JP2004514129A - レーザ走査顕微鏡を用い、材料によって放射、反射及び透過された光の偏光特性を測定する方法及び装置 - Google Patents

Abstract

レーザ走査顕微鏡を用いて、既知の偏光状態を有するレーザビームで試験材料を逐次照射し、材料で放射、反射又は透過される光の偏光特性を測定する方法において、材料によって偏光状態が変更された光ビーム又は材料によって放射された光を、材料の各点から本質的には同時に受光される選択された光ビームの２つの異なる偏光成分の強度を測定することによって、調べるステップと、２つの強度信号を処理することによって得られる信号を、材料の画像のそれぞれの点に割り当てるステップを有する方法。
レーザ光源（１）と試験中の材料（５）との間に偏光状態生成器（２）を、また、材料によってその偏光状態が変化する光の強度又は材料によって照射された光の強度を検出するため光ビーム中に備え、この改良によって、空間及び時間的に偏光素子を分割するための手段（８）を光ディテクタの前で用いることができる。

Description

【０００１】
本発明は、レーザ走査顕微鏡を用い、材料によって、放射、反射及び透過された光の偏光特性を測定する方法及び装置に関する。
【０００２】
レーザ走査顕微鏡（ＬＳＭ）を用いて、材料の選択されたポイント（明確に定義されたボリュームユニット）は焦点を合わせたレーザビームによって照射され、レーザビームの反応から、透過、反射、または、放射された光の強度に関する情報が得られ、その情報は、一般にデジタル形式に記憶される。あらかじめ決められた幅及び長さのフィールドを走査する間のレーザ走査顕微鏡の信号は、詳細な分析高解像度のピクチャを得るのに用いられる。画質は共焦点モードでＬＳＭを使うことによってさらに向上する。それによって実質的に焦点以外の点から拡散している光の妨害的な影響を除外する。大部分の市販のレーザ走査顕微鏡（例えばツァイス４１０又は５１０において）において、共焦点モードは基本的な特徴である、しかし、それが反射、または放射された光（蛍光）にのみ使われる。ＬＳＭの共焦点モードは、試料の非破壊光学スライス及び三次元「画像」の再構築に備える。非常に改善された画質は、厳しく試験された領域に限られる二つ以上のフォトン・レーザ励起法方法を使用することによって得られる、そして、それによって、背景照射（強度）の妨害的な影響は、実際に完全に除去されてもよい。（Ａ． Ｄｉａｓｐｒｏ ａｎｄ Ｍ．Ｒｏｂｅｌｌｏ：Ｍｕｌｔｉ−Ｐｈｏｔｏｎ Ｅｘｃｉｔａｔｉｏｎ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｙ ｔｏ ｓｔｕｄｙ Ｂｉｏｓｙｓｔｅｍｓ， Ｅｕｒｏｐｅａｎ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｙ ａｎｄ Ａｎａｌｙｓｉｓ， Ｍａｒｃｈ １９９９）
レーザ走査顕微鏡は、従来の顕微鏡及び方法と比較して高品質及び高解像度である試料の構造の情報を提供する。それにもかかわらず、これらの方法は、異方性及び偏光分光法だけで調べられる試料の多くの他の物理的相互作用に関する情報を提供しない。
【０００３】
偏光の使用は、異方性の構造（例えば遷移双極子の空間配置、互いの物理的相互作用及び微小環境）に関する情報を含んでいる試料の画像を提供する。材料の異方性特性は、一般に異方性的方法において材料によって放射、反射及び透過された光の偏光特性に影響する。したがって、放射、反射及び透過された光の偏光特性の検査は、光学的異方性、更には試験された材料の分子の順序に関する結論を可能にする。偏光（ＬＤ：直線ダイクロイズム　ＣＤ：円ダイクロイズム）で実行される測定は、Ｔ．Ｃ． Ｏａｋｂｅｒｇ によって Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎ ｎｏｔｅ， Ｓｔｏｋｅｓ Ｐｏｌａｒｉｍｅｔｒｙ， Ｈｉｎｄｓ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ Ｉｎｃ．， １９９１ ｎｅｗｓ． において記述される。また、同様の方法が、複屈折を測ることに使われる。ルミネセンス発光の直線偏光は出射双極子の異方性に関する重要な情報を提供するため、この特性である異方性値（ｒ）が、他の技術によって得られない材料の構造に関する重要な情報に提供する。放射（放出光）の内容である円偏光光（ＣＰＬ）は励磁されるときの材料のカイラルな構造に関する重要な情報を提供する。この情報は他のどの方法からも得られない。さらに重要な情報は、双極子の間でエネルギー移動、分子を囲むミクロ粘性、励起の寿命及び他の重要なパラメータに関して結論をだすことができる蛍光の偏光度（Ｐ）である。定義、測定、そして、Ｐ、ｒ及びＣＰＬは、Ｊ．Ｒ． Ｌａｋｏｖｉｃｚによって彼の本、「蛍光分光学の原理」（”Ｐｒｉｎｃｉｐｌｅｓ ｏｆ Ｆｌｕｏｒｅｓｃｅｎｃｅ Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ”）、そして、Ｉ．Ｚ． Ｓｔｅｉｎｂｅｒｇ によって酵素学の方法（Ｍｅｔｈｏｄｓ ｉｎ Ｅｎｚｙｍｏｌｏｇｙ） に発表された彼のレポートに詳細に述べられている。
【０００４】
Ｋｉｍほかによって生物物理学ジャーナル（Ｂｉｏｐｈｙｓｉｃａｌ Ｊｏｕｒｎａｌ） で発表されるレポートにおいて、詳細に述べられているように、差分偏光画像が画像を作る間、二つの異なる画像は直交偏光光を用いる試料から生じ、その差が標準化された強度は、材料または試料の異方性構造に関する情報を提供する。ＣＤ、ＬＤ及び透過された光の他の差分偏光値は、他の技術では不可能な材料の異方性構造に関する重要な情報を提供する。
【０００５】
蛍光（放出光）の偏光特性は、直線偏光の直交コンポーネントの透過のための二つの角のある位置の間で偏光フィルタを回転させて、ＬＳＭの光ディテクタの前で偏光コンポーネント（例えば、偏光フィルタ）を置くこと、及び原則として、偏光フィルタの両方の位置で続いて二つのピクチャを撮ることによって測定される。この方法がツァイスＬＳＭ４１０のアクセサリーで、実行されてもよいけれども、時間内の蛍光の強度の変化のため、それは満足な結果を、特に生物学的試料において、提供しない。更なる問題は、レーザ光の強度の変化である。試料又はステージの振動及び動きは、また、重要な歪みにつながることもある。
