JP2004528393A - 水溶液からのギ酸の除去方法 - Google Patents
水溶液からのギ酸の除去方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2004528393A JP2004528393A JP2003503317A JP2003503317A JP2004528393A JP 2004528393 A JP2004528393 A JP 2004528393A JP 2003503317 A JP2003503317 A JP 2003503317A JP 2003503317 A JP2003503317 A JP 2003503317A JP 2004528393 A JP2004528393 A JP 2004528393A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formic acid
- aqueous solution
- cyclohexanone
- cyclohexanol
- aqueous
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
- C07C45/78—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives
- C07C45/86—Use of additives, e.g. for stabilisation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
- C07C45/27—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by oxidation
- C07C45/32—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by oxidation with molecular oxygen
- C07C45/33—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by oxidation with molecular oxygen of CHx-moieties
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C29/00—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom not belonging to a six-membered aromatic ring
- C07C29/74—Separation; Purification; Use of additives, e.g. for stabilisation
- C07C29/76—Separation; Purification; Use of additives, e.g. for stabilisation by physical treatment
- C07C29/80—Separation; Purification; Use of additives, e.g. for stabilisation by physical treatment by distillation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C29/00—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom not belonging to a six-membered aromatic ring
- C07C29/74—Separation; Purification; Use of additives, e.g. for stabilisation
- C07C29/88—Separation; Purification; Use of additives, e.g. for stabilisation by treatment giving rise to a chemical modification of at least one compound
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
- C07C45/78—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives
- C07C45/85—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives by treatment giving rise to a chemical modification
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C2601/00—Systems containing only non-condensed rings
- C07C2601/12—Systems containing only non-condensed rings with a six-membered ring
- C07C2601/14—The ring being saturated
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
を包含する、シクロヘキサン−酸化の反応生成物の加工法。
Description
【0001】
本発明は実質的な有機成分としてギ酸、シクロヘキサノンおよびシクロヘキサノールを含有する水溶液からギ酸を少なくとも部分的に除去する方法に関する。
【0002】
ε−カプロラクタムに更に加工するシクロヘキサノンおよびシクロヘキサノールは酸素または酸素含有ガスでのシクロヘキサン−酸化により大量生産技術により得られる。その際、メインの有価生成物であるシクロヘキサノンおよびシクロヘキサノールの他に、更に1,2−および1,4−シクロヘキサンジオール、アジピン酸、6−ヒドロキシカプロン酸、グルタル酸、5−ヒドロキシ吉草酸、ギ酸並びにその他の多数の酸素処理された成分を副生成物として含有する複雑な生成物混合物が生じる。
【0003】
