JP4076444B2 - 照明装置 - Google Patents

Description

本発明は、照明装置に関し、特に、とりわけＵＶ顕微鏡等の顕微鏡又は結像光学系を有する光学装置のための照明装置に関し、具体的には、光源と反射フィルタシステムを有すると共に、該光源からの光のビームが複数の反射を実行しつつ該反射フィルタシステムを通過する形式の照明装置に関する。

この種の照明装置は、例えばDE 199 31 954 A1（特許文献１）から既知である。この照明装置は、遠紫外ＤＵＶ（Deep Ultraviolett）顕微鏡のための光源及び波長選択装置として作動する。ＤＵＶ顕微鏡のための照明装置は、狭い照明波長範囲（これに適合するよう顕微鏡光学系が較正されている）の照明光を使用しなければならい。照明波長範囲は、強度最大のスペクトル位置並びにその半値幅によって特徴付けられる。適正な光源（例えば水銀ランプ）のスペクトルから所望の照明波長範囲を選択するためのものとしては、狭帯域透過フィルタシステム（Transmissions-Schmalbandfiltersysteme）も、反射フィルタシステムも知られている。これらのフィルタシステムは、照明光路に配され、選択された照明波長範囲の光を使用光として顕微鏡へ導く。

ドイツ特許公開DE 199 31 954 A1

ＤＵＶ（顕微鏡）の狭帯域透過フィルタシステムは、非常に狭い半値幅のピークを供給するため、最大の透過、従ってピークの極値は、当該狭帯域透過フィルタシステムの前方に存する入射光強度の凡そ２０％に留まる。従って、狭帯域透過フィルタシステムは、ＤＵＶ光のための効率的な波長選択装置をなさない。

既知の反射フィルタシステムは、光源からの光がそれぞれ所定の入射角で入射し反射される複数の反射フィルタからなる。この反射フィルタシステムでは、選択された照明波長領域の光の反射された、従って使用可能な部分は、入射光強度の９０％を明らかに越える。

上記DE 199 31 954 A1から既知の反射フィルタシステムでは、各反射フィルタにおける反射角が３０°未満になるように反射フィルタが配置される。このため、選択された照明波長領域の２０ｎｍ未満の半値幅を生成することができる。使用する反射フィルタの種類に応じ、小さい入射角を有するそのような反射フィルタシステムによって、当該反射フィルタシステムから射出する光強度は、入射光強度の凡そ９８％に達する。

上記DE 199 31 954 A1の第１図は、そのような照明装置であって、ＤＵＶ顕微鏡と組合わせたものを示している。そこでは、反射フィルタシステムは、光源とＤＵＶ顕微鏡との間に配設されているが、このような構造は、自ずから分かる通り、空間的要求（必要な空間）が非常に大きい。ＤＵＶ顕微鏡を半導体検査顕微鏡として使用する場合、ＤＵＶ顕微鏡をクリーンルームに設置してそこで作動しなければならない。クリーンルームを稼動するための費用は、その空間が大きくなるほど著しく増加するので、クリーンルームに設置される装置はできるだけ空間を節約して構成しなければならず、小さい設置面積しか要求しないものが理想的である。

光学システム、とりわけ顕微鏡システムでは、赤外波長領域から可視波長領域を経てＤＵＶ波長領域にまで亘る照明波長領域をそれぞれ有する複数の照明光源を使用する必要があることがしばしばある。この場合、通常、相異なる３つまでの光源が光源ハウジングと共に光学機械的に組み込まれる。これは、照明光学系における一連の偏向ミラー及び／又はビーム結合要素を用いることによってようやく実現することができるが、複数の光学的ビーム路の拡大（伸長）ないし増加を伴うため不利である。