【０００６】
アメリカ合衆国特許出願第５，４５７，５３６号は、ツァイスＬＳＭに、多目的レーザ走査顕微鏡によって、試料を通して透過された光の２色性及び複屈折をポイントごとに測定することができるようにする改良を提案している。試料に透過されるレーザビームは、レーザ光源と試料との間に挿入された偏光状態発生器において変調される。試料を通して透過された光を測定するために、オブジェクトプレーンの反対側に偏光検光子が設置される。偏光検光子の出力は光ディテクタに接続されており、光ディテクタは出力を復調器に供給して復調器に接続されている。この構成の１つの欠点は、大部分のＬＳＭにおいて、共焦点モードが、伝送モードにおいてのみ実行されることができるＬＤ、ＣＤ及び複屈折測定の間は利用できないということである。この方法では、放射された、あるいは反射された光の偏光コンテンツの測定をすることができず、したがって、放射（放射光）の直線又は円偏光（ｒ，ＣＰＬ）における異方性の測定をすることができない。これは、共焦点蛍光顕微鏡検査法が広く用いられている生物学的試料の研究における主要な欠点である。大部分の生物学的アプリケーションにおいて、異なる成分の空間的配置に関する重要な情報は、いくつかの発色団の発散を辿ることによって得られる。この情報の各項目は、上述の従来の技術によって分析することができない異なる偏光情報を提供する。多くのＬＳＭにおいて、レーザ光の光ファイバ結合のため、レーザ光を調整することは不可能あるいは非常に難しい。また、光の偏光コンテンツを詳細に特徴づけることができず、したがって、ミュラー行列の要素に割り当てられる重要なパラメータの一部を特定することができないのは不利である。
【０００７】
したがって、本発明の１つの目的は、レーザ走査顕微鏡検査法及び偏光分析法の長所を兼ね備え、その長所を兼ね備えることによって、１つの装置でパラメータを測定数を増加し、あるいは、１つの装置で異なる構成をし、特に、実質的に同時に１つ又は複数の波長で共焦点において測定された発散蛍光のパラメータに関する、または、放射、透過又は反射された光の偏光コンテンツの可能な限りの最も完全な分析に関する、方法と装置を提供するものである。
【０００８】
本発明の更なる目的は、測定時の光学装置の波長依存及び偏光歪により生じるエラーを除去又は補正することである。
【０００９】
これらの目的は、既知の偏光状態のレーザビームによってポイント毎に光を当てられたテスト材料で、レーザ走査顕微鏡を使用して、材料によって放射、反射又は透過された光の偏光特性を測定する方法によって達成される。本発明にかかる方法において、材料によって変更された偏光状態の光ビーム、又は、材料によって放射された光は、本質的に同時に上述の材料の各ポイントから得られる選択された光ビームの２つの異なる偏光成分の強度を測定して試験され、２つの強度信号を、上述の材料の画像の各ポイントに処理することによって得られる信号を割り当てる。
【００１０】
本発明の１つの特徴によると、上述の２つの偏光成分の強度信号の差は、上述の信号処理の間生成され、その差は、値１、Ｉ_１＋Ｉ_２，Ｉ_１＋２Ｉ_２又はミュラー行列の要素によって割り当てられる、あるいは測定又は算定によって決定される他の値により実行される測定に基づいて分割される。
【００１１】
本発明の他の特徴によると、光ビームは、偏光状態又は光強度の所定の割合に基づいて、２つの異なるビームに分割され、そして、分割された各光ビームのうち、偏光成分のうちの１つの強度のみが測定される。
【００１２】
本発明の更なる特徴によると、材料から受光される光ビームの偏光成分間の位相は、２点間で所定の周波数及び形状を有する関数に基づいて周期的に変化し、偏光成分は同じ分析器で測定される。
【００１３】
材料から受光される光ビームの偏光成分間の位相は、好ましくはサイン関数に基づく両端間で変化する。
【００１４】
また、偏光特性の波長依存は、本発明にかかる方法によって決定され、材料から受光される光ビームの偏光成分間で位相を変化させる過程に続いて、選択された波長によって光ビームを分割し、同時に、分割された各光ビームにおいて測定を実行する過程がある。測定値のエラーは、必要に応じて補正されてもよい。
【００１５】
本発明の他の特徴によると、光を当てる光ビームの偏光成分間の位相は、２点間で所定の周波数及び形状を有する関数（望ましくはサイン関数）に基づいて周期的に変化し、ＦＤＬＣ及びＦＤＣＤ値は、所定の周波数（２ｆとｆ）及び位相で、材料によって放射される光の強度を測ることによって周期的に測定される。
【００１６】
共焦点モードにおける測定には、試料に照射されたレーザ光の焦点から受け取られる光の成分を選択し、焦点以外の点から受け取られる光の成分を除外するステップも含まれる。これにより、試料を光学的にスライスすることができる。
【００１７】
本発明の更なる側面によれば、空間的及び／又は時間的な輝度集中を可能にするレーザ光が、試料を照射することに、また試料の分子において２つ以上のフォトン励起をほぼ同時に引き起こすことに用いられる。この方法は、必然的に共焦点測定の長所を有する。個々の画素の非常に短い照射時間を利用して、試料が走査されてもよく、またレーザ光の悪影響を受けることなく、より長い時間測定されてもよい。
【００１８】
本発明による方法は、顕微鏡の光ビームのうちの少なくとも１つにおいて、ストークスパラメータ（Ｉ，Ｑ，Ｕ，Ｖ）を決定する容易な方法を備える。
【００１９】
本発明は、また、４つのステップ（減偏光、０度（又は９０度）の直線偏光、＋４５度（又は−４５度）の直線偏光、円偏光）において、照射するレーザ光の偏光状態を変化させることにより、顕微鏡の透過する又は反射するレーザビームにおけるミュラー行列の要素を決定し、一方で上記４つの状態のそれぞれにおいてストークスパラメータ（Ｉ，Ｑ，Ｕ，Ｖ）を決定することのできる方法を備える。
【００２０】
本発明の目的は、レーザ光源と試料物質との間の偏光状態生成器と、物質や物質から放射される光の強度によって変えられる偏光状態により光の強度を決定する光ビームを検出する光ディテクタとを備えたレーザ走査顕微鏡を用いることにより、物質から放射され、反射され、又は透過させられる光の偏光特性を決定する装置によって達成される。本発明では、異なる偏光成分を空間的又は時間的に分割する手段が、光ディテクタの前で用いられる。
【００２１】
本発明による装置は、偏光成分をその偏光状態に応じて、又はあらかじめ決められたパーセントの強度に応じて空間的に分割するための、物質から受け取られる光ビームにおける光学コンポーネントを備えていてもよく、その分割は、偏光成分の偏光状態に応じて分割される光ビームを検出する光ディテクタによって、又は光ディテクタと上記光ディテクタの前にあってあらかじめ決定されたパーセントの強度に応じて分割される光ビームにおける偏光成分の１つを選択的に透過させる分析器によって行われる。
【００２２】
本発明の好ましい実施例においては、時間内に偏光成分を分割するための、物質から受け取られる光ビームに光電変調器（ＰＥＭ、カーセル、又はそれに類するもの）が備えられ、受動偏光検光子が光ディテクタの前に備えられる。
【００２３】
偏光パラメータの波長依存度を決定するために、本発明による装置は、受動偏光検光子と光ディテクタとの間に、少なくとも１つの波長選択ビームスプリッタを備えていてもよく、上記波長選択ビームスプリッタによって分割される光ビームに、更なる光ディテクタが備えられてもよい。
【００２４】
ストークスパラメータを決定するために、本発明による装置は、上記光電変調器と受動偏光検光子との間に２つ目の光電変調器（ＰＥＭ）を備えていてもよく、その第２の光電変調器（ＰＥＭ）は、第１の光電変調器（ＰＥＭ）の光軸に対して４５°回転された光軸を有していてもよい。
【００２５】
ミュラー行列の要素を決定するために、本発明による装置は、減偏光器、直線偏光器又は円偏光器、光学位相リターダやそれらのいかなる組み合わせをも有する偏光状態生成器を備えていてもよい。
【００２６】
蛍光検知直線ダイクロイズムの値と蛍光検知円ダイクロイズムの値を測定するために、本発明による装置は、受動偏光光学コンポーネントと光電変調器（ＰＥＭ）を有する偏光状態生成器を備えていてもよい。
【００２７】
ＳＮ比を改善するために、本発明による装置は、２つの受動直線偏光器の間に位置する光電偏光器（ＰＥＭ）を有する偏光状態生成器を備えていてもよく、その２つの受動直線偏光器は、互いに平行又は垂直な偏光面と上記受動直線偏光器に対して４５°に置かれた光電変調器の光軸とを有していてもよい。さらに、本発明による装置は、第２の直線偏光器の後ろに無偏光子を備えていてもよい。
【００２８】
測定された信号を変換し処理するために、また測定中に起きたエラーの埋め合わせをするために、本発明による装置は、光ディテクタの出力部に接続された信号処理部を備えていてもよい。信号処理部は、少なくとも１つの埋込型増幅器と、ローパスフィルタ、アナログ／デジタル変換器とを有している。デジタル信号処理の場合、及び結像部がアナログ入力部を有する場合は、信号処理部にデジタル／アナログ変換器が必要となる。
【００２９】
本発明は添付の図面によって、より詳細に説明される。
【００３０】
図１は、２つのチャンネルを有する装置の構成を示し、目的テーブル６上の試料５は、偏光状態設定部２を通ったレーザ光源１のレーザ光により照射される。反射された光又は蛍光は、ビームスプリッタ４（例えば半透明ミラー）によって偏向される。このように、２つの光ビームは、第２のビームスプリッタ８によって生成される。両方のビームにおいて、光ディテクタ１６及び１７は、信号処理部１８に入力される光の強度に比例した出力信号を生成する。チャンネルｃｓｌ及びｃｓ２の各々において、１つの偏光成分の強度だけが測定される。半透明ミラーは、第２のビームスプリッタ８として用いられる。この場合、入るビームは、所定の比率の強度に分離される。分離されたビームの１つにおいて、更なるミラー９は、選択されたビームを偏向させるように配置される。分離された（偏向された）ビームの両方は、全ての偏光成分を含み、したがって、測定される偏光成分は、光ディテクタ１６及び１７の正面に位置する受動偏光検光子１２及び１３によって選択されなければならない。第２のビームスプリッタ８のように、偏光ビームスプリッタ（例えば、ウォラストンプリズムなど）もまた、第１の分離されたビームにおいては、第１の偏光成分だけを透過させ、第２の分離されたビームにおいては、第２の偏光成分だけを透過させるのに用いられる。偏光ビームスプリッタは、Ｍｅｌｌｅｓ Ｇｒｉｏｔ又はＯｒｉｅｌから商業上、入手可能である。特別な偏光ビームスプリッタもまた、ＯＺ Ｏｐｔｉｃｓから入手可能である。更なるミラー９は、チャンネルｃｓ１のビームを光ディテクタ１６へ偏向させる必要に応じて、偏向されるビームの中に配置される。第２のビームスプリッタ８を用いるとき、受動偏光検光子１２及び１３は必要でない。チャンネルｃｓ１及びｃｓ２の光ビームにおいて、そして、光ディテクタ１６及び１７の正面において、カラーフィルタ１４及び１５もまた、不用な光強度を受光しないように用いられる。チャンネルｃｓ１及びｃｓ２の光ビームに配置された絞り１０及び１１は、共焦点画像化に必要である。共焦点モードにおける測定はまた、試料上のレーザ光の共焦点から受光する光成分を選択し、共焦点以外の点から受光するレーザ光を排除する工程を含む。これにより、試料の光学スライスが可能になる。望ましくはビームスプリッティングの前に、試料５から受光する光ビームにおいて、位相リターダ（１／４波長板）は、直線偏光ビームスプリッタ又は分析器だけが用いられるとしても、円偏光成分の選択ができるように用いられる。図１の配置は、レーザ走査顕微鏡によって１画素ごとに照射された試料から、同時に受光する２つの異なる偏光成分の強度を測定することを可能とする１つの実施例である。強度値と比例したアナログ信号は、必要な変換、計算及び訂正が行われる信号処理部１８に入力される。実質的に互いに直交している２つの偏光成分Ｉ及びＩに基づいて、出力信号は、以下の式うちの１つ又はミュラー行列の要素を決定するのに用いられる式の１つにより、計算される。
（１）　Ｉ　＝　Ｉ−Ｉ
（２）　Ｉ　＝　（Ｉ−Ｉ）／（Ｉ＋Ｉ）
（３）　Ｉ　＝　（Ｉ−Ｉ）／（Ｉ＋２Ｉ）
式（３）は、円筒形の対称において、放射双極子の異方性の測定が調整された場合に使われる。本発明による方法で測られる偏光成分は、互いに直角である。上記の式の結果として生じる値は、信号処理部１８によって測定される。上記の計算のうちの一つは画素の各々（試料の照射された点）で実行され、結果は記憶装置に記憶される。
記憶された画像情報は、ビデオ信号処理装置及びソフトウェアによって表示装置（スクリーン、モニタ、その他）に表示される。
【００３１】
一つの具体例として、信号処理部１８の出力信号は、ＬＳＭの画像信号として入力される。図７に表されるように、もう一つの具体例としては、
ＬＳＭのレーザ光及び信号処理部１８の出力信号を走査又はラスタするための同期信号は電子制御部、例えばコンピュータＣＯＭＰによって画像信号へ処理され、その画像はモニタＭＯＮ上に表示される。
【００３２】
図２において示される具体例は図１にみられる具体例とは異なり、レーザ光３は試料５を通り抜け、測定は透過された光において実行される。図１に見られるように、測定には同じ要素が用いられる。図２の要素は、図１と同じ要素の同じ引用符号で示される。この例における反射ミラー４’は、必ずしも半透明ミラーである必要はなく、どの光学ミラーでも使うことができる。
【００３３】
本発明におけるもう一つの具体例として、試料から受け取られる光ビームを分けることなしに、つまり一つの光ビームを使う異なる偏光の測定が図３に示される。これを達成するために、時間内に偏光成分と分けるための装置を使う。このため、試料５から受け取られる光ビームの偏光成分間の位相は所定の周波数または波形とともに関数（好ましくはサイン関数）によって、周期的に変えられ、二つの終わりの位置間及び偏光成分の位相ははのちに同ディテクタ２７とともに同分析器２５を通して測定される。偏光成分間の位相を周期的に変えるものとして、光電変調器（ＰＥＭ）、電気光学変調器（ＥＯＭ）、光音響変調器。カーセル、ポッケトセル等のような偏光変調器が用いられる。図３で示される具体例において、光電変調器２３が、光の強度を感じるため及びそれに比例した出力信号を供給するためにディテクタ２７の前で使われる。偏光成分を一つ選択するために、受動偏光検光子２５が、ディテクタ２７と光電変調器２３の間に用いられる。適当な光電変調器は商品名Ｉ／ＦＳ５０としてＨｉｎｅｓ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓから入手可能である。しかし、同じ効果のある他の種類や装置が使われてもよい。図１及び図２に既に示されている同じ方法でディテクタ２７の出力は信号処理部２８の入力信号に接続している。
【００３４】
ディテクタ２７の前でも、カラーフィルタ２６が望まない背景光の強さを拒絶すること使われてもよい。絞り２１は光ビームに位置し、同焦点の作像が必要になる。試料５から受け取られる光ビームは好ましくは光電変調器２３より前に、たとえ直線偏光検光子だけが使われるとしても、位相リターダ２２（１／４波長板）もまた円偏光された成分の選択を可能にするために使われる。
【００３５】
前述の１−チャンネルの形状において、測定に使用される要素の数を半分の結果によって十分に減らすことができ、費用も実質上減らすことができる。
経済的な利点と比べて、装置の許容範囲のためにエラーを減らす同じ光学及び電気光学装置とともに、測定が同じ光ビームにおいて実行されることができることは、技術的な利益である。光電変調器２３は例えば、サイン交流電圧のような所定の周波数や波形の電気信号によって制御され、その制御の結果光電変調器のサイン交流幅ｄになり、ｄ ＝ ｄ０ ＋ Ａ＊ｓｉｎ（２¶ｆｔ）である。いずれの制御電圧もない光電変調器のはじめの幅はｄ０である。最大限の幅はｄ０＋Ａであり最小の幅はｄ０−Ａである。この基底状態では、光電変調器が透過した光の偏光特性に変わらない。光電変調器の最大変化幅がｌａｍｂｄａ／４（ｌａｍｂｄａは、用いられる光の波長）であるとき、直線偏光された入射光は、光電変調器により、ｄ０＋Ａの状態においては、右又は左方向の円偏光に変換され、光電変調器がｄ０−Ａの状態においては、出力光は右又は左方向の円偏光に変換される。光電変調器の最大変化幅がｌａｍｂｄａ／２（ｌａｍｂｄａは、用いられる光の波長）であるとき、直線偏光された入射光は、光電変調器により、ｄ０＋Ａ及びｄ０−Ａの状態で、偏光の偏光平面が入射光の偏光平面に対して９０度で回転するよう円偏光に変換される。この場合、ｌａｍｂｄａ／４の位置に近づくときには、変化の方向に従い、右又は左方向の円偏光が生じる。
【００３６】
このように、制御された光電変調器２３の出力で、幅Ａ＝ｌａｍｂｄａ／２において最大限の変化をする制御を使用すると同じ方向による直線偏光が制御電圧の周波数ｆに伴って、周波数２ｆで繰り返して現れると述べることができる。また、幅Ａ＝ｌａｍｂｄａ／４において最大限の変化をする制御を使用すると、同じ方向による円偏光は制御電圧の周波数ｆで、繰り返して現れる。
【００３７】
光ディテクタの前の直線偏光検光子は分析器の偏光軸と平行する偏光水平面を持つ実質上一つの選択された直線偏光だけを電送する、そしてそれは、代わりに、最大限の検出回路信号の最大値になる。また他の全ての偏光構成要素は検出回路信号のより少ない値になる。分析器の偏光軸に対して直角の偏光方向による直線偏光は、最小限の検出回路信号を提供する。光電変調器２３が最終的に受動偏光検光子２５の偏光軸に比例して、偏光角が０度と９０度の位置直線偏光を提供するために分析器２５の前に配置された場合、強度の出力信号は図１０Ｄで示すように制御電圧の周波数ｆに比例して、周波数２ｆで定期的に変わる。
【００３８】
上記の信号処理は、図１に関連して説明される信号処理とは異なる。図１の装置が更なる処理のための静電気信号を提供する間、図３の構成は偏光構成要素を提供する、そして、その調整された強度は少なくとも１０ｋＨｚの比較的高い周波数で、定期的に時間内の変化（望ましくは少なくとも１００ｋＨｚ）の値をとる。そのような状況において、測定は、正確にあらかじめ決められた位相位置において、ＰＥＭのサイン波制御電圧に同期化して、実行されなければならない。あらかじめ決められた位相位置におけるあらかじめ決められた周波数の繰り返された測定は、位相感度（ロックイン）増幅器を用いて実行することができる。例えば、あらかじめ決められた周波数においてデュアルモードで、あらかじめ決められた周波数ｆ及び２ｆでの測定ができる。その位相感度（ロックイン）増幅器が、従来の差の下では、ΔＩ＝１２−Ｉｌという値をとる差強度を提供する。少なくとも１０ｋＨｚの比較的高い周波数で、望ましくは、少なくとも１００ｋＨｚで働く位相感度（ロックイン）増幅器は、例えばＥＧ＆Ｇ又はＪｕｐｉｔｅｒといったいくつかのメーカーから入手可能である。
【００３９】
図３の構成で使われる信号処理部２８は、図８Ａで示すような、つまり、光ディテクタの出力に接続するローパスフィルタＬＰ及び位相感度増幅器ＦＥと、ローパスフィルタＬＰの出力に接続するアナログ／デジタル変換器ＡＤを備えた構成となるだろう。デジタル信号処理及びアナログ入力も備えた結像部の場合には、デジタル／アナログ変換器ＤＡも必要である。ツァイスによって製造されている現在のＬＳＭは、アナログ入力の結像部を備えている。したがって、そのデジタル／アナログ変換器Ｄの互換性の維持に備えている。
【００４０】
大部分のＬＳＭシステム、または、ツァイス・タイプ４１０のＬＳＭは、各々の出射波長を分離し、特別な光ディテクタで、概して光電子倍率器であるが、異なる波長の構成要素を持っている試料によって放射される蛍光の強度の測定に適している。励磁は、一つの、あるいはそれ以上の周波数で、起こり得る。分離のために、ダイクロイックミラーが使用可能である。図４で示される異なる波長での測定のための構成において、試料５の照度は図１または、図１に関する記述と同様のものである。試料５から受け取られ、半透明鏡４によって屈折させられる光ビームにおいては、例えばハインズから入手可能なＦＳ５０のような光電変調器３１及び受動偏光検光子３２がある。異なる波長及び光学鏡３４により、試料から受け取られる光を分離するために、または必要に応じて分離された光ビームを屈折するために、分析器の次には、ダイクロイックミラー、あるいは、ダイクロイックビームスプリッタ３３が続く。ダイクロイックミラー又は、ビームスプリッタ３３の前に配置される、例えばハインズ・タイプＦＳ５０のような光電変調器３１を用いて、蛍光の全ての波長構成要素は、同時に変調され得る。偏光状態の変調深度は、波長が異なるために異なるけれども、それを算出したり、修正要因によって補整することができる。このようにして、図３に関して記された方法によって、波長をより伸ばすことが可能である。大部分のダイクロイックビームスプリッタが選択性のある偏光状態にあるという事実に関して、上記受動偏光器３２は、場合によっては省略されたり、ダイクロイックミラーによって取り替えられたりしてもよい。大きい波長範囲にあり、光の偏光状態に反応しないダイクロイックビームスプリッタも市販されている。異なる選択的な波長チャネルにおいて、強度はディテクタ３７で同時に検波される。そして、その検波された信号は、詳細に上述された信号処理を行うために、一般の信号処理部３８へ出射される。本構成は、測定のための多様な方法、又は多重チャンネル手段を必要とする。信号処理は、本構成で、変調している周波数が全てのチャネルにおいて同一のものであるという事実により、単一化される。
【００４１】
光ビームの中に置かれる絞り３５は、共焦点結像のために必要となり得る。そして、カラーフィルタ３６は、不要な背景光の強度を拒絶するために用いられる。
【００４２】
図８Ａは、図４に示す信号処理部３８を示す図であり、図３を用いてさらに詳細に説明する。３チャネルからなる３倍のデータ量を処理すると、例えば、図８Ａに示す信号処理装置は３個になる。あるいは、信号処理速度が十分に速いときには、３チャネルからなる検出回路３７の出力を信号処理部３８の入力に接続（多重化）することが可能である。
【００４３】
また、発光帯域が単一の場合には、図４に示す構成によって、光ビームの異なる偏光成分を分離することもできる。このためには、偏向処理の前段に、単一のモジュレータ及び検光子を配設する代わりに、各々のチャネルに個々のモジュレータ及び検光子を配設する必要がある。図３は、１チャネルの構成を示す図である。これによると、２個のチャネルにおいて、直線偏光及び円偏光の強度であるＩ（９０°）−Ｉ（０°）及びＩ（＋４５°）−Ｉ（−４５°）の差を測定することができる。Ｉ（＋４５°）−Ｉ（−４５°）の測定は、Ｉ（９０°）−Ｉ（０°）の測定と同様に行うことができるが、モジュレータは０°に設定され、検光子は４５°に設定される。このことは、特に異方性の測定において重要である。これらの測定の間、蛍光性の全強度に比例した値も決定することができ、したがって、感度差も補償される。このことは、図１０において更に詳細に説明される。３個のチャネルを用いることによって、全ての特性パラメータ、すなわち、放射された蛍光の偏光状態のストークスベクトル（Ｓｔｏｋｅｓ ｖｅｃｔｏｒ）（Ｉ、Ｑ、Ｕ、Ｖ）の全ての構成要素又は反射率は、測定されてもよいて先に述べたようにイメージとして表示されてもよい。
【００４４】
１チャネルを用いてストークスベクトルの値又は偏光の状態を測定する方法はよく知られている。レーザ走査顕微鏡（ＬＳＭ）においてこの方法を用いることによって、ストークスベクトルの全ての値（Ｉ、Ｑ、Ｕ、Ｖ）は、測定して表示することができる（図５）。このために、２個の光電変調器４３及び４４は、テストされた試料から反射された光ビーム上に直列に配置される。第１の光電変調器４３の光軸は基準面に対し４５度の角度をなし、第２の光電変調器４４は基準面に対し０度の角度を有する。第２の光電変調器４４及び光ディテクタ４７の間には、同一の基準面で２２．５度の角度をなす光軸を有する受動偏光検光子４５（例えば、グラントンプソンプリズム（Ｇｌａｎｎ−Ｔｈｏｍｐｓｏｎ ｐｒｉｓｍ））が用いられる。光ディテクタ４７出力は、上述した具体例と同様に、信号処理装置４８に接続されている。このとき、信号処理装置４８は、図８に示すように、３個の位相感度（ロックイン）増幅器ＦＥ１．．．ＦＥ３及びローパスフィルタを有する。エラー補償なしで強度Ｉｍを測定するときには、デジタルローパスフィルタが用いられる。強度を測定する間にエラー補償するときには、第４の位相感度（ロックイン）増幅器ＦＥ４が必要になる。デジタル信号を処理するときには、アナログ／デジタル変換器ＡＤは、ローパスフィルタＬＰのアナログ出力に接続されている。アナログ入力を有するＬＳＭの結像部との互換性を維持するために、デジタル／アナログ変換器ＤＡも必要である。位相感度（ロックイン）増幅器としては、例えば、ＫＦＫＩ（ブダペスト）によって製造され、二重構造において２個の位相感度増幅器を有するＤＰＳＤ（デジタル位相感度光ディテクタ）が用いられる。
【００４５】
信号処理部（ＳＰＵ）（位相感度増幅、周波数選択、信号調整）の異なる機能が制御可能であるならば、上述した結像方法は著しく支持される。このことは、以下の機能を有する低レベルのプログラム可能な素子である一つのＤＰＳＤ基盤（ＫＦＫＩ（ブダペスト））上でこれは達成される。入力信号は、平均を計算する前にどんな周期的なスカラ―信号によってでも増幅されてよく、すなわち、従来の位相感度（ロックイン）増幅器と同様に、選択された周波数を有する信号の振幅を、異なるモードで測定することができるだけでなく追加モードでも測定することができる。異なるモードにおいて、出力信号は、位相Φでの入力信号の大きさから位相Φ＋¶での入力信号の大きさを減算した値に反応する。追加モードにおいて、出力信号は、位相Φでの入力信号の大きさに位相Φ＋¶での入力信号の大きさを加算した値に反応する。２つの関数のスカラー積は、一般的には、Ｐ＝∫ｆ１（ｔ）＊ｆ２（ｔ）で表される。追加モードでの乗数関数は図１０Ｂのように示され、また、異なるモードでの乗数関数は図１０Ｃのように示される。
【００４６】
ストークスベクトルの値は、以下のように表される。
【００４７】
Ｉ、強度：周波数２ｆでのＰＥＭ４３又は４４の追加モードで機能する位相感度（ロックイン）増幅器ＦＥ４の信号（Ｉ_１＋Ｉ_２−２Ｉ_ｍ）で補償されたローパスフィルタＬＰのＩ_ｍ信号
Ｑ、０°−９０°直線偏光成分：ＰＥＭ４４の周波数２ｆでの異なるモードで機能するＦＥｌの信号
Ｕ、±４５°直線偏光成分：ＰＥＭ４３の周波数２ｆでの異なるモードで機能するＦＥ２の信号
Ｖ、円偏光成分：ＰＥＭ４３又は４４の周波数ｆでの異なるモードで機能するＦＥ３の信号
測定値は、調整後に、異なる偏光（ＤＰ）値を「従来の」モードの強度ピクチャに類似したピクチャとして表示するＬＳＭの結像部（ビデオ信号処理基盤）の適当な入力に向けられてもよい。
【００４８】
本発明の別の見地から述べると、ｘ及びｙ方向で画素を走査するためのシンクロン信号もまた、適当な画像処理回路（図７）によって、直接用いられてもよい。結果として、ＬＳＭ画像で画像を表示することを記憶する互換性を維持している間、ＬＳＭの画像処理から独立して画像処理を実行することが可能である。この方法の利点は図４の測定と比較して、ただ一つの検出チャンネルが測定に必要とされ、光ディテクタを再配置した後にそれが外部単位として使われてもよい点である。偏光画像はＬＳＭの更なる使用なしで得られてもよい、また、偏光チャンネルはハードウェア及びソフトウェアの特性から独立している。
【００４９】
図６は、図５の構成との組み合わせからなる異なる種類の偏光状態設定部が、既知の異なる照射光の偏光状態を用いることにより、伝送モードにおいて、全てのミュラー行列の要素を測定する可能性を供給することを示す図である。この目的のため、図５の構成は試料の後ろに配置される（図２のミラー４の後ろ）。本発明を適用したミュラー行列の要素の決定方法は、照射レーザ光の偏光状態を４つの状態、すなわち偏光を減らす、０度もしくは９０度に偏光させる、＋４５度あるいは−４５度直線に偏光させる、円形に偏光させる、といった状態に偏光させるとともに、４つの状態のそれぞれにおいてストークスパラメータ（Ｉ，Ｑ，Ｕ，Ｖ）を測定する。この目的のために、無偏光子５１、直線又は円偏光器５２、５３及び光学位相リターダ５４、もしくは前述のいかなる組み合わせからなる、偏光状態設定部２ａから２ｄが用いられる。図６Ａから図６Ｄは、時間的には一定であるが、異なる偏光状態のレーザ光を生成する偏光状態設定部２ａから２ｄを示す図である。偏光状態設定部２ａは、偏光されうるレーザ光の偏光を減らす無偏光子５１を含み、減偏光されたレーザ光でテストされた試料を照射する。偏光状態設定部２ｂは、必要に応じて直線もしくは円からなる偏光器５２を含む。偏光状態設定部２ｂは直線又は円に偏光されたレーザ光をもってテストされた試料を照射し、レーザ光が最初から減偏光されていた場合は用いられてもよい。偏光状態設定部２ｄは、直線偏光器５３及び位相リターダ５４を、レーザ光が最初から減偏光されていた場合、円形に偏光されたレーザ光を用いてテストされた試料を照射するための、直線偏光器５３の後ろに含む。偏光状態設定部２ｄは無偏光子５１の後ろに無偏光子５１及び偏光器５２を含む。偏光器５２は、必要に応じて直線又は円になる。偏光状態設定部２ｄは直線又は円に偏光されたレーザ光でテストされた試料を明らかにし、レーザ光が最初から偏光されていた場合に用いられてもよい。
【００５０】
図９は、蛍光検出直線ダイクロイズム（ＦＤＬＤ）及び蛍光検出円ダイクロイズム（ＦＤＣＤ）を測定するための、本発明のさらなる構成を示す図である。この目的のため、偏光状態設定部２は直線偏光器８１と、その後ろに光電変調器８２を含む。レーザ光源１が直線に偏光されたレーザ光を供給する時には、直線偏光器８１は省略されてもよい。この構成により、励起しているレーザ光は異なった偏光状態を獲得するために調整されてもよい。発光する光の軌道は、ＬＳＭで変更されされる必要はない。このことは図１に見られるよりも、より単純な構成を供給する。同じ機能を持つ同じ要素には、図１に用いられているように、同じ引用符号が付けられていた。信号処理は、前述した方法に似た検波方法を用いて実行される。ＦＤＬＤの値は周波数２ｆで測定され、ＦＤＣＤの値は周波数ｆで測定され、画像処理もまた詳細にわたって前述の方法と同様である。
【００５１】
本発明においては、試料を照射し、ほぼ同時に試料の２又はそれ以上の分子中のフォトン励起を同時に発生させるために、空間的及び／又は時間的な強度集中を許容する高出力レーザ光が用いられてもよい。焦点から正方距離における２のフォトン励起の発生により、背景蛍光が大幅に減少するという周知の事実を利用すれば、より高いレベルの間隔分解能が得られるとともに、レーザ光の欠点も抑えられる。
【００５２】
強度Ｉ＝Ｉ１ ＋Ｉ２の正確な値は、ローパスフィルタ（ｌｏｗ ｐａｓｓ ｆｉｌｔｅｒ）を用いた従来の方法では、測定することができない。誤差の原因及び本発明の訂正方法を、図１０を参照して更に詳細に説明する。図１０Ａは、サイン波交互制御電圧（ｓｉｎｕｓｏｉｄａｌ ａｌｔｅｒｎａｔｉｎｇ ｃｏｎｔｒｏｌ ｖｏｌｔａｇｅ）による光電変調器（以下、ＰＥＭという）の幅ｄにおける、時間関数（ｆｕｎｃｔｉｏｎ ｏｆ ｔｉｍｅ）としての偏差を表す。図１０Ａから明らかなように、サイン波交互電圧によって制御されているＰＥＭの幅は、ｄ＝ｄ０＋Ａ＊ｓｉｎ（２¶ｆｔ）で表されるサイン波に関する数式によっても、様々に変化する。ＰＥＭが励起されていない基底状態では、ＰＥＭを透過する光の偏光状態は、変化しない。Ａ＝ｌａｍｂｄａ／２の場合、ＰＥＭは、入射光の偏光面を最大幅がｄ０＋Ａ、最小幅がｄ０−Ａの状態で９０度回転させる。図１０Ｄは、直線偏光分析装置（ｌｉｎｅａｒ ｐｏｌａｒｉｚａｔｉｏｎ ａｎａｌｙｚｅｒ）の裏側に位置する光ディテクタによって検出される、時間関数としての強度値を示す。ここで、ＰＥＭの制御は図１０Ａに示す制御と同一である。分析装置は、励起されていないＰＥＭを透過する直線偏光装置の偏光面と平行な光軸を持つように設定される。この構成では、それぞれの位置ｄ０において最大強度Ｉ_２が得られる。ｄ０＋Ａ及びｄ０−Ａの位置では、直線偏光の偏光面が、分析装置の光軸に対して直交するため、光ディテクタによって検出される強度Ｉ_１は、最小である。強度関数がサイン関数でないため、デジタルローパスフィルタによって分離されたＤＣ成分（ＤＣ ｃｏｍｐｏｎｅｎｔ）は、強度Ｉ_ｖ＝（Ｉ_１＋Ｉ_２）／２ではなく、Ｉ_ｍを表す。第４の位相感度増幅器を用いることによって、追加モード（ａｄｄｉｔｉｏｎ ｍｏｄｅ）Ｓ_＋＝Ｉ_１＋Ｉ_２−２Ｉ_ｍにおけるＦＥ４を得ることができる。Ｉ_ｍがすでに決定されているため、強度の補償値（ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅ ｖａｌｕｅ）を、以下の数式に従って計算することができる。
Ｉ＝Ｉ_１＋Ｉ_２＝Ｓ_＋＋２Ｉ_ｍ
検出された強度の誤りを補償するこの方法は、巨視的なダイクロイック測定値の場合、先行技術と比較すると、変調度（ｍｏｄｕｌａｔｉｏｎ ｄｅｐｔｈ）を必要とせず、より正確な補償が得られる。
【００５３】
偏光状態に影響を及ぼす異なる光学素子によって、ＤＰ測定の定誤差は、訂正方法によって補償することができ、その補償は、デジタル信号処理の間に実行することもできる。
【００５４】
励起している（照明している）光の強度の変調によって、フォトセレクション（ｐｈｏｔｏｓｅｌｅｃｔｉｏｎ）を排除し、信号と雑音（ｎｏｉｓｅ）の比率を向上させることができる。
【００５５】
ＬＳＭで用いられるレーザ光は、通常偏光である。入射光の吸収及び放出が、入射光の変更状態によって異なるため、試料から得られる画像は用いられる入射光の偏光状態によって様々である。ＬＳＭ画像においては、露光過度や露出不足、さらには詳細部が損なわれてしまうことさえある。この現象は特に、異方性の試料において顕著である。このような影響は、図６Ａに示すように変更状態に設定されたユニットにおいて無偏光子（ｄｅｐｏｌａｒｉｚｅｒ）を用いることによって、排除することができる。無偏光子の使用は、伝送、蛍光または反射のような場合にも、用いることができる。しかし、励起している／照明している光ビームに位置する受動の無偏光子は、巨視的レベルで不均等性を生じたり、出力が、多くの場合十分に行われないことがある。
【００５６】
ＦＤＬＤ／ＦＤＣＤ測定において用いられる方法と同様に、無偏光子の代わりにＰＥＭを、入射光の偏光状態を変更するために適切な時期に用いることもできる。レーザ光が１つの焦点に集められ、平均化が起こる間、励起している／照明している光は、偏光が全ての方向からなるため、光ディテクタ信号を適切にゲート又は平均化した後、負の影響に妨げられることなく、フォトセレクションを排除することができる。
【００５７】
仮に偏光測定が何もなされていなければ、この変調及び復調方法を、信号と雑音の比率を向上するために用いることもできる。この目的を達成させるために、偏光状態生成器は、お互いに偏光面が平行又は垂直な２つの受動直線偏光器の間に位置する光電変調器（ＰＥＭ）と、受動直線偏光器に対して４５度に設定された、光電変調器の光軸を備える。なお、必要があれば第２の直線偏光器の裏側に位置する、無偏光子を用いてもよい。この構成によって、ＰＥＭの周波数ｆに対する周波数２ｆのサイン波交流強度が得られる。復調は、単一位相感度増幅器（ロックイン）によって、周波数２ｆで実行される。仮に、レーザ光源からゆがみがない直線偏光されたレーザ光が得られた場合、レーザ光源側の直線偏光器を除外することができる。また、上述のように、仮にフォトセレクションが測定に悪い影響を与えず、補償が動的なモード（ｄｙｎａｍｉｃ ｍｏｄｅ）で実行される場合、無偏光子もまた、除去することができる。信号と雑音の比率を向上させるこの方法は、ＦＤＬＤ／ＦＤＣＤ測定及びフォトセレクションの補償を同様の成分によって実行される、高い強度を用いる他の方法と比べると、大変優れている。
【図面の簡単な説明】
【図１】
ＦＩＧ．１は、本発明を適用した、放射モード又は反射モードで動作する２つのチャンネルを有する装置の構成を示すブロック図である。
【図２】
ＦＩＧ．２は、本発明を適用した、透過モードで動作する２つのチャンネルを有する装置の構成を示すブロック図である。
【図３】
ＦＩＧ．３は、本発明を適用した、変調原理に基づいて動作する１つのチャンネルを有する装置の構成を示すブロック図である。
【図４】
ＦＩＧ．４は、本発明を適用した、異なる波長を測定するために変調原理に基づいて動作する装置の構成を示すブロック図である。
【図５】
ＦＩＧ．５は、本発明を適用した、ストークスパラメータを測定する装置の構成を示すブロック図である。
【図６】
ＦＩＧ．６は、本発明を適用した、ミュラー行列の要素を決定する装置の構成を示すブロック図である。
【図７】
ＦＩＧ．７は、測定値を表示するための信号処理及び画像部を示すブロック図である。
【図８】
ＦＩＧ．８は、本発明を適用した装置に用いられる信号処理部を示すブロック図である。
【図９】
ＦＩＧ．９は、本発明を適用した、ＦＤＬＤ値及びＦＤＣＤ値を決定するための装置の構成を示すブロック図である。
【図１０】
ＦＩＧ．９は、光電変調器のサイン波エラーを補正する方法を示すブロック図である。

Claims (24)

1. レーザ走査顕微鏡を用いて、既知の偏光状態を有するレーザビームで試験材料を逐次照射し、上記材料で放射、反射又は透過される光の偏光特性を測定する方法において、
   上記材料によって偏光状態が変更された光ビーム又は上記材料によって放射された光を、上記材料の各点から本質的には同時に受光される選択された光ビームの２つの異なる偏光成分の強度を測定することによって、調べるステップと、
   上記２つの強度信号を処理することによって得られる信号を、上記材料の画像のそれぞれの点に割り当てるステップを有する方法。
2. 上記２つの偏光成分の強度信号の差を、上記信号処理の間に生成するステップと、
   上記差を、値１、Ｉ_１＋Ｉ_２、Ｉ_１＋２Ｉ_２、あるいはミュラー行列の要素に割り当てられる、又は測定又は計算によって決定される他の値によって実行される測定に応じて分割するステップとを有する請求項１に記載の方法。
3. 上記光ビームは、上記偏光状態、又は光の強度の所定の比率に従って分割され、各分割された光ビームは、一方の偏光成分のみが測定されることを特徴とする請求項１又は２に記載の方法。
4. 上記材料から受光される光ビームの偏光成分間の位相は、２点間で所定の周波数及び形状を有する関数に従って周期的に変えられ、上記偏光成分は、同じ分析器で連続して測定されることを特徴とする請求項１又は２に記載の方法。
5. 上記材料から受光される光ビームの偏光成分間の位相は、サイン関数に従った２点間で変えられることを特徴とする請求項４に記載の方法。
6. 上記材料から受光される光ビームの偏光成分間の位相を変えるステップの後に、選択された波長に基づいて上記光ビームを分割し、該分割された光ビームにおいて測定を同時に実行し、必要に応じて測定値の誤差を補正するステップを有する請求項４又は５に記載の方法。
7. 上記照射光ビームの偏光成分間の位相は、２点間で所定の周波数及び形状を有する関数に基づいて変えられ、ＦＤＬＣ及びＦＤＣＤの値は、所定の周波数（２ｆ及びｆ）及び位相で、上記材料により周期的に放射される光の強度を測定することによって決定されることを特徴とする請求項１又は２に記載の方法。
8. 上記照射レーザビームの偏光成分間の位相は、サイン関数の両端間で変えられることを特徴とする請求項７に記載の方法。
9. 上記試料上の上記レーザビームの合焦点位置から受光される光の成分を選択し、上記合焦点以外の位置から受光される光の成分を排除するステップを有する請求項１乃至８いずれか１項に記載の方法。
10. 上記試料を照射し、２つ以上の光子を励起するために空間的及び時間的に集束されたレーザビームを用いることを特徴とする請求項４乃至６いずれか１項に記載の方法。
11. 上記レーザ走査顕微鏡の少なくとも１つのレーザビームのストークスパラメータ（Ｉ，Ｑ，Ｕ，Ｖ）を決定するステップを有する請求項４乃至６いずれか１項に記載の方法。
12. 上記ストークスパラメータ（Ｉ，Ｑ，Ｕ，Ｖ）を決定する間に、上記照射レーザビームの偏光状態を、無偏光、０（又は９０）度直線偏光、＋４５（又は−４５）度直線偏光、円偏光の４つの状態で変化させることによって、上記レーザ走査顕微鏡の透過レーザビームのミュラー行列の要素を決定するステップを有する請求項４乃至６いずれか１項に記載の方法。
13. レーザ走査顕微鏡を用いて、材料で放射、反射又は透過される光の偏光特性を測定する装置において、
    レーザ光源（１）と、
    上記レーザ光源（１）と試験される上記材料又は試料（５）の間に配設された偏光状態設定ユニットと、
    上記試料（５）によって偏光状態が変更された光の強度又は上記試料（５）によって放射された光の強度を検出する光ディテクタ（１６、１７、２７、３７、４７）と、
    上記光ディテクタ（１６、１７、２７、３７、４７）の前に設けられ、偏光成分を空間的及び時間的に分離する手段とを備える装置。
14. 上記試料（５）からの光ビームが入射され、偏光状態によって偏光成分を空間的に分離する光学素子とを備え、
    あるいは、
    上記試料からの光ビームが入射され、光ビームを所定の比率で分割する光学素子と、
    上記光ディテクタ（１６、１７）の前に配設され、上記所定の比率で分割された光ビームの一方の偏光成分を上記光ディテクタ（１６、１７）に選択的に通過させる検光子（１２、１３）とを備える請求項１３に記載の装置。
15. 上記試料（５）から入射される光ビームの偏光成分を時間的に分離する第１の偏光変調器（２３）と、
    上記光ディテクタ（２７）の前に配設された受動偏光検光子（２５）とを備える請求項１３に記載の装置。
16. 受動偏光検光子（３２）と光ディテクタ（３７）の間の配設された少なくとも１つの波長選択ビームスプリッタ（３３）と、
    上記波長選択ビームスプリッタ（３３）で分離された光ビームを検出する光ディテクタ（３７）とを備える請求項１３に記載の装置。
17. 受動偏光光学素子（８１）と偏光変調器（８２）とからなる偏光状態設定ユニットを備える請求項１３に記載の装置。
18. １７への主張されたはやりの請求の範囲１３として装置、ピンホールを成る（１０、１１、２１、３５）
    試料から受け取られる光ビームにおいて、光の成分を選ぶこと（５）は、試料に焦点を合わせたことを特徴とする請求項１３乃至１７にいずれか１項記載の装置。
19. 装置、そのことは１７まで請求の範囲１３において、レーザビームを含むことは試料の分子のｔｗｏ−又は多光子励起空間的におよび／または一時的に集中されたレーザビームで、（１）を供給することを特徴とする請求項１３乃至１７いずれか１項に記載の装置。
20. 装置、光軸を最初の偏光変調器（４３）の光軸と比較して、４５°によって回転させておいている第二の偏光変調器（４４）で、最初の偏光変調器（４３）及び受動偏光検光子（４５）の間で第二の偏光変調器（４４）を含むことを特徴とする請求項１５に記載の装置。
21. 主張されたはやりの請求の範囲２０としての装置は、偏光で設定単位を述べる（２ａ−２ｄ）、減極剤（５１）、リニア偏光子（５２、５３）又は円偏波器（５２）を成る、そして、光位相遅らせる人（５４）又はそのどんな組合せでもよいことを特徴とする請求項２０に記載の装置。
22. 装置、平行して互いへの偏光水平面又は垂直による２の受動リニア偏光子及び受動リニア偏光子と比較して４５°でセットされる光弾性の変調器（ＰＥＭ）の光軸の間に位置する光弾性の変調器（ＰＥＭ）を含んでいるて第二のリニア偏光子の後で減極剤を更に含んでいる単位（２）をセットしている偏光状態で、ことを特徴とする請求項１３乃至２０いずれか１項に記載の装置。
23. 信号の処理装置（１８、２８、３８、４８）がｄｅｔｅｃｔｏｒ（ｓ）（１６、１７、２７、３７、４７）の出力に接続している２１への
    ことを特徴とする請求項１３乃至２１いずれか１項に記載の装置。
24. 信号の処理装置（ＪＦＥ）が少なくとも１から成るその点では、段階的に実行する敏感な増幅器（ＦＥ１、ＦＥ１．．．ＦＥ４）（ローパスフィルター）（ＬＰ）（アナログ−デジタル変換器（広告）及びＤ−Ａ変換（ＤＡ））ことを特徴とする請求項２２に記載の装置。