この生成物混合物の水性洗浄液での抽出により、前記のシクロヘキサンジオール、モノ−およびジカルボン酸がメインの有価生成物であるシクロヘキサノンおよびシクロヘキサノールから分離され、その際シクロヘキサンジオール、モノ−およびジカルボン酸およびその他の有機成分の水溶液が得られる。これは、更に僅かな量の有価生成物であるシクロヘキサノンおよびシクロヘキサノールを含有する。ジカルボン酸溶液として記載する水溶液は、引き続きカラム中で蒸留により脱水され、その際塔頂生成物として実質的な有機成分としてギ酸、シクロヘキサノンおよびシクロヘキサノールを含有する水性流が生じる。
【0004】
脱水カルボン酸混合物からはエステル化、水素化および蒸留により1,6−ヘキサンジオールが得られる。ギ酸、シクロヘキサノンおよびシクロヘキサノールを含有する水性塔頂生成物は、従来廃棄されていた、例えば汚水処理場に供給するか、または焼却した。シクロヘキサノン、シクロヘキサノールおよびギ酸を含有する水溶液の、例えばシクロヘキサノンおよびシクロヘキサノールの分離およびその更なるε−カプロラクタムへの加工による、更なる利用は、従来ギ酸に起因する腐食問題により除外されていた。
【0005】
R.S. Coffey、Chemical Communications、1967、p923-24からは、ギ酸が貴金属Rh、Ru、IrおよびPtのホスフィン錯体上でCO2およびH2に分解されるということが公知である。
【0006】
SU−A1033431は、CaOおよびP2O5もしくはCaO、P2O5およびB2O3からなる触媒上で、ギ酸がCOおよびH2Oに分解することを記載している。
【0007】
JP−A1222917はスルファート溶液で処理され、かつ引き続きか焼されたジルコニウム、チタン、アルミニウムおよび鉄の酸化物および水酸化物上でのギ酸の分解を記載している。
【0008】
本発明の課題は、シクロヘキサン−酸化の生成物混合物の水抽出において得られるカルボン酸溶液の蒸留による脱水の際に生じる、シクロヘキサノン、シクロヘキサノールおよびギ酸を含有する水溶液を後処理し、かつ再利用に導くために、簡単でかつ経済的な方法を提供することである。
【0009】
この課題は、ギ酸、シクロヘキサノンおよびシクロヘキサノールを含有する水溶液からギ酸を少なくとも部分的に除去する方法において、ギ酸を分解触媒としての第2、4、5、12および/または14族の金属の塩基性金属酸化物または酸化物担体または非酸化物担体上の第8〜11族の貴金属上で分解することにより解決する。
【0010】
ギ酸は分解触媒上でガス状の分解生成物、主にCO2およびH2に分解する。
【0011】
本発明による方法は、有価生成物として含有される成分シクロヘキサノンおよびシクロヘキサノールの分解が同時に生じることなく、水溶液からギ酸を選択的に除去することを可能にする。その際、反応条件下にシクロヘキサノンの塩基触媒アルドール縮合によるシクロヘキサノンの損失も、シクロヘキセンへの脱離によるシクロヘキサノールの損失も生じないということは、意外なことである。
【0012】
第2、4、5、12および14族の金属の好適な塩基性金属酸化物はBeO、MgO、CaO、BaO、TiO2、ZrO2、V2O5、ZnO、CdOおよびSnO2である。第8〜11族の好適な金属はRu、Rh、Ir、Ni、Pd、Pt、Cu、AgおよびAuである。好適な酸化物担体は例えばAl2O3、TiO2、MgOであり、好適な非酸化物担体は活性炭素(C)である。
【0013】
分解触媒としては、ZnOもしくはZnOとCaOとからなる混合物または活性炭上の前記貴金属である。
【0014】
分解は、通常、温度100〜400℃、有利に150〜350℃、特に有利には170〜220℃で実施する。滞留時間は例えば1〜6時間である。この際、一般に少なくとも90%、有利に少なくとも95%、特に有利に少なくとも98%のギ酸が分解される。
【0015】
この分解は懸濁された触媒、または固定して配置された触媒上で、例えばアップフロー法またはダウンフロー法で、連続的または非連続的に実施することができる。分解を有利に連続的に、特に有利に固定して配置された分解触媒上で実施する。好適なリアクターは例えば固定して設置されたバラ荷状の触媒を有する管状リアクターである。
【0016】
ギ酸、シクロヘキサノンおよびシクロヘキサノールを含有する水溶液は通常、酸素または酸素含有ガスを用いるシクロヘキサン−酸化において得られるガス混合物を水性洗浄液で抽出し、得られたカルボン酸含有水溶液の蒸留により得られる。
【0017】
その際得られる水溶液は一般に、
(a)ギ酸 3〜6質量%、
(b)シクロヘキサノール 0.1〜2質量%、
(c)シクロヘキサノン 0.1〜2質量%、
(d)水 92〜96.8質量%
を含有し、この水溶液からギ酸を本発明により少なくとも部分的に除去する。
【0018】
本発明の課題は、シクロヘキサン−酸化の反応生成物を、次の工程、
(i)シクロヘキサン−酸化において得られる生成物混合物の水性洗浄液での抽出、この際カルボン酸含有水溶液が得られる、
(ii)工程(i)で得られるカルボン酸含有水溶液の蒸留によるギ酸、シクロヘキサノンおよびシクロヘキサノール、並びにその他の有機性微量成分を含有する水溶液と、カルボン酸混合物とへの分離、この際カルボン酸混合物を常法で更に加工して、1,6−ヘキサンジオールにすることができる、
(iii)分解触媒としての第2、4、5、12および/または14族の金属の塩基性金属酸化物上でまたは酸化物担体または非酸化物担体上の第8〜11族の貴金属上でギ酸を分解することによる、工程(ii)で得られたギ酸、シクロヘキサノンおよびシクロヘキサノールを含有する水溶液からの、少なくとも部分的なギ酸の除去、
(iv)工程(iii)で得られたシクロヘキサノンおよびシクロヘキサノールを含有する水溶液のε−カプロラクタムへの更なる加工、または
工程(iii)で得られたシクロヘキサノンおよびシクロヘキサノールを含有する水溶液の工程(i)中での洗浄液としての使用、
を用いて更に加工する方法でもある。
【0019】