それゆえ、本発明の課題は、この種の照明装置を、照明装置の空間的大きさを最小にすることが可能なように発展させかつこれを提供することである。

上記の課題を解決するために、本発明の第１の視点により、光のビームを生成するよう構成された光源と、ハウジングと、該ハウジング内に配されかつ３６５ｎｍの波長の光を反射するよう構成された少なくとも４つの第１反射ノッチフィルタを有する第１反射フィルタシステムと、該ハウジング内に配されかつ２４８ｎｍの波長の光を反射するよう構成された少なくとも４つの第２反射ノッチフィルタを有する第２反射フィルタシステムと、該ハウジング内に配されかつ該第１反射フィルタシステム及び該第２反射フィルタシステムを、選択的に即ち一度に何れか一方を、該光のビームに配するよう構成されたプレートを含む照明装置であって、
前記第１及び第２反射フィルタシステムは、夫々、前記光のビームが各反射フィルタシステム内で少なくとも４回反射され、かつ、各反射フィルタシステムの入射ビームが各反射フィルタシステムの出射ビームに対する光学的ビーム路のずれを有し、該入射ビームが該出射ビームに対し平行であるよう構成されることを特徴とする照明装置が提供される（形態１・基本構成１）。
更に、上記の課題を解決するために、本発明の第２の視点により、照明装置を有する顕微鏡であって、
前記照明装置は、光のビームを生成するよう構成された光源と、ハウジングと、該ハウジング内に配されかつ３６５ｎｍの波長の光を反射するよう構成された少なくとも４つの第１反射ノッチフィルタを有する第１反射フィルタシステムと、該ハウジング内に配されかつ２４８ｎｍの波長の光を反射するよう構成された少なくとも４つの第２反射ノッチフィルタを有する第２反射フィルタシステムと、該ハウジング内に配されかつ該第１反射フィルタシステム及び該第２反射フィルタシステムを、選択的に即ち一度に何れか一方を、該光のビームに配するよう構成されたプレートを含み、
前記第１及び第２反射フィルタシステムは、夫々、前記光のビームが各反射フィルタシステム内で少なくとも４回反射され、かつ、各反射フィルタシステムの入射ビームが各反射フィルタシステムの出射ビームに対する光学的ビーム路のずれを有し、該入射ビームが該出射ビームに対し平行であるよう構成されることを特徴とする顕微鏡が提供される（形態１３・基本構成２）。

本発明により、照明装置の空間的大きさを最小化することができる。

本発明により、第１に認識されていることは、光学的ビーム路ずれないし変位（ビーム路の光学的な移動ないしスライド）を実現することにより照明装置の空間的大きさを低減することができるということである。そのため、上記DE 199 31 954 A1の第１図に記載の実施例とは異なり、光源と反射フィルタシステムとの直線的配列は不要となり、寧ろ光源を顕微鏡の光軸の上方、下方又は側方にずらして配置することが可能となる。とりわけ半導体検査顕微鏡は、通常、非常に大きな物体（被検物）ステージ（テーブル）を有するが、この物体ステージは、非常に大きな半導体産物（例えばウェハ）を顕微鏡の対物レンズに対し中央部に位置決めして、半導体産物の領域全体を光学的に検査できるようにしなければならない。そのため、光学的ビーム路を適正化すると、顕微鏡ステージの上方又は下方にのみ光源を配置することが可能となる。上述の通り、顕微鏡の顕微鏡操作者を指向する側には、同様に、自由には大きな空間を使用することはできない。

そのため、クリーンルームにおける実施に基づき空間的大きさの最小化に関したシステム全体に対する所与の条件設定（Vorgaben）は、大部分、購入者（利用者）によって予め与えられる。その限りにおいて、入射ビームと射出ビームとの間の光学的ビーム路の（平行）ずらしを行なう本発明の照明装置によって、顕微鏡における照明装置のこれらの設定条件を充足する配置が実現可能となる。

照明装置の大きさの低減は、反射フィルタシステムの入射ビームと射出ビームとの間の方向変化によっても有利に達成することができる。これによって、例えば、光源は、顕微鏡架台の上部部分の側方に並置されるが、この場合、光源は、顕微鏡の操作者から見て後方に推移する方向に光を放射する。入射ビームと射出ビームとの間の方向変化を実現する場合は、反射フィルタシステムを通過した後、照明波長領域に関し選択された照明光は、横方向に顕微鏡に差込入射されうるであろう。極めて有利なことに、反射フィルタシステムの入射ビームと射出ビームとの間の光学的ビーム路ずれと方向変化を組み合わせることができる。そのため、例えば、光源を顕微鏡架台を越えた上方に、例えば操作者から見て顕微鏡の後方領域に、配設することもできる。

具体的な一実施形態では、反射フィルタシステムにおいてそれぞれ反射を行う際の反射角は、ほぼ同一である。このため、同一の反射フィルタを使用することができるため、製造（工程）を簡素化し、製造費用を低減できるので有利である。

とりわけ有利な一実施形態では、（第１の）反射フィルタシステムと切換え（交換）可能に構成される第２の反射フィルタシステムを備える。このため、第２の反射フィルタシステムによって、光源の他の波長ないし他の波長範囲（の光）を選択することが可能となり、必要な光源の数を削減することができるのでとりわけ有利である。具体的には、（複数の）偏向装置ないし（複数の）（方向）切換えミラーによって一方又は他方の何れか１つの反射フィルタシステムへ光源からの光を導くことができるように、複数の反射フィルタシステムを配することも可能である。また、光源からの光を同時に少なくとも２つの反射フィルタシステムへ導く１又は複数の５０：５０ビームスプリッタ、ダイクロイックビームスプリッタ等を使用することもできる。そのため、本発明の照明装置によって、複数の異なる波長ないし波長範囲（の光）による同時照明を保証することも可能である。

具体的な一実施形態では、複数の反射フィルタシステムが設けられ、一方又は他方の何れか１つの反射フィルタシステムが光学的ビーム路にもたらされる。これは、例えば、フィルタ摺動装置により機械的な案内を実現することができる。この（反射フィルタシステムの）切換え（交換）は、機械的及び／又はモータ駆動的に行なうことができるが、半導体検査顕微鏡のための照明装置の場合は、モータ駆動的切換装置を使用すべきであろう。

とりわけ有利には、切換可能に配設される複数の反射フィルタシステムは、光学的ビーム路の活性化位置（作動位置）に配される毎に、光源の像が、光学的ビーム路において同じ位置と大きさを有するように構成される。このため、システム全体の構成を更に有利な態様で簡素化することができる。

ＶＩＳ（visual可視光の略）−若しくはＩＲ顕微鏡のための又はＵＶ−若しくはＤＵＶ顕微鏡のための照明装置を使用すべき場合、光源は、ハウジングの中に配設される。このハウジングないしランプケースは、例えば調心装置（Justiermittel）、リフレクタ、コレクタ等の様々な光学要素を有する。その限りにおいて、ランプケースから出てくる光源からの光は、通常、ほぼコリメートされたビーム推移を有する。また、１又は複数の反射フィルタシステムを１つのハウジングに配することも可能である。これによって、とりわけ顕微鏡検査の分野で本発明の照明装置を使用する場合、当該分野で通例の個々の要素のモジュール構造化を実現することができる。顕微鏡の個々の要素との適合化を図るために、１又は複数の反射フィルタシステムのランプケースないしハウジングは、好ましくは規格化（標準化）されている機械的インタフェース（機械要素間連結部位）を有する。そのため、本発明の照明装置のハウジングを、他の種々の顕微鏡その他の装置（例えばスライド用などのプロジェクタ：Dia-Projektionappatrate）に容易に適用することができる。

好ましい一実施形態では、光は、反射フィルタシステム内及び／又は反射フィルタシステムから射出される際に、少なくとも大幅にコリメートされて推移する。この方策によっても、顕微鏡又はスライド用プロジェクタのビーム路への容易な適合化を図ることができる。反射フィルタシステム内で複数の反射が行なわれる場合、各光学要素の空間的大きさは、同じビーム径ないしビーム断面に適合化されなければならないのであるが、この実施形態により、コリメートされて推移する光ビームは、反射フィルタシステム内での反射の前後において、ほぼ同じビーム断面を有することが保証される。

とりわけ好ましい一実施形態では、反射フィルタシステムは、好ましくは反射ノッチフィルタとして構成される複数の反射フィルタを有する。この場合、１つの反射フィルタシステムに対し同じ構成の反射フィルタ（複数）が使用される。反射フィルタとしては、例えば黒色ガラス（Schwartzglas）からなり、その層に蒸着（気相析着）被膜が形成されたものが挙げられるが、そのような反射フィルタは、選択されるべき波長に関し、凡そ１の反射係数を有する。半導体検査顕微鏡に対しては、とりわけ“ｉ線”の光、即ち３６５ｎｍの波長のＵＶ光、並びに２４８ｎｍの波長のＤＵＶ光が重要である。他の全ての波長に関するそのような反射フィルタの反射係数は非常に小さいため、選択されない波長の光は、反射フィルタにおいて反射が行なわれる毎に減少する。そのため、具体的一実施形態では、反射フィルタシステム毎に少なくとも４つの反射フィルタが設けられる。４回反射を繰り返した後、反射フィルタシステムによって選択されない波長範囲の光は大幅に減少されるため、ＵＶ−ないしＤＵＶ顕微鏡と結合した本発明の照明装置によって、殆ど色収差がない顕微鏡結像を達成することができる。

他の一実施形態によれば、反射フィルタシステムは、透光要素ないし部材を有する。この透光要素は、光の内部反射のために、それぞれ反射層を備える少なくとも２つの境界面を有する。この反射層は、反射ノッチフィルタと比肩する（同等の）特性を有する。透光要素において複数の反射を行なうという観点から、反射層を有する複数の境界面は、互いに対向するよう配置される。

好ましい一実施形態では、透光要素の形状は、その境界面が互いにほぼ平行をなし、又は互いに僅かに楔状（の角度）をなして配置するように構成される。これによって、透光要素に入射する光がコリメートされて推移し、かつ境界面が互いに平行に配されている場合には、複数の反射が行なわれる場合であっても透光要素内でのコリメートされたビーム推移が可能となる。境界面が互いに僅かに楔状をなすように配される場合は、透光要素内での複数の反射によって、反射フィルタシステムから射出されるビームのビーム径を、反射フィルタシステムに入射する光ビームのビーム径に対して縮小又は拡大することができるため、他の光学要素がなくてもビーム形状を適合化することができるので有利である。この場合、透光要素内で複数の反射が行なわれる場合であっても各反射面の反射層が選択されるべき波長ないし選択されるべき波長範囲の光を依然として十分（大きな）効率（反射率）で反射するように、境界面間の楔の（頂）角を選択することができる。

透光要素は、主として、ガラス、石英ガラス、ホタル石（ＣａＦ_２）又はプレクシグラス（Plexiglas）から製造することができる。本発明の照明装置がＵＶ波長領域の光を使用すべき場合には、透光要素は、主として石英ガラスから製造される。

透光要素は、光源からの光のための、好ましくは反射防止膜を備える入射面及び射出面を有する。これによって、有利なことに、入射面ないし射出面で反射される光の割合を大幅に減少することができ、反射防止膜によって、照明装置の光（利用）効率（Lichtausbeute）を更に適正化することができる。

光源の像の位置を顕微鏡又は結像光学系を有する他の光学装置のビーム路に適合化するために、反射フィルタシステムのビーム路又は反射フィルタシステムのハウジングに、ビーム形状成形要素（Strahlformungsmittel）が配される。ビーム形状成形要素は、例えば、レンズ（複数）又は湾曲した反射面（複数）から構成することができる。そのため、反射フィルタシステムによって選択された照明光が照明装置から射出される前、既に、後続する装置の光学的ビーム路の要求に対する適合化を最終的に行なうことができる。

更に有利には、本発明の照明装置、とりわけ反射フィルタシステムに、冷却を行なうための受動的（パッシブ）及び／又は能動的（アクティブ）冷却要素を配することができる。反射フィルタシステムによって反射されなかった光は、通常、光トラップ（Lichtfallen）によって吸収されるが、この吸収された光は熱に転換される。光トラップで生成した熱が、他の光学要素に望ましくない膨張や熱損傷を引き起こし、遂には光学的ビーム路を不安定化したり照明状態を不安定化したりしないようにするために、上記冷却要素は、能動的（アクティブ）又は受動的（パッシブ）に熱を周囲へと逃す。受動的冷却要素は、例えば、反射フィルタシステムのハウジングから外部に突出する冷却フィンから構成することができる。能動的冷却要素は、例えば、ペルティエ冷却素子から構成することができる。

反射フィルタシステムでの複数の反射は、反射の回数が多いほど、選択されない波長範囲の光を効果的に減少するので、できるだけ幅の狭い照明波長範囲を選択するために、反射フィルタシステムにおいて少なくとも２回反射が行なわれる。

とりわけ好ましい一実施形態では、顕微鏡と本発明の照明装置を有する総合システムが構成される。この顕微鏡としては、ＵＶ顕微鏡、ＤＵＶ顕微鏡、ラスタ顕微鏡、共焦点ラスタ顕微鏡、複共焦点（doppelkonfokal）ラスタ顕微鏡、蛍光顕微鏡が挙げられるが、とりわけ総合システムは、半導体検査顕微鏡及び／又は半導体測定顕微鏡を構成することができる。

本発明の教示を有利に構成・展開する態様は幾つもある。そのため、一方では特許請求項１に従属する各請求項を、他方では以下に図面を用いて説明する本発明の好ましい実施例を参照することができる。図面を用いた本発明の好ましい実施例の説明と関連して、本発明の教示の有利な形態及び発展形態も一般的に説明される。
以下に、本発明の好ましい実施の形態を示す。なお、形態２〜１２、１４及び１５は従属請求項の対象でもある。
（形態１） 上記基本構成１参照。
（形態２） 上記の照明装置は、顕微鏡で使用するために構成されていることが好ましい。
（形態３） 上記の照明装置において、前記顕微鏡は、ＵＶ顕微鏡であることが好ましい。
（形態４） 上記の照明装置において、各反射角は、前記少なくとも４回の反射の夫々に対し少なくともほぼ同一であることが好ましい。
（形態５） 上記の照明装置において、前記プレートは、前記光源の光の波長を選択するために、前記第１反射フィルタシステム及び前記第２反射フィルタシステムを、選択的に即ち一度に何れか一方を、前記光のビームに配することを可能にするよう回動可能であることが好ましい。
（形態６） 上記の照明装置において、前記プレートを回動するための少なくとも１つの機械的及びモータ駆動的切換装置（機構）を更に有することが好ましい。
（形態７） 上記の照明装置において、前記光源は、更なるハウジング内に配されることが好ましい。
（形態８） 上記の照明装置において、前記ハウジングは、規格化された機械的インタフェースを有することが好ましい。
（形態９） 上記の照明装置において、前記反射フィルタシステム内の光及び／又は前記反射フィルタシステムから射出する際の光は、少なくとも大幅にコリメートされて推移することが好ましい。
（形態１０） 上記の照明装置において、前記第１及び第２反射フィルタシステムの少なくとも一方の光路の少なくとも１つにかつ前記ハウジング内に配されるビーム形状成形要素を更に含むことが好ましい。
（形態１１） 上記の照明装置において、前記ビーム形状成形要素は、レンズを含むことが好ましい。
（形態１２） 上記の照明装置において、前記第１及び第２反射フィルタシステムの少なくとも１つに割り当てられる受動的（パッシブ）及び能動的（アクティブ）冷却要素の少なくとも１つを更に含むことが好ましい。
（形態１３） 上記基本構成２参照。
（形態１４） 上記形態１３の顕微鏡において、前記ハウジングは、規格化された機械的インタフェースを有することが好ましい。
（形態１５） 上記形態１３の顕微鏡は、半導体検査及び半導体測定顕微鏡の少なくとも一方であることが好ましい。

図１は、従来技術から既知の、ＤＵＶ顕微鏡２と結合した照明装置１の模式図である。照明装置１は、光源３と反射フィルタシステム４を有する。光源３からの光のビーム５は、複数の反射をしつつ反射フィルタシステム４を通過する。反射フィルタシステムでのそれぞれの反射の際の反射角は、この場合全て等しい。ＤＵＶ顕微鏡２は、テレビカメラとして構成される検出器６を有する。照明光ビームは、ビームスプリッタ７によって検出光ビームから分離される。顕微鏡ステージ８に載置された物体（被検試料）９は、対物レンズ１０によって検出器６に結像される。

図２は、ＤＵＶ顕微鏡２として構成された半導体検査顕微鏡に適合化された本発明の照明装置１の一実施例を示す。この照明装置１は、光源と反射フィルタシステムを有するが、反射フィルタシステムのビーム路は図３に詳細に示す。

本発明によれば、照明装置１の反射フィルタシステム４は、入射ビーム１１が射出ビーム１２に対し光学的ビーム路のずれ（平行移動）１３を有するように構成される。照明フィルタシステム４の入射ビーム１１は、光源３（図３には示していない）を指向している。反射フィルタシステム４を通過した後、選択された照明光は、射出ビーム１２の形状で、反射フィルタシステム４から射出し、ＤＵＶ顕微鏡２（これも図３には示していない）に入射する。

図３の反射フィルタシステム４によって、波長範囲３６５ｎｍ±８ｎｍの光（ｉ線）を選択することができる。図４に示した反射フィルタシステム１４では、波長範囲２４８ｎｍ±７ｎｍのＤＵＶ光が選択される。

図３の反射フィルタシステム４と図４の反射フィルタシステム１４を両方とも図２に示したＤＵＶ顕微鏡２に組み込むことができる。この場合、この２つの反射フィルタシステムは、モータ駆動で切換可能にハウジング１５に配設される。そして、ｉ線を選択するために設けられた反射フィルタシステム４か２４８ｎｍ線を選択するために設けられた反射フィルタシステム１４の何れか一方が、全体として選択的に光学的ビーム路にもたらされる。

図５と図６は、図２に示したハウジング１５の内部を詳細に示した斜視図である。図５では、図３の反射フィルタシステム４が照明ビーム路にもたらされている。図６は、図５のハウジング１５において、図４の反射フィルタシステム１４が照明ビーム路にもたらされている作動状態のものを示している。図５及び図６の反射フィルタシステム４、１４は両方とも、プレート１６に適合化されている。プレート１６は、回転軸線１７の周りで回動可能に支承されており、モータ１８によって回転可能になっている。プレート１６には２つの回転位置が設けられている。即ち、図５に示した回転位置０°と、図６に示した回転位置１８０°である。この空間節約的で、コンパクトかつ堅固な構造によって、ただ１つの光源３によって、波長２４８ｎｍの光か波長３６５ｎｍの光の何れか一方を、選択でき、或いは顕微鏡の照明光として使用することができる。反射フィルタシステム４、１４において光ビームが折畳んだ様にないしジグザグに推移することにより、空間節約的な構造が一層促進されることを、ここで特に強調しておく。

図２から分かる通り、光源３がハウジング１９に配設され、第２の光源（これは、可視光明視野及び白色光コンフォーカルモードのためのものである）が２つの他のハウジング２０に配設されている。

図３と図４に、反射フィルタシステムハウジングの機械的インタフェース２１を示した。これは、図５及び図６にも示している。顕微鏡２に適合化するための機械的インタフェースもランプケース１９に適合化するための機械的インタフェースも、顕微鏡検査に関して通常の測定及び作動態様に適するよう、規格化（標準化）される。

図３及び図４から分かる通り、反射フィルタシステム４、１４内の光も、反射フィルタシステム４、１４に入射する際の光及び該システム４、１４から射出する際の光も、少なくとも大幅にコリメートされて推移する。反射フィルタシステム４、１４は、何れも反射ノッチフィルタとして構成される４つの反射フィルタ２２を有する。これに応じて、図３の反射フィルタ２２は、３６５ｎｍの波長の光を反射（出射）し、図４の反射フィルタ２２は、２４８ｎｍの波長の光を反射（出射）する。

図７に、透光要素２３を使用するタイプの本発明の反射フィルタシステム４の第２実施例を示した。この反射フィルタシステム４の場合も、入射ビーム１１と射出ビーム１２の間に、光学的ビーム路のずれ（ビーム路の光学的な平行移動ないしスライド）１３が実現されている。透光要素２３は、反射層２５をそれぞれ備えた２つの境界面２４を有する。透光要素２３の形状は、２つの境界面２４が互いに平行に配置されるようなものに選択される。透光要素２３は、この実施例では、石英ガラスから製造される。光源３（図７には示していない）からの光は、透光要素２３の入射面２６において透光要素２３に入射する。透光要素２３内で全部で６回反射した後、照明波長範囲に関して選択が行なわれた光は、射出面２７において透光要素２３から射出する。入射面２６にも射出面２７にも反射防止膜を備え、入射面２６における選択されるべき光の反射ができるだけ少なくなるよう、即ち選択されるべき光が透光要素２３にできるだけ多く入射するようにする。内部、即ち透光要素２３内への使用光の反射（戻り）ができるだけ少なくなるように、射出面２７にも反射防止膜が構成される。このようにして、意図しない反射による使用光の損失が最小化される。

図３に示した反射フィルタシステム４のビーム路には、ビーム形状成形要素２８及び２９が配されている。ビーム形状成形要素２８及び２９は、一方では収束レンズとして、他方では発散レンズとして構成される。これによって、光源３の像の位置は、反射フィルタシステム１４が光源３に関連して持つような位置にもたらされる。

図３及び図４の反射フィルタシステム４、１４には、それぞれ冷却要素３０が配設されている。この冷却要素３０は、光源からの光を最初に反射する第１の反射フィルタ２２の後部に配される。冷却要素３０は、この実施例では、受動的（パッシブ）に構成され、この第１の反射フィルタ２２によって反射されない光に対する光トラップとして作動する。

図３及び図４の反射フィルタシステム４、１４の４つの反射フィルタ２２において、それぞれ全部で４回の反射が行なわれる。

上記実施例は、本発明の保護されるべき教示を説明するためのものに過ぎず、当該教示は実施例に限定されるものではないことを、ここに強調しておく。

ＤＵＶ顕微鏡に適合化された従来技術から既知の照明装置の模式図。 ＤＵＶ顕微鏡に適合化された本発明の照明装置の第１実施例の斜視図。 反射フィルタシステムの一例の光学的ビーム路の模式図。 反射フィルタシステムの他の一例の光学的ビーム路の模式図。 ２つの反射フィルタシステムを含むハウジングの具体的一実施例を詳細に示した斜視図。 他の切換状態を示した図５のハウジング。 本発明の反射フィルタシステムの第２実施例の模式図。

符号の説明

１ 照明装置
２ ＤＵＶ顕微鏡
３ 光源
４ 反射フィルタシステム
５ ３からの光ビーム
６ 検出器
７ ビームスプリッタ
８ 顕微鏡ステージ
９ 物体（被検試料）
１０ 対物レンズ
１１ 入射ビーム
１２ 射出ビーム
１３ 光学的ビーム路ずれ（移動）
１４ 第２の反射システム
１５ ４、１４のハウジング
１６ プレート
１７ 回転軸線
１８ モータ
１９ ３のハウジング（ランプケース）
２０ 第２の光源のハウジング
２１ 機械的インタフェース
２２ 反射フィルタ
２３ 透光要素
２４ 境界面
２５ 反射層
２６ 入射面
２７ 射出面
２８ ビーム形状成形要素
２９ ビーム形状成形要素
３０ 冷却要素

Claims (15)

1. 光のビームを生成するよう構成された光源と、ハウジングと、該ハウジング内に配されかつ３６５ｎｍの波長の光を反射するよう構成された少なくとも４つの第１反射ノッチフィルタを有する第１反射フィルタシステムと、該ハウジング内に配されかつ２４８ｎｍの波長の光を反射するよう構成された少なくとも４つの第２反射ノッチフィルタを有する第２反射フィルタシステムと、該ハウジング内に配されかつ該第１反射フィルタシステム及び該第２反射フィルタシステムを、選択的に即ち一度に何れか一方を、該光のビームに配するよう構成されたプレートを含む照明装置であって、
   前記第１及び第２反射フィルタシステムは、夫々、前記光のビームが各反射フィルタシステム内で少なくとも４回反射され、かつ、各反射フィルタシステムの入射ビームが各反射フィルタシステムの出射ビームに対する光学的ビーム路のずれを有し、該入射ビームが該出射ビームに対し平行であるよう構成されること
   を特徴とする照明装置。
2. 顕微鏡で使用するために構成されていること
   を特徴とする請求項１に記載の照明装置。
3. 前記顕微鏡は、ＵＶ顕微鏡であること
   を特徴とする請求項２に記載の照明装置。
4. 各反射角は、前記少なくとも４回の反射の夫々に対し少なくともほぼ同一であること
   を特徴とする請求項１〜３の何れか一項に記載の照明装置。
5. 前記プレートは、前記光源の光の波長を選択するために、前記第１反射フィルタシステム及び前記第２反射フィルタシステムを、選択的に即ち一度に何れか一方を、前記光のビームに配することを可能にするよう回動可能であること
   を特徴とする請求項１〜４の何れか一項に記載の照明装置。
6. 前記プレートを回動するための少なくとも１つの機械的及びモータ駆動的切換装置（機構）を更に有すること
   を特徴とする請求項５に記載の照明装置。
7. 前記光源は、更なるハウジング内に配されること
   を特徴とする請求項１〜６の何れか一項に記載の照明装置。
8. 前記ハウジングは、規格化された機械的インタフェースを有すること
   を特徴とする請求項１〜７の何れか一項に記載の照明装置。
9. 前記反射フィルタシステム内の光及び／又は前記反射フィルタシステムから射出する際の光は、少なくとも大幅にコリメートされて推移すること
   を特徴とする請求項１〜８の何れか一項に記載の照明装置。
10. 前記第１及び第２反射フィルタシステムの少なくとも一方の光路の少なくとも１つにかつ前記ハウジング内に配されるビーム形状成形要素を更に含むこと
    を特徴とする請求項１〜９の何れか一項に記載の照明装置。
11. 前記ビーム形状成形要素は、レンズを含むこと
    を特徴とする請求項１０に記載の照明装置。
12. 前記第１及び第２反射フィルタシステムの少なくとも１つに割り当てられる受動的（パッシブ）及び能動的（アクティブ）冷却要素の少なくとも１つを更に含むこと
    を特徴とする請求項１〜１１の何れか一項に記載の照明装置。
13. 照明装置を有する顕微鏡であって、
    前記照明装置は、光のビームを生成するよう構成された光源と、ハウジングと、該ハウジング内に配されかつ３６５ｎｍの波長の光を反射するよう構成された少なくとも４つの第１反射ノッチフィルタを有する第１反射フィルタシステムと、該ハウジング内に配されかつ２４８ｎｍの波長の光を反射するよう構成された少なくとも４つの第２反射ノッチフィルタを有する第２反射フィルタシステムと、該ハウジング内に配されかつ該第１反射フィルタシステム及び該第２反射フィルタシステムを、選択的に即ち一度に何れか一方を、該光のビームに配するよう構成されたプレートを含み、
    前記第１及び第２反射フィルタシステムは、夫々、前記光のビームが各反射フィルタシステム内で少なくとも４回反射され、かつ、各反射フィルタシステムの入射ビームが各反射フィルタシステムの出射ビームに対する光学的ビーム路のずれを有し、該入射ビームが該出射ビームに対し平行であるよう構成されること
    を特徴とする顕微鏡。
14. 前記ハウジングは、規格化された機械的インタフェースを有すること
    を特徴とする請求項１３に記載の顕微鏡。
15. 半導体検査及び半導体測定顕微鏡の少なくとも一方であること
    を特徴とする請求項１３又は１４に記載の顕微鏡。

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