JP2004524897A5 - - Google Patents

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Claims (52)

  1. 貫通ビームエミッタおよび貫通ビームレシーバを有する装置を設け、
    エミッタの貫通ビームの通路中にターゲットマーカーを含む調整可能なターゲットアセンブリを設け、ターゲットマーカーはエミッタにより放射された貫通ビームに対して少なくとも部分的に不透明であり、ターゲットマーカーはターゲット軸上のターゲット点を示し、ターゲットアセンブリはさらにターゲッティングビーム装置を含み、そのターゲッティングビーム装置はターゲット軸に沿ってターゲッティングビームを供給することが可能であり、
    貫通ビームの通路中の第1の位置において第1の較正点を指示する第1の較正ターゲットを設け、その第1の較正ターゲットは少なくとも部分的に不透明であり、
    貫通ビームをレシーバに向けて送り、
    レシーバにおいて貫通ビームを受取り、
    ターゲット軸に沿ってターゲッティングビームを供給し、
    ターゲットアセンブリを調整してターゲッティングビームを第1の位置で第1の較正点に入射させ、それによりレシーバにより与えられるイメージが第1の位置における第1の較正点と一致したターゲット点を示し、
    第1の較正点としてターゲット軸の位置に対応する情報を記録し、
    貫通ビームの通路中の第2の位置における第2の較正点を指示する第2の較正ターゲットを提供し、この第2の較正ターゲットは少なくとも部分的に貫通ビームに対して不透明であり、
    ターゲットアセンブリを調整してターゲッティングビームを第2の位置で第2の較正点に入射させ、それによりレシーバにより与えられるイメージが第2の位置における第2の較正点と一致したターゲット点を示し、
    第2の較正点としてターゲット軸の位置に対応する情報を記録するターゲットシステムの動作方法。
  2. ターゲットアセンブリを調整してそれによりレシーバにより与えられるイメージがターゲットアセンブリの少なくとも一部の変移を含む較正点の1つと一致するターゲット点を指示する請求項1記載の方法。
  3. ターゲットアセンブリを調整してそれによりレシーバがターゲットアセンブリの少なくとも一部の回転を含む較正点の1つと一致するターゲット点を指示する請求項1記載の方法。
  4. ターゲットアセンブリを調整してそれによりターゲッティングビームをターゲットアセンブリの少なくとも一部の回転を含む較正点の1つと一致するターゲット点に入射させる請求項1記載の方法。
  5. ターゲットアセンブリを調整してそれによりターゲッティングビームをターゲットアセンブリの少なくとも一部の変移を含む較正点の1つと一致するターゲット点に入射させる請求項1記載の方法。
  6. ターゲット点はターゲットアセンブリの回転軸上にある請求項1記載の方法。
  7. ターゲット点はターゲットアセンブリの変移軸上にある請求項1記載の方法。
  8. 記録された第1の較正位置の少なくとも一部と記録された第2の較正位置の少なくとも一部とを使用して貫通ビームの放射中心を決定する請求項1記載の方法。
  9. 貫通ビームエミッタおよび貫通ビームレシーバを有する装置を設け、
    エミッタの貫通ビームの通路中にターゲットマーカーを含む調整可能なターゲットアセンブリを設け、ターゲットマーカーはエミッタにより放射された貫通ビームに対して少なくとも部分的に不透明であり、ターゲットマーカーはターゲット軸上のターゲット点を示し、ターゲットアセンブリはさらにターゲット軸に沿ってターゲッティングビームを供給することが可能なターゲッティングビーム装置を含み、、
    貫通ビームの通路中にオブジェクトを設け、そのオブジェクトは貫通ビームの通路中に位置した関心のある関連した区域を有し、関心のある区域とオブジェクトは、貫通ビームが関心のある区域に向けて送られてレシーバにより受取られたときレシーバにより与えられたイメージ中の関心のある区域を作業員が認識できるように貫通ビームに対して不透明であり、
    貫通ビームをオブジェクトおよび関心のある区域に向けて送り、
    レシーバにおいて貫通ビームを受取り、
    レシーバにより与えられたイメージが関心のある区域と一致するターゲット点を示すようにターゲットアセンブリを調整し、
    ターゲット点の位置を決定し、
    ターゲット軸の所望の位置を決定し、