工程(i)においては、シクロヘキサン−酸化において得られる生成物混合物を水性洗浄液で抽出し、その際カルボン酸含有水溶液が得られ、これは通常アジピン酸10〜40質量%、6−ヒドロキシカプロン酸10〜40質量%、グルタル酸1〜10質量%、5−ヒドロキシ吉草酸1〜10質量%、1,2−シクロヘキサンジオール1〜5質量%、1,4−シクロヘキサンジオール1〜5質量%、ギ酸2〜10質量%、シクロヘキサノン0.1〜2質量%、シクロヘキサノール0.1〜2質量%並びにその他の多くの、個々の含量は一般に5質量%を越えないモノ−およびジカルボン酸、エステル、オキソ化合物およびオキサ化合物、例えば酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、4−ヒドロキシ酪酸およびγ−ブチロラクトンを含有する。
【0020】
工程(ii)においては、ギ酸、シクロヘキサノンおよびシクロヘキサノールを含有する水溶液を蒸留により分離する。残ったカルボン酸混合物は常法で、例えばWO97/31882中に記載されているように、1,6−ヘキサンジオールに加工することができる。このためには、カルボン酸混合物中に含有されるモノ−およびジカルボン酸と低分子アルコールとを反応させて相応するカルボン酸エステルとし、得られたエステル化混合物から第1の蒸留工程において過剰のアルコールおよび易揮発性の物質を除去し、エステルフラクションを接触水素化し、かつ水素化取出し物から1,6−ヘキサンジオールを蒸留により獲得する。
【0021】
工程(iii)で得られたシクロヘキサノンおよびシクロヘキサノールを含有する、ギ酸の減少した水溶液をε−カプロラクタムに更に加工する。そのような更なる加工は、ギ酸に起因する腐食問題のために、予めギ酸を除去しない場合には不可能である。更なる加工のためには、シクロヘキサノンおよびシクロヘキサノールを水溶液から蒸留により分離し、シクロヘキサノールを酸化してシクロヘキサノンとし、このシクロヘキサノンから公知法でε−カプロラクタムを製造する。
【0022】
ギ酸の減少した水溶液は更に工程(i)に洗浄液として添加することができる。これにより抽出工程(i)によるシクロヘキサノンおよびシクロヘキサノールの損失は最少になる。
【0023】
ギ酸の減少した水溶液は、排水として汚水処理場に供給することもできる。この際排水の減少したTOC−含量が有利である。
【0024】
本発明を次の実施例につき、詳細に説明する。
【0025】
例
50ml−オートクレーブ中に、シクロヘキサン−酸化の生成物ガスを水で抽出することにより得られたカルボン酸含有水溶液を蒸留により脱水することにより得られたギ酸含有水溶液32.1gを装入する。このギ酸含有水溶液は次の組成を有する:
ギ酸 6質量%、
シクロヘキサノン 1質量%、
シクロヘキサノール 1質量%、
水 92質量%。
【0026】
この混合物を下の表に記載した粉末状または砕片状の分解触媒10gと混合した。この混合物を170〜220℃に2〜4時間加熱し、この際ガス状の分解生成物(CO、CO2およびH2)により、圧力上昇が記録されるべきである。反応混合物の冷却後、ギ酸含量を酸/塩基滴定により測定する。シクロヘキサノン含量およびシクロヘキサノール含量をガスクロマトグラフィーにより測定し、全く変化を示さない。
【0027】
【表1】
Claims (7)
- ギ酸、シクロヘキサノンおよびシクロヘキサノールを含有する水溶液からギ酸を少なくとも部分的に除去する方法において、ギ酸を分解触媒としての第2、4、5、12および/または14族の金属の塩基性金属酸化物上でまたは酸化物担体上の第8〜11族の貴金属上で分解する、ギ酸の除去法。
- 分解触媒が酸化亜鉛および/または酸化カルシウムを含有する、請求項1記載の除去法。
- 分解を温度100〜400℃で実施する、請求項1または2記載の除去法。
- 分解を、固定して配置した分解触媒または懸濁した分解触媒上で連続的に実施する、請求項1から3までのいずれか1項記載の除去法。
- ギ酸、シクロヘキサノンおよびシクロヘキサノールを含有する水溶液を、酸素または酸素含有ガスを用いるシクロヘキサン−酸化において得られる生成物ガス混合物を水性洗浄液で抽出し、そのように得られた水性カルボン酸溶液を蒸留することにより得る、請求項1から4までのいずれか1項記載の除去法。
- (a)ギ酸 3〜6質量%、
(b)シクロヘキサノール 0.1〜2質量%、
(c)シクロヘキサノン 0.1〜2質量%、
(d)水 92〜96.8質量%
を含有する水溶液からギ酸を除去する、請求項1から5までのいずれか1項記載の除去法。 - シクロヘキサン−酸化の反応生成物を更に加工する方法において、次の工程、
(i)シクロヘキサン−酸化において得られる生成物ガス混合物の水性洗浄液での抽出、この際カルボン酸含有水溶液が得られる、
(ii)工程(i)で得られるカルボン酸含有水溶液の蒸留によるギ酸、シクロヘキサノンおよびシクロヘキサノール、並びにその他の有機性微量成分を含有する水溶液と、カルボン酸混合物とへの分離、この際カルボン酸混合物を常法で更に加工して、1,6−ヘキサンジオールにすることができる、
(iii)分解触媒としての第2、4、5、12および/または14族の金属の塩基性金属酸化物上でまたは酸化物担体または非酸化物担体上の第8〜11族の貴金属上でギ酸を分解することによる、工程(ii)で得られたギ酸、シクロヘキサノンおよびシクロヘキサノールを含有する水溶液からの、少なくとも部分的なギ酸の除去、
(iv)工程(iii)で得られたシクロヘキサノンおよびシクロヘキサノールを含有する水溶液のε−カプロラクタムへの更なる加工、または
工程(iii)で得られたシクロヘキサノンおよびシクロヘキサノールを含有する水溶液の工程(i)中での洗浄液としての使用、
を用いる、シクロヘキサン−酸化の反応生成物の更なる加工法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE10128249A DE10128249A1 (de) | 2001-06-11 | 2001-06-11 | Verfahren zur Entfernung von Ameisensäure aus wässrigen Lösungen |
PCT/EP2002/006336 WO2002100502A2 (de) | 2001-06-11 | 2002-06-10 | Verfahren zur entfernung von ameisensäure aus wässrigen lösungen |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004528393A true JP2004528393A (ja) | 2004-09-16 |
JP4001861B2 JP4001861B2 (ja) | 2007-10-31 |
Family
ID=7687889
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003503317A Expired - Fee Related JP4001861B2 (ja) | 2001-06-11 | 2002-06-10 | 水溶液からのギ酸の除去方法 |
Country Status (12)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7179388B2 (ja) |
EP (1) | EP1399231B1 (ja) |
JP (1) | JP4001861B2 (ja) |
KR (1) | KR100868601B1 (ja) |
CN (1) | CN1249005C (ja) |
AT (1) | ATE288312T1 (ja) |
AU (1) | AU2002319208A1 (ja) |
CA (1) | CA2441465A1 (ja) |
DE (2) | DE10128249A1 (ja) |
ES (1) | ES2236542T3 (ja) |
MY (1) | MY139333A (ja) |
WO (1) | WO2002100502A2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012522819A (ja) * | 2009-04-07 | 2012-09-27 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | 1,6−ヘキサンジオールの製造方法 |
JP2012522823A (ja) * | 2009-04-07 | 2012-09-27 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | 1,6−ヘキサンジオールおよびカプロラクトンの製造方法 |
JP2014529499A (ja) * | 2011-08-25 | 2014-11-13 | ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー | 物理溶媒酸性ガス吸収プロセスにおけるギ酸塩ベースの熱安定性塩の軽減 |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10128249A1 (de) | 2001-06-11 | 2002-12-12 | Basf Ag | Verfahren zur Entfernung von Ameisensäure aus wässrigen Lösungen |
US8417719B1 (en) * | 2006-10-18 | 2013-04-09 | United Services Automobile Association (Usaa) | Method and system to derive salutations |
JP2008218922A (ja) * | 2007-03-07 | 2008-09-18 | Nec Electronics Corp | 液浸油の精製方法 |
WO2009117317A1 (en) * | 2008-03-20 | 2009-09-24 | Tate & Lyle Technology Ltd | Removal of acids from tertiary amide solvents |
CN108623457B (zh) * | 2017-03-15 | 2021-04-27 | 成都汇嘉春天科技有限公司 | 甲酸的催化分解工艺 |
CN108620137B (zh) * | 2017-03-15 | 2021-03-19 | 成都汇嘉春天科技有限公司 | 有机化合物脱酸用催化剂的制备工艺 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4896512A (ja) * | 1972-02-10 | 1973-12-10 | ||
JPS4843345B1 (ja) * | 1969-04-30 | 1973-12-18 | ||
JPS5359650A (en) * | 1976-11-06 | 1978-05-29 | Basf Ag | Process for preparing cyclohexanol and cyclohexanoneecontaining reaction mixture |
JPS58219133A (ja) * | 1982-06-04 | 1983-12-20 | エムス−インヴエンタ・アクチエンゲゼルシヤフト | シクロヘキサノン及びシクロヘキサノ−ルの混合物から鹸化不可能で水不溶性の不純物を除去するための方法 |
JPS60153942A (ja) * | 1984-01-24 | 1985-08-13 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | ギ酸メチルの分解触媒の製造方法 |
JPH05271143A (ja) * | 1992-03-24 | 1993-10-19 | Mitsubishi Kasei Corp | シクロヘキサノンの製造方法 |
JP2000505468A (ja) * | 1996-03-01 | 2000-05-09 | ビーエーエスエフ アクチェンゲゼルシャフト | 99%を越える純度を有する1,6―ヘキサンジオールの製法 |
JP2000506134A (ja) * | 1996-03-01 | 2000-05-23 | ビーエーエスエフ アクチェンゲゼルシャフト | 1,6―ヘキサンジオールおよびカプロラクトンの製造方法 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL95163C (nl) * | 1955-06-15 | 1960-08-15 | Basf Ag | Werkwijze ter bereiding van alcoholen en ketonen door oxydatie van cycloalifatische koolwaterstoffen |
