JP2004363606A - レチクルマスキングブレードシステムおよびレチクルマスキングブレードの制御方法およびレチクルマスキングブレードの浮上装置 - Google Patents
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- 230000000873 masking effect Effects 0.000 title claims description 149
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 13
- 238000005339 levitation Methods 0.000 title description 35
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims abstract description 50
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 claims description 10
- 230000003993 interaction Effects 0.000 claims description 6
- 241000022563 Rema Species 0.000 abstract 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 15
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 13
- 230000006870 function Effects 0.000 description 12
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 8
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 6
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 4
- 230000008859 change Effects 0.000 description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 2
- 238000003491 array Methods 0.000 description 2
- 238000009432 framing Methods 0.000 description 2
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005355 Hall effect Effects 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000001174 ascending effect Effects 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L calcium difluoride Chemical compound [F-].[F-].[Ca+2] WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001634 calcium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000001900 extreme ultraviolet lithography Methods 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 230000000670 limiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/70066—Size and form of the illuminated area in the mask plane, e.g. reticle masking blades or blinds
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70758—Drive means, e.g. actuators, motors for long- or short-stroke modules or fine or coarse driving
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
- G03F7/70816—Bearings
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
- G03F7/70825—Mounting of individual elements, e.g. mounts, holders or supports
-
- H—ELECTRICITY
- H02—GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
- H02K—DYNAMO-ELECTRIC MACHINES
- H02K41/00—Propulsion systems in which a rigid body is moved along a path due to dynamo-electric interaction between the body and a magnetic field travelling along the path
- H02K41/02—Linear motors; Sectional motors
- H02K41/03—Synchronous motors; Motors moving step by step; Reluctance motors
-
- H—ELECTRICITY
- H02—GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