    ターゲット軸が所望の位置にあるようにターゲットアセンブリを調整し、
    ターゲット軸に沿ってターゲッティングビームを供給するターゲッティングシステムの動作方法。
  10. ターゲットアセンブリを調整してそれによりレシーバにより与えられるイメージがターゲットアセンブリの少なくとも一部の変移を含む関心のある区域と一致するターゲット点を指示する請求項9記載の方法。
  11. ターゲットアセンブリを調整してそれによりレシーバにより与えられるイメージがターゲットアセンブリの少なくとも一部の回転を含む関心のある区域と一致するターゲット点を指示する請求項9記載の方法。
  12. ターゲット点はターゲットアセンブリの回転軸上にある請求項9記載の方法。
  13. ターゲット点はターゲットアセンブリの変移軸上にある請求項9記載の方法。
  14. ターゲットアセンブリを調整してそれによりターゲット軸がターゲットアセンブリの少なくとも一部の回転を含む所望の位置に位置させる請求項9記載の方法。
  15. ターゲットアセンブリを調整してそれによりターゲット軸がターゲットアセンブリの少なくとも一部の変移を含む所望の位置に位置させる請求項9記載の方法。
  16. 貫通ビームエミッタおよび貫通ビームレシーバを有する装置を設け、
    エミッタの貫通ビームの通路中にターゲットマーカーを含む調整可能なターゲットアセンブリを設け、ターゲットマーカーはエミッタにより放射された貫通ビームに対して少なくとも部分的に不透明であり、ターゲットマーカーはターゲット軸上のターゲット点を示し、ターゲットアセンブリはさらにターゲット軸に沿ってターゲッティングビームを供給することが可能なターゲッティングビーム装置を含み、、
    貫通ビームの通路中の第1の位置に較正点を示す較正ターゲットを設け、その較正ターゲットは貫通ビームに対して少くとも部分的に不透明であり、
    貫通ビームをレシーバに向けて送り、
    レシーバにおいて貫通ビームを受取り、
    ターゲット軸に沿ってターゲッティングビームを供給し、
    ターゲッティングビームを第1の位置で較正点に入射させてそれによりレシーバにより与えられるイメージが第1の位置における較正点と一致したターゲット点を示すようにターゲットアセンブリを調整し、
    第1の較正位置としてターゲット軸の位置に対応する情報を記録し、
    貫通ビームの通路中の第2の位置に較正ターゲットを移動させ、
    ターゲッティングビームを第2の位置で較正点に入射させ、それによりレシーバにより与えられるイメージが第2の位置における較正点と一致したターゲット点を示すようにターゲットアセンブリを調整し、
    第2の較正位置としてターゲット軸の位置に対応する情報を記録するターゲッティングシステムの動作方法。
  17. ターゲットアセンブリを調整してそれによりレシーバにより与えられるイメージがターゲットアセンブリの少なくとも一部の変移を含む較正点と一致するターゲット点を指示する請求項16記載の方法。
  18. ターゲットアセンブリを調整してそれによりレシーバがターゲットアセンブリの少なくとも一部の回転を含む較正点の1つと一致するターゲット点を指示する請求項16記載の方法。
  19. ターゲットアセンブリを調整してそれによりターゲッティングビームをターゲットアセンブリの少なくとも一部の回転を含む較正点に入射させる請求項16記載の方法。
  20. ターゲットアセンブリを調整してそれによりターゲッティングビームをターゲットアセンブリの少なくとも一部の変移を含む較正点に入射させる請求項16記載の方法。
  21. ターゲット点はターゲットアセンブリの回転軸上にある請求項16記載の方法。
  22. ターゲット点はターゲットアセンブリの変移軸上にある請求項16記載の方法。
  23. さらに、記録された第1の較正位置の少なくとも一部と記録された第2の較正位置の少なくとも一部とを使用して貫通ビームの放射中心を決定する請求項16記載の方法。
  24. 貫通ビームエミッタと、
    貫通ビームレシーバと、
    エミッタにより与えられた貫通ビームの通路中に位置し、エミッタにより放射された貫通ビームに対して少なくとも部分的に不透明であり、ターゲット軸上のターゲット点を指示するターゲットマーカーを含み、ターゲット軸に沿ってターゲッティングビームを与えることができるターゲッティングビーム装置を備えている調節可能なターゲットアセンブリと、
    貫通ビームに対して少なくとも部分的に不透明であり、貫通ビームの通路中に位置する較正点を指示する第1の較正ターゲットと、
    ターゲット軸の少なくとも2つの較正位置に対応する情報を記録することのできる位置記録装置とを具備しているターゲットシステム。
  25. さらに、貫通ビームの通路に位置する第2の較正点を指示する第2の較正ターゲットを含み、この第2の較正ターゲットは少なくとも部分的に貫通ビームに対して不透明である請求項24記載のシステム。
  26. ターゲット点はターゲットアセンブリの回転軸上にある請求項24記載のシステム。
  27. ターゲット点はターゲットアセンブリの変移軸上にある請求項24記載のシステム。
  28. 貫通ビームエミッタと、
    貫通ビームレシーバと、
    エミッタにより放射された貫通ビームの通路中に位置し、エミッタにより放射された貫通ビームに対して少なくとも部分的に不透明であり、ターゲット軸上のターゲット点を指示するターゲットマーカーを含み、ターゲット軸に沿ってターゲッティングビームを与えることができるターゲッティングビーム装置を備えている調節可能なターゲットアセンブリと、
    第1の自由度でターゲット軸の所望の位置を決定し、第2の自由度でターゲット点の位置を与えることにより貫通ビームの発生中心の位置を決定するのに十分な情報を与えられる計算装置とを具備しているターゲットシステム。
  29. ターゲット点はターゲットアセンブリの回転軸上にある請求項28記載のシステム。
  30. ターゲット点はターゲットアセンブリの変移軸上にある請求項28記載のシステム。
  31. 貫通ビームエミッタおよび貫通ビームレシーバを有する装置を設け、
    4以上の自由度を有し、エミッタにより与えられる貫通ビームの通路中にターゲットマーカー含む調整可能なターゲットアセンブリを設け、ターゲットマーカーはエミッタにより放射された貫通ビームに対して少なくとも部分的に不透明であり、ターゲットマーカーはターゲット軸上のターゲット点を示し、ターゲットアセンブリはさらにターゲット軸に沿ってターゲッティングビームを供給することが可能なターゲッティングビーム装置を含み、
    第1の位置における第1の較正点を示す第1の較正ターゲットと、第2の位置における第2の較正点を示す第2の較正ターゲットとを設け、第1および第2の較正点はエミッタにより放射された貫通ビームの通路中に位置し、第1および第2の較正ターゲットは貫通ビームに対して少くとも部分的に不透明であり、
    貫通ビームをレシーバに向けて送り、
    レシーバにおいて貫通ビームを受取り、
    ターゲット軸に沿ってターゲッティングビームを供給し、
    ターゲッティングビームを第1の位置で第1の較正点に入射させ、それによりレシーバにより与えられるイメージが第1の位置における第1の較正点と一致したターゲット点を示すようにターゲットアセンブリを少くとも1つの自由度で調整し、
    第1の較正位置としてターゲット軸の位置に対応する情報を記録し、
    ターゲッティングビームを第2の位置で第2の較正点に入射させ、それによりレシーバにより与えられるイメージが第2の位置における第2の較正点と一致したターゲット点を示すようにターゲットアセンブリを少くとも1つの自由度で調整し、
    第2の較正位置としてターゲット軸の位置に対応する情報を記録するターゲッティングシステムの動作方法。
  32. ターゲットアセンブリを調整してそれによりレシーバにより与えられるイメージがターゲットアセンブリの少なくとも一部の変移を含む較正点の任意の1つと一致するターゲット点を指示する請求項31記載の方法。
  33. ターゲットアセンブリを調整してそれによりレシーバにより与えられるイメージがターゲットアセンブリの少なくとも一部の回転を含む較正点の任意の1つと一致するターゲット点を指示する請求項31記載の方法。
  34. ターゲットアセンブリを調整してそれによりターゲッティングビームがターゲットアセンブリの少なくとも一部の回転を含む較正点の任意の1つに入射する請求項31記載の方法。
  35. ターゲットアセンブリを調整してそれによりターゲッティングビームがターゲットアセンブリの少なくとも一部の変移を含む較正点の任意の1つに入射する請求項31記載の方法。
  36. ターゲット点はターゲットアセンブリの回転軸上にある請求項31記載の方法。
  37. ターゲット点はターゲットアセンブリの変移軸上にある請求項31記載の方法。
  38. さらに、記録された第1の較正位置の少なくとも一部と、記録された第2の較正位置の少なくとも一部とを使用して貫通ビームの放射中心を決定する請求項31記載の方法。
  39. 貫通ビームエミッタおよび貫通ビームレシーバを有する装置を設け、
    4以上の自由度を有し、エミッタにより与えられる貫通ビームの通路中にターゲットマーカー含む調整可能なターゲットアセンブリを設け、ターゲットマーカーはエミッタにより放射された貫通ビームに対して少なくとも部分的に不透明であり、ターゲットマーカーはターゲット軸上のターゲット点を示し、ターゲットアセンブリはさらにターゲット軸に沿ってターゲッティングビームを供給することが可能なターゲッティングビーム装置を含み、
    貫通ビームの通路中にオブジェクトを設け、そのオブジェクトは貫通ビームの通路中に位置する関心のある関連した区域を有し、関心のある区域とオブジェクトは貫通ビームが関心のある区域に向けて送られてレシーバにより受取られたときレシーバにより与えられたイメージ中の関心のある区域を作業員が識別することができるように貫通ビームに対して不透明であり、
    貫通ビームをオブジェクトおよび関心のある区域に向けて送り、
    レシーバにおいて貫通ビームを受取り、
    レシーバにより与えられたイメージが関心のある区域と一致するターゲット点を示すように少くとも1つの自由度でターゲットアセンブリを調整し、
    少くとも1つの自由度でターゲット点の位置を決定し、
    少くとも1つの自由度でターゲット軸の所望の位置を決定し、
    ターゲット軸が所望の位置にあるようにターゲットアセンブリを調整し、
    ターゲット軸に沿ってターゲッティングビームを供給するターゲッティングシステムの動作方法。
  40. ターゲット点はターゲットアセンブリの回転軸上にある請求項39記載の方法。
  41. ターゲット点はターゲットアセンブリの変移軸上にある請求項39記載の方法。
  42. ターゲットアセンブリを調整してそれによりレシーバにより与えられるイメージがターゲットアセンブリの少なくとも一部の変移を含む関心のある区域と一致するターゲット点を指示する請求項39記載の方法。
  43. ターゲットアセンブリを調整してそれによりレシーバにより与えられるイメージがターゲットアセンブリの少なくとも一部の回転を含む関心のある区域と一致するターゲット点を指示する請求項39記載の方法。
  44. 少くとも1つの自由度におけるターゲット点の位置の決定は、ターゲット点の変移位置の決定を含んでいる請求項39記載の方法。
  45. 少くとも1つの自由度におけるターゲット点の位置の決定は、ターゲット点の回転位置の決定を含んでいる請求項39記載の方法。
  46. ターゲット軸がターゲットアセンブリの少なくとも一部の回転を含む所望の位置であるようにターゲットアセンブリを調整する請求項39記載の方法。
  47. ターゲット軸がターゲットアセンブリの少なくとも一部の変移を含む所望の位置であるようにターゲットアセンブリを調整する請求項39記載の方法。
  48. 貫通ビームエミッタと、
    貫通ビームレシーバと、
    エミッタにより与えられた貫通ビームの通路中に位置するエミッタにより放射された貫通ビームに対して少なくとも部分的に不透明でターゲット軸上のターゲット点を指示するターゲットマーカーを含み、ターゲット軸に沿ってターゲッティングビームを与えることができる4以上の自由度を有するターゲッティングビーム装置を備えている調節可能なターゲットアセンブリとを具備しているターゲットシステム。
  49. さらに、エミッタにより与えられた貫通ビームの通路中に位置し、貫通ビームに対して少なくとも部分的に不透明である較正ターゲットと、
    ターゲット軸の2以上の較正位置に対応する情報を記録することのできる位置記録装置とを具備している請求項48記載のシステム。
  50. さらに、第1の自由度で所望の位置を決定し、第2の自由度でターゲット点の位置を与え、貫通ビームの放射の中心の位置を決定するために充分な情報を与える計算装置を具備している請求項48記載のシステム。
  51. ターゲット点はターゲットアセンブリの回転軸上にある請求項48記載のシステム。
  52. ターゲット点はターゲットアセンブリの変移軸上にある請求項48記載のシステム。
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