US3597330A (en) * | 1967-04-27 | 1971-08-03 | Basf Ag | Recovery of epsilon-caprolactone and alkane dicarboxylic acid by acid treatment and vacuum distillation |
US4110372A (en) * | 1972-11-29 | 1978-08-29 | Hoechst Aktiengesellschaft | Process for the purification of carboxylic acids |
SU1033431A1 (ru) * | 1981-12-09 | 1983-08-07 | Предприятие П/Я Р-6913 | Способ получени окиси углерода |
DK71987D0 (da) * | 1987-02-13 | 1987-02-13 | Nordiske Kabel Traad | Fremgangsmaade til rensning af olie- og kemikalieforurenet jord |
FR2801046B1 (fr) * | 1999-11-03 | 2001-12-21 | Rhodia Polyamide Intermediates | Procede de traitement d'effluents aqueux contenant des composes peroxydes |
DE10128249A1 (de) | 2001-06-11 | 2002-12-12 | Basf Ag | Verfahren zur Entfernung von Ameisensäure aus wässrigen Lösungen |
-
2001
- 2001-06-11 DE DE10128249A patent/DE10128249A1/de not_active Withdrawn
-
2002
- 2002-06-10 AT AT02748752T patent/ATE288312T1/de not_active IP Right Cessation
- 2002-06-10 EP EP02748752A patent/EP1399231B1/de not_active Expired - Lifetime
- 2002-06-10 WO PCT/EP2002/006336 patent/WO2002100502A2/de active IP Right Grant
- 2002-06-10 DE DE50202180T patent/DE50202180D1/de not_active Expired - Fee Related
- 2002-06-10 US US10/473,203 patent/US7179388B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2002-06-10 AU AU2002319208A patent/AU2002319208A1/en not_active Abandoned
- 2002-06-10 MY MYPI20022149A patent/MY139333A/en unknown
- 2002-06-10 KR KR1020037016155A patent/KR100868601B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2002-06-10 CN CNB028075080A patent/CN1249005C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2002-06-10 CA CA002441465A patent/CA2441465A1/en not_active Abandoned
- 2002-06-10 ES ES02748752T patent/ES2236542T3/es not_active Expired - Lifetime
- 2002-06-10 JP JP2003503317A patent/JP4001861B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4843345B1 (ja) * | 1969-04-30 | 1973-12-18 | ||
JPS4896512A (ja) * | 1972-02-10 | 1973-12-10 | ||
JPS5359650A (en) * | 1976-11-06 | 1978-05-29 | Basf Ag | Process for preparing cyclohexanol and cyclohexanoneecontaining reaction mixture |
JPS58219133A (ja) * | 1982-06-04 | 1983-12-20 | エムス−インヴエンタ・アクチエンゲゼルシヤフト | シクロヘキサノン及びシクロヘキサノ−ルの混合物から鹸化不可能で水不溶性の不純物を除去するための方法 |
JPS60153942A (ja) * | 1984-01-24 | 1985-08-13 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | ギ酸メチルの分解触媒の製造方法 |
JPH05271143A (ja) * | 1992-03-24 | 1993-10-19 | Mitsubishi Kasei Corp | シクロヘキサノンの製造方法 |
JP2000505468A (ja) * | 1996-03-01 | 2000-05-09 | ビーエーエスエフ アクチェンゲゼルシャフト | 99%を越える純度を有する1,6―ヘキサンジオールの製法 |
JP2000506134A (ja) * | 1996-03-01 | 2000-05-23 | ビーエーエスエフ アクチェンゲゼルシャフト | 1,6―ヘキサンジオールおよびカプロラクトンの製造方法 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
