JP2004524897A - ターゲッティングシステムおよびターゲッティング方法 - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】
本発明は、ターゲッティングシステムおよびターゲッティング方法に関する。例えば、本発明は表面の背後に位置するターゲット区域に対して使用されることができる。
【背景技術】
【0002】
従来の技術において特許文献1および2には、針と結合されるべき腫瘍を有するX線により検出された試料に対して位置を検出し、検査針をその位置へ導く方法および装置が開示されている。交差するレーザビームが腫瘍の位置をマークし、垂直な経路で検査針を導くために使用されている。レーザビームソースは直交する通路で移動可能であり、補償手段がビーム方向を調節してターゲット区域内に維持し、視差を除去する。すなわち、レーザ光ビームの角度位置は異なった座標位置で異なった角度に調節されて傷害部を通ってX線の点放射源からX線フィルムへの直線路の一部に沿って針を追従させる。したがって、針の先端は傷害部の側方に変位されてはならない。
【特許文献1】
米国特許第5,320,111号明細書
【特許文献2】
米国特許第5,316,014号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0003】
そのような従来技術のシステムおよび方法は欠点を有している。例えば、それらは正確で迅速に較正することが困難である。
【課題を解決するための手段】
【0004】
本発明は、貫通ビームエミッタと、貫通ビームレシーバと、調節可能なターゲットアセンブリとを具備しているターゲッティングシステムを含んでいる。ターゲットアセンブリはエミッタにより放射される貫通ビームの通路中に位置するターゲットマーカーを含む。ターゲットマーカーはエミッタにより放射された貫通ビームに対して少なくとも部分的に不透明であり、ターゲットマーカーはターゲット軸上のターゲット点を指示する。ターゲットアセンブリはさらにターゲット軸に沿ってターゲッティングビームを与えることができるターゲッティングビーム装置を備えている。
【0005】
さらに、本発明は、上記したシステムのようなターゲッティングシステムを較正する方法および関心のある区域にターゲットを定める方法を含んでいる。
【発明を実施するための最良の形態】
【0006】
図1および2には本発明によるシステムが示されている。図1および2に示されたシステムは貫通ビームエミッタ10、貫通ビームレシーバ13、およびターゲット構造16を有している。図3は図1および2に示されたシステムの概略説明図であり、簡明にするためにターゲット構造16はその一部分だけを示している。図4は本発明の1実施例によるターゲット構造16の別の部分を示している。
【0007】
図1乃至3は貫通ビームエミッタ10から貫通ビームレシーバ13へ送られる貫通ビーム19の一部分を示している。貫通ビームエミッタ10は点放射源78と通常呼ばれている貫通ビーム19のソースを含んでいてもよい。貫通ビームエミッタ10は例えばX線を放射することができる。貫通ビームレシーバ13はイメージ増強装置でよい。X線放射装置とイメージ増強装置とを有する装置の1例は、ソルトレークシティのウタにあるOECメディカルシステムコーポレーションによって製造された形式番号9800のようなフロロコープである。
【0008】
ターゲットアセンブリ16はターゲット軸24を4つの自由度で動かすことが可能である。例えば、ターゲットアセンブリの部品は図3に矢印によって示され、以下詳細に説明されるように2方向に変移可能であり、2つの軸を中心に回転可能である。変移方向は互いに垂直であることができる。回転軸は互いに垂直であってもよい。
【0009】
ターゲットアセンブリ16は、貫通ビーム19の通路中にエミッタ10とレシーバ13との間にターゲットマーカー22を含んでいる。このターゲットマーカー22はエミッタ10により放射された貫通ビーム19に対して少なくとも部分的に不透明である。貫通ビームがX線である場合に、ターゲットマーカー22は例えば鉛のようなX線の不透過の材料の2つの垂直なワイヤであってもよい。ターゲットマーカー22はターゲット軸24上のターゲット点26を示す(図4および5参照)。例えば、ターゲットマーカー22が2つの垂直なワイヤで構成されるならば、ターゲット点26は垂直なワイヤの交差点である。本発明の1実施例では、ターゲット点26はターゲットアセンブリ19の1対の回転軸25A, 25Bおよび変移軸25C, 25D上にある(図3および4参照)。
【0010】
ターゲットアセンブリ16はさらにターゲット軸24に沿ってターゲッティングビーム31を与えることのできるターゲッティングビーム装置28(図5)を備えている。ターゲッティングビーム31はレーザビームでもよく、ターゲッティングビーム装置28はニューヨークのアムハーストにあるレーザ・フォトニックステクノロジー社により製造されている形式番号EIL-650-03-3Cのようなレーザ33を含んでいてもよい。図5に示された構造は図4に示された装置により使用されることができる。それらの組合わせは図3に部分的に示されている。ターゲッティングビーム31とターゲット軸24は図4に示されているが、ターゲッティングビーム装置28は図面を簡明にするために図4では省略されている。
【0011】
図5に示されるようにターゲッティングビーム装置28の部分は第2の軸36上に配置されてもよく、さらにターゲッティングビーム装置28は第1、第2の軸24, 36上に位置するミラー39を備えることができる。このミラー39は第2の軸36に沿ってターゲッティングビーム31を受け、第1の軸24に沿ってターゲッティングビーム31を反射するように傾斜した角度で設けられている。ミラー39は少なくとも部分的に貫通ビーム19に対して透明であってもよい。ミラー39が少なくとも部分的に貫通ビーム19に対して透明でない場合には、ミラー39は比較的小型に作られて、ターゲット点26の位置の識別から貫通ビームレシーバを介して生成されるターゲットマーカーの像を観察することが妨害されないようにする。
【0012】
図6に示されるように、本発明は較正点43を示す1以上の較正ターゲット42を含んでいる。本発明を較正するために、較正ターゲット42は貫通ビーム19の通路に位置している。例えば、較正ターゲット42はレシーバ13上に配置されてもよい。較正ターゲット42は貫通ビームに対して少くとも部分的に不透明である。第2、第3の較正ターゲット45, 48が貫通ビーム19の通路に、例えばエミッタ10とレシーバ13との間の第2、第3のに位置それぞれ配置されてもよい。第2、第3の較正ターゲット45, 48は貫通ビーム19に対して少くとも部分的に不透明であり、第2および第3の較正点46, 49をそれぞれ示す。図6は本願発明の1実施例を示しており、3つの較正ターゲット42,45, 48がパッド51上にあり、それはレシーバ13上に配置されている。
【0013】
図4に示されているように、本発明はまたターゲット軸24上の少くとも2つの較正位置に対応する情報を記憶することのできる位置記録装置54を備えている。位置記録装置54はまた貫通ビーム19の放射の中心78の関連位置のような他の情報を記憶することもできる。位置記録装置54はコンピュータを含んでいてもよい。位置記録装置54はまたターゲット軸24の位置を記述するパラメータの値を位置記録装置54に通知する位置センサ57に伝送ライン56により結合されてもよい。伝送ライン56の位置において、位置センサ57は、赤外線、無線周波数を含む無線手段により、またはその他の送信信号により位置記録装置54にターゲット軸24の位置についての情報を通報することができる。
【0014】
位置センサ57はステップモータでもよい。ステップモータが使用されるとき、ターゲットアセンブリ16は既知の位置に最初にセットされる。ステップモータがターゲットアセンブリ16を動かすとき、位置記録装置54は、ステップモータが最初の位置にあったときから生成された特定の方向における実際のステップ数を記録する。実際のステップ数はターゲット軸24の位置に相関している。
【0015】
本発明はまた、位置記録装置54および位置センサ57と通信する計算装置60(図4参照)を含んでいる。この計算装置60は少くとも1つの自由度に関してターゲット軸24の所望の位置を決定することができ、少くとも1つの他の自由度に関してターゲット点26の位置を与え、貫通ビーム19の放射の中心78の相対的位置についての情報を与えることができる。例えば変移可能な他1つの自由度においてターゲット点26の位置を与え、貫通ビーム19の放射の中心78の相対的位置についての情報を与え、計算装置60は回転自由度でターゲット軸24の所望の位置を決定することができる。ターゲット軸24の所望の位置はターゲット点26を通過する貫通ビーム19と整列している位置である。後述するように、ターゲット軸24の貫通ビーム19との整列の効果はターゲッティングビーム31と関心のある区域をターゲットとすることである。
【0016】
計算装置60はソフトウエアで動作するコンピュータであってもよい。ソフトウエアは、基準フレーム(座標)に関する貫通ビーム19の放射の中心78である点の位置を有効に決定するために位置記録装置54中に記録されている少くとも2つの較正位置に対応する情報を使用することができる。その代わりに、放射の中心78の相対的位置は他の手段によって決定されて位置記録装置54中に記録され、或いは計算装置に利用されることができる。
【0017】
少なくとも1つの自由度で貫通ビーム19の放射の中心78の位置およびターゲット点26の相対位置(それはターゲット軸24上にある)を知ることにより、少なくとも1つの他の自由度でターゲット軸24の所望の位置が計算されることができ、その計算にはターゲット点26と貫通ビーム19の放射の中心78との間の幾何学的関係を表す数学式が使用される。
【0018】
図7乃至10に示されている本発明の1実施例について説明する。共通の原点72で交差している3つの直交軸63, 66, 69を有するターゲットアセンブリ16に対する基準座標フレームを想定する。直交軸の中の2つ63, 66は基準平面75を規定する。基準平面75に関する貫通ビーム19の放射の中心78の位置は3つの直交軸63, 66, 69に対応する1組の座標により表されることができる。例えば、3つの軸はx軸63、y軸66、z軸69と呼ばれることができ、貫通ビーム19の放射の中心78の位置はx座標、y座標、z座標で表されることができる。
【0019】
本発明をさらに説明するために、さらに実施例について説明する。それにおいて、ターゲット点26は基準平面75にあり(図8乃至10参照)、すなわち、ターゲット点26は基準平面75とターゲット軸24が交差する位置である。ターゲットアセンブリ16の自由度はターゲット軸24が基準平面75の任意の位置で、基準平面75に関して傾斜して交差することを許容する。本発明のこの実施例では、ターゲッティングビーム31が導かれるターゲット軸24の位置を充分に記述するために4つの記述パラメータが使用され、その中の2つは変移であり、2つは回転である、2つの移動パラメータは、ここでQおよびPと呼ばれており、ターゲット点26のx座標とy座標に対応している。ターゲット軸24は、基準平面75に位置し、y軸66に平行な、ターゲット軸24と回転軸84とによって規定された平面(ここではビーム平面と呼ばれる)に位置していると考える。回転パラメータの1つはビーム平面角度αであり、それはビーム平面81と基準平面75との間の角度である。第2の回転パラメータはターゲット軸角度βであり、これはビーム平面81内のターゲット軸24と回転軸84との間の角度である。ターゲット軸24の任意の所定の位置に対して、基準平面75に関するターゲット軸24の位置の充分な説明はQ、Pおよびα、βによって与えられる。センサ57および位置記録装置54は、ターゲット軸24の位置を記述するパラメータの値、例えば2つの変移自由度(Q、P)および2つの回転自由度(α、β)に対応するパラメータの値を決定し、記録することができる。
【0020】
本発明によるターゲットアセンブリ16の一部分は図4に示されている。そのようなターゲットアセンブリ16は、ベース85と、第1のスライダーブロック87と、第2のスライダーブロック90と、回転ヨーク93と、回転シリンダー96とを備えている。ベース85は基準平面75に関して固定されている。回転シリンダー96の全体は図3に示されており、図4にはその一部分だけが示されている。基準平面75は図4には示されておらず、ベース85に平行に位置され、ターゲット点26と交差するものと想定される。
【0021】
位置センサ57はブロック87, 90の変移位置と、回転ヨーク93と回転シリンダー96の角度位置に対応する信号を生成する。位置センサ57によって生成された信号は位置記録装置54および計算装置60によって、例えば、伝送ライン56を介して検出される。ブロック87, 90の位置を検出するために使用されることのできるそのような1つの位置センサ57は、コネチカット州のウォーターバリーのヘイドン・スイッチアンド・インスツルメント社によって製造された形式番号36343-12のようなステップモータ線形アクチュエータである。回転ヨーク93と回転シリンダー96により使用される別のセンサは、コネチカット州のウォーターバリーのヘイドン・スイッチアンド・インスツルメント社によって製造された形式番号26GH1912-44 のようなステップモータである。
【0022】
第1のスライダーブロック87に対応する位置センサ57からの信号はy座標Pに対応し、第2のスライダーブロック90に対応する信号はx座標Qに対応する。回転ヨーク93に対応する信号はビーム平面角度αに対応し、回転シリンダー96に対応する信号はターゲット軸角度βに対応する。図10は較正中、すなわち較正位置におけるターゲット軸24によるターゲット軸24の1つの位置を示しており、それにおいてターゲット軸24は貫通ビーム19の放射の中心78および較正点43の両者と交差する。
【0023】
[較正]
図11AおよびBは本発明による方法のステップを示している。この方法において、ターゲットシステムは少くとも2つの較正データのセットを決定するように動作し、各セットはターゲット軸の較正位置を記述する情報に対応している。例えば、較正データのセットはQ、Pおよびα、βを含むことができる。2つの較正データのセットは基準平面75に関する貫通ビーム19の放射の中心78の位置を有効に決定するために使用される。当業者は、2つの完全な較正データのセットが得られる必要はなく、例えば1つの完全な較正データのセットと1つの部分的な較正データのセットが貫通ビーム19の放射の中心78の位置を有効に決定するのに充分であることを認識するであろう。その方法では、貫通ビームエミッタ10および貫通ビームレシーバ13を有する装置がステップ200 で提供される。上述したような調節可能なターゲットアセンブリがステップ203 で提供される。ターゲットアセンブリは少くとも4つの自由度で調節可能である。例えば、ターゲット点が基準平面内で移動可能であるように、ターゲットアセンブリは変移可能であってもよく、それにより、ターゲット点を通ってターゲット軸に沿って通過して導かれるターゲッティングビームは1つが基準平面内にある2つの回転軸を中心に回転することができる。
【0024】
この方法は、例えばレシーバ上に貫通ビームの通路内の第1の位置に較正ターゲットを与えるることを含んでいる(ステップ206 )。較正ターゲットは貫通ビームに少くとも部分的に不透明であり、ターゲット点を示す。貫通ビームはステップ209 で貫通ビームエミッタによりレシーバに送られてレシーバにより受取られる。必要な場合にはステップ212 に示されるように最初に調節されて、それによりターゲット点は例えばターゲット点を移動することにより1つの自由度で移動され、それによりレシーバにより与えられるイメージは第1の位置における較正点と一致したターゲット点を示す。これが一度行われると、ターゲット点はエミッタから較正点へ放射される貫通ビームに沿って位置される。ステップ215 において、ターゲッティングビームはターゲッティングビーム装置によりターゲット軸に沿って与えられ、第2の調節がステップ218 で、例えばターゲットアセンブリを回転させることによって少くとも1つの別の自由度でターゲットアセンブリに対して行われ、それによりターゲッティングビームは第1の位置で較正点に入射する。ステップ218 で第2の調節を行うとき、ターゲットアセンブリは、エミッタから放射された放射線のターゲット点を較正点に移動させることなく調節される。本発明の1実施形態において、ターゲット点は回転軸上にあり、それ故、ターゲット点の変移位置は回転によって影響されない。ターゲット軸の位置に対応する情報はステップ221 において第1の較正位置としてステップ221 で記録される。例えば、Q、P、α、βに対する値は第1の較正位置として記録される。
【0025】
その後、較正ターゲットはステップ222 で第2の位置例えばレシーバ上に与えられる。第1の位置で前に与えられた較正ターゲットは第2の位置に移動されることができるか、或いは異なった較正ターゲットが第2の位置に与えられてもよい。もしも異なった較正ターゲットが第2の位置に与えられた場合には、それは貫通ビームに対して少くとも部分的に不透明であり、較正点を示す。その後、ターゲットアセンブリはステップ224/212 において少くとも1つの自由度、例えばターゲット点を変移させることによって調節され、それによりレシーバにより与えられるイメージは第2の位置で較正点と一致するターゲット点を示す。ターゲッティングビームはステップ224/215 において与えられ、ターゲットアセンブリはステップ224/218 において少くとも1つの自由度で、例えばターゲットアセンブリを回転することによって調節され、それによってターゲッティングビームは第2の位置で較正点に入射する。上述したように、ターゲット点はエミッタから第2の位置の較正点まで延在する貫通ビーム上に残り、一方でターゲットアセンブリは調節される。ターゲット軸の位置に対応する情報はステップ224/221 において第2の較正位置として記録される。
【0026】
検査として、または放射の中心の位置を計算するときのエラーを減少させるために、上記したのと類似する方法で第3の(またはそれ以上の)較正位置に対応する情報が記録されて付加的に正確度を与えるようにしてもよい。ステップ227 のように較正ターゲットは第3の位置で与えられる。第1または第2の位置で前に与えられた較正ターゲットの1つは第3の位置に移動されることができ、或いは異なった較正ターゲットが第3の位置で与えられてもよい。異なった較正ターゲットが第3の位置で与えられる場合には、それは貫通ビームに対して少くとも部分的に不透明であり、較正点を示す。その後、ターゲットアセンブリはステップ230/212 において少くとも1つの自由度で例えばターゲットアセンブリを移動させることによって調節され、それによりレシーバにより与えられるイメージは第3の位置で較正点と一致するターゲット点を示す。ターゲッティングビームはステップ230/215 において与えられ、ターゲットアセンブリはステップ230/218 において少くとも1つの自由度で、例えばターゲットアセンブリを回転することによって調節され、それによりターゲッティングビームは第3の位置で較正点に入射する。上述のように、ターゲット点はエミッタから第3の位置の較正点まで延在する貫通ビーム上に維持され、一方でターゲットアセンブリは調節される。ターゲット軸の位置に対応する情報はステップ230/221 において第3の較正位置として記録される。
【0027】
少くとも2つの較正位置に対応する記録された情報は、ステップ233 において基準平面に関する貫通ビームの放射の中心の位置を決定するために使用される。前述した計算装置60は放射の中心の位置を決定するために使用されることができる。
【0028】
[関心のある区域のターゲット]
図12Aおよび12Bに示された方法では、貫通ビームエミッタと貫通ビームレシーバとを有する装置がステップ300 において提供され、ステップ303 で調節可能なターゲットアセンブリ(上述したような装置)が提供される。貫通ビームの放射の中心の相対的な位置がステップ306 で提供され(またはターゲット軸の2つの較正位置に対応する情報のような放射の中心の相対的な位置を決定するのに充分な情報)、オブジェクトがステップ309 で貫通ビームの通路中に設けられる。オブジェクトは貫通ビームの通路中に位置された関心のある区域を有している。オブジェクトと関心のある区域は、レシーバにより与えられるイメージ中の関心のある区域を識別することを可能にするために貫通ビームに対して不透明である。レシーバにより与えられ関心のある区域と対応しているイメージは、レシーバにより与えられるイメージを囲む部分よりも暗く、或いは明るく現れるようにしてもよい。これは例えば、関心のある区域がオブジェクトの材料とは異なった材料で作られるか、関心のある区域を異なった密度にするか、或いは関心のある区域をオブジェクトの空所とすることによって行われることができる。特に、関心のある区域は人体中の腫瘍のような不所望の構造であってもよい。関心のある区域はオブジェクトの内部にある必要はないことに注意すべきである。例えば、壁がオブジェクトであり、関心のある区域はパイプであり、壁の背後にあってもよい。
【0029】
次に、ステップ312 で貫通ビームはオブジェクトに向けて送られ,レシーバにより受取られる。ターゲットアセンブリはステップ315 で調節され、それによりレシーバにより与えられたイメージは関心のある区域と一致するターゲット点を示す。この位置において、ターゲット点はエミッタから関心のある区域への貫通ビームの放射線に沿って位置する。少くとも1つの自由度の基準平面に関するターゲット点の位置はステップ318 で例えばセンサ57により決定される。少くとも1つの他の自由度に関するターゲット軸の対応する所望の位置はステップ321 で例えば前述のように計算装置60によって決定される。その後、ステップ324 でターゲット軸は例えばターゲットアセンブリを移動させることによって対応する所望の位置に配置させる。例えば、所望の決定された位置にターゲットアセンブリがターゲット軸を与えるように構成されたことをセンサ57が示すまでターゲットアセンブリ16はセンサ57を使用して調節される。ターゲットビームはステップ327 でターゲット軸に沿って与えられ、それによりターゲットビームは関心のある区域に指向される。
【0030】
本発明による装置および方法は、所望の位置にターゲット点26を移動させ、それからターゲット軸24を適切な方位に向くようにターゲットアセンブリ16を調節し、ターゲットビーム31を適切な方位に向けることができる。しかしながら、本発明による装置および方法は、ターゲット点26を移動させ、それから所望の位置に対する通路に沿ったターゲット点26の各位置に対してターゲット軸24が適切な方位に向くように、すなわち貫通ビーム19の放射の中心78と交差するようにターゲットアセンブリ16を調節することもできる。
【0031】
本発明は、貫通ビーム例えばx線がオフに切換えられているときに関心のある区域に器具、例えば針を正確に誘導する場合に特に有用である。ターゲットビーム31、例えばレーザが関心のある区域に器具を導くために使用される。このようにして作業者は人体に有害な貫通ビーム19にさらされることなく器具を関心のある区域に導くことができる。また、関心のある区域が貫通ビームに露出されることも減少しそれも利点である。
【0032】
以上の本発明はここに開示されたいくつかの特定の実施形態に関連して説明されたが、当業者は本発明の技術的範囲を逸脱することなく別の実施形態が可能であることを認識するであろう。したがって、本発明は特許請求の範囲およびその合理的な解釈によってのみ限定されるものである。
【図面の簡単な説明】
【0033】
【図1】本発明によるシステムの斜視図。
【図2】図1に示されたシステムの別の斜視図。
【図3】ターゲットアセンブリの部分を示す図1および2に示されたのシステムの概略的な斜視図。
【図4】本発明によるターゲットアセンブリの部分の概略的な斜視図。
【図5】ターゲットビーム装置の概略図。
【図6】3つの較正ターゲットを有するパッドの概略図。
【図7】本発明の概念の基礎を示す斜視図。
【図8】本発明の概念の基礎を示す斜視図。
【図9】本発明の概念の基礎を示す斜視図。
【図10】本発明の概念の基礎を示す斜視図。
【図11A】本発明によるシステムを較正する方法のフロー図。
【図11B】本発明によるシステムを較正する方法のフロー図。
【図12A】本発明によるシステムを使用する関心のある区域のターゲット方法のフロー図。
【図12B】本発明によるシステムを使用する関心のある区域のターゲット方法のフロー図。
Claims (96)
- 貫通ビームエミッタおよび貫通ビームレシーバを有する装置を設け、
エミッタの貫通ビームの通路中にターゲットマーカーを含む調整可能なターゲットアセンブリを設け、ターゲットマーカーはエミッタにより放射された貫通ビームに対して少なくとも部分的に不透明であり、ターゲットマーカーはターゲット軸上のターゲット点を示し、ターゲットアセンブリはさらにターゲッティングビーム装置を含み、そのターゲッティングビーム装置はターゲット軸に沿ってターゲッティングビームを供給することが可能であり、
貫通ビームの通路中の第1の位置において第1の較正点を指示する第1の較正ターゲットを設け、その第1の較正ターゲットは少なくとも部分的に不透明であり、
貫通ビームをレシーバに向けて送り、
レシーバにおいて貫通ビームを受取り、
ターゲット軸に沿ってターゲッティングビームを供給し、
ターゲットアセンブリを調整してターゲッティングビームを第1の位置で第1の較正点に入射させ、それによりレシーバにより与えられるイメージが第1の位置における第1の較正点と一致したターゲット点を示し、
第1の較正点としてターゲット軸の位置に対応する情報を記録し、
貫通ビームの通路中の第2の位置における第2の較正点を指示する第2の較正ターゲットを提供し、この第2の較正ターゲットは少なくとも部分的に貫通ビームに対して不透明であり、
ターゲットアセンブリを調整してターゲッティングビームを第2の位置で第2の較正点に入射させ、それによりレシーバにより与えられるイメージが第2の位置における第2の較正点と一致したターゲット点を示し、
第2の較正点としてターゲット軸の位置に対応する情報を記録するターゲットシステムの動作方法。 - ターゲッティングビームはレーザビームである請求項1記載の方法。
- 貫通ビームはX線ビームである請求項1記載の方法。
- ターゲットマーカーは第1のワイヤと、この第1のワイヤに実質上垂直な第2のワイヤとを含んでいる請求項1記載の方法。
- ターゲットアセンブリを調整してそれによりレシーバにより与えられるイメージがターゲットアセンブリの少なくとも一部の変移を含む較正点の1つと一致するターゲット点を指示する請求項1記載の方法。
- ターゲットアセンブリを調整してそれによりレシーバがターゲットアセンブリの少なくとも一部の回転を含む較正点の1つと一致するターゲット点を指示する請求項1記載の方法。
- ターゲットアセンブリを調整してそれによりターゲッティングビームをターゲットアセンブリの少なくとも一部の回転を含む較正点の1つと一致するターゲット点に入射させる請求項1記載の方法。
- ターゲットアセンブリを調整してそれによりターゲッティングビームをターゲットアセンブリの少なくとも一部の変移を含む較正点の1つと一致するターゲット点に入射させる請求項1記載の方法。
- ターゲッティングビーム装置は、第2の軸上に配置されたレーザと、ターゲット軸および第2の軸上に配置されたミラーとを備えている請求項1記載の方法。
- ミラーは少なくとも部分的に貫通ビームに対して半透明である請求項9記載の方法。
- ターゲット点はターゲットアセンブリの回転軸上にある請求項1記載の方法。
- ターゲット点はターゲットアセンブリの変移軸上にある請求項1記載の方法。
- 記録された第1の較正位置の少なくとも一部と記録された第2の較正位置の少なくとも一部とを使用して貫通ビームの放射中心を決定する請求項1記載の方法。
- 貫通ビームエミッタおよび貫通ビームレシーバを有する装置を設け、
エミッタの貫通ビームの通路中にターゲットマーカーを含む調整可能なターゲットアセンブリを設け、ターゲットマーカーはエミッタにより放射された貫通ビームに対して少なくとも部分的に不透明であり、ターゲットマーカーはターゲット軸上のターゲット点を示し、ターゲットアセンブリはさらにターゲット軸に沿ってターゲッティングビームを供給することが可能なターゲッティングビーム装置を含み、、
貫通ビームの通路中にオブジェクトを設け、そのオブジェクトは貫通ビームの通路中に位置した関心のある関連した区域を有し、関心のある区域とオブジェクトは、貫通ビームが関心のある区域に向けて送られてレシーバにより受取られたときレシーバにより与えられたイメージ中の関心のある区域を作業員が認識できるように貫通ビームに対して不透明であり、
貫通ビームをオブジェクトおよび関心のある区域に向けて送り、
レシーバにおいて貫通ビームを受取り、
レシーバにより与えられたイメージが関心のある区域と一致するターゲット点を示すようにターゲットアセンブリを調整し、
ターゲット点の位置を決定し、
ターゲット軸の所望の位置を決定し、
ターゲット軸が所望の位置にあるようにターゲットアセンブリを調整し、
ターゲット軸に沿ってターゲッティングビームを供給するターゲッティングシステムの動作方法。 - ターゲッティングビームはレーザビームである請求項14記載の方法。
- 貫通ビームはX線ビームである請求項14記載の方法。
- ターゲットマーカーは第1のワイヤと、この第1のワイヤにほぼ垂直な第2のワイヤとを含んでいる請求項14記載の方法。
- ターゲットアセンブリを調整してそれによりレシーバにより与えられるイメージがターゲットアセンブリの少なくとも一部の変移を含む関心のある区域と一致するターゲット点を指示する請求項14記載の方法。
- ターゲットアセンブリを調整してそれによりレシーバにより与えられるイメージがターゲットアセンブリの少なくとも一部の回転を含む関心のある区域と一致するターゲット点を指示する請求項14記載の方法。
- ターゲッティングビーム装置は、第2の軸上に配置されたレーザと、ターゲット軸および第2の軸上に配置されたミラーとを備えている請求項14記載の方法。
- ミラーは少なくとも部分的に貫通ビームに対し半透明である請求項20記載の方法。
- ターゲット点はターゲットアセンブリの回転軸上にある請求項14記載の方法。
- ターゲット点はターゲットアセンブリの変移軸上にある請求項14記載の方法。
- ターゲットアセンブリを調整してそれによりターゲット軸がターゲットアセンブリの少なくとも一部の回転を含む所望の位置に位置させる請求項14記載の方法。
- ターゲットアセンブリを調整してそれによりターゲット軸がターゲットアセンブリの少なくとも一部の変移を含む所望の位置に位置させる請求項14記載の方法。
- 貫通ビームエミッタおよび貫通ビームレシーバを有する装置を設け、
エミッタの貫通ビームの通路中にターゲットマーカーを含む調整可能なターゲットアセンブリを設け、ターゲットマーカーはエミッタにより放射された貫通ビームに対して少なくとも部分的に不透明であり、ターゲットマーカーはターゲット軸上のターゲット点を示し、ターゲットアセンブリはさらにターゲット軸に沿ってターゲッティングビームを供給することが可能なターゲッティングビーム装置を含み、、
貫通ビームの通路中の第1の位置に較正点を示す較正ターゲットを設け、その較正ターゲットは貫通ビームに対して少くとも部分的に不透明であり、
貫通ビームをレシーバに向けて送り、
レシーバにおいて貫通ビームを受取り、
ターゲット軸に沿ってターゲッティングビームを供給し、
ターゲッティングビームを第1の位置で較正点に入射させてそれによりレシーバにより与えられるイメージが第1の位置における較正点と一致したターゲット点を示すようにターゲットアセンブリを調整し、
第1の較正位置としてターゲット軸の位置に対応する情報を記録し、
貫通ビームの通路中の第2の位置に較正ターゲットを移動させ、
ターゲッティングビームを第2の位置で較正点に入射させ、それによりレシーバにより与えられるイメージが第2の位置における較正点と一致したターゲット点を示すようにターゲットアセンブリを調整し、
第2の較正位置としてターゲット軸の位置に対応する情報を記録するターゲッティングシステムの動作方法。 - ターゲッティングビームはレーザビームである請求項26記載の方法。
- 貫通ビームはX線ビームである請求項26記載の方法。
- ターゲットマーカーは第1のワイヤと、この第1のワイヤに実質上垂直な第2のワイヤとを含んでいる請求項26記載の方法。
- ターゲットアセンブリを調整してそれによりレシーバにより与えられるイメージがターゲットアセンブリの少なくとも一部の変移を含む較正点と一致するターゲット点を指示する請求項26記載の方法。
- ターゲットアセンブリを調整してそれによりレシーバがターゲットアセンブリの少なくとも一部の回転を含む較正点の1つと一致するターゲット点を指示する請求項26記載の方法。
- ターゲットアセンブリを調整してそれによりターゲッティングビームをターゲットアセンブリの少なくとも一部の回転を含む較正点に入射させる請求項26記載の方法。
- ターゲットアセンブリを調整してそれによりターゲッティングビームをターゲットアセンブリの少なくとも一部の変移を含む較正点に入射させる請求項26記載の方法。
- ターゲッティングビーム装置は、第2の軸上に配置されたレーザと、ターゲット軸および第2の軸上に配置されたミラーとを備えている請求項26記載の方法。
- ミラーは少なくとも部分的に貫通ビームに半透明である請求項34記載の方法。
- ターゲット点はターゲットアセンブリの回転軸上にある請求項26記載の方法。
- ターゲット点はターゲットアセンブリの変移軸上にある請求項26記載の方法。
- さらに、記録された第1の較正位置の少なくとも一部と記録された第2の較正位置の少なくとも一部とを使用して貫通ビームの放射中心を決定する請求項26記載の方法。
- 貫通ビームエミッタと、
貫通ビームレシーバと、
エミッタにより与えられた貫通ビームの通路中に位置し、エミッタにより放射された貫通ビームに対して少なくとも部分的に不透明であり、ターゲット軸上のターゲット点を指示するターゲットマーカーを含み、ターゲット軸に沿ってターゲッティングビームを与えることができるターゲッティングビーム装置を備えている調節可能なターゲットアセンブリと、
貫通ビームに対して少なくとも部分的に不透明であり、貫通ビームの通路中に位置する較正点を指示する第1の較正ターゲットと、
ターゲット軸の少なくとも2つの較正位置に対応する情報を記録することのできる位置記録装置とを具備しているターゲットシステム。 - さらに、貫通ビームの通路に位置する第2の較正点を指示する第2の較正ターゲットを含み、この第2の較正ターゲットは少なくとも部分的に貫通ビームに対して不透明である請求項39記載のシステム。
- ターゲッティングビームはレーザビームである請求項39記載のシステム。
- 貫通ビームはX線ビームである請求項39記載のシステム。
- ターゲットマーカーは第1のワイヤと、この第1のワイヤに実質上垂直な第2のワイヤとを含んでいる請求項39記載のシステム。
- 位置記録装置はコンピュータと、このコンピュータにおいて動作するソフトウエアとを含んでいる請求項39記載のシステム。
- ターゲッティングビーム装置は第2の軸上に位置するレーザと、ターゲット軸および第2の軸上に位置すミラーとを含んでいる請求項39記載のシステム。
- ミラーは少なくとも部分的に貫通ビームに対して不透明である請求項45記載のシステム。
- ターゲット点はターゲットアセンブリの回転軸上にある請求項39記載のシステム。
- ターゲット点はターゲットアセンブリの変移軸上にある請求項39記載のシステム。
- 貫通ビームエミッタと、
貫通ビームレシーバと、
エミッタにより放射された貫通ビームの通路中に位置し、エミッタにより放射された貫通ビームに対して少なくとも部分的に不透明であり、ターゲット軸上のターゲット点を指示するターゲットマーカーを含み、ターゲット軸に沿ってターゲッティングビームを与えることができるターゲッティングビーム装置を備えている調節可能なターゲットアセンブリと、
第1の自由度でターゲット軸の所望の位置を決定し、第2の自由度でターゲット点の位置を与えることにより貫通ビームの発生中心の位置を決定するのに十分な情報を与えられる計算装置とを具備しているターゲットシステム。 - 計算装置はコンピュータと、このコンピュータにおいて動作するソフトウエアとを含んでいる請求項49記載のシステム。
- ターゲッティングビームはレーザビームである請求項49記載のシステム。
- 貫通ビームはX線ビームである請求項49記載のシステム。
- ターゲットマーカーは第1のワイヤと、この第1のワイヤに実質上垂直な第2のワイヤとを含んでいる請求項49記載のシステム。
- ターゲッティングビーム装置は第2の軸上に位置するレーザと、ターゲット軸および第2の軸上に位置すミラーとを含んでいる請求項49記載のシステム。
- ミラーは少なくとも部分的に貫通ビームに半透明である請求項54記載のシステム。
- ターゲット点はターゲットアセンブリの回転軸上にある請求項49記載のシステム。
- ターゲット点はターゲットアセンブリの変移軸上にある請求項49記載のシステム。
- 貫通ビームエミッタおよび貫通ビームレシーバを有する装置を設け、
4以上の自由度を有し、エミッタにより与えられる貫通ビームの通路中にターゲットマーカー含む調整可能なターゲットアセンブリを設け、ターゲットマーカーはエミッタにより放射された貫通ビームに対して少なくとも部分的に不透明であり、ターゲットマーカーはターゲット軸上のターゲット点を示し、ターゲットアセンブリはさらにターゲット軸に沿ってターゲッティングビームを供給することが可能なターゲッティングビーム装置を含み、
第1の位置における第1の較正点を示す第1の較正ターゲットと、第2の位置における第2の較正点を示す第2の較正ターゲットとを設け、第1および第2の較正点はエミッタにより放射された貫通ビームの通路中に位置し、第1および第2の較正ターゲットは貫通ビームに対して少くとも部分的に不透明であり、
貫通ビームをレシーバに向けて送り、
レシーバにおいて貫通ビームを受取り、
ターゲット軸に沿ってターゲッティングビームを供給し、
ターゲッティングビームを第1の位置で第1の較正点に入射させ、それによりレシーバにより与えられるイメージが第1の位置における第1の較正点と一致したターゲット点を示すようにターゲットアセンブリを少くとも1つの自由度で調整し、
第1の較正位置としてターゲット軸の位置に対応する情報を記録し、
ターゲッティングビームを第2の位置で第2の較正点に入射させ、それによりレシーバにより与えられるイメージが第2の位置における第2の較正点と一致したターゲット点を示すようにターゲットアセンブリを少くとも1つの自由度で調整し、
第2の較正位置としてターゲット軸の位置に対応する情報を記録するターゲッティングシステムの動作方法。 - ターゲッティングビームはレーザビームである請求項58記載の方法。
- 貫通ビームはX線ビームである請求項58記載の方法。
- ターゲットマーカーは第1のワイヤと、この第1のワイヤに実質上垂直な第2のワイヤとを含んでいる請求項58記載の方法。
- ターゲットアセンブリを調整してそれによりレシーバにより与えられるイメージがターゲットアセンブリの少なくとも一部の変移を含む較正点の任意の1つと一致するターゲット点を指示する請求項58記載の方法。
- ターゲットアセンブリを調整してそれによりレシーバにより与えられるイメージがターゲットアセンブリの少なくとも一部の回転を含む較正点の任意の1つと一致するターゲット点を指示する請求項58記載の方法。
- ターゲットアセンブリを調整してそれによりターゲッティングビームがターゲットアセンブリの少なくとも一部の回転を含む較正点の任意の1つに入射する請求項58記載の方法。
- ターゲットアセンブリを調整してそれによりターゲッティングビームがターゲットアセンブリの少なくとも一部の変移を含む較正点の任意の1つに入射する請求項58記載の方法。
- ターゲッティングビーム装置は第2の軸上に位置するレーザと、ターゲット軸および第2の軸上に位置すミラーとを含んでいる請求項58記載の方法。
- ミラーは少なくとも部分的に貫通ビームに不透明である請求項66記載の方法。
- ターゲット点はターゲットアセンブリの回転軸上にある請求項58記載の方法。
- ターゲット点はターゲットアセンブリの変移軸上にある請求項58記載の方法。
- さらに、記録された第1の較正位置の少なくとも一部と、記録された第2の較正位置の少なくとも一部とを使用して貫通ビームの放射中心を決定する請求項58記載の方法。
- 貫通ビームエミッタおよび貫通ビームレシーバを有する装置を設け、
4以上の自由度を有し、エミッタにより与えられる貫通ビームの通路中にターゲットマーカー含む調整可能なターゲットアセンブリを設け、ターゲットマーカーはエミッタにより放射された貫通ビームに対して少なくとも部分的に不透明であり、ターゲットマーカーはターゲット軸上のターゲット点を示し、ターゲットアセンブリはさらにターゲット軸に沿ってターゲッティングビームを供給することが可能なターゲッティングビーム装置を含み、
貫通ビームの通路中にオブジェクトを設け、そのオブジェクトは貫通ビームの通路中に位置する関心のある関連した区域を有し、関心のある区域とオブジェクトは貫通ビームが関心のある区域に向けて送られてレシーバにより受取られたときレシーバにより与えられたイメージ中の関心のある区域を作業員が識別することができるように貫通ビームに対して不透明であり、
貫通ビームをオブジェクトおよび関心のある区域に向けて送り、
レシーバにおいて貫通ビームを受取り、
レシーバにより与えられたイメージが関心のある区域と一致するターゲット点を示すように少くとも1つの自由度でターゲットアセンブリを調整し、
少くとも1つの自由度でターゲット点の位置を決定し、
少くとも1つの自由度でターゲット軸の所望の位置を決定し、
ターゲット軸が所望の位置にあるようにターゲットアセンブリを調整し、
ターゲット軸に沿ってターゲッティングビームを供給するターゲッティングシステムの動作方法。 - ターゲッティングビームはレーザビームである請求項71記載の方法。
- 貫通ビームはX線ビームである請求項71記載の方法。
- ターゲットマーカーは第1のワイヤと、この第1のワイヤに実質上垂直な第2のワイヤとを含んでいる請求項71記載の方法。
- ターゲッティングビーム装置は第2の軸上に位置するレーザと、ターゲット軸および第2の軸上に位置すミラーとを含んでいる請求項71記載の方法。
- ミラーは少なくとも部分的に貫通ビームに対して半透明である請求項75記載の方法。
- ターゲット点はターゲットアセンブリの回転軸上にある請求項71記載の方法。
- ターゲット点はターゲットアセンブリの変移軸上にある請求項71記載の方法。
- ターゲットアセンブリを調整してそれによりレシーバにより与えられるイメージがターゲットアセンブリの少なくとも一部の変移を含む関心のある区域と一致するターゲット点を指示する請求項71記載の方法。
- ターゲットアセンブリを調整してそれによりレシーバにより与えられるイメージがターゲットアセンブリの少なくとも一部の回転を含む関心のある区域と一致するターゲット点を指示する請求項71記載の方法。
- 少くとも1つの自由度におけるターゲット点の位置の決定は、ターゲット点の変移位置の決定を含んでいる請求項71記載の方法。
- 少くとも1つの自由度におけるターゲット点の位置の決定は、ターゲット点の回転位置の決定を含んでいる請求項71記載の方法。
- ターゲット軸がターゲットアセンブリの少なくとも一部の回転を含む所望の位置であるようにターゲットアセンブリを調整する請求項71記載の方法。
- ターゲット軸がターゲットアセンブリの少なくとも一部の変移を含む所望の位置であるようにターゲットアセンブリを調整する請求項71記載の方法。
- 貫通ビームエミッタと、
貫通ビームレシーバと、
エミッタにより与えられた貫通ビームの通路中に位置するエミッタにより放射された貫通ビームに対して少なくとも部分的に不透明でターゲット軸上のターゲット点を指示するターゲットマーカーを含み、ターゲット軸に沿ってターゲッティングビームを与えることができる4以上の自由度を有するターゲッティングビーム装置を備えている調節可能なターゲットアセンブリとを具備しているターゲットシステム。 - さらに、エミッタにより与えられた貫通ビームの通路中に位置し、貫通ビームに対して少なくとも部分的に不透明である較正ターゲットと、
ターゲット軸の2以上の較正位置に対応する情報を記録することのできる位置記録装置とを具備している請求項85記載のシステム。 - 位置記録装置はコンピュータと、このコンピュータにおいて動作するソフトウエアとを含んでいる請求項86記載のシステム。
- ターゲッティングビームはレーザビームである請求項85記載のシステム。
- 貫通ビームはX線ビームである請求項85記載のシステム。
- ターゲットマーカーは第1のワイヤと、この第1のワイヤに実質上垂直な第2のワイヤとを含んでいる請求項85記載のシステム。
- ターゲッティングビーム装置は第2の軸上に位置するレーザと、ターゲット軸および第2の軸上に位置すミラーとを含んでいる請求項85記載のシステム。
- 前記ミラーは貫通ビームに対して少くとも部分的に半透明である請求項91記載のシステム。
- さらに、第1の自由度で所望の位置を決定し、第2の自由度でターゲット点の位置を与え、貫通ビームの放射の中心の位置を決定するために充分な情報を与える計算装置を具備している請求項85記載のシステム。
- 計算装置はコンピュータと、このコンピュータにおいて動作するソフトウエアとを含んでいる請求項93記載のシステム。
- ターゲット点はターゲットアセンブリの回転軸上にある請求項85記載のシステム。
- ターゲット点はターゲットアセンブリの変移軸上にある請求項85記載のシステム。
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