- H02K—DYNAMO-ELECTRIC MACHINES
- H02K2201/00—Specific aspects not provided for in the other groups of this subclass relating to the magnetic circuits
- H02K2201/18—Machines moving with multiple degrees of freedom
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- Physics & Mathematics (AREA)
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- General Physics & Mathematics (AREA)
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- Environmental & Geological Engineering (AREA)
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- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Combustion & Propulsion (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
【解決手段】REMAブレードを含んでいるREMAブレードシステムと、REMAブレードキャリジアセンブリと、電磁力アクチュエータのセットと、電磁力リニアモータと、センサのセットと、サーヴォ機構とを有している。
【選択図】図15
Description
6自由度で対象の動きを制御するために、アクティブサーボ機構フィードバックと共に電磁気力を用いるのは、磁気浮上として一般に公知の技術を達成する有用な方法である。本発明は、このタイプの磁気浮上を、6自由度でレチクルマスキング(REMA)の動きを制御するのに使用する。本発明は、超紫外線EUV投影リソグラフィのREMAブレードが作動される必要がある高真空環境と極めてコンパチブルであり、従って、従来技術を有意義に改善することができる。
磁気浮上は、第1の対象に取り付けられた第1の磁気コンポーネントと、第2の対象に取り付けられた第2の磁気コンポーネントとの相互作用によって生じた力が、重力のような別の力を克服した時に達成され、従って、そうでない場合、第1の対象は、第2の対象によってサポートされるようになる。この状況では、第1の対象は、浮上した対象であり、第2の対象は、リアクションフレームとして機能する。浮上した対象の動きと関連した反作用力は全て、リアクションフレームに現れる。グランドフレームに対しては、リアクションフレームは、固定又は移動し得るように保持することができる。浮上した対象の動きと反対方向に移動するリアクションフレームは、つりあい質量である。つりあい質量の動きは、反作用力を相殺するように作用する。さもないと、この反作用力は、グランドフレームに伝達されてしまう。
ローレンツ力アクチュエータ
第1の磁気コンポーネントは、コイルを有している。第2の磁気コンポーネントは、永久磁石を有している。第1の磁気コンポーネントは、第1の対象に取り付けることができ、第2の磁気コンポーネントは、第2の対象に取り付けることができる。コイルは、永久磁石によって形成される磁場内に配置することができる。コイルを流れる定電流は、コイルにローレンツ力を生じるための永久磁場、及び、永久磁石での大きさは等しいが方向が逆の反作用力と共働する。ローレンツ力は、双極性であり、コイルを流れる電流に従って直線状に変化する。
択一的に、第1の磁気コンポーネントは、高透磁率コアの周囲を囲むコイルを有している。第2の磁気コンポーネントは、高透磁率極片を有している。第1の磁気コンポーネントは、第1の対象に取り付けることができ、第2の磁気コンポーネントは、第2の対象に取り付けることができる。通常、第1の対象は、浮上することができ、第2の対象は、リアクションフレームとして機能することができる。このアクチュエータの構成により、コイルを流れる定電流は磁場を生じ、この磁場により、コアと極片が相互に引き合うようになる。そのようなアクチュエータは、一般に電磁又は磁気抵抗力アクチュエータと呼ばれる。電磁気力は、単極性であり、コイルを流れる電流の2乗で変化する。典型的には、コアと極片とは、渦電流損を低減するように積層されている。磁気抵抗力アクチュエータは、装置の効率と直線性を改善するために磁気回路の磁束をバイアスするために永久磁石を有することができる。
所定のアクチュエータ質量に対して生じる力を増大して、無駄に消費される電力量を低減するために、磁気回路構成の変形実施例を用いることができる。浮上対象は、高速で加速されるのに必要であるが、浮上対象の質量を最小化し、浮上対象の磁気コンポーネントによって無駄に消費される電力を最小化することが所望である。こうすることによって、リアクションフレームが比較的大きな質量を有し、リアクションフレームの磁気成分が比較的大きな電力量を無駄に消費することがある。更に、高速移動されている浮上対象で、コイルから熱を除去するのは、低速移動(又は固定の)リアクションフレームで、コイルから熱を除去するよりも、技術的に遙かに難しいことである。
初期考察
磁気力アクチュエータを用いて浮上した対象の移動範囲は、リアクションフレーム内の磁石アレイと相互作用する多重駆動コイルを使用することによって、1つ又は2つの軸に沿って拡張することができる。1つの軸に沿って拡張された移動範囲を有する磁気力アクチュエータは、リニア磁気モータである。移動範囲が2つの軸に沿って拡張されている場合、装置は、プレーナ磁気モータである。比較的固定した大きさの永久磁石アレイと相互作用する小さな可動コイルアレイを有する磁気モータは、可動コイルモータである。逆に、比較的固定した大きさのコイルアレイと相互作用する可動永久磁石の小さなアレイを有する磁気モータは、可動磁気モータである。
図4は、コイルリニアモータ400を動かすローレンツ力を3方向から見た図である。モータ400は、第1及び第2の磁気コンポーネント102及び104を有している。第1の磁気コンポーネント102は、コイル106の比較的短いアレイ402を有している。第2の磁気コンポーネント104は、永久磁石108の比較的長いアレイ404を有している。オプションのバックアイアン110により、コイル106のアレイ402を流れる磁束を強める実効磁気回路化が所望のように維持される。第1の磁気コンポーネント102は、浮上することができる第1の対象(図示していない)に取り付けることができる。第2の磁気コンポーネント104は、リアクションフレームとして機能することができる第2の対象(図示していない)、及び、第3の対象(図示していない)に取り付けることができる。第2及び第3の対象は、モータ400がUチャネルモータであるようにして、構造部材406によって一緒に結合することができる。電流を、有利には正弦波状に変えて、上述のようにコイル106に給電することができる。コイル106が、第1の対象を浮上するのにも駆動するのにも使われる場合、駆動力を生じるのに使われる上述の変化電流を、浮上力を生じるのに使われる定電流によって補償するとよい。この変化電流により、y軸に沿った方向に比較的一定の駆動力が生じる。この駆動力により、第1の対象は、第1の磁気コンポーネント102と共に、第2の磁気コンポーネント104を有する第2及び第3の対象に関して動かすことができる。しかし、6自由度で第1の対象の動きをアクティブに制御するために、第1の対象を第2及び第3の対象に関して案内するのに、少なくとも5つの付加的な磁気力アクチュエータ(図示していない)を用いる必要がある。
図7は、磁気リニアモータ700を動かすローレンツ力を3つの方向から見た図である。モータ700は、第1及び第2の磁気コンポーネント102及び104を有している。第1の磁気コンポーネント102は、コイル106の比較的長いアレイ702を有している。第2の磁気コンポーネント104は、永久磁石108の比較的短いアレイ704を有している。オプションのバックアイアン110により、所望のように、実効磁気回路は、コイル106のアレイ702を通る磁束を強めるように維持される。第1の磁気コンポーネント102は、リアクションフレームとして機能することができる第1の対象(図示していない)に取り付けることができる。第2の磁気コンポーネント104は、第2の対象(図示していない)及び浮上することができる第3の対象(図示していない)に取り付けることができる。第2及び第3の対象は、モータ700がUチャネルモータであるような、構成要素406によって一緒に結合することができる。有利には正弦波状に変化させた電流は、上述のようにコイル106に給電することができる。コイル106が、第2及び第3の対象を浮上するのにも駆動するのにも使われる場合、駆動力を生じるのに使われる変化電流は、浮上力を生じるのに使われる定電流によって補償することができる。この変化電流により、y軸に沿った方向に比較的一定の駆動力が生じる。この駆動力に反作用して、第2及び第3の対象は、第2の磁気コンポーネント104と共に、第1の磁気コンポーネント102を有する第1の対象に関して動く。しかし、6自由度で第2及び第3の対象の動きをアクティブに制御するために、モータ700は、第1の対象に関して第2及び第3の対象を案内するのに、少なくとも5つの付加的な磁気力アクチュエータ(図示していない)を用いる必要がある。コイル106のアレイ702は、コイル106が重畳されるように構成することができる。こうすることによって、第2の磁気コンポーネント104での永久磁石108の個数を低減することができる。
図8には、コイルプレーナモータ800を動かすHalbach型強調タイプローレンツ力を3つの方向から見た図である。モータ800は、第1及び第2の磁気コンポーネント102及び104を有している。第1の磁気コンポーネント102は、各々3つのコイル106からなる4つのグループを有している。所定の各コイルグループ802に対して、隣接コイルグループ802は、所定コイルグループ802に対して垂直方向に配向されている。有利には、各コイル106は扁平コイルである。第2の磁気コンポーネント104は、永久磁石108の比較的大きなアレイ804を有している。永久磁石108のアレイ804は、2次元アレイである。有利には、アレイ804は、チェッカボードアレイである。有利には、アレイ804は、Halbach型磁石202を有している。第1の磁気コンポーネント102は、浮上することができる第1の対象(図示していない)に取り付けることができる。第2の磁気コンポーネント104は、リアクションフレームとして機能することができる第2の対象(図示していない)に取り付けることができる。
本発明の認識は、磁気力アクチュエータとモータとを多数組み合わせると、REMAブレードを浮上し、駆動するのに使用することができるという点である。特に関心があるのは、平行な2つのREMAブレードの動きを、重畳した移動範囲に亘って独立して制御する必要がある場合である。完全に別個の磁気力アクチュエータとモータとを用いて各REMAブレードを駆動するよりも寧ろ、本発明の認識では、各REMAブレードを、磁気モータの可動部分に結合し、各磁気モータの可動部分を共通の反作用部分に結合するとよい。
図12は、本発明のプレーナREMAブレードステージ機構1200を示す。プレーナREMAブレードステージ機構1200は、第1の対象1202、オプションの第2の対象1204、第3の対象1206を有している。第1の対象1202は、第1の磁気コンポーネント1208を有している。第2の対象1204は、第2の磁気コンポーネント1210を有している。第3の対象1206は、第3の磁気コンポーネント1212を有している。第1および第2の対象1202及び1204は、浮上することができる。第3の対象1206は、リアクションフレームとして機能することができる。第1のREMAブレード920は、第1の対象1202及び第2の対象1204に結合された第2のREMAブレード922に結合されている。
位置センサ
アクティブな磁気浮上では、浮上対象とリファレンスフレームとの相対位置を6自由度の相対位置センサによって測定する必要がある。図10及び11には、リニアREMAブレードステージ機構900の位置センサシステムの構成例が示されている。図10では、第1の(浮上した)対象902は、5つのキャパシタンスゲージ1012(そのうち3つが図10に示されている)と、光エンコーダ1014を有している。5つのキャパシタンスゲージ1012は、リニアパスとなるように第1の対象902を案内するのに充分なデータを供給する。光エンコーダ1014は、第1の対象902の移動経路に沿った位置データを供給する。第1の対象902は、5つのキャパシタンスゲージ1012を有しているが、3つのキャパシタンスゲージ1012しか、第1の対象902の浮上を支援するのに必要な案内を行うのに必要としない。光エンコーダ1014は、エンコーダヘッドである。このエンコーダヘッドは、図11に示されたエンコーダテープ1112と連携して作動する。
リニアREMAブレードステージ機構900での第1の対象902の浮上及び移動を制御する際、実時間多重軸サーボ機構コントローラが必要である。繰り返しフィードバックループプロセスを介して、デジタルサーボ機構コントローラは:(1)第1の対象902の6自由度をモニタリングするセンサ(例えば、キャパシタンスゲージ1012)からの信号を受け入れ、(2)位置センサ(例えば、光エンコーダ1014)データを対角線座標に減結合し、(3)第1の対象902の実際位置を、所望位置から減算して、位置誤差信号を形成し、(4)位置誤差信号をフィルタリング及び周波数補償して、減結合制御力に比例する駆動信号を形成し、(5)第1の対象902が、軸に沿って、所定軸の予期される移動プロフィールに基づく移動の拡張範囲を有する当該軸の前方に、加速度の総和が送給され、(6)駆動信号を別個のアクチュエータ駆動信号とモータ駆動信号とに減結合し、(7)アクチュエータコイル電流とモータ駆動コイル電流とを発生して、所望の力を生成する。磁気抵抗力アクチュエータでは、コイル電流の発生プロセスには、これらのタイプのアクチュエータの非直線応答を考慮した非直線処理が含まれている。サーボ機構コントローラプロセスにより、第1の対象902がコマンド位置及び移動プロフィールに正確に追従することができるようになる。有利には、サーボ機構コントローラは、デジタルサーボ機構コントローラである。
磁気力アクチュエータは、コイルによって導出された電流の2乗に比例する電力を消費する。レチクルのスキャンニング移動に同期する必要があるREMAブレードでは、加速の必要性から、モータでの電力消費が増大することがある。真空中で、可動コイルモータによって駆動されるREMAブレード作動では、モータコイルによって生じる熱によって、浮上アセンブリの温度が許容不可能なレベルに上昇することがある。この問題点は、REMAブレードによって吸収される露光エネルギによって解消することができる。このような作用下で生じた熱は、別の構造体に効率的に放射したり、熱除去媒体に転送したり、又は、その両方を行う必要がある。熱除去媒体は、液体、気体、又は、それら両方にすることができる。そのような熱除去媒体を用いるには、熱除去機構が必要となる。通常、熱除去機構は、熱源(即ち、可動コイルモータコイル、REMAブレード、又は、それら両方)と、ヒートシンクとの間の熱除去媒体の循環を支援するように接続されたフレキシブルチューブを用いる。択一的に、可動磁気モータによって駆動されるREMAでは、熱除去機構は、比較的ゆっくり動く(又は、静止した)リアクションフレーム上のコイルとヒートシンクとの間の熱除去媒体の循環を支援するように接続することができる。有利には、そのような熱除去機構は、フレキシブルなチューブを用いずに構成することができる。
図15には、本発明を使用することができる超紫外線EUV投影光リソグラフィシステム1500の実施例を2つの方向から見た図が示されている。一方の図は、y−z平面であり、他方の図は、x−z平面で見た図である。システム1500は、超紫外線EUV光源と、関連の照射光学系1502、ミラー1504、レチクルステージ1506、照射光学系1508、ウェーハステージ1510を有している。レチクルステージ1506は、反射レチクル1512をサポートする。反射レチクル1512は、パターン化された領域1514と周縁領域1516とによって特徴付けられる。ウェーハステージ1510は、ウェーハ1518をサポートする。(図15は、反射レチクル1512とx−y平面でのウェーハ1518の様子が示されている。)超紫外線EUV光源1502は、照射ビーム1520を照射し、照射ビーム1520は、ミラー1504を介して反射レチクル1512を照射するのに使われ、その結果、反射レチクル1512のパターン化された領域1514が、照射光学系1508を通して転写され、ウェーハ1518に取り付けられたフォトレジスト(図示していない)に転写される。
図16には、光リソグラフィシステムでのREMAブレードを制御する方法1600の流れ図が示されている。この方法1600では、ステップ1602で、REMAブレードは、REMAブレードキャリッジアセンブリでサポートされている。ステップ1604で、REMAブレードキャリッジアセンブリは、リファレンスフレームに関して所定位置で、リファレンスフレームに関して所定の配向で浮上している。有利には、REMAブレードキャリッジアセンブリは、電磁的に浮上されるが、本発明は、このモードの浮上に限定されない。本発明は、例えば、静電浮上によって構成してもよい。
本発明の実施例について上述したが、例として示したに過ぎず、限定ではない。当業者は、独立請求項記載の本発明の範囲から逸脱しない限りで、種々異なる変形実施例を構成することができる。特に、当業者は、超紫外線EUV光リソグラフィシステム1500の実施例のやり方とは異なったやり方で構成することができる他の光リソグラフィシステムに用いることができる。従って、本発明の幅及び範囲は、上述の実施例に限定されず、請求項に限定されている。
102 第1の磁気コンポーネント
104 第2の磁気コンポーネント
106 コイル
108 永久磁石
110 バックアイアン
125 アクチュエータ
150、175 ローレンツ力アクチュエータ
200、225 Halbach型強調タイプローレンツ力アクチュエータ
202 Halbach型磁石
300、325 磁気抵抗力アクチュエータ
302 高透磁率コア
304 高透磁率極片
325 アクチュエータ
400 コイルリニアモータ
402、404 アレイ
406 構造部材
500 モータ
600 ローレンツ力リニアモータ
700 磁気リニアモータ
702、704 アレイ
800 コイルプレーナモータ
802 コイルグループ
804 アレイ
900 リニアREMAブレードステージ機構
902 第1の対象
904 第2の対象
906 第3の対象
908 第1の磁気浮上コンポーネント
910 第1の磁気駆動コンポーネント
912 第2の磁気浮上コンポーネント
914 第2の磁気駆動コンポーネント
916 第3の磁気浮上コンポーネント
918 第3の磁気駆動コンポーネント
920 第1のREMAブレード
922 第2のREMAブレード
1002 浮上サブコンポーネント
1012 キャパシタンスゲージ
1014 光エンコーダ
1102 リアクションサブコンポーネント
1110 エンコーダテープ
1112 エンコーダテープ
1200 プレーナREMAブレードステージ機構
1202 第1の対象
1204 第2の対象
1206 第3の対象
1208 第1の磁気コンポーネント
1210 第2の磁気コンポーネント
1212 第3の磁気コンポーネント
1400 REMAブレードステージシステム
1402 サーボ機構コントローラ
1404 アクチュエータ駆動増幅器
1406 3相駆動増幅器
1408 REMAブレード位置
1410 水平及び垂直表面
1412 ステージフレーム
1414 Yリニアモータ可動コイル
1500 超紫外線EUV投影光リソグラフィシステム
1502 照射光学系(超紫外線EUV光源)
1504 ミラー
1506 レチクルステージ
1508 照射光学系
1510 ウェーハステージ
1512 反射レチクル
1514 パターン化された領域
1516 周縁領域
1518 ウェーハ
1600 光リソグラフィシステムでのREMAブレードを制御する方法
Claims (61)
- レチクルマスキングブレードシステムにおいて、
レチクルマスキングブレードと、レチクルマスキングブレードキャリッジアセンブリと、電磁力アクチュエータセットと、プレーナローレンツ力モータと、センサセットと、サーボ機構コントローラとを有しており、
前記レチクルマスキングブレードは、ほぼリニアな第1のマスキングエッジと、ほぼリニアな第2のマスキングエッジとを有するようにし、前記ほぼリニアな第1のマスキングエッジと、前記ほぼリニアな第2のマスキングエッジとはほぼ直角をなすようにし、
前記レチクルマスキングブレードキャリッジアセンブリは、前記レチクルマスキングブレードに結合されており、
前記電磁力アクチュエータセットは、リファレンスフレームに対して各位置範囲内の所定位置及び前記リファレンスフレームに対して所定配向で、前記レチクルマスキングブレードキャリッジアセンブリを浮上することができ、前記電磁力アクチュエータセットの各電磁力アクチュエータは、前記レチクルマスキングブレードキャリッジアセンブリに結合された第1のコンポーネントと、リアクションフレームに結合された第2のコンポーネントとを有しており、
前記プレーナローレンツ力モータは、前記リファレンスフレームに対する前記レチクルマスキングブレードキャリッジアセンブリを動かし、前記プレーナローレンツ力モータは、前記レチクルマスキングブレードキャリッジアセンブリに結合された第3のコンポーネントと、前記リアクションフレームに結合された第4のコンポーネントとを有しており、前記リファレンスフレームは、前記動きの2次元範囲を定義し、
前記センサセットは、前記位置及び前記配向を測定することができ、前記センサセットの各センサは、前記レチクルマスキングブレードキャリッジアセンブリに結合された第5のコンポーネントと、前記リファレンスフレームに結合された第6のコンポーネントとを有しており、前記第5のコンポーネントと前記第6のコンポーネントとの相互作用は、物理的接触よりも寧ろエネルギ場を介しており、
前記サーボ機構コントローラは、6自由度の動きで前記位置及び前記配向を制御することができ、前記2次元範囲内で前記動きを制御することができ、
前記第5のコンポーネントと前記第6のコンポーネントの少なくとも1つは、前記サーボ機構コントローラに送信する第1の信号を形成することができ、
前記第1のコンポーネントと前記第2のコンポーネントの少なくとも1つは、前記サーボ機構コントローラからの第2の信号を受信することができる第1のコイルを有しており、
前記第3のコンポーネントと前記第4のコンポーネントの少なくとも1つは、前記サーボ機構コントローラからの第3の信号を受信することができる第2のコイルを有している
ことを特徴とするレチクルマスキングブレードシステム。 - レチクルマスキングブレードシステムにおいて、
レチクルマスキングブレードキャリッジアセンブリと、電磁力アクチュエータと、センサと、コントローラとを有しており、
前記レチクルマスキングブレードキャリッジアセンブリは、レチクルマスキングブレードをサポートすることができ、
前記電磁力アクチュエータは、リファレンスフレームに対して各位置の所定範囲内の所定位置及び前記リファレンスフレームに対して所定配向で、前記レチクルマスキングブレードキャリッジアセンブリを浮上することができ、前記電磁力アクチュエータは、前記レチクルマスキングブレードキャリッジアセンブリに結合された第1のコンポーネントと、リアクションフレームに結合された第2のコンポーネントとを有しており、
前記センサは、前記位置及び前記配向の少なくとも1つを測定することができ、前記センサは、前記レチクルマスキングブレードキャリッジアセンブリに結合された第3のコンポーネントと、前記リファレンスフレームに結合された第4のコンポーネントとを有しており、
前記コントローラは、前記位置及び前記配向の少なくとも1つを制御することができ、
前記第3のコンポーネント及び前記第4のコンポーネントの少なくとも1つは、前記コントローラに送信される第1の信号を形成することができ、
前記第1のコンポーネントと前記第2のコンポーネントの少なくとも1つは、前記コントローラからの第2の信号を受信することができる第1のコイルを有している
ことを特徴とするレチクルマスキングブレードシステム。 - 前記レチクルマスキングブレードは、前記レチクルマスキングブレードキャリッジアセンブリに結合されており、前記レチクルマスキングブレードは、第1のマスキングエッジを有している
請求項2記載のレチクルマスキングブレードシステム。 - 前記第1のマスキングエッジは、ほぼリニアである請求項3記載のレチクルマスキングブレードシステム。
- 前記レチクルマスキングブレードは、第2のマスキングエッジを有している請求項3記載のレチクルマスキングブレードシステム。
- 前記第1及び前記第2のマスキングエッジは、所定角度を成している請求項5記載のレチクルマスキングブレードシステム。
- 前記角度は、ほぼ直角である請求項6記載のレチクルマスキングブレードシステム。
- 前記電磁力アクチュエータは、更に、前記レチクルマスキングブレードキャリッジアセンブリに結合された第5のコンポーネントと、前記リアクションフレームに結合された第6のコンポーネントを有しており、前記第5及び前記第6のコンポーネントは、永久磁石を有している請求項2記載のレチクルマスキングブレードシステム。
- 前記電磁力アクチュエータは、ローレンツ力アクチュエータである請求項2記載のレチクルマスキングブレードシステム。
- 前記電磁力アクチュエータは、磁気抵抗力アクチュエータである請求項2記載のレチクルマスキングブレードシステム。
- 前記センサは、位置センサである請求項2記載のレチクルマスキングブレードシステム。
- 前記センサは、角度センサである請求項2記載のレチクルマスキングブレードシステム。
- 前記第3のコンポーネントと前記第4のコンポーネントとの相互作用は、物理的な接触よりもむしろエネルギ場を介している請求項2記載のレチクルマスキングブレードシステム。
- 前記コントローラは、サーボ機構コントローラである請求項2記載のレチクルマスキングブレードシステム。
- 前記電磁力アクチュエータは、電磁力アクチュエータセットである請求項2記載のレチクルマスキングブレードシステム。
- 前記センサは、センサセットである請求項15記載のレチクルマスキングブレードシステム。
- 前記紺とコントローラは、前記位置及び前記配向を動きの6自由度で制御することができる請求項16記載のレチクルマスキングブレードシステム。
- 更に、電磁力モータを有しており、該電磁力モータは、前記レチクルマスキングブレードキャリッジアセンブリを、前記リファレンスフレームに対して所定次元内で動かすことができ、前記電磁力モータは、前記レチクルマスキングブレードキャリッジアセンブリに結合された第5のコンポーネントと、前記リファレンスフレームに結合された第6のコンポーネントとを有しており、前記リファレンスフレームは、前記次元内での前記動きの範囲を定義する請求項2記載のレチクルマスキングブレードシステム。
- 前記センサは、位置センサである請求項18記載のレチクルマスキングブレードシステム。
- 前記コントローラは、前記動きを制御することができる請求項19記載のレチクルマスキングブレードシステム。
- 前記第5のコンポーネントと前記第6のコンポーネントの少なくとも1つは、前記コントローラからの第3の信号を受信することができる第2のコイルを有している請求項18記載のレチクルマスキングブレードシステム。
- 前記第2のコイルは、前記第1のコイルである請求項21記載のレチクルマスキングブレードシステム。
- 前記第5のコンポーネントは、前記第1のコンポーネントである請求項18記載のレチクルマスキングブレードシステム。
- 前記第6のコンポーネントは、前記第2のコンポーネントである請求項18記載のレチクルマスキングブレードシステム。
- 前記電磁力モータは、ローレンツ力モータである請求項18記載のレチクルマスキングブレードシステム。
- 前記次元は2次元である請求項18記載のレチクルマスキングブレードシステム。
- 前記電磁力モータは、プレーナローレンツ力モータである請求項26記載のレチクルマスキングブレードシステム。
- 前記リファレンスフレームは、光リソグラフィシステムの固定部分である請求項18記載のレチクルマスキングブレードシステム。
- 前記リファレンスフレームは、レチクルステージシステムのコンポーネントである請求項18記載のレチクルマスキングブレードシステム。
- 前記コンポーネントは、つりあい質量である請求項29記載のレチクルマスキングブレードシステム。
- 前記リファレンスフレームは、前記リアクションフレームである請求項18記載のレチクルマスキングブレードシステム。
- 前記リアクションフレームは、つりあい質量である請求項31記載のレチクルマスキングブレードシステム。
- 更に、第2のレチクルマスキングブレードキャリッジアセンブリと、第2の電磁力アクチュエータと、第2のセンサと、第2のコントローラとを有しており、
前記第2のレチクルマスキングブレードキャリッジアセンブリは、第2のレチクルマスキングブレードをサポートすることができ、
前記第2の電磁力アクチュエータは、第2のリファレンスフレームに対して所定の第2の位置及び前記第2のリファレンスフレームに対して所定の第2の配向で、前記第2のレチクルマスキングブレードキャリッジアセンブリを浮上することができ、前記第2の電磁力アクチュエータは、前記第2のレチクルマスキングブレードキャリッジアセンブリに結合された第5のコンポーネントと、第2のリアクションフレームに結合された第6のコンポーネントとを有しており、
前記第2のセンサは、前記第2の位置及び前記第2の配向の少なくとも1つを測定することができ、前記第2のセンサは、前記第2のレチクルマスキングブレードキャリッジアセンブリに結合された第7のコンポーネントと、前記第2のリファレンスフレームに結合された第8のコンポーネントとを有しており、
前記第2のコントローラは、前記第2の位置及び前記第2の配向の少なくとも1つを制御することができ、
前記第7のコンポーネントと前記第8のコンポーネントの少なくとも1つは、前記第2のコントローラに送信する第3の信号を形成することができ、
前記第5のコンポーネントと前記第6のコンポーネントの少なくとも1つは、前記第2のコントローラからの第4の信号を受信することができる
請求項2記載のレチクルマスキングブレードシステム。 - 前記第2のレチクルマスキングブレードは、前記第2のレチクルマスキングブレードキャリッジアセンブリに結合されており、前記レチクルマスキングブレードは、第1のマスキングエッジを有しており、前記第2のレチクルマスキングブレードは、第2のマスキングエッジを有している請求項33記載のレチクルマスキングブレードシステム。
- 前記第1及び前記第2のマスキングエッジは、ほぼリニアである請求項34記載のレチクルマスキングブレードシステム。
- 前記第1及び前記第2のマスキングエッジは、ほぼ平行である請求項35記載のレチクルマスキングブレードシステム。
- 前記レチクルマスキングブレードは、第3のマスキングエッジを有しており、前記第2のレチクルマスキングブレードは、第4のマスキングエッジを有している請求項34記載のレチクルマスキングブレードシステム。
- 前記第1及び前記第3のマスキングエッジは、第1の角度を成しており、前記第2及び前記第4のマスキングエッジは、第2の角度を成している請求項37記載のレチクルマスキングブレードシステム。
- 前記第1の角度は、ほぼ前記第2の角度に等しい請求項38記載のレチクルマスキングブレードシステム。
- 前記第1及び前記第2の角度は、ほぼ直角である請求項39記載のレチクルマスキングブレードシステム。
- 前記レチクルマスキングブレードは、”L”形状を有している請求項40記載のレチクルマスキングブレードシステム。
- 前記第2のレチクルマスキングブレードは、”T”形状を有している請求項41記載のレチクルマスキングブレードシステム。
- 前記レチクルマスキングブレードは、”T”形状を有している請求項40記載のレチクルマスキングブレードシステム。
- 前記レチクルマスキングブレードは、第1の”階段”形状を有している請求項40記載のレチクルマスキングブレードシステム。
- 前記第2のレチクルマスキングブレードは、第2の”階段”形状を有している請求項44記載のレチクルマスキングブレードシステム。
- 前記第2のリファレンスフレームは、前記リファレンスフレームである請求項33記載のレチクルマスキングブレードシステム。
- 前記位置は、前記リファレンスフレームからの第1の距離であり、前記第2の位置は、前記リファレンスフレームからの第2の距離であり、前記第1の距離は、前記第2の距離にほぼ等しい請求項46記載のレチクルマスキングブレードシステム。
- 前記レチクルマスキングブレードは、第3の位置で浮上するように構成されており、前記第2のレチクルマスキングブレードは、第5の位置で浮上するように構成されており、前記第3の位置は、前記第4の位置とは異なる請求項47記載のレチクルマスキングブレードシステム。
- 前記位置は、前記リファレンスフレームから第1の距離であり、前記第2の位置は、前記リファレンスフレームから第2の距離であり、前記第1の距離は、前記第2の距離とは異なる請求項46記載のレチクルマスキングブレードシステム。
- 前記第2の配向は、前記配向とほぼ同じである請求項46記載のレチクルマスキングブレードシステム。
- 前記第8のコンポーネントは、前記第4のコンポーネントである請求項46記載のレチクルマスキングブレードシステム。
- 前記第2のリアクションフレームは、前記リアクションフレームである請求項33記載のレチクルマスキングブレードシステム。
- 全前記第6のコンポーネントは、前記第2のコンポーネントである請求項52記載のレチクルマスキングブレードシステム。
- 前記第2のコントローラは、前記コントローラである請求項33記載のレチクルマスキングブレードシステム。
- 更に、第1の電磁力モータと、第2の電磁力モータとを有しており、前記第1の電磁力モータは、前記レチクルマスキングブレードキャリッジアセンブリに対して、前記リファレンスフレームに対して第1の次元内で第1の動きを行わせることができ、前記第1の電磁力モータは、前記レチクルマスキングブレードキャリッジアセンブリに結合された第9のコンポーネントと、前記リアクションフレームに結合された第10のコンポーネントとを有しており、前記リファレンスフレームは、前記第1の次元内の前記第1の動きの第1の範囲を定義し、
前記第2の電磁力モータは、前記第2のレチクルマスキングブレードキャリッジアセンブリに対して、前記第2のリファレンスフレームに対して第2の次元内で第2の動きを行わせることができ、前記第2の電磁力モータは、前記第2のレチクルマスキングブレードキャリッジアセンブリに結合された第11のコンポーネントと、前記第2のリアクションフレームに結合された第12のコンポーネントとを有しており、前記第2のリファレンスフレームは、前記第2の次元内の前記第2の動きの第2の範囲を定義する
請求項33記載のレチクルマスキングブレードシステム。 - 前記コントローラは、前記第1の動きを制御することができ、前記第2のコントローラは、前記第2の動きを制御することができる請求項55記載のレチクルマスキングブレードシステム。
- 前記第2のリファレンスフレームは、前記リファレンスフレームである請求項55記載のレチクルマスキングブレードシステム。
- 前記第2の次元は、前記第1の次元である請求項57記載のレチクルマスキングブレードシステム。
- 前記第2の範囲は、前記第1の範囲である請求項57記載のレチクルマスキングブレードシステム。
- 前記第2のリアクションフレームは、前記リアクションフレームである請求項55記載のレチクルマスキングブレードシステム。
- 前記第12のコンポーネントは、前記第10のコンポーネントである請求項60記載のレチクルマスキングブレードシステム。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US10/449,663 US6906789B2 (en) | 2003-06-02 | 2003-06-02 | Magnetically levitated and driven reticle-masking blade stage mechanism having six degrees freedom of motion |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004363606A true JP2004363606A (ja) | 2004-12-24 |
JP4027916B2 JP4027916B2 (ja) | 2007-12-26 |
Family
ID=33451839
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004164967A Expired - Fee Related JP4027916B2 (ja) | 2003-06-02 | 2004-06-02 | レチクルマスキングブレードシステムおよびレチクルマスキングブレードの制御方法 |
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Country | Link |
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US (3) | US6906789B2 (ja) |
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US20040239911A1 (en) | 2004-12-02 |
US20060023195A1 (en) | 2006-02-02 |
JP4027916B2 (ja) | 2007-12-26 |
US7372548B2 (en) | 2008-05-13 |
US7359037B2 (en) | 2008-04-15 |
US20050200830A1 (en) | 2005-09-15 |
US6906789B2 (en) | 2005-06-14 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20060914 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
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|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
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|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070425 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Request for written amendment filed |
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|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20070912 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20071010 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101019 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4027916 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111019 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S802 | Written request for registration of partial abandonment of right |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R311802 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111019 Year of fee payment: 4 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111019 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121019 Year of fee payment: 5 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131019 Year of fee payment: 6 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |