JP2008072112A - リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明は、放射ビームを調節する照明システムと、それぞれが放射ビームの断面にパターンを与えて、パターン付き放射ビームを形成することができる第一および第二パターニングデバイスを支持する支持体と、パターン付き放射ビームを基板のターゲット部分に投影する投影システムとを含むリソグラフィ装置に関し、照明システムは、放射ビーム路適合デバイスを含み、適合デバイスは、パターニングデバイス支持体の1回のスキャン動作中に、第一パターニングデバイスのパターンおよび第二パターニングデバイスのパターンを引き続いて投影可能にするように放射ビーム路を適合させるように構成される。
【選択図】図2a
Description
Claims (21)
- 放射ビームを調節する照明システムと、
それぞれが前記放射ビームの断面にパターンを与えて、パターン付き放射ビームを形成することができる第一および第二パターニングデバイスを支持する支持体と、
基板を保持する基板テーブルと、
前記パターン付き放射ビームを前記基板のターゲット部分に投影する投影システムと、
を備え、
前記照明システムが、前記パターニングデバイス支持体の1回のスキャン動作中に、前記第一パターニングデバイスのパターンと前記第二パターニングデバイスのパターンとを引き続き投影できるように放射ビーム路を適合させる放射ビーム路適合デバイスを有する、
リソグラフィ装置。 - 前記放射ビーム路適合デバイスが、
少なくともスキャン方向で前記放射ビームのビーム寸法の範囲を決定し、且つ、前記照明システムの焦点面に配置されるパターニングデバイス用マスキングデバイスと、
少なくとも、前記放射ビームを第一光路に沿って誘導する第一位置と、前記放射ビームを第二光路に沿って誘導する第二位置との間で動作可能である放射ビーム方向転換デバイスと、
を有する、
請求項1に記載のリソグラフィ装置。 - 前記パターニングデバイス用マスキングデバイスが、前記スキャン方向で前記焦点面にて動作可能であり、前記第一光路および前記第二光路が、前記スキャン方向に離間されている様々な位置で前記焦点面と交差する、
請求項2に記載のリソグラフィ装置。 - 前記放射ビーム方向転換デバイスが、前記第一および前記第二位置の少なくとも1つにて、前記第一光路または前記第二光路それぞれに沿って前記放射ビームを方向転換する1組の可動ミラーを有する、
請求項3に記載のリソグラフィ装置。 - 前記第一および前記第二光路が実質的に同じ長さを有する、
請求項2に記載のリソグラフィ装置。 - 前記照明システムが、第二放射ビームを調節するように構成され、
前記放射ビーム適合デバイスが、前記照明システムの焦点面に配置され、少なくともスキャン方向で少なくとも動作可能であるパターニングデバイス用マスキングデバイスを備え、
前記放射ビームの第一光路および前記第二放射ビームの第二光路が、前記スキャン方向に離間されている様々な位置で前記焦点面と交差し、
前記パターニングデバイス用マスキングデバイスが、少なくとも前記スキャン方向にて、個々の様々な位置で前記放射ビームおよび前記第二放射ビームのビーム寸法の範囲を決定するように構成され、
前記放射ビーム適合デバイスが、少なくとも、第一光路に沿って前記第一放射ビームを誘導する第一位置と、第二光路に沿って前記第二放射ビームを誘導する第二位置との間で動作可能である放射ビーム方向転換デバイスを備え、前記第一および第二光路が、前記焦点面と前記第一および第二パターニングデバイスの面との間で一致する、
請求項1に記載のリソグラフィ装置。 - 前記第一光路および第二光路が前記照明システムの主要光軸に対して鏡像になり、前記放射ビーム方向転換デバイスが、前記焦点面と前記第一および第二パターニングデバイスの主要面との間に配置される、
請求項2に記載のリソグラフィ装置。 - 前記方向転換デバイスが多ミラーデバイスである、
請求項7に記載のリソグラフィ装置。 - 前記照明システムが、静止投影スリットを規定する静止パターニングデバイス用マスキングデバイスと、動作すると、前記投影スリット上でスキャン動作を実行する放射ビームを提供することができる少なくとも1つの可動光学要素を備える方向転換デバイスと、を有する、
請求項1に記載のリソグラフィ装置。 - 前記少なくとも1つの光学要素が回転可能な立方体である、
請求項9に記載のリソグラフィ装置。 - 前記パターニングデバイス用マスキングデバイスが、前記スキャン方向に対して実質的に直角に位置合わせされた刃先を有するマスキングブレード2枚を少なくとも1対備え、前記マスキングブレードが、前記スキャン方向に動作可能であり、前記スキャン方向で前記放射ビームの寸法の範囲を決定するように適合される、
請求項2に記載のリソグラフィ装置。 - 前記少なくとも1つの光学要素が2つの多角形ミラーを備える、
請求項10に記載のリソグラフィ装置。 - 放射ビームを調節する照明システムと、
それぞれが前記放射ビームの断面にパターンを与えて、パターン付き放射ビームを形成することができる第一および第二パターニングデバイスを支持する支持体と、
基板を保持する基板テーブルと、
前記パターン付き放射ビームを前記基板のターゲット部分に投影する投影システムと、
を備え、
前記照明システムが、
少なくともスキャン方向で、前記放射ビームのビーム寸法の範囲を決定するように構成され、前記照明システムの第一焦点面に配置されて、スキャン方向で前記第一焦点面にて動作可能である第一パターニングデバイス用マスキングデバイスと、
少なくともスキャン方向で、前記放射ビームのビーム寸法の範囲を決定するように構成され、前記照明システムの第二焦点面に配置されて、前記スキャン方向で前記第二焦点面にて動作可能である第二パターニングデバイス用マスキングデバイスと、を有する、
リソグラフィ装置。 - 第一パターニングデバイスからのパターンと第二パターニングデバイスからのパターンを基板へと引き続いて転写するように、前記第一パターニングデバイスおよび前記第二パターニングデバイスを放射ビームで照射することを含み、前記第一および第二パターニングデバイスが、スキャン方向に動作可能である1つのパターニングデバイス支持体によって支持され、さらに、
前記パターニングデバイス支持体の1回のスキャン動作中に、前記第一パターニングデバイスおよび前記第二パターニングデバイスのスキャン放射ビームを引き続き提供するように、前記放射ビームの光路を適合させることを含む、
デバイス製造方法。 - 前記適合させることが、
前記照明システムの焦点面に配置され、スキャン方向で放射ビームの寸法の範囲を決定するように適合したパターニングデバイス用マスキングデバイスを、前記スキャン方向に動作させ、
前記第一パターニングデバイスの放射ビームを提供するよう第一位置で前記焦点面と交差するために、第一光路に沿って前記放射ビームを誘導し、
前記第二パターニングデバイスの放射ビームを提供するように、前記スキャン方向で前記第一位置から離間された第二位置で前記焦点面と交差するために、第二光路に沿って前記放射ビームを引き続き誘導することと、を含む、
請求項14に記載の方法。 - 前記第一光路および/または第二光路に沿って前記放射ビームを誘導することが、第一および第二位置の少なくとも1つにて、前記第一光路または前記第二光路それぞれに沿って前記放射ビームを方向転換させる1組の可動ミラーを備える方向転換デバイスを使用することを含む、
請求項15に記載の方法。 - 前記第一光路に関連する第一放射源、および前記第二光路に関連する第二放射源を使用して、前記第一および前記第二位置に放射ビームを引き続いて提供し、前記第一および第二光路を、前記焦点面と前記第一および第二パターニングデバイスの面との間で集束するように方向転換デバイスが配置される、
請求項15に記載の方法。 - 前記放射ビームの光路を適合させることが、
前記照明システムの焦点面に配置され、スキャン方向で放射ビーム寸法の範囲を決定するように適合したパターニングデバイス用マスキングデバイスを、前記スキャン方向で動作させ、
第一方向のスキャン放射ビームを前記第一パターニングデバイスに提供するように、前記光路に沿って前記放射ビームを誘導し、
前記パターニングデバイス用マスキングデバイスが逆に動作すると、前記第一方向のスキャン放射ビームが前記第二パターニングデバイスに提供されるように、方向転換デバイスが前記焦点面と前記パターニングデバイス支持体との間に配置された状態で、前記放射ビームの前記光路の少なくとも一部を、前記照明システムの主軸に対して引き続いて逆転させることを含む、
請求項14に記載の方法。 - 前記放射ビームの光路を適合させることが、
静止投影スリットを規定する静止パターニングデバイス用マスキングデバイスを提供し、
少なくとも1つの可動光学要素を備える方向転換デバイスを提供することを含み、前記少なくとも1つの光学要素が動作すると、放射ビームが前記投影スリット上でスキャン動作する、
請求項14に記載の方法。 - 前記少なくとも1つの光学要素を動作させることが、立方体ミラーを回転することを含む、
請求項19に記載の方法。 - 第一パターニングデバイスからのパターンおよび第二パターニングデバイスからのパターンを基板へと引き続き転写させることを含み、前記第一および第二パターニングデバイスが、スキャン方向に動作可能である1つのパターニングデバイス支持体によって支持され、さらに、
前記第一パターニングデバイスの第一スキャン放射ビームを提供するために、照明システムの第一焦点面にて第一パターニングデバイス用マスキングデバイスを動作させ、
前記第二パターニングデバイスの第二スキャン放射ビームを提供するために、前記照明システムの第二焦点面にて第二パターニングデバイス用マスキングデバイスを引き続いて動作させることを含む、
デバイス製造方法。
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