SU1033431A, JPNX007039579, 1983, ISSN: 0000877331 * |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012522819A (ja) * | 2009-04-07 | 2012-09-27 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | 1,6−ヘキサンジオールの製造方法 |
JP2012522823A (ja) * | 2009-04-07 | 2012-09-27 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | 1,6−ヘキサンジオールおよびカプロラクトンの製造方法 |
JP2014529499A (ja) * | 2011-08-25 | 2014-11-13 | ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー | 物理溶媒酸性ガス吸収プロセスにおけるギ酸塩ベースの熱安定性塩の軽減 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
MY139333A (en) | 2009-09-30 |
EP1399231B1 (de) | 2005-02-02 |
DE50202180D1 (de) | 2005-03-10 |
WO2002100502A3 (de) | 2003-03-13 |
ES2236542T3 (es) | 2005-07-16 |
DE10128249A1 (de) | 2002-12-12 |
US7179388B2 (en) | 2007-02-20 |
KR20040007677A (ko) | 2004-01-24 |
CN1249005C (zh) | 2006-04-05 |
CN1511131A (zh) | 2004-07-07 |
ATE288312T1 (de) | 2005-02-15 |
JP4001861B2 (ja) | 2007-10-31 |
WO2002100502A2 (de) | 2002-12-19 |
KR100868601B1 (ko) | 2008-11-13 |
AU2002319208A1 (en) | 2002-12-23 |
CA2441465A1 (en) | 2002-12-19 |
EP1399231A2 (de) | 2004-03-24 |
US20040094478A1 (en) | 2004-05-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5124366B2 (ja) | 99%を越える純度を有する1,6−ヘキサンジオールの製法 | |
US7449609B2 (en) | Method for production of 1,6-hexanediol with a purity in excess of 99.5% | |
EP0578194B1 (en) | Process for producing phenol and methyl ethyl ketone | |
JP2011512339A (ja) | 6−ヒドロキシカプロン酸エステルの製造方法 | |
JP4001861B2 (ja) | 水溶液からのギ酸の除去方法 | |
CN1173920C (zh) | 己二酸的分离与纯化方法 | |
KR950006798B1 (ko) | 사이클로헥사논 및 사이클로헥사놀의 제조방법 | |
US5969194A (en) | Process for preparing 1, 6-hexanediol | |
RU2000125108A (ru) | Способ выделения и очистки адипиновой кислоты | |
JPH04308548A (ja) | カルボン酸の精製方法 | |
JP3959993B2 (ja) | 1,4−ブタンジオールの製造方法 | |
JP3552306B2 (ja) | プロピレンオキシドとスチレンモノマーの製造法 | |
US5041682A (en) | Working up reaction mixtures containing cyclohexanol cyclohexanone and cyclohexyl hydroperoxide | |
JPS6312460B2 (ja) | ||
JPH05977A (ja) | シクロドデカノール及びシクロドデカノン 混合物の精製法 | |
KR100602970B1 (ko) | 헥산디올의 제조 방법 | |
JPH05229972A (ja) | フェノール及びメチルエチルケトンの製造方法 | |
JPH05178773A (ja) | フェノール及びメチルエチルケトンの製造方法 | |
JP2000001458A (ja) | メタクリル酸メチルの製造方法 | |
JPH059147A (ja) | シクロドデカノンの製造方法 | |
CS276482B6 (cs) | Způsob získáváni cyklohexanónu vysoké čistoty | |
DE1206417B (de) | Verfahren zur Herstellung von 1, 6-Hexandiol | |
JP2004250360A (ja) | エポキシシクロドデカンの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050318 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070718 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20070725 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20070815 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100824 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |