、
第５５層 ＳｉＯ2 膜厚 １８２．９５ｎｍ、
第５６層 ＴｉＯ2 膜厚 １１９．９２ｎｍ、
第５７層 ＳｉＯ2 膜厚 １８３．３８ｎｍ、
第５８層 ＴｉＯ2 膜厚 ９５．１５ｎｍ、
第５９層 ＳｉＯ2 膜厚 １．４ｎｍ、
第６０層 ＴｉＯ2 膜厚 ２４．４４ｎｍ、
第６１層 ＳｉＯ2 膜厚 １８２．１６ｎｍ、
第６２層 ＴｉＯ2 膜厚 １７．９９ｎｍ、
第６３層 ＳｉＯ2 膜厚 ４．１９ｎｍ、
第６４層 ＴｉＯ2 膜厚 ７０．６２ｎｍ、
第６５層 ＳｉＯ2 膜厚 ５．０５ｎｍ、
第６６層 ＴｉＯ2 膜厚 ２８．５２ｎｍ、
第６７層 ＳｉＯ2 膜厚 １８５．５４ｎｍ、
第６８層 ＴｉＯ2 膜厚 １２２．９８ｎｍ、
第６９層 ＳｉＯ2 膜厚 ４０．８９ｎｍ、
第７０層 ＴｉＯ2 膜厚 ５．７１ｎｍ、
第７１層 ＳｉＯ2 膜厚 １４４．４１ｎｍ、
第７２層 ＴｉＯ2 膜厚 ２８．５３ｎｍ、
第７３層 ＳｉＯ2 膜厚 １７．１１ｎｍ、
第７４層 ＴｉＯ2 膜厚 ８０．８ｎｍ、
第７５層 ＳｉＯ2 膜厚 ２６．６３ｎｍ、
第７６層 ＴｉＯ2 膜厚 ２０．４３ｎｍとなっている。
そして、第１の反射体１の特性は、第１の波長範囲（Ａ）［例えば、約９３０ｎｍ〜約１１９０ｎｍ］において反射率が約９９％以上を有する第１の反射波長特性を有するもので、例えば、図３に示されているように、約４００ｎｍ〜約９１０ｎｍの波長範囲で、約０．１（１０％）以下の約０．０５（約５％）、約９３０ｎｍ〜約１１９０ｎｍの波長範囲で、約０．９９（約９９％）、約１２００ｎｍ〜約２０５０ｎｍの波長範囲で、反射率が約０．９０から約０．２（約９０％から約２０％）まで下がり、約２０５０ｎｍ〜約３０００ｎｍの波長範囲で約０．２（約２０％）を超えない範囲で反射率が上下動している。
第１層 ＳｉＯ2 膜厚 ９２．０７ｎｍ、
第２層 ＴｉＯ2 膜厚 １１６．０９ｎｍ、
第３層 ＳｉＯ2 膜厚 ２４．９１ｎｍ、
第４層 ＴｉＯ2 膜厚 ７．３４ｎｍ、
第５層 ＳｉＯ2 膜厚 １４９．２９ｎｍ、
第６層 ＴｉＯ2 膜厚 １３．１ｎｍ、
第７層 ＳｉＯ2 膜厚 １３．７６ｎｍ、
第８層 ＴｉＯ2 膜厚 ９５．０６ｎｍ、
第９層 ＳｉＯ2 膜厚 １１．０３ｎｍ、
第１０層 ＴｉＯ2 膜厚 １３．９８ｎｍ、
第１１層 ＳｉＯ2 膜厚 １７１．４ｎｍ、
第１２層 ＴｉＯ2 膜厚 １６．８２ｎｍ、
第１３層 ＳｉＯ2 膜厚 ６．３９ｎｍ、
第１４層 ＴｉＯ2 膜厚 ７５．２９ｎｍ、
第１５層 ＳｉＯ2 膜厚 ３．６１ｎｍ、
第１６層 ＴｉＯ2 膜厚 ２５．１ｎｍ、
第１７層 ＳｉＯ2 膜厚 １８２．４４ｎｍ、
第１８層 ＴｉＯ2 膜厚 ２５．５４ｎｍ、
第１９層 ＳｉＯ2 膜厚 １．９５ｎｍ、
第２０層 ＴｉＯ2 膜厚 ６９．２２ｎｍ、
第２１層 ＳｉＯ2 膜厚 １．４１ｎｍ、
第２２層 ＴｉＯ2 膜厚 ２３．５ｎｍ、
第２３層 ＳｉＯ2 膜厚 １８２．８５ｎｍ、
第２４層 ＴｉＯ2 膜厚 １１９．４７ｎｍ、
第２５層 ＳｉＯ2 膜厚 １８２．６６ｎｍ、
第２６層 ＴｉＯ2 膜厚 １１９．１４ｎｍ、
第２７層 ＳｉＯ2 膜厚 １８２．１７ｎｍ、
第２８層 ＴｉＯ2 膜厚 １１８．８６ｎｍ、
第２９層 ＳｉＯ2 膜厚 １８１．５９ｎｍ、
第３０層 ＴｉＯ2 膜厚 １１８．６２ｎｍ、
第３１層 ＳｉＯ2 膜厚 １８１．５２ｎｍ、
第３２層 ＴｉＯ2 膜厚 １１８．６ｎｍ、
第３３層 ＳｉＯ2 膜厚 １８１．４１ｎｍ、
第３４層 ＴｉＯ2 膜厚 １１８．５４ｎｍ、
第３５層 ＳｉＯ2 膜厚 １８１．３ｎｍ、
第３６層 ＴｉＯ2 膜厚 １１８．４４ｎｍ、
第３７層 ＳｉＯ2 膜厚 １８１．１４ｎｍ、
第３８層 ＴｉＯ2 膜厚 １１８．３５ｎｍ、
第３９層 ＳｉＯ2 膜厚 １８１．１６ｎｍ、
第４０層 ＴｉＯ2 膜厚 １１８．４５ｎｍ、
第４１層 ＳｉＯ2 膜厚 １８１．３５ｎｍ、
第４２層 ＴｉＯ2 膜厚 １１８．５６ｎｍ、
第４３層 ＳｉＯ2 膜厚 １８１．４１ｎｍ、
第４４層 ＴｉＯ2 膜厚 １１８．５８ｎｍ、
第４５層 ＳｉＯ2 膜厚 １８１．３５ｎｍ、
第４６層 ＴｉＯ2 膜厚 １１８．４４ｎｍ、
第４７層 ＳｉＯ2 膜厚 １８１．０６ｎｍ、
第４８層 ＴｉＯ2 膜厚 ２２．２５ｎｍ、
第４９層 ＳｉＯ2 膜厚 ０．５ｎｍ、
第５０層 ＴｉＯ2 膜厚 ９６．０６ｎｍ、
第５１層 ＳｉＯ2 膜厚 １８１．３５ｎｍ、
第５２層 ＴｉＯ2 膜厚 １１８．８５ｎｍ、
第５３層 ＳｉＯ2 膜厚 １８２．０３ｎｍ、
第５４層 ＴｉＯ2 膜厚 １１９．３９ｎｍ、
第５５層 ＳｉＯ2 膜厚 １８２．９５ｎｍ、
第５６層 ＴｉＯ2 膜厚 １１９．９２ｎｍ、
第５７層 ＳｉＯ2 膜厚 １８３．３８ｎｍ、
第５８層 ＴｉＯ2 膜厚 ９５．１５ｎｍ、
第５９層 ＳｉＯ2 膜厚 １．４ｎｍ、
第６０層 ＴｉＯ2 膜厚 ２４．４４ｎｍ、
第６１層 ＳｉＯ2 膜厚 １８２．１６ｎｍ、
第６２層 ＴｉＯ2 膜厚 １７．９９ｎｍ、
第６３層 ＳｉＯ2 膜厚 ４．１９ｎｍ、
第６４層 ＴｉＯ2 膜厚 ７０．６２ｎｍ、
第６５層 ＳｉＯ2 膜厚 ５．０５ｎｍ、
第６６層 ＴｉＯ2 膜厚 ２８．５２ｎｍ、
第６７層 ＳｉＯ2 膜厚 １８５．５４ｎｍ、
第６８層 ＴｉＯ2 膜厚 １２２．９８ｎｍ、
第６９層 ＳｉＯ2 膜厚 ４０．８９ｎｍ、
第７０層 ＴｉＯ2 膜厚 ５．７１ｎｍ、
第７１層 ＳｉＯ2 膜厚 １４４．４１ｎｍ、
第７２層 ＴｉＯ2 膜厚 ２８．５３ｎｍ、
第７３層 ＳｉＯ2 膜厚 １７．１１ｎｍ、
第７４層 ＴｉＯ2 膜厚 ８０．８ｎｍ、
第７５層 ＳｉＯ2 膜厚 ２６．６３ｎｍ、
第７６層 ＴｉＯ2 膜厚 ２０．４３ｎｍとなっている。
そして、第１の反射体１の特性は、第１の波長範囲（Ａ）［例えば、約９３０ｎｍ〜約１１９０ｎｍ］において反射率が約９９％以上を有する第１の反射波長特性を有するもので、例えば、図３に示されているように、約４００ｎｍ〜約９１０ｎｍの波長範囲で、約０．１（１０％）以下の約０．０５（約５％）、約９３０ｎｍ〜約１１９０ｎｍの波長範囲で、約０．９９（約９９％）、約１２００ｎｍ〜約２０５０ｎｍの波長範囲で、反射率が約０．９０から約０．２（約９０％から約２０％）まで下がり、約２０５０ｎｍ〜約３０００ｎｍの波長範囲で約０．２（約２０％）を超えない範囲で反射率が上下動している。
第２の反射体２は、第１の反射体１と同様に、数種の屈折率の異なる薄膜を組み合わせ、特定の波長の反射を弱めたり強めたりできる光学薄膜で形成され、第２の反射体２の構成は、例えば、図２に示すように、基板（例えば、白板ガラスＢＫ７）に蒸着された
第１層 ＳｉＯ2 膜厚 ３３７．８３ｎｍ、
第２層 ＴｉＯ 膜厚 ６０．３６ｎｍ、
第３層 ＳｉＯ2 膜厚 １２８．３５ｎｍ、
第４層 ＴｉＯ 膜厚 １０２．０８ｎｍ、
第５層 ＳｉＯ2 膜厚 １２９．７７ｎｍ、
第６層 ＴｉＯ 膜厚 ９３．６７ｎｍ、
第７層 ＳｉＯ2 膜厚 １４６．０１ｎｍ、
第８層 ＴｉＯ 膜厚 ８６．３２ｎｍ、
第９層 ＳｉＯ2 膜厚 １５０．５７ｎｍ、
第１０層 ＴｉＯ 膜厚 ９４．０４ｎｍ、
第１１層 ＳｉＯ2 膜厚 １３９．４２ｎｍ、
第１２層 ＴｉＯ 膜厚 ９５．７５ｎｍ、
第１３層 ＳｉＯ2 膜厚 １４２．６２ｎｍ、
第１４層 ＴｉＯ 膜厚 ９２．８６ｎｍ、
第１５層 ＳｉＯ2 膜厚 １４７．９６ｎｍ、
第１６層 ＴｉＯ 膜厚 ９１．２１ｎｍ、
第１７層 ＳｉＯ2 膜厚 １４４．８８ｎｍ、
第１８層 ＴｉＯ 膜厚 ９６．３８ｎｍ、
第１９層 ＳｉＯ2 膜厚 １４０．０３ｎｍ、
第２０層 ＴｉＯ 膜厚 ９６．０７ｎｍ、
第２１層 ＳｉＯ2 膜厚 １４６．２ｎｍ、
第２２層 ＴｉＯ 膜厚 ９０．４７ｎｍ、
第２３層 ＳｉＯ2 膜厚 １４５．９７ｎｍ、
第２４層 ＴｉＯ 膜厚 ９６．５１ｎｍ、
第２５層 ＳｉＯ2 膜厚 １４０．７６ｎｍ、
第２６層 ＴｉＯ 膜厚 ９５．３９ｎｍ、
第２７層 ＳｉＯ2 膜厚 １４３．８９ｎｍ、
第２８層 ＴｉＯ 膜厚 ９４．２９ｎｍ、
第２９層 ＳｉＯ2 膜厚 １４４．１３ｎｍ、
第３０層 ＴｉＯ 膜厚 ９３．０７ｎｍ、
第３１層 ＳｉＯ2 膜厚 １４４．９４ｎｍ、
第３２層 ＴｉＯ 膜厚 ９７．０４ｎｍ、
第３３層 ＳｉＯ2 膜厚 １３８．６７ｎｍ、
第３４層 ＴｉＯ 膜厚 ９３．７８ｎｍ、
第３５層 ＳｉＯ2 膜厚 １４９．１８ｎｍ、
第３６層 ＴｉＯ 膜厚 ９０．３７ｎｍ、
第３７層 ＳｉＯ2 膜厚 １４７．４７ｎｍ、
第３８層 ＴｉＯ 膜厚 ９２．２３ｎｍ、
第３９層 ＳｉＯ2 膜厚 １４６．１７ｎｍ、
第４０層 ＴｉＯ 膜厚 ９１．９５ｎｍ、
第４１層 ＳｉＯ2 膜厚 １４４．９９ｎｍ、
第４２層 ＴｉＯ 膜厚 ８９．９４ｎｍ、
第４３層 ＳｉＯ2 膜厚 １４７．０５ｎｍ、
第４４層 ＴｉＯ 膜厚 ９１．６ｎｍ、
第４５層 ＳｉＯ2 膜厚 １３５．２９ｎｍ、
第４６層 ＴｉＯ 膜厚 ９６．１６ｎｍ、
第４７層 ＳｉＯ2 膜厚 １２９．８１ｎｍ、
第４８層 ＴｉＯ 膜厚 ８５．９４ｎｍ、
第４９層 ＳｉＯ2 膜厚 １４５．７８ｎｍ、
第５０層 ＴｉＯ 膜厚 ４２．３８ｎｍ、
第５１層 ＳｉＯ2 膜厚 ５８３．５ｎｍとなっている。
そして、第２の反射体２の特性は、第２の波長範囲（Ｂ）［例えば、約９３０ｎｍ〜約１１９０ｎｍ］において反射率が約９９％以上を有する第２の反射波長特性を有するもので、例えば、図４に示されているように、約４００ｎｍ〜約７００ｎｍの波長範囲で、約０．０５〜約０．９の範囲（約５％〜約９０％の範囲）で上下動し、約７３０ｎｍ〜約約９４０ｎｍの波長範囲で、約０．９９（約９９％）、約９５０〜約３０００ｎｍの波長範囲で反射率が約０．１以下（約１０％以下）となっている。
第１層 ＳｉＯ2 膜厚 ３３７．８３ｎｍ、
第２層 ＴｉＯ 膜厚 ６０．３６ｎｍ、
第３層 ＳｉＯ2 膜厚 １２８．３５ｎｍ、
第４層 ＴｉＯ 膜厚 １０２．０８ｎｍ、
第５層 ＳｉＯ2 膜厚 １２９．７７ｎｍ、
第６層 ＴｉＯ 膜厚 ９３．６７ｎｍ、
第７層 ＳｉＯ2 膜厚 １４６．０１ｎｍ、
第８層 ＴｉＯ 膜厚 ８６．３２ｎｍ、
第９層 ＳｉＯ2 膜厚 １５０．５７ｎｍ、
第１０層 ＴｉＯ 膜厚 ９４．０４ｎｍ、
第１１層 ＳｉＯ2 膜厚 １３９．４２ｎｍ、
第１２層 ＴｉＯ 膜厚 ９５．７５ｎｍ、
第１３層 ＳｉＯ2 膜厚 １４２．６２ｎｍ、
第１４層 ＴｉＯ 膜厚 ９２．８６ｎｍ、
第１５層 ＳｉＯ2 膜厚 １４７．９６ｎｍ、
第１６層 ＴｉＯ 膜厚 ９１．２１ｎｍ、
第１７層 ＳｉＯ2 膜厚 １４４．８８ｎｍ、
第１８層 ＴｉＯ 膜厚 ９６．３８ｎｍ、
第１９層 ＳｉＯ2 膜厚 １４０．０３ｎｍ、
第２０層 ＴｉＯ 膜厚 ９６．０７ｎｍ、
第２１層 ＳｉＯ2 膜厚 １４６．２ｎｍ、
第２２層 ＴｉＯ 膜厚 ９０．４７ｎｍ、
第２３層 ＳｉＯ2 膜厚 １４５．９７ｎｍ、
第２４層 ＴｉＯ 膜厚 ９６．５１ｎｍ、
第２５層 ＳｉＯ2 膜厚 １４０．７６ｎｍ、
第２６層 ＴｉＯ 膜厚 ９５．３９ｎｍ、
第２７層 ＳｉＯ2 膜厚 １４３．８９ｎｍ、
第２８層 ＴｉＯ 膜厚 ９４．２９ｎｍ、
第２９層 ＳｉＯ2 膜厚 １４４．１３ｎｍ、
第３０層 ＴｉＯ 膜厚 ９３．０７ｎｍ、
第３１層 ＳｉＯ2 膜厚 １４４．９４ｎｍ、
第３２層 ＴｉＯ 膜厚 ９７．０４ｎｍ、
第３３層 ＳｉＯ2 膜厚 １３８．６７ｎｍ、
第３４層 ＴｉＯ 膜厚 ９３．７８ｎｍ、
第３５層 ＳｉＯ2 膜厚 １４９．１８ｎｍ、
第３６層 ＴｉＯ 膜厚 ９０．３７ｎｍ、
第３７層 ＳｉＯ2 膜厚 １４７．４７ｎｍ、
第３８層 ＴｉＯ 膜厚 ９２．２３ｎｍ、
第３９層 ＳｉＯ2 膜厚 １４６．１７ｎｍ、
第４０層 ＴｉＯ 膜厚 ９１．９５ｎｍ、
第４１層 ＳｉＯ2 膜厚 １４４．９９ｎｍ、
第４２層 ＴｉＯ 膜厚 ８９．９４ｎｍ、
第４３層 ＳｉＯ2 膜厚 １４７．０５ｎｍ、
第４４層 ＴｉＯ 膜厚 ９１．６ｎｍ、
第４５層 ＳｉＯ2 膜厚 １３５．２９ｎｍ、
第４６層 ＴｉＯ 膜厚 ９６．１６ｎｍ、
第４７層 ＳｉＯ2 膜厚 １２９．８１ｎｍ、
第４８層 ＴｉＯ 膜厚 ８５．９４ｎｍ、
第４９層 ＳｉＯ2 膜厚 １４５．７８ｎｍ、
第５０層 ＴｉＯ 膜厚 ４２．３８ｎｍ、
第５１層 ＳｉＯ2 膜厚 ５８３．５ｎｍとなっている。
そして、第２の反射体２の特性は、第２の波長範囲（Ｂ）［例えば、約９３０ｎｍ〜約１１９０ｎｍ］において反射率が約９９％以上を有する第２の反射波長特性を有するもので、例えば、図４に示されているように、約４００ｎｍ〜約７００ｎｍの波長範囲で、約０．０５〜約０．９の範囲（約５％〜約９０％の範囲）で上下動し、約７３０ｎｍ〜約約９４０ｎｍの波長範囲で、約０．９９（約９９％）、約９５０〜約３０００ｎｍの波長範囲で反射率が約０．１以下（約１０％以下）となっている。
上述した本願発明の第１の波長範囲（Ａ）と第２の波長範囲（Ｂ）の反射率が約９９％以上の共通波長範囲（Ｃ）（特定波長）は、連続した範囲を一つのみ有したものとは、本実施例では、例えば、約９３０ｎｍ〜約９４０ｎｍの波長範囲である。
そして、共通波長範囲（Ｃ）以外の波長範囲において、第１の反射体１、第２の反射体２の内、何れか一方が反射率が約１０％以下、本実施例では、例えば、第１の反射体１は、約４００ｎｍ〜約９１０ｎｍの波長範囲で約０．１（１０％）以下の約０．０５、第２の反射体２は、約９５０〜約３０００ｎｍの波長範囲で反射率が約０．１以下（約１０％以下）となっている。
そして、共通波長範囲（Ｃ）以外の波長範囲において、第１の反射体１、第２の反射体２の内、何れか一方が反射率が約１０％以下、本実施例では、例えば、第１の反射体１は、約４００ｎｍ〜約９１０ｎｍの波長範囲で約０．１（１０％）以下の約０．０５、第２の反射体２は、約９５０〜約３０００ｎｍの波長範囲で反射率が約０．１以下（約１０％以下）となっている。
また、第１の反射体１と第２の反射体２は、図１に示すように、入射光が第１の反射体１に入射し、出射光が第２の反射体２から出射するように、第１の反射体１と第２の反射体２をずらして対向させるようにしている。
その結果、入射光は、第１の反射体１に対して、鋭角に入射すると、第１の反射体１の光学薄膜により、特定の波長の反射を弱める。具体的には、図３に示されるようになる。
そして、第１の反射体１の光学薄膜により吸収、反射等して、反射光が第２の反射体２に入射することとなる。
入射した光は、第２の反射体２の光学薄膜により、特定の波長の反射を弱め、具体的には、図５に示されるようになる。
第１の反射体１の第１の反射波長特性と第２の反射体２の第２の反射波長特性とは、ずれると共に、第１の波長範囲（Ａ）と第２の波長範囲（Ｂ）の共通波長範囲（Ｃ）が、連続した範囲（設定した範囲）を一つのみ有するように設定しているため、入射光より設定した範囲の波長を出射光として取り出すことができる。
つまり、第１の反射体１及び第２の反射体２は、従来のバンドパスフィルターのような透過する部材を使用しないで、反射を利用した光学フィルターＦを得ることができる。
なお、第１の波長範囲（Ａ）と第２の波長範囲（Ｂ）の共通波長範囲（Ｃ）が、連続した範囲（設定した範囲）を一つのみ有するように設定するようにすれば、一つの共通波長範囲（Ｃ）に合うように、特定の波長（本実施例では、例えば、約９３０ｎｍ〜約９４０ｎｍの波長範囲）の反射を弱める光学薄膜を第１の反射体１、第２の反射体２にそれぞれ設けるようにすれば良い。
その結果、入射光は、第１の反射体１に対して、鋭角に入射すると、第１の反射体１の光学薄膜により、特定の波長の反射を弱める。具体的には、図３に示されるようになる。
そして、第１の反射体１の光学薄膜により吸収、反射等して、反射光が第２の反射体２に入射することとなる。
入射した光は、第２の反射体２の光学薄膜により、特定の波長の反射を弱め、具体的には、図５に示されるようになる。
第１の反射体１の第１の反射波長特性と第２の反射体２の第２の反射波長特性とは、ずれると共に、第１の波長範囲（Ａ）と第２の波長範囲（Ｂ）の共通波長範囲（Ｃ）が、連続した範囲（設定した範囲）を一つのみ有するように設定しているため、入射光より設定した範囲の波長を出射光として取り出すことができる。
つまり、第１の反射体１及び第２の反射体２は、従来のバンドパスフィルターのような透過する部材を使用しないで、反射を利用した光学フィルターＦを得ることができる。
なお、第１の波長範囲（Ａ）と第２の波長範囲（Ｂ）の共通波長範囲（Ｃ）が、連続した範囲（設定した範囲）を一つのみ有するように設定するようにすれば、一つの共通波長範囲（Ｃ）に合うように、特定の波長（本実施例では、例えば、約９３０ｎｍ〜約９４０ｎｍの波長範囲）の反射を弱める光学薄膜を第１の反射体１、第２の反射体２にそれぞれ設けるようにすれば良い。
従って、光学フィルターの形成方法によれば、第１の波長範囲（Ａ）において反射率が約９９％以上を有する第１の反射波長特性を有する第１の反射体１と、第２の波長範囲（Ｂ）において反射率が約９９％以上を有する第２の反射波長特性を有する第２の反射体２と、前記第１の波長範囲と前記第２の波長範囲の反射率が約９９％以上の共通波長範囲（Ｃ）は、連続した範囲を一つのみ有したものであり、前記共通波長範囲（Ｃ）以外の波長範囲において、第１の反射体１、第２の反射体２の内、何れか一方が反射率が約１０％以下であり、入射光が第１の反射体１に入射し、出射光が第２の反射体２から出射するように、第１の反射体１と第２の反射体２をずらして対向させ、前記入射光は、第１の反射体１に対して、鋭角に入射させ、その後、少なくとも、第２の反射体２に反射させて、第２の反射体２から前記共通波長範囲（Ｃ）以外の波長範囲は反射率が１００％より０％に近い値、前記共通波長範囲（Ｃ）は反射率が０％より１００％に近い値として出射させるため、従来のバンドパスフィルターのような透過する部材を使用しないで、反射を利用して、共通波長範囲（Ｃ）（特定波長）を出射することができる。
なお、本発明のおける光学フィルターの形成方法においては、少なくとも、入射した光を第１の反射体１で反射し、該反射した光を第２の反射体２で反射させて、出射させても良いが、望ましくは、図６に示すように、第１の反射体と第２の反射体との間で複数回（例えば、４回）反射させるのが良い。
これは、共通波長範囲（Ｃ）以外の波長を弱めて、ノイズの少ない（ＳＮ比の大きい）出射光を得ることができるようにするためである。
即ち、第３の反射体３は、上述した第１の反射体１と同様の構成と薄膜厚さを有して、第１の波長範囲（Ａ）において反射率が約９９％以上を有する第１の反射波長特性を有する（図３参照）。
第４の反射体４は、上述した第２の反射体２と同様の構成と薄膜厚さを有して、第２の波長範囲（Ｂ）において反射率が約９９％以上を有する第２の反射波長特性を有する（図４参照）。
また、図３及び図４に示すように、前記第１の波長範囲と前記第２の波長範囲の反射率が約９９％以上の共通波長範囲（Ｃ）は、連続した範囲を一つのみ有したものであり、前記共通波長範囲（Ｃ）以外の波長範囲において、前記第１の反射体、前記第２の反射体の内、何れか一方が反射率が約１０％以下であり、前記共通波長範囲（Ｃ）以外の波長範囲において、前記第３の反射体、前記第４の反射体の内、何れか一方が反射率が約１０％以下である。
そして、図６に示すように、入射光が第１の反射体１に入射し、出射光が第２の反射体２から出射するように、第１の反射体１と第２の反射体２をずらして対向させ、第２の反射体２から光が第３の反射体３に入射し、出射光が第４の反射体４から出射するように、第３の反射体３と第４の反射体４をずらして対向させ、前記入射光は、第１の反射体１に対して、鋭角に入射させ、その後、少なくとも、第２の反射体２、第３の反射体３、第４の反射体４に反射させて、第４の反射体４から前記共通波長範囲（Ｃ）以外の波長範囲は反射率が１００％より０％に近い値、前記共通波長範囲（Ｃ）は反射率が０％より１００％に近い値として出射させるものである（図７参照）。
なお、図７は、第１の反射体１と第２の反射体２との間、第３の反射体３と第４の反射体４との間で複数回（例えば、４回）反射させた場合の出射光の反射波長特性を示すグラフで、横軸は波長、縦軸は反射率を示したものである。
これは、共通波長範囲（Ｃ）以外の波長を弱めて、ノイズの少ない（ＳＮ比の大きい）出射光を得ることができるようにするためである。
即ち、第３の反射体３は、上述した第１の反射体１と同様の構成と薄膜厚さを有して、第１の波長範囲（Ａ）において反射率が約９９％以上を有する第１の反射波長特性を有する（図３参照）。
第４の反射体４は、上述した第２の反射体２と同様の構成と薄膜厚さを有して、第２の波長範囲（Ｂ）において反射率が約９９％以上を有する第２の反射波長特性を有する（図４参照）。
また、図３及び図４に示すように、前記第１の波長範囲と前記第２の波長範囲の反射率が約９９％以上の共通波長範囲（Ｃ）は、連続した範囲を一つのみ有したものであり、前記共通波長範囲（Ｃ）以外の波長範囲において、前記第１の反射体、前記第２の反射体の内、何れか一方が反射率が約１０％以下であり、前記共通波長範囲（Ｃ）以外の波長範囲において、前記第３の反射体、前記第４の反射体の内、何れか一方が反射率が約１０％以下である。
そして、図６に示すように、入射光が第１の反射体１に入射し、出射光が第２の反射体２から出射するように、第１の反射体１と第２の反射体２をずらして対向させ、第２の反射体２から光が第３の反射体３に入射し、出射光が第４の反射体４から出射するように、第３の反射体３と第４の反射体４をずらして対向させ、前記入射光は、第１の反射体１に対して、鋭角に入射させ、その後、少なくとも、第２の反射体２、第３の反射体３、第４の反射体４に反射させて、第４の反射体４から前記共通波長範囲（Ｃ）以外の波長範囲は反射率が１００％より０％に近い値、前記共通波長範囲（Ｃ）は反射率が０％より１００％に近い値として出射させるものである（図７参照）。
なお、図７は、第１の反射体１と第２の反射体２との間、第３の反射体３と第４の反射体４との間で複数回（例えば、４回）反射させた場合の出射光の反射波長特性を示すグラフで、横軸は波長、縦軸は反射率を示したものである。
また、上述の実施例においては、入射光と出射光の光軸がずれているが、図６に記載のようにすれば、入射光と出射光の光軸を一致させることができる。図７に示す３は、第１の反射体１と同じ特性を有する反射体（第３の反射体）であり、４は、第２の反射体２と同じ特性を有する反射体（第４の反射体）である。
なお、図６においては、光を第１の反射体１、第２の反射体２、第３の反射体３、第４の反射体４の順に導くようにしたが、本願発明にあって、図６記載の第３の反射体３と第４の反射体４を入れ替えて、図８に示すように、光を第１の反射体１、第２の反射体２、第４の反射体４、第３の反射体３の順に導くようにしても良い。
なお、図６においては、光を第１の反射体１、第２の反射体２、第３の反射体３、第４の反射体４の順に導くようにしたが、本願発明にあって、図６記載の第３の反射体３と第４の反射体４を入れ替えて、図８に示すように、光を第１の反射体１、第２の反射体２、第４の反射体４、第３の反射体３の順に導くようにしても良い。
なお、第１の反射体１は、第１の波長範囲（Ａ）において反射率が好ましい例として、約９９％以上を有する第１の反射波長特性を有するものとしたが、本願発明にあっては、反射率が約９５％以上あれば良い。反射率が約９５％以上にするには、第１層〜第７５層を少なく構成することにより得られる。
また、第２の反射体２は、第２の波長範囲（Ｂ）において反射率が好ましい例として、約９９％以上を有する第２の反射波長特性を有するものとしたが、本願発明にあっては、反射率が約９５％以上あれば良い。反射率が約９５％以上にするには、第１層〜第５１層を少なく構成することにより得られる。
また、本実施例では、一つの共通波長範囲（Ｃ）に合うように、特定の波長（本実施例では、例えば、約９３０ｎｍ〜約９４０ｎｍの波長範囲）の反射を弱める光学薄膜を第１の反射体１、第２の反射体２にそれぞれ設けるようにしたが、特定の波長（本実施例では、例えば、約９３０ｎｍ〜約９４０ｎｍの波長範囲）以外に、共通波長範囲（Ｃ）を設けるには、第１の反射体１の第１層〜第７５層における膜厚、第２の反射体２の第１層〜第５１層における膜厚を変えることにより得ることができる。
また、第２の反射体２は、第２の波長範囲（Ｂ）において反射率が好ましい例として、約９９％以上を有する第２の反射波長特性を有するものとしたが、本願発明にあっては、反射率が約９５％以上あれば良い。反射率が約９５％以上にするには、第１層〜第５１層を少なく構成することにより得られる。
また、本実施例では、一つの共通波長範囲（Ｃ）に合うように、特定の波長（本実施例では、例えば、約９３０ｎｍ〜約９４０ｎｍの波長範囲）の反射を弱める光学薄膜を第１の反射体１、第２の反射体２にそれぞれ設けるようにしたが、特定の波長（本実施例では、例えば、約９３０ｎｍ〜約９４０ｎｍの波長範囲）以外に、共通波長範囲（Ｃ）を設けるには、第１の反射体１の第１層〜第７５層における膜厚、第２の反射体２の第１層〜第５１層における膜厚を変えることにより得ることができる。
１ 第１の反射体
２ 第２の反射体
２ 第２の反射体
Claims (3)
- 第１の波長範囲（Ａ）において反射率が約９５％以上、好ましくは、約９９％以上を有する第１の反射波長特性を有する第１の反射体と、
第２の波長範囲（Ｂ）において反射率が約９５％以上、好ましくは、約９９％以上を有する第２の反射波長特性を有する第２の反射体とを有し、
前記第１の波長範囲と前記第２の波長範囲の反射率が約９５％以上、好ましくは、約９９％以上の共通波長範囲（Ｃ）は、連続した範囲を一つのみ有したものであり、
前記共通波長範囲（Ｃ）以外の波長範囲において、前記第１の反射体、前記第２の反射体の内、何れか一方が反射率が約１０％以下であり、
入射光が前記第１の反射体に入射し、出射光が前記第２の反射体から出射するように、前記第１の反射体と前記第２の反射体をずらして対向させ、
前記入射光は、前記第１の反射体に対して、鋭角に入射させ、その後、少なくとも、前記第２の反射体に反射させて、前記第２の反射体から前記共通波長範囲（Ｃ）以外の波長範囲は反射率が１００％より０％に近い値、前記共通波長範囲（Ｃ）は反射率が０％より１００％に近い値として出射させる
ことを特徴とする光学フィルターの形成方法。 - 第１の波長範囲（Ａ）において反射率が約９５％以上、好ましくは、約９９％以上を有する第１の反射波長特性を有する第１、第３の反射体と、
第２の波長範囲（Ｂ）において反射率が約９５％以上、好ましくは、約９９％以上を有する第２の反射波長特性を有する第２、第４の反射体とを有し、
前記第１の波長範囲と前記第２の波長範囲の反射率が約９５％以上、好ましくは、約９９％以上の共通波長範囲（Ｃ）は、連続した範囲を一つのみ有したものであり、
前記共通波長範囲（Ｃ）以外の波長範囲において、前記第１の反射体、前記第２の反射体の内、何れか一方が反射率が約１０％以下であり、
前記共通波長範囲（Ｃ）以外の波長範囲において、前記第３の反射体、前記第４の反射体の内、何れか一方が反射率が約１０％以下であり、
入射光が前記第１の反射体に入射し、出射光が前記第２の反射体から出射するように、前記第１の反射体と前記第２の反射体をずらして対向させ、
前記第２の反射体から光が前記第３の反射体に入射し、出射光が前記第４の反射体から出射するように、前記第３の反射体と前記第４の反射体をずらして対向させ、
前記入射光は、前記第１の反射体に対して、鋭角に入射させ、その後、少なくとも、前記第２の反射体、前記第３の反射体、前記第４の反射体に反射させて、前記第４の反射体から前記共通波長範囲（Ｃ）以外の波長範囲は反射率が１００％より０％に近い値、前記共通波長範囲（Ｃ）は反射率が０％より１００％に近い値として出射させる
ことを特徴とする光学フィルターの形成方法。 - 第１の波長範囲（Ａ）において反射率が約９５％以上、好ましくは、約９９％以上を有する第１、第３の反射波長特性を有する第１の反射体と、
第２の波長範囲（Ｂ）において反射率が約９５％以上、好ましくは、約９９％以上を有する第２、第４の反射波長特性を有する第２の反射体とを有し、
前記第１、第３の波長範囲と前記第２、第４の波長範囲の反射率が約９５％以上、好ましくは、約９９％以上の共通波長範囲（Ｃ）は、連続した範囲を一つのみ有したものであり、
前記共通波長範囲（Ｃ）以外の波長範囲において、前記第１、第３の反射体、前記第２、第４の反射体の内、何れか一方が反射率が約１０％以下であり、
入射光が前記第１の反射体に入射し、出射光が前記第２の反射体から出射するように、前記第１の反射体と前記第２の反射体をずらして対向させ、
前記第２の反射体から光が前記第４の反射体に入射し、出射光が前記第３の反射体から出射するように、前記第４の反射体と前記第３の反射体をずらして対向させ、
前記入射光は、前記第１の反射体に対して、鋭角に入射させ、その後、少なくとも、前記第２の反射体、前記第４の反射体、前記第３の反射体に反射させて、前記第３の反射体から前記共通波長範囲（Ｃ）以外の波長範囲は反射率が１００％より０％に近い値、前記共通波長範囲（Ｃ）は反射率が０％より１００％に近い値として出射させる
ことを特徴とする光学フィルターの形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2017041450A JP2018146765A (ja) | 2017-03-06 | 2017-03-06 | 光学フィルターの形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2017041450A JP2018146765A (ja) | 2017-03-06 | 2017-03-06 | 光学フィルターの形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2018146765A true JP2018146765A (ja) | 2018-09-20 |
Family
ID=63592122
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2017041450A Pending JP2018146765A (ja) | 2017-03-06 | 2017-03-06 | 光学フィルターの形成方法 |
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Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54103060A (en) * | 1978-01-31 | 1979-08-14 | Fujitsu Ltd | Optical filter |
| JPH08313728A (ja) * | 1995-05-16 | 1996-11-29 | Nikon Corp | 帯域フィルター |
| JP2001042226A (ja) * | 1999-07-10 | 2001-02-16 | Leica Microsystems Wetzlar Gmbh | Ｄｕｖ顕微鏡用の照明装置 |
| US20040136057A1 (en) * | 2001-04-23 | 2004-07-15 | Michael Veith | Illuminating device |
-
2017
- 2017-03-06 JP JP2017041450A patent/JP2018146765A/ja active Pending
Patent Citations (4)
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