JP2004358299A - 薄膜パターンの製造方法、有機電界発光素子の製造方法、カラーフィルタの製造方法、プラズマディスプレイパネルの製造方法、液晶表示パネルの製造方法及び電子機器 - Google Patents
薄膜パターンの製造方法、有機電界発光素子の製造方法、カラーフィルタの製造方法、プラズマディスプレイパネルの製造方法、液晶表示パネルの製造方法及び電子機器 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2004358299A JP2004358299A JP2003156869A JP2003156869A JP2004358299A JP 2004358299 A JP2004358299 A JP 2004358299A JP 2003156869 A JP2003156869 A JP 2003156869A JP 2003156869 A JP2003156869 A JP 2003156869A JP 2004358299 A JP2004358299 A JP 2004358299A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- manufacturing
- pixel region
- thin film
- droplet
- film pattern
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 135
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 126
- 239000010409 thin film Substances 0.000 title claims abstract description 114
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 title claims abstract description 31
- 230000008569 process Effects 0.000 claims abstract description 33
- 239000011344 liquid material Substances 0.000 claims abstract description 24
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims abstract description 22
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 20
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 50
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 43
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 43
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 34
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 11
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 6
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 claims description 4
- 208000028659 discharge Diseases 0.000 abstract 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 86
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 31
- 239000000463 material Substances 0.000 description 14
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 13
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 12
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 11
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 10
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 9
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 7
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 6
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 6
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 6
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 4
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 4
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 4
- 229920000553 poly(phenylenevinylene) Polymers 0.000 description 4
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 3
- 238000013461 design Methods 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 3
- RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N heliogen blue Chemical compound [Cu].[N-]1C2=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=NC([N-]1)=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=N2 RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000010365 information processing Effects 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 3
- -1 porphyrin compound Chemical class 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 238000009210 therapy by ultrasound Methods 0.000 description 3
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 3
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 2
- ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N coumarin Chemical compound C1=CC=C2OC(=O)C=CC2=C1 ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 210000002858 crystal cell Anatomy 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 2
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 238000010923 batch production Methods 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 229960000956 coumarin Drugs 0.000 description 1
- 235000001671 coumarin Nutrition 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 210000002287 horizontal cell Anatomy 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 229910052754 neon Inorganic materials 0.000 description 1
- GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N neon atom Chemical compound [Ne] GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 239000003002 pH adjusting agent Substances 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000003755 preservative agent Substances 0.000 description 1
- 230000002335 preservative effect Effects 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 1
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- PYWVYCXTNDRMGF-UHFFFAOYSA-N rhodamine B Chemical compound [Cl-].C=12C=CC(=[N+](CC)CC)C=C2OC2=CC(N(CC)CC)=CC=C2C=1C1=CC=CC=C1C(O)=O PYWVYCXTNDRMGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940043267 rhodamine b Drugs 0.000 description 1
- 239000000565 sealant Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000000527 sonication Methods 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 229920005792 styrene-acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/02—Manufacture of electrodes or electrode systems
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/20—Manufacture of screens on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted or stored; Applying coatings to the vessel
- H01J9/205—Applying optical coatings or shielding coatings to the vessel of flat panel displays, e.g. applying filter layers, electromagnetic interference shielding layers, anti-reflection coatings or anti-glare coatings
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/24—Manufacture or joining of vessels, leading-in conductors or bases
- H01J9/245—Manufacture or joining of vessels, leading-in conductors or bases specially adapted for gas discharge tubes or lamps
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
- H10K71/10—Deposition of organic active material
- H10K71/12—Deposition of organic active material using liquid deposition, e.g. spin coating
- H10K71/13—Deposition of organic active material using liquid deposition, e.g. spin coating using printing techniques, e.g. ink-jet printing or screen printing
- H10K71/135—Deposition of organic active material using liquid deposition, e.g. spin coating using printing techniques, e.g. ink-jet printing or screen printing using ink-jet printing
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
- H10K71/40—Thermal treatment, e.g. annealing in the presence of a solvent vapour
- H10K71/441—Thermal treatment, e.g. annealing in the presence of a solvent vapour in the presence of solvent vapors, e.g. solvent vapour annealing
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2217/00—Gas-filled discharge tubes
- H01J2217/38—Cold-cathode tubes
- H01J2217/49—Display panels, e.g. not making use of alternating current
- H01J2217/492—Details
- H01J2217/49207—Electrodes
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
Landscapes
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
Abstract
【解決手段】長軸及び短軸を有する画素領域1に、液滴吐出方式で液状体材料を塗布する液状体塗布処理と、液状体塗布処理において液滴吐出装置のノズルヘッドを画素領域1の短軸方向(走査線L1,L2,L3の方向)に走査し、該走査の過程において該ノズルヘッドに備えられているインクジェットノズルから画素領域1に液滴を吐出する短軸方向吐出処理とを有することを特徴とする。
【選択図】 図1
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、液滴吐出方式を用いた薄膜パターンの製造方法、有機電界発光素子の製造方法、カラーフィルタの製造方法、プラズマディスプレイパネルの製造方法、液晶表示パネルの製造方法及び電子機器に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、有機電界発光素子を用いた表示パネルが考え出されている。有機電界発光素子の基本構成は、蛍光性有機分子を含む固体薄膜(発光層)を2枚電極(陰極と陽極)で挟んだものである。その電極に電圧を印加すると、陽極から正孔が陰極から電子が発光層に注入され、その発光層から蛍光が放出される。
【0003】
ところで、発光層のみからなる単層型構造素子では発光効率が低く、耐久性に問題があるため、陽極と発光層間に密着性の良い正孔注入層(正孔注入輸送層)を設けた二層構造型素子が提案されている。この積層構造を採用することで、キャリアの注入/輸送バランスおよびキャリアの再結合部位の制御により、有機電界発光素子の発光効率及び耐久性を向上させることができる。また、この積層構造によれば、発光、注入/輸送といった機能を別々の材料に分担させることができるため、材料及び素子の最適設計が可能になるという利点がある。
【0004】
また、従来における二層積層型有機電界発光素子の正孔注入輸送層化合物としては、ポルフィリン化合物、アニリンやピリジンおよびそれらの誘導体低分子、あるいはカーボン層用いた正孔注入輸送層などが提案されている。これらの低分子系材料を用いた正孔注入輸送層形成には、真空蒸着やスパッタによる成膜法が一般的である。高分子材料としてはポリアニリンなどが知られ、スピンコートなどの湿式法で成膜される。
【0005】
ところで、真空蒸着やスパッタによる成膜法はバッチ処理であり長時間を有するため量産効率が悪い。また低分子材料の場合には成膜後結晶化しやすく、素子の信頼性が低下するといった課題を有する。一方、高分子材料の場合は分子設計上の自由度が高く、湿式のため材料の最適化がしやすいという利点を有するが、スピンコートなどの成膜法は材料の殆どを浪費するという大きな問題がある。
【0006】
さらに、フルカラーディスプレイなど材料の微細パターンニングが必要とされる場合、蒸着法では高精度のパターニングが困難であり、またフォトリソグラフィーによるパターニング工程では材料に耐性がないという問題がある。これは高分子材料においても同様な問題である。また、正孔注入層あるいはバッファ層として用いられる材料は導電性を有するものであるから完全なパターニングが実現できなければ同一基板上に設けられた隣の画素間での漏電を引き起こす原因となる。
【0007】
一方、上記問題点を解決するため、すなわち材料や素子設計の最適化を行うことができ、かつ簡便、短時間及び低コストで精度の高いパターニング成膜を行うために、液滴吐出方式を用いた正孔注入層及び発光層などの製造方法が考え出されている。その液滴吐出方式を用いた製造方法は、インクジェットノズルから正孔注入層の成分と溶媒からなる液滴を所望領域に吐出して薄膜パターンを形成するものである(例えば、特許文献1参照)。
【0008】
【特許文献1】
特開2000−106278号公報
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来において液滴吐出方式を用いて画素をなす薄膜パターンを形成する場合、画素領域の長軸方向に沿ってインクジェットノズルを走査させて液滴吐出していたので、その画素の長軸方向に筋形状のむら(スジムラ)が生じてしまった。
【0010】
図12は従来の液滴吐出方式による画素領域の塗布方法を示す説明図である。図12に示すように、一般的に画素領域1は長軸及び短軸をもつ長手形状をしており、画素領域1の長軸に沿って、インクジェットノズルの走査線L100が設定されている。この走査線L100に沿ってインクジェットノズルを移動させながら、そのインクジェットノズルから逐次液滴を吐出させる。その複数の液滴は、画素領域1内においてライン上に着弾し、画素領域1内にスジムラを有する薄膜パターンを形成する。
【0011】
このようなスジムラが発生すると、薄膜パターンの膜厚が不均一となっているので、その薄膜パターンを例えば画素の正孔注入層、発光層又はカラーフィルタとして用いると筋状の発光むらが生じてしまう。
【0012】
また、従来の液滴吐出方式を用いた画素をなす薄膜パターンの形成では、1つの画素領域に対する1回の走査において1つのインクジェットノズルを用いて液滴を吐出しているので、その薄膜パターンを形成するために時間がかかるという問題点もあった。
【0013】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、液滴吐出方式を用いて画素をなす薄膜パターンを形成したときに、その薄膜パターンにスジムラが生じることを低減することができる又はそのスジムラを分散させることができる薄膜パターンの製造方法、有機電界発光素子の製造方法、カラーフィルタの製造方法、プラズマディスプレイパネルの製造方法、液晶表示パネルの製造方法及び電子機器の提供を目的とする。
また、本発明は、液滴吐出方式により画素をなす薄膜パターンを高速に形成することができる薄膜パターンの製造方法、有機電界発光素子の製造方法、カラーフィルタの製造方法、プラズマディスプレイパネルの製造方法、液晶表示パネルの製造方法及び電子機器の提供を目的とする。
【0014】
【課題を解決するための手段】
上記した目的を達成するために、本発明の薄膜パターンの製造方法は、長軸及び短軸を有する画素領域に、液滴吐出方式で液状体材料を塗布する液状体塗布処理と、前記液状体塗布処理において液滴吐出装置のノズルヘッドを前記画素領域の短軸方向に走査し、該走査の過程において該ノズルヘッドに備えられているインクジェットノズルから該画素領域に液滴を吐出する短軸方向吐出処理とを有することを特徴とする。
本発明によれば、画素領域の短軸方向にノズルヘッドを走査して、そのノズルヘッドのインクジェットノズルからその画素領域に液滴を吐出することで、画素の構成要素となる薄膜を形成することができる。これにより、画素領域の長軸方向にノズルヘッドを走査する場合よりも、ノズルヘッドに複数設けられているインクジェットノズルによる1つの画素領域への複数の液滴吐出が行い易くなる。これは、例えば、画素領域の長軸方向にノズルヘッドを走査する場合は1つのインクジェットノズルのみがその画素領域を横切ることとなる場合でも、画素領域の短軸方向にノズルヘッドを走査するとノズルヘッドに等間隔に配置された複数のインクジェットノズルが画素領域を横切ることとなるからである。
また、本発明によれば、上記のように1つの画素領域に対して複数のインクジェットノズルで液滴を吐出することが行い易くなるので、各インクジェットノズル間の吐出量の差を分散し易くなり、画素をなす薄膜に「スジムラ」などが生じることを低減させることができる。そこで、本発明によれば、画素をなす薄膜の膜厚などを均一化し易くなり、発光ムラなどを低減するこができる。
また、本発明によれば、1つの画素領域に対して隣り合う複数のインクジェットノズルにより略同時ないし逐次的に複数の液滴を吐出することが容易となるので、液滴吐出方式による画素領域への液状体の塗布を高速化し易くなる。
【0015】
また、本発明の薄膜パターンの製造方法は、前記短軸方向吐出処理において、1つの前記画素領域に対して複数回の液滴吐出が行われ、該複数回の液滴吐出は、少なくとも2つの相異なる前記インクジェットノズルで行われることが好ましい。
本発明によれば、1つの画素領域に対する複数回の液滴吐出を2つ以上のインクジェットノズルで行うので、各インクジェットノズル間の液滴吐出量などの差(誤差)を分散させることができる。従来は、例えばある画素領域には吐出量の少ないインクジェットノズルのみで複数回の液滴吐出が行われ、別の画素領域には吐出量の大きいインクジェットノズルのみで複数回の液滴吐出が行われるので誤差が累積されてしまい、画素領域毎に液滴吐出(塗布)量の差が大きくなり、画面全体として見て「スジムラ」が現れやすいものとなっていた。本発明によれば、画素領域毎の液滴吐出量の差を低減することができるので、画面全体として見て「スジムラ」が現れにくいものとすることができる。
【0016】
また、本発明の薄膜パターンの製造方法は、前記ノズルヘッドが複数の前記インクジェットノズルを備えており、前記1つの画素領域に対する複数回の液滴吐出は、少なくとも2つの隣り合う前記インクジェットノズルで略同時ないし逐次的に行われることが好ましい。
本発明によれば、1つの画素領域に対して複数の隣り合うインクジェットノズルで略同時ないし逐次的に液滴吐出を行うので、インクジェットノズル間の液滴吐出量の差を分散させて「スジムラ」を低減しながら、画素領域全体(基板全体に複数配置された各画素領域についても)について高速に液状体を塗布することができる。
【0017】
また、本発明の薄膜パターンの製造方法は、前記1つの画素領域に対する複数回の液滴吐出が少なくとも2種類の液滴吐出量で行われることが好ましい。
本発明によれば、各インクジェットノズルの液滴吐出量を制御することなどして、2種類以上の液滴吐出量で1つの画素領域に液滴を吐出することができる。これにより、例えば画素領域における角部に対する液滴吐出量は少なくし、画素領域における中央部に対する液滴塗出量は多くするなどして、画素領域全体について均一な厚さの高精度な薄膜を高速に形成することができる。
【0018】
また、本発明の薄膜パターンの製造方法は、前記1つの画素領域に対する複数回の液滴吐出が該液滴を少なくとも2種類の粘度として行われることが好ましい。
本発明によれば、例えば各インクジェットノズル毎に供給する液状体の粘度を変えることなどにより、画素領域の所望位置に所望粘度の液状体を塗布することができる。そこで、本発明によれば、画素領域全体についてさらに膜厚が均一な高精度な薄膜を形成することなどができる。
【0019】
また、本発明の薄膜パターンの製造方法は、前記ノズルヘッドが複数の前記インクジェットノズルを備えており、前記複数のインクジェットノズルは、前記ノズルヘッドにおいて略直線上に配置されており、前記短軸方向吐出処理では、前記複数のインクジェットノズルの配置を規定する直線が前記短軸方向に設定された走査線に対して斜めに交わる状態として、前記ノズルヘッドを走査させることが好ましい。
本発明によれば、ノズルヘッドの移動位置を規定する走査線に対して、そのノズルヘッドが斜めに交わるような状態のままで、そのノズルヘッドが走査される。これにより、ノズルヘッドに設けられている複数のインクジェットノズルの移動軌跡(インクジェットノズル毎の走査線)の間隔は、インクジェットノズル相互の間隔よりも短くなる。そこで、本発明によれば、1つの画素領域に対して、より多くのインクジェットノズルで略同時ないし逐次的に液滴を吐出し易くなり、小さい画素についても大きい画素についても「スジムラ」を低減させながら、より高速に画素をなす薄膜パターンを形成することができる。
【0020】
また、本発明の薄膜パターンの製造方法は、前記1つの画素領域に対する複数回の液滴吐出において、該画素領域に最初に着弾した液滴が略完全に乾燥する前に、最後の液滴吐出を行うことが好ましい。
本発明によれば、1つの画素領域に着弾した複数の液滴それぞれが完全に乾燥する前に、その1つの画素領域全体についての液滴が吐出され薄膜が形成されるので、より膜厚が均一な高精度なパターンを形成することができる。
【0021】
また、本発明の薄膜パターンの製造方法は、前記1つの画素領域に対する複数回の液滴吐出において、該画素領域に対する最初の液滴吐出と最後の液滴吐出との間に、該画素領域に着弾した液滴が完全に乾燥するには到らない程度の乾燥処理が行われることが好ましい。
本発明によれば、1つの画素領域に対する複数回の液滴吐出の過程において、着弾した液滴の完全乾燥には到らない中間乾燥処理が行われるので、着弾した液滴の体積を中間乾燥処理で減らしてから更に液滴吐出をすることができる。そこで、本発明によれば、1つの画素領域に対する複数回の液滴吐出の過程でその液滴が画素領域の外側へ溢れ出ることなどを回避させながら、均一な厚みであって大きな厚みをも持たせることができる薄膜パターンを形成することができる。
【0022】
また、本発明の薄膜パターンの製造方法は、前記薄膜パターンの製造方法が、前記液状体塗布処理において液滴吐出装置のノズルヘッドを前記画素領域の長軸方向に走査し、該走査の過程において該ノズルヘッドに備えられているインクジェットノズルから該画素領域に液滴を吐出する長軸方向吐出処理を有することが好ましい。
本発明によれば、ノズルヘッドを画素領域の短軸方向に走査する短軸方向吐出処理と、ノズルヘッドを画素領域の長軸方向に走査する長軸方向吐出処理とを有するので、画素領域(又は基板全体)に対して液滴吐出状態が直線状に偏ることを回避することができ、画素をなす薄膜パターンに「スジムラ」が生じることをより効果的に回避することができる。
【0023】
また、本発明の薄膜パターンの製造方法は、前記長軸方向吐出処理において、前記複数のインクジェットノズルの配置を規定する直線が前記長軸方向に設定された走査線に対して斜めに交わる状態として、前記ノズルヘッドを走査させることが好ましい。
本発明によれば、直軸方向吐出処理においても、1つの画素領域に対して、より多くのインクジェットノズルで略同時ないし逐次的に液滴を塗出し易くなる。そこで、本発明によれば、小さい画素についても大きい画素についても「スジムラ」をさらに低減させながら、高速に画素をなす薄膜パターンを形成することができる。
【0024】
また、本発明の薄膜パターンの製造方法は、前記1つの画素領域に対する複数回の液滴吐出が、一つの液滴着弾によって形成された薄膜の一部と、他の液滴着弾によって形成された薄膜の一部とが重なるように行われることが好ましい。
本発明によれば、画素領域の全体について、塗り残しなく、より均一な厚さの薄膜パターンを形成することができる。
【0025】
また、本発明の有機電界発光素子の製造方法は、電極間に発光層と正孔注入層とを有する発光素子が基板に形成されてなる有機電界発光素子の製造方法であって、前記正孔注入層を、液滴吐出装置に形成されるインクジェットヘッドにより液滴を吐出することにより形成する工程を有し、前記正孔注入層は、長軸及び短軸を有する画素領域に形成するものであり、前記正孔注入層を形成する工程において、前記インクジェットヘッドを前記画素領域の短軸方向に走査し、該走査の過程において該インクジェットノズルから該画素領域に液滴を吐出することを特徴とする。
本発明によれば、有機電界発光素子における正孔注入層について液滴吐出方式で薄膜パターンを形成する場合にその正孔注入層に「スジムラ」が生じることを低減することができ、「発光ムラ」が少ない高品位な有機電界発光素子を迅速に製造することができる。
【0026】
また、本発明の有機電界発光素子の製造方法は、電極間に発光層と正孔注入層とを有する発光素子が基板に形成されてなる有機電界発光素子の製造方法であって、前記発光層を、液滴吐出装置に形成されるインクジェットヘッドにより液滴を吐出することにより形成する工程を有し、前記発光層は、長軸及び短軸を有する画素領域に形成するものであり、前記発光層を形成する工程において、前記インクジェットヘッドを前記画素領域の短軸方向に走査し、該走査の過程において該インクジェットノズルから該画素領域に液滴を吐出することを特徴とする。
本発明によれば、有機電界発光素子における発光層について液滴吐出方式で薄膜パターンを形成する場合にその発光層に「スジムラ」が生じることを低減することができ、「発光ムラ」が少ない高品位な有機電界発光素子を迅速に製造することができる。
【0027】
また、本発明のカラーフィルタの製造方法は、電極間に発光層と正孔注入輸送層とを有する発光素子が基板に形成されてなり、発光方向側にカラーフィルタが形成されてなるカラーフィルタの製造方法であって、前記カラーフィルタを、液滴吐出装置に形成されるインクジェットヘッドにより液滴を吐出することにより形成する工程を有し、前記カラーフィルタは、長軸及び短軸を有する画素領域に形成するものであり、前記カラーフィルタを形成する工程において、前記インクジェットヘッドを前記画素領域の短軸方向に走査し、該走査の過程において該インクジェットノズルから該画素領域に液滴を吐出することを特徴とする。
本発明によれば、例えば有機電界発光素子の発光層から白色光を放射させ、その白色光をカラーフィルタを介して外部に出射させる有機電界発光素子においてそのカラーフィルタをなす薄膜パターンを「スジムラ」を生じさせずに均一にかつ高速に形成することができる。そこで、本発明によればカラーフィルタを備える有機電界発光素子からなる表示パネルについて、色むらなどを大幅に低減させることができる。
【0028】
また、本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法は、基板に形成された電極を有してなるプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、前記電極を、液滴吐出装置に形成されるインクジェットヘッドにより液滴を吐出することにより形成する工程を有し、前記電極は、長軸及び短軸を有する所定領域に形成するものであり、前記電極を形成する工程において、前記インクジェットヘッドを前記所定領域の短軸方向に走査し、該走査の過程において該インクジェットノズルから該所定領域に液滴を吐出することを特徴とする。
本発明によれば、プラズマディスプレイパネルの電極をなす薄膜パターンを液滴吐出方式で形成する場合に、その薄膜パターンに「スジムラ」が生じることを低減することができ、高精度にかつ迅速にプラズマディスプレイパネルの電極を形成することができる。
【0029】
また、本発明の液晶表示パネルの製造方法は、基板に形成されたカラーフィルタを有してなる液晶表示パネルの製造方法であって、前記カラーフィルタを、液滴吐出装置に形成されるインクジェットヘッドにより液滴を吐出することにより形成する工程を有し、前記カラーフィルタは、長軸及び短軸を有する所定領域に形成するものであり、前記カラーフィルタを形成する工程において、前記インクジェットヘッドを前記所定領域の短軸方向に走査し、該走査の過程において該インクジェットノズルから該所定領域に液滴を吐出することを特徴とする。
本発明によれば、液晶表示パネルのカラーフィルタをなす薄膜パターンを液滴吐出方式で形成する場合に、その薄膜パターンに「スジムラ」が生じることを低減することができ、液晶表示パネルにおける色むらなどを大幅に低減させながら製造時間を短縮することができる。
【0030】
また、本発明の薄膜パターンの製造方法は、前記液状体材料がフォトレジスト膜を形成するものであることが好ましい。
本発明によれば、例えばフォトリソグラフィ法を用いて基板に各種パターンを転写形成するときに形成するフォトレジスト膜を、液滴吐出方式を用いた上記薄膜パターンの製造方法で迅速に形成することができる。そして、本発明によれば、フォトレジスト膜に「スジムラ」が生じることを低減することができるので、フォトリソグラフィ法及び液滴吐出方式を用いて各種薄膜パターンを高精度にかつ迅速に形成することができる。
【0031】
本発明の電子機器は、前記薄膜パターンの製造方法を用いて製造された薄膜パターンを備えたことを特徴とする。
本発明によれば、「スジムラ」の少ない薄膜パターンを構成要素とした電子機器を迅速に提供することができるので、例えばその薄膜パターンを画素として用いることにより、発光むらの少なく表示部を備えた電子機器を低コストで提供することができる。また、例えば上記「スジムラ」の少ない薄膜パターンを半導体集積回路などの構成要素とすることにより、コンパクトでありながら高性能であって不具合の発生確率が低い電子機器を提供することができる。
【0032】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態に係る薄膜パターンの製造方法について図面を参照して説明する。
(第1実施形態)
図1は本発明の第1実施形態に係る薄膜パターンの製造方法を示す説明図である。基板上には画素領域1が形成されている。画素領域1の外周には凸形状の隔壁(バンク)が設けられていることが好ましい。画素領域1は、長手形状をしており、画素領域1の中央を通るとともにその画素領域1を縦断する長軸と、画素領域1の中央を通るとともにその画素領域1を横断する短軸とをもつ。なお、画素領域1の形状は、長方形状又は楕円形状などであってもよい。
【0033】
画素領域1内には、液滴吐出方式で液状体材料が塗布される。この液状体材料は、例えば画素領域1に形成される画素が有機EL素子である場合、正孔注入層又は発光層を形成する材料及び溶媒からなるものである。図1に示す走査線L1,L2,L3は、液滴吐出装置のノズルヘッドに設けられたインクジェットノズルの移動位置を規定するために仮想的に設定された走査線である。走査線L1,L2,L3は、画素領域1の短軸と平行に設定されている。
【0034】
そこで、インクジェットノズルは、走査線L1上において図面右側へ移動しながら、すなわち画素領域1の短軸方向に走査されながら、上記液状体材料の液滴を吐出し、その液滴を画素領域1内に着弾させる。また、インクジェットノズルは、走査線L2上において図面右側へ移動しながら液滴を吐出し、その液滴を画素領域1内に着弾させる。また、インクジェットノズルは、走査線L3上において図面右側へ移動しながら液滴を吐出し、その液滴を画素領域1内に着弾させる。
【0035】
これらにより、複数の液滴が画素領域1の全体に散らばって吐出され、画素領域1全体に液状体材料が塗布される。そして、塗布された液状体材料を乾燥させることにより、例えば上記正孔注入層及び発光層などが形成される。
【0036】
図2は基板上に複数設けられた画素領域に液状体材料を塗布する状態を示す説明図である。基板10の上面には複数の画素領域1a,1b,1c,1d,1e,1fが形成されている。各画素領域1a,1b,1c,1d,1e,1fの外周には凸形状の隔壁(バンク)が設けられていることが好ましい。各画素領域1a,1b,1c,1d,1e,1fは、図1に示す画素領域1と略同じ形状をしている。
【0037】
そして、第1行の画素として形成された画素領域1a,1b,1cについては図1に示す方法と同様に、走査線L1,L2,L3が設定され、インクジェットノズルが画素領域1a,1b,1cの短軸方向に走査されながら、液滴吐出が行われる。また、第2行の画素として形成された画素領域1d,1e,1fについては図1に示す方法と同様に、走査線L4,L5,L6が設定され、インクジェットノズルが画素領域1d,1e,1fの短軸方向に走査されながら、液滴吐出が行われる。
【0038】
これらにより、複数の液滴が各画素領域1a,1b,1c,1d,1e,1fの全体に散らばって吐出され、各画素領域内の全体に液状体材料が塗布される。そして、塗布された液状体材料を乾燥させることにより、基板10に形成された各画素領域1a,1b,1c,1d,1e,1fに例えば上記正孔注入層及び発光層などが形成される。
【0039】
上記液状体材料の塗布で用いられる液滴吐出装置のノズルヘッドには、複数のインクジェットノズルが設けられていることが好ましい。その複数のインクジェットノズルは、例えば直線上において所定間隔で配置されているものとしてもよい。このようにすると、例えば、走査線L1については第1インクジェットノズルで液滴吐出を行い、走査線L2については第1インクジェットノズルの隣りに配置されている第2インクジェットノズルで液滴吐出を行い、走査線L3については第2インクジェットノズルの隣りに配置されている第3インクジェットノズルで液滴吐出を行うということができる。
すなわち、1つの画素領域1について複数のインクジェットノズルで略同時に又は逐次的に複数の液滴を吐出することができる。
【0040】
このように、本実施形態の薄膜パターンの製造方法によれば、画素領域の短軸方向にインクジェットノズルを走査させるので、画素領域の長軸方向にインクジェットノズルを走査させる場合よりも、複数のインクジェットノズルによる1つの画素領域への略同時の液滴吐出が行い易くなる。したがって、本実施形態によれば、従来よりも高速に、液滴吐出方式による画素領域への液状体材料の塗布をすることができる。
【0041】
また、本実施形態によれば、1つの画素領域に対して複数の相異なるインクジェットノズルで液状体を塗布することが、画素領域の長軸方向にインクジェットノズルを走査させる場合よりも、容易になる。これにより、各インクジェットノズル間の液滴吐出量の差(誤差)が分散されるので、画素の構成要素となる薄膜(正孔注入層又は発光層など)に「スジムラ」が生じることを低減することができ、発光ムラが生じることを低減することができる。
【0042】
また、上記実施形態においては、1つの画素領域1に対する走査線L1,L2,L3による複数回の液滴吐出は、ある1つの液滴着弾によって形成された薄膜(ドット薄膜)の一部と他の液滴着弾によって形成されたドット薄膜の一部とが重なるように行われることが好ましい。このようにすると画素領域1の全体について、塗り残しなく、より均一な厚さの薄膜パターンを形成することができる。
【0043】
また、上記実施形態においては、1つの画素領域1に対する走査線L1,L2,L3による複数回の液滴吐出は、2種類以上の液滴吐出量で行ってもよい。例えば、走査線L1,L3については液滴吐出量を比較的少なくし、走査線L2については液滴吐出量を比較的多くするようにしてもよい。このようにすると、画素領域1内の中央近辺に対しては液滴吐出量を多くして、画素領域1内の端部に対しては液滴吐出量を少なくすることができる。したがって、画素領域1の全体について塗り残しなく、かつ「スジムラ」の発生を抑えながら、高速に所望の薄膜パターンを形成することができる。
【0044】
また、上記実施形態においては、1つの画素領域1に対する走査線L1,L2,L3による複数回の液滴吐出は、2種類以上の粘度の液滴で行ってもよい。例えば、液滴吐出装置において、走査線L1,L3について液滴吐出を行う第1及び第3インクジェットノズルには比較的高い粘度の液状体材料を供給し、走査線L2について液滴吐出を行う第2インクジェットノズルには比較的低い粘度の液状体材料を供給する。
【0045】
すると、画素領域1内の端部に対しては高粘度の液滴が吐出され、画素領域1内の中央付近には低粘度の液滴が吐出される。そこで、本薄膜パターンの製造方法によれば、画素領域1の全体について膜厚の均一化を図りながら、高速に所望の薄膜パターンを形成することができる。
【0046】
また、上記実施形態においては、1つの画素領域1に対して複数回の液滴吐出が行われるが、最初に画素領域1に着弾した液滴が完全に乾燥する前に画素領域1全体に対する液滴吐出が完了することが好ましい。すなわち、1つの画素領域1に着弾した複数の液滴それぞれが完全に乾燥する前に、その1つの画素領域1全体についての液滴が吐出され薄膜が形成されるのが好ましい。このようにすると、画素領域1に着弾した複数の液滴同士が混じり合い、より平坦な薄膜パターンを形成することができる。
【0047】
また、上記実施形態においては、1つの画素領域1に対して複数回の液滴吐出過程において中間乾燥工程を入れてもよい。すなわち、1つの画素領域1に対して、所定回数の半分だけ液滴吐出を行い、次いで、着弾した液滴について完全乾燥には到らない程度の乾燥処理(中間乾燥工程)を施す。次いで、画素領域1に対して残りの液滴吐出を行う。
【0048】
このようにすると、中間乾燥工程によって着弾した液滴の体積を減らしてから残りの液滴吐出をすることができ、液滴が画素領域1の外側へ溢れ出ることなどを回避させながら、均一な厚みであって大きな厚みをも持たせることができる薄膜パターンを形成することができる。
【0049】
また、上記実施形態の薄膜パターンの製造方法を用いて、有機EL素子のカラーフィルタを形成してもよい。例えば、発光層から白色光を放射させ、その白色光をカラーフィルタを介して外部に出射させる有機EL素子において、そのカラーフィルタをなす薄膜パターンを「スジムラ」を生じさせずに均一にかつ高速に形成することができる。そこで、本実施形態によれば、カラーフィルタを備える有機EL素子からなる表示パネルについて、色むらなどを大幅に低減させることができる。
【0050】
(第2実施形態)
次に、本発明の第2実施形態について図3を参照して説明する。図3は本発明の第2実施形態に係る薄膜パターンの製造方法を示す説明図である。本実施形態と上記第1実施形態との相違点は、本実施形態では画素領域1a,1b,1c,1d,1e,1fの短軸方向に走査線L1,L2,L3,L4,L5,L6が設定されているのみならず、画素領域1a,1b,1c,1d,1e,1fの長軸方向にも走査線L11,L12,L13が設定されている点である。
【0051】
具体的には、まず基板10の上面には複数の画素領域1a,1b,1c,1d,1e,1fが形成されている。各画素領域1a,1b,1c,1d,1e,1fの外周には凸形状の隔壁(バンク)が設けられていることが好ましい。
【0052】
そして、第1行の画素として形成された画素領域1a,1b,1cについては図2に示す方法と同様に、走査線L1,L2,L3が設定され、インクジェットノズルが画素領域1a,1b,1cの短軸方向に走査されながら、液滴吐出が行われる。また、第2行の画素として形成された画素領域1d,1e,1fについては図2に示す方法と同様に、走査線L4,L5,L6が設定され、インクジェットノズルが画素領域1d,1e,1fの短軸方向に走査されながら、液滴吐出が行われる。
【0053】
さらに、第1列の画素として形成された画素領域1a,1dについてはその画素領域の長軸と平行に走査線L11が設定されている。この走査線L11は、互いに平行な複数本の走査線であってもよい。また、第2列の画素として形成された画素領域1b,1eについてはその画素領域の長軸と平行に走査線L12が設定されている。この走査線L12は、互いに平行な複数本の走査線であってもよい。また、第3列の画素として形成された画素領域1c,1fについてはその画素領域の長軸と平行に走査線L13が設定されている。この走査線L13は、互いに平行な複数本の走査線であってもよい。
【0054】
そして、走査線L11,L12,L13についてインクジェットノズルを走査させながら、各画素領域1a,1b,1c,1d,1e,1fに液滴吐出を行う。この液滴吐出は、上記走査線L1,L2,L3についての液滴吐出と同様に行うことができる。
【0055】
これらにより、本実施形態では、インクジェットノズルを画素領域1a,1b,1c,1d,1e,1fの短軸方向に走査する短軸方向吐出処理と、インクジェットノズルを画素領域1a,1b,1c,1d,1e,1fの長軸方向に走査する長軸方向吐出処理とを有する。したがって、各画素領域1a,1b,1c,1d,1e,1fには、走査方向が互いに90度異なる2種類の走査線を用いて液滴吐出が行われるので、各液滴の吐出量及び粘度などの差(誤差)が分散される。そこで、本実施形態によれば、各画素領域1a,1b,1c,1d,1e,1fに対して液滴吐出状態が直線状に偏ることを回避することができ、画素をなす薄膜パターンに「スジムラ」が生じることをより効果的に回避することができる。
【0056】
(第3実施形態)
次に、本発明の第3実施形態について図4及び図5を参照して説明する。図4は本発明の第3実施形態に係る薄膜パターンの製造方法を示す説明図である。本実施形態では、ノズルヘッド20に複数のインクジェットノズル21a,21b,21cが設けられている液滴吐出装置を用いる。各インクジェットノズル21a,21b,21cは、ノズルヘッド20において所定直線上において所定間隔で配置されているものとしてもよい。
【0057】
画素領域1に対しては、その画素領域1の短軸と平行に複数の走査線L1,L2,L3を設定する。そして、走査線L1上をインクジェットノズル21aが移動し、走査線L2上をインクジェットノズル21bが移動し、走査線L3上をインクジェットノズル21cが移動するように、ノズルヘッド20を画素領域1の短軸方向に移動させる。
【0058】
ここで、インクジェットノズル21a,21b,21cの配置位置を規定する直線が走査線L1,L2,L3に対して斜めに交わるように、すなわちノズルヘッド20の正面が走査線L1,L2,L3に対して斜めに向く状態として、そのノズルヘッド20を移動させる。そして、ノズルヘッド20の移動過程においてインクジェットノズル21a,21b,21cから液滴を吐出させて画層領域1に薄膜パターンを形成する。
【0059】
本実施形態によれば、ノズルヘッド20に設けられている複数のインクジェットノズル21a,21b,21cの移動軌跡(走査線L1,L2,L3)の間隔を、インクジェットノズル21a,21b,21c相互の間隔よりも短くすることができる。そこで、本実施形態によれば、1つの画素領域1に対して、より多くのインクジェットノズルで略同時ないし逐次的に液滴を吐出することが可能となり、小さい画素についても大きい画素についても「スジムラ」を低減させながら、より高速に画素をなす薄膜パターンを形成することができる。
【0060】
次に、本実施形態の変形例について図5を参照して説明する。図5は本実施形態の変形例に係る薄膜パターンの製造方法を示す説明図である。本薄膜パターンの製造方法では、ノズルヘッド20を画素領域1に対して長軸方向に走査させるときに、そのノズルヘッド20の正面が長軸方向(すなわち走査線L11a,L11b,L11c)に対して斜めに向く状態として、そのノズルヘッド20を移動させる。そして、ノズルヘッド20の移動過程においてインクジェットノズル21a,21b,21cから液滴を吐出させて画層領域1に薄膜パターンを形成する。
【0061】
本変形例によれば、ノズルヘッド20に設けられている複数のインクジェットノズル21a,21b,21cの移動軌跡(走査線L11a,L11b,L11c)の間隔を、インクジェットノズル21a,21b,21c相互の間隔よりも短くすることができる。そこで、本実施形態によれば、ノズルヘッド20を画素領域1の長軸方向に走査した場合でも、1つの画素領域1に対して、より多くのインクジェットノズル21a,21b,21cで略同時ないし逐次的に液滴を吐出することが可能となる。したがって、本実施形態によれば、小さい画素についても大きい画素についても「スジムラ」を低減させながら、より高速に画素をなす薄膜パターンを形成することができる。
【0062】
<有機EL装置の製造方法>
次に、上記第1から第3実施形態に係る薄膜パターンの製造方法を用いた有機EL装置の製造方法について、図6を参照して具体的に説明ずる。本製造方法では、有機EL装置における正孔注入輸送層を上記実施形態の薄膜パターンの製造方法で形成する。
【0063】
正孔注入輸送層用組成物は、主として正孔注入輸送層を形成する導電性化合物、分散溶媒、湿潤剤を含み、液滴吐出方式によるパターン成膜に用いられる。この正孔注入輸送層を形成する導電性化合物は陽極よりイオン化ポテンシャルが低い化合物が望ましい。例えば、陽電極としてインジウム錫酸化物(ITO:Indium Tin Oxide)を用いた場合、低分子系材料としては、銅フタロシアニン等のポルフィリン化合物が挙げられる。
【0064】
なお、その他の添加剤、被膜安定化材料を添加してもよく、例えば、粘度調製剤、老化防止剤、pH調製剤、防腐剤、樹脂エマルジョン、レベリング剤等を用いることができる。
【0065】
導電性化合物(正孔注入輸送層成分)として、銅フタロシアニンを用いた場合の、正孔注入輸送層用組成物の物性的特性について検討した。試料は表1乃至表10に示す組成物イ乃至組成物ヌを調整した。
【0066】
組成物イ
【表1】
【0067】
組成物ロ
【表2】
【0068】
組成物ハ
【表3】
【0069】
組成物ニ
【表4】
【0070】
組成物ホ
【表5】
【0071】
組成物ヘ
【表6】
【0072】
組成物ト
【表7】
【0073】
組成物チ
【表8】
【0074】
組成物リ
【表9】
【0075】
組成物ヌ
【表10】
【0076】
(吐出評価)表1〜表8に示す組成物イ〜組成物チのインクジェットヘッドを構成するノズル面構成材料に対する接触角、粘度および表面張力を測定し、それらの吐出性を評価した。吐出評価はインクジェットプリント装置(エプソン製MJ−500C)を用いて行った。
【0077】
なお、粘度は20℃での測定値である。これらの結果を表11に示す。
【0078】
【表11】
この結果から、接触角は30°から170°、特に、35°から65°が好ましいことがわかる。また、粘度は1cpから20cp、特に、2cpから4cpが好ましく、表面張力は20dyneから70dyne、特に、25dyneから40dyneの範囲が好ましいことがわかる。
【0079】
また、湿潤剤としてグリセリンが混入されている組成物イ乃至組成物ハは、湿潤剤が混入されていない組成物ヘ乃至組成物チと比較すると、吐出性に優れていることがわかる。従って、インク組成物中に湿潤剤が含まれていることが好ましい。湿潤剤を混入することで、インク組成物がノズル口で乾燥・凝固することを有効に防止することができる。かかる湿潤剤としては、例えば、グリセリン、ジエチレングリコール等の多価アルコール類が挙げられるが、グリセリンが特に好ましい。
【0080】
(正孔注入輸送層用組成物の製法)表1乃至表3、及び、表9、表10にそれぞれ示す組成物イ乃至組成物ハ、及び、組成物リ、組成物ヌを製造し、超音波処理前後の正孔注入輸送層形成化合物(銅フタロシアニン)の粒度分布を測定した。さらに、超音波処理後、濾過工程を経た上記正孔注入輸送層用組成物を用い液滴吐出方式のパターニングにより形成された正孔注入輸送層の成膜性を評価した。
【0081】
これらの結果を表12に示す。超音波処理の効果は1μm以下の粒度分布の割合で示した。なお、スチレンアクリル樹脂分散液での粒径は1μm以上である。
【0082】
【表12】
この結果から、前記分散液を4時間超音波処理することで分散性を上げることができることがわかる。また、超音波処理分散液をさらに濾過することによって、より均一な正孔注入輸送層膜を得ることができる。また、導電性化合物の分散極性溶媒としては、水、又は、水とメタノール或いはエトキシエタノールとの混合溶媒であることが好ましく(組成物イ乃至組成物ハ)、これらの溶媒を用いた場合、成膜性も良いことがわかる。
【0083】
(有機電界発光素子の製造工程)表1乃至表3に示す組成物イ乃至組成物ハを用いて、以下に示す手順で液滴吐出方式による正孔注入輸送層のパターニング成膜を行い、有機電界発光素子(発光層)を製造した。
【0084】
陽極形成工程(図6(A))
本工程はガラス基板102上に陽極101を形成する工程である。ガラス基板102としては、酸やアルカリ等の薬品に侵されにくく、量産可能であるものが好ましい。ITO透明電極を基板102上に0.1μmの厚さで成膜し、例えば100μmピッチでパターニングする。
【0085】
仕切部材形成工程(同図(B))
本工程は、ガラス基板102上に仕切部材103を形成する工程である。具体的には、陽極(ITO電極)101間を埋め、インク垂れ防止壁(バンク)を兼ねた非感光性ポリイミド(仕切部材)をフォトリソグラフィーにより形成した。ここで、仕切部材103の形成には、図1から図5に示す本実施形態の薄膜パターンの製造方法を用いてもよい。仕切部材103は例えば幅20μm、厚さ2.0μmとした。
【0086】
正孔注入輸送層用組成物吐出工程(同図(C))
さらに、インクジェットプリント装置(エプソン製MJ−800C)104のヘッド105から正孔注入輸送層用組成物イ乃至ハ(図中106)を吐出し、正孔注入輸送層107をパターンニング成膜した。この成膜では、図1から図5に示す本実施形態の薄膜パターンの製造方法を用いた。パターン成膜後、200℃10分の乾燥処理により正孔注入輸送層を形成した。正孔注入輸送層用組成物吐出時において、バンク越しの塗布は見られず、「スジムラ」の少ない、高精度の正孔注入輸送層パターンが得られた。
【0087】
発光層組成物充填工程(同図(D))
次いで、緑色発光層としてPPV前駆体(ポリ(パラ−フェニレンビニレン))組成物を製造した。液滴吐出方式により発光層組成物108を吐出し、発光層109をパターンニング成膜した。この成膜でも、図1から図5に示す本実施形態の薄膜パターンの製造方法を用いた。発光層109としては赤色発光を示すローダミンBをドープしたPPVや青色発光を示すクマリンをドープしたPPVを用いても良い。赤、緑、青の3原色発光を示す発光層を正孔注入輸送層上に更にパターニングすることにより、色ムラがない高品位なフルカラー有機ELディスプレイの製造が可能となる。
【0088】
陰極形成工程(同図(E))
最後に、発光層109を覆うように陰電極110を蒸着して有機電界発光素子を形成した。
【0089】
本有機EL装置の製造方法によれば、スジ形状の色ムラなどがない有機EL装置を簡便に短時間かつ低コストで実現できる。
【0090】
<プラズマディスプレイパネルの製造方法>
次に、上記実施形態の薄膜パターン形成方法を用いたプラズマディスプレイパネルの製造方法について、図7を参照して具体的に説明する。本製造方法では、プラズマディスプレイパネルにおける電極配線パターンを上記実施形態の薄膜パターンの製造方法で形成する。図7は本実施形態に係る薄膜パターンの製造方法を用いて製造されたプラズマディスプレイパネルの一例を示す断面図である。
【0091】
プラズマディスプレイパネル120は、2枚のガラス基板121,129が張り合わせられ、両基板により形成される空間に不活性ガスが充填されたものである。ガラス基板121,129には、それぞれ、本実施形態に係る薄膜パターンの製造方法で形成された電極(透明電極122、バス電極123、アドレス電極127)などが設けられている。次に、プラズマディスプレイパネル120の構成について具体的に説明する。
【0092】
プラズマディスプレイパネル120において、放電空間125を挟む基板対のうち観察側のガラス基板121の内面には、画面の水平方向のセル列であるライン毎にサステイン電極が配列されている。サステイン電極は、透明導電膜である透明電極122と、抵抗値を低減するための金属膜であるバス電極123とからなる。透明電極122とバス電極123は、上述の図1から図5に示す薄膜パターンの製造方法で設けられたものである。すなわち、透明電極122は、図1から図5に示す液滴吐出方式で形成されたインジウム錫酸化物であり、バス電極123も図1に示す液滴吐出方式で形成されている。
【0093】
透明電極122とバス電極123は、交流駆動のための誘電体層124で被覆されている。誘電体層124は、透光性を有している。背面側のガラス基板129の内側には、アドレス電極127、隔壁128及びカラー表示のための3色(赤R,緑G,青B)の蛍光体126R,126G,126Bが設けられている。隔壁128によって、放電空間125がライン方向に単位発光領域毎に区画されている。放電空間125には、アルゴン又はネオンなどからなる放電ガスが充填されている。蛍光体126R,126G,126Bは、放電で生じた紫外線で局部的に励起されて所定色の可視光を放つ。表示における1単位の発光領域は、ライン方向に並ぶ3つの単位発光領域で構成される。各単位発光領域の範囲内の構造体がセルである。
【0094】
次に、上記の構造を有するプラズマディスプレイパネル120の製造工程について説明する。なお、2枚のガラス基板121,129のうち観察側(表示面側)のガラス基板121を観察面側基板構造体と呼び、ガラス基板121と反対側(背面側)のガラス基板29を背面側基板構造体と呼ぶ。
先ず、観察面側基板構造体としては、光透過性のガラス基板121の上に透明電極122を形成する。透明電極122の形成は、図1から図5に示すようにインジウム錫酸化物を塗布する方式で行う。次いで、透明電極122の上にバス電極123を形成する。バス電極123の形成も図1から図5に示すように導電性材料を塗布する方式で行う。次いで、透明電極122及びバス電極を被覆する誘電体層124を形成することで、観察面側基板構造体が完成する。
【0095】
一方、背面側基板構造体としては、先ず、ガラス基板129上にアドレス電極127を形成する。このアドレス電極127の形成も、図1から図5に示すように導電性材料を塗布する方式で行う。次いで、隔壁128を形成した後、隔壁128で仕切られた空間に蛍光体126R,126G,126Bがスクリーン印刷法などで形成される。この蛍光体126R,126G,126Bは、例えば、所定発光色の蛍光体粉末と、セルロース系又はアクリル系の増粘剤樹脂とアルコール系又はエステル系等の有機溶剤とからなるビヒクルとを混合した蛍光体ペーストを、スクリーン印刷法により形成する。赤色の光を発する蛍光体126R、緑色の光を発する蛍光体126G、青色の光を発する蛍光体126Bは、アドレス電極127方向に、交互に形成される。次いで、蛍光体126R,126G,126Bは、大気圧の空気中雰囲気で熱処理が施され、ビヒクルの揮発成分を蒸発させる。この熱処理が蛍光体の焼成工程と呼ばれるものである。
蛍光体126R,126G,126Bの焼成が終わると、観察面側基板構造体と背面側基板構造体を張り合わせ、内部を真空排気した後、不活性ガスを充填することで、プラズマディスプレイパネル120が完成する。
【0096】
これらにより本実施形態のプラズマディスプレイパネル120の製造方法では、透明電極122、バス電極123及びアドレス電極127の形成に、本実施形態に係る薄膜パターンの製造方法(液滴吐出方式)を使用しているので、フォトリソグラフィやエッチングで製造した場合に比べて、インジウム錫酸化物及び導電性材料の無駄となる量を大幅に低減することができる。また、本実施形態のプラズマディスプレイパネル120の製造方法では、透明電極122、バス電極123及びアドレス電極127を形成するときに、フォトマスクを作る必要がないので、製造期間を短縮することができるとともに、製造コストを低減することができる。
【0097】
さらに、本実施形態のプラズマディスプレイパネル120では、バス電極123に断線があったとしても、その導電性パターンの下にはインジウム錫酸化物からなる透明電極123が形成されているので、基板上の配線としては繋がっており、プラズマディスプレイパネル120における所定の機能を発揮することができる。
【0098】
さらに、本実施形態のプラズマディスプレイパネル120では、透明電極122、バス電極123及びアドレス電極127を液滴吐出方式で形成するときに、図1から図5に示すように、薄膜パターン形成領域の短軸方向に走査線を設定して液滴を塗布させるので、透明電極122、バス電極123及びアドレス電極127をなす薄膜パターンに「スジムラ」が生じることを抑えつつ、高速にその薄膜パターンを形成することができる。そこで、本製造方法によれば、プラズマディスプレイパネル120の透明電極122、バス電極123及びアドレス電極127を高精度にかつ迅速に形成することができるので、高品位な画像を表示することができ、電流リークなどの不具合の発生確率が低いプラズマディスプレイパネル120を低コストで提供することができる。
【0099】
<液晶装置の製造方法>
次に、上記実施形態に係る薄膜パターンの製造方法を用いた液晶装置の製造方法について、図8を参照して具体的に説明する。本製造方法では、液晶装置における電極配線パターン及びカラーフィルタを上記実施形態の塗布方法で形成する。図8は本実施形態に係る薄膜パターンの製造方法を用いて製造された液晶装置200の一例を示す断面図である。
【0100】
図8に示すように、下側基板201の液晶層203側表面上には、カラーフィルター205、有機膜などからなる平坦化膜206、透明電極207、配向膜209が順次積層形成されている。一方、上側基板202の液晶層203側表面上には、インジウム錫酸化物からなる透明電極208と配向膜210とが順次積層形成されている。また、液晶層203内には多数の球状のスペーサー213が配置されている。
【0101】
カラーフィルター205は、所定のパターンに形成された赤(R)、緑(G)、青(B)の着色層205aと隣接する着色層205a間を遮光する遮光層(ブラックマトリクス)205bとからなっている。また、配向膜209、210はポリイミドなどの配向性高分子からなり、電界を印加しないときの液晶層203の配向状態に合わせて、その表面は布などを用いて所定の方向にラビングされている。カラーフィルター205及び平坦化膜206は、少なくとも表示領域内に形成され、かつシール材204よりも内側にのみ形成されている。
【0102】
次に、上記構造の液晶装置200の製造方法について説明する。
先ず、下側基板201の表面に、カラーフィルター205、平坦化膜206、透明電極207、配向膜209を順次形成する。ここで、カラーフィルタ205及び透明電極207は、それぞれ図1から図5に示す薄膜パターンの製造方法で形成する。
【0103】
また、上側基板202の表面に、透明電極208と配向膜210とを順次形成する。ここで、透明電極208も図1から図5に示す薄膜パターンの製造方法で形成する。すなわち基板202の表面にインジウム錫酸化物を液滴吐出装置で液滴吐出させることで透明電極208を形成する。
【0104】
次いで、表面にカラーフィルター205、平坦化膜206、透明電極207、配向膜209が順次積層形成された下側基板201と、透明電極208及び配向膜210を順次積層形成された上側基板202とを、未硬化のシール材204を介して貼着した後、未硬化のシール材204を、液晶の注入口を形成するように硬化し、液晶セルを形成する。
次いで、真空注入法により液晶セル内に液晶を吸引して液晶層203を形成することにより上記構造の液晶装置200が製造される。
【0105】
これらにより、本実施形態の液晶装置200の製造方法では、インジウム錫酸化物などからなる透明電極207,208を液滴吐出方式で形成するので、フォトリソグラフィやエッチングで製造した場合に比べて、インジウム錫酸化物などの無駄となる量を大幅に低減することができる。
また、本実施形態の液晶装置200の製造方法では、透明電極207,208を形成するときに、フォトマスクを作る必要がないので、製造期間を短縮することができるとともに、製造コストを低減することができる。
【0106】
さらに、本実施形態の液晶装置200の製造方法では、カラーフィルター205及び透明電極207,208を液滴吐出方式で形成するときに、図1から図5に示すような方法で液滴を塗布するので、筋形状の発光ムラが少ない高品位な液晶装置200を高速に製造することができる。
【0107】
(電子機器)
上記実施形態の薄膜パターン形成方法を用いて製造された電気光学装置(有機EL装置、プラズマディスプレイパネル又は液晶装置)を備えた電子機器の例について説明する。
図9は、携帯電話の一例を示した斜視図である。図9において、符号1000は携帯電話本体を示し、符号1001は上記電気光学装置を用いた表示部を示している。
【0108】
図10は、腕時計型電子機器の一例を示した斜視図である。図10において、符号1100は時計本体を示し、符号1101は上記電気光学装置を用いた表示部を示している。
【0109】
図11は、ワープロ、パソコンなどの携帯型情報処理装置の一例を示した斜視図である。図11において、符号1200は情報処理装置、符号1202はキーボードなどの入力部、符号1204は情報処理装置本体、符号1206は上記電気光学装置を用いた表示部を示している。
【0110】
図9から図11に示す電子機器は、上記実施形態の電気光学装置を備えているので、表示部などにおける発光むら及び電流リークなどを低減させた高品位な電子機器を低コストで提供することができる。
【0111】
なお、本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能であり、実施形態で挙げた具体的な材料や層構成などはほんの一例に過ぎず、適宜変更が可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施形態の薄膜パターンの製造方法の説明図である。
【図2】同上の塗布方法についての他の説明図である。
【図3】本発明の第2実施形態の薄膜パターンの製造方法の説明図である。
【図4】本発明の第3実施形態の薄膜パターンの製造方法の説明図である。
【図5】同上実施形態の変形例を示す説明図である。
【図6】有機EL装置の製造方法を示す断面図である。
【図7】プラズマディスプレイパネルの製造方法を示す断面図である。
【図8】液晶装置の製造方法を示す断面図である。
【図9】本発明の実施形態に係る電子機器の一例を示す図である。
【図10】本発明の実施形態に係る電子機器の一例を示す図である。
【図11】本発明の実施形態に係る電子機器の一例を示す図である。
【図12】従来の液滴吐出方式による塗布方法を示す説明図である。
【符号の説明】
1,1a,1b,1c,1d,1e,1f…画素領域、10…基板、20…ノズルヘッド、21a,21b,21c…インクジェットノズル、L1,L2,L3,L4,L5,L6,L11,L12,L13,L11a,L11b,L11c…走査線
Claims (18)
- 長軸及び短軸を有する画素領域に、液滴吐出方式で液状体材料を塗布する液状体塗布処理と、
前記液状体塗布処理において液滴吐出装置のノズルヘッドを前記画素領域の短軸方向に走査し、該走査の過程において該ノズルヘッドに備えられているインクジェットノズルから該画素領域に液滴を吐出する短軸方向吐出処理とを有することを特徴とする薄膜パターンの製造方法。 - 前記短軸方向吐出処理では、1つの前記画素領域に対して複数回の液滴吐出が行われ、
該複数回の液滴吐出は、少なくとも2つの相異なる前記インクジェットノズルで行われることを特徴とする請求項1に記載の薄膜パターンの製造方法。 - 前記ノズルヘッドは、複数の前記インクジェットノズルを備えており、
前記1つの画素領域に対する複数回の液滴吐出は、少なくとも2つの隣り合う前記インクジェットノズルで略同時ないし逐次的に行われることを特徴とする請求項2に記載の薄膜パターンの製造方法。 - 前記1つの画素領域に対する複数回の液滴吐出は、少なくとも2種類の液滴吐出量で行われることを特徴とする請求項2又は3に記載の薄膜パターンの製造方法。
- 前記1つの画素領域に対する複数回の液滴吐出は、該液滴を少なくとも2種類の粘度として行われることを特徴とする請求項2又は3に記載の薄膜パターンの製造方法。
- 前記ノズルヘッドは、複数の前記インクジェットノズルを備えており、
前記複数のインクジェットノズルは、前記ノズルヘッドにおいて略直線上に配置されており、
前記短軸方向吐出処理では、前記複数のインクジェットノズルの配置を規定する直線が前記短軸方向に設定された走査線に対して斜めに交わる状態として、前記ノズルヘッドを走査させることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか一項に記載の薄膜パターンの製造方法。 - 前記1つの画素領域に対する複数回の液滴吐出は、該画素領域に最初に着弾した液滴が略完全に乾燥する前に、最後の液滴吐出が行われることを特徴とする請求項2乃至6のいずれか一項に記載の薄膜パターンの製造方法。
- 前記1つの画素領域に対する複数回の液滴吐出では、該画素領域に対する最初の液滴吐出と最後の液滴吐出との間に、該画素領域に着弾した液滴が完全に乾燥するには到らない程度の乾燥処理が行われることを特徴とする請求項2乃至6のいずれか一項に記載の薄膜パターンの製造方法。
- 前記薄膜パターンの製造方法は、
前記液状体塗布処理において液滴吐出装置のノズルヘッドを前記画素領域の長軸方向に走査し、該走査の過程において該ノズルヘッドに備えられているインクジェットノズルから該画素領域に液滴を吐出する長軸方向吐出処理を有することを特徴とする請求項1乃至8のいずれか一項に記載の薄膜パターンの製造方法。 - 前記長軸方向吐出処理では、前記複数のインクジェットノズルの配置を規定する直線が前記長軸方向に設定された走査線に対して斜めに交わる状態として、前記ノズルヘッドを走査させることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか一項に記載の薄膜パターンの製造方法。
- 前記1つの画素領域に対する複数回の液滴吐出は、一つの液滴着弾によって形成された薄膜の一部と、他の液滴着弾によって形成された薄膜の一部とが重なるように行われることを特徴とする請求項2乃至10のいずれか一項に記載の薄膜パターンの製造方法。
- 電極間に発光層と正孔注入層とを有する発光素子が基板に形成されてなる有機電界発光素子の製造方法であって、
前記正孔注入層を、液滴吐出装置に形成されるインクジェットヘッドにより液滴を吐出することにより形成する工程を有し、
前記正孔注入層は、長軸及び短軸を有する画素領域に形成するものであり、
前記正孔注入層を形成する工程において、前記インクジェットヘッドを前記画素領域の短軸方向に走査し、該走査の過程において該インクジェットノズルから該画素領域に液滴を吐出することを特徴とする有機電界発光素子の製造方法。 - 電極間に発光層と正孔注入層とを有する発光素子が基板に形成されてなる有機電界発光素子の製造方法であって、
前記発光層を、液滴吐出装置に形成されるインクジェットヘッドにより液滴を吐出することにより形成する工程を有し、
前記発光層は、長軸及び短軸を有する画素領域に形成するものであり、
前記発光層を形成する工程において、前記インクジェットヘッドを前記画素領域の短軸方向に走査し、該走査の過程において該インクジェットノズルから該画素領域に液滴を吐出することを特徴とする有機電界発光素子の製造方法。 - 電極間に発光層と正孔注入輸送層とを有する発光素子が基板に形成されてなり、発光方向側にカラーフィルタが形成されてなるカラーフィルタの製造方法であって、
前記カラーフィルタを、液滴吐出装置に形成されるインクジェットヘッドにより液滴を吐出することにより形成する工程を有し、
前記カラーフィルタは、長軸及び短軸を有する画素領域に形成するものであり、
前記カラーフィルタを形成する工程において、前記インクジェットヘッドを前記画素領域の短軸方向に走査し、該走査の過程において該インクジェットノズルから該画素領域に液滴を吐出することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。 - 基板に形成された電極を有してなるプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
前記電極を、液滴吐出装置に形成されるインクジェットヘッドにより液滴を吐出することにより形成する工程を有し、
前記電極は、長軸及び短軸を有する所定領域に形成するものであり、
前記電極を形成する工程において、前記インクジェットヘッドを前記所定領域の短軸方向に走査し、該走査の過程において該インクジェットノズルから該所定領域に液滴を吐出することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。 - 基板に形成されたカラーフィルタを有してなる液晶表示パネルの製造方法であって、
前記カラーフィルタを、液滴吐出装置に形成されるインクジェットヘッドにより液滴を吐出することにより形成する工程を有し、
前記カラーフィルタは、長軸及び短軸を有する所定領域に形成するものであり、
前記カラーフィルタを形成する工程において、前記インクジェットヘッドを前記所定領域の短軸方向に走査し、該走査の過程において該インクジェットノズルから該所定領域に液滴を吐出することを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。 - 前記液状体材料は、フォトレジスト膜を形成するものであることを特徴とする請求項1乃至11のいずれか一項に記載の薄膜パターンの製造方法。
- 請求項1乃至11のいずれか一項に記載の薄膜パターンの製造方法を用いて製造された薄膜パターンを備えることを特徴とする電子機器。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003156869A JP4311084B2 (ja) | 2003-06-02 | 2003-06-02 | 薄膜パターンの製造方法、有機電界発光素子の製造方法、カラーフィルタの製造方法、プラズマディスプレイパネルの製造方法、液晶表示パネルの製造方法 |
US10/847,446 US20050008769A1 (en) | 2003-06-02 | 2004-05-18 | Methods of manufacturing wiring pattern, organic electro luminescent element, color filter, plasma display panel, and liquid crystal display panel, and electronic apparatus |
TW093115122A TWI266951B (en) | 2003-06-02 | 2004-05-27 | Methods of manufacturing thin-film pattern, organic electroluminescent device, color filter, plasma display panel and LCD panel, and electronic apparatus |
KR1020040039482A KR100643643B1 (ko) | 2003-06-02 | 2004-06-01 | 박막 패턴의 제조 방법, 유기 전계 발광 소자의 제조방법, 컬러 필터의 제조 방법, 플라즈마 디스플레이패널의 제조 방법, 액정 표시 패널의 제조 방법 및 전자기기 |
CNB2004100478081A CN100411223C (zh) | 2003-06-02 | 2004-06-01 | 薄膜图案的制造方法、有机场致发光元件的制造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003156869A JP4311084B2 (ja) | 2003-06-02 | 2003-06-02 | 薄膜パターンの製造方法、有機電界発光素子の製造方法、カラーフィルタの製造方法、プラズマディスプレイパネルの製造方法、液晶表示パネルの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004358299A true JP2004358299A (ja) | 2004-12-24 |
JP4311084B2 JP4311084B2 (ja) | 2009-08-12 |
Family
ID=33562185
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003156869A Expired - Fee Related JP4311084B2 (ja) | 2003-06-02 | 2003-06-02 | 薄膜パターンの製造方法、有機電界発光素子の製造方法、カラーフィルタの製造方法、プラズマディスプレイパネルの製造方法、液晶表示パネルの製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20050008769A1 (ja) |
JP (1) | JP4311084B2 (ja) |
KR (1) | KR100643643B1 (ja) |
CN (1) | CN100411223C (ja) |
TW (1) | TWI266951B (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006281104A (ja) * | 2005-03-31 | 2006-10-19 | Toppan Printing Co Ltd | インクジェット塗工機のインクジェット吐出データ多階調化方法 |
CN100363761C (zh) * | 2005-01-11 | 2008-01-23 | 精工爱普生株式会社 | 图案形成方法、滤色片及其制法、电光学装置及其制法 |
JP2008147195A (ja) * | 2006-12-12 | 2008-06-26 | Lg Electronics Inc | プラズマディスプレイパネル及びその製造方法 |
JP2011049002A (ja) * | 2009-08-26 | 2011-03-10 | Casio Computer Co Ltd | 塗布装置 |
US8071169B2 (en) | 2005-06-30 | 2011-12-06 | Seiko Epson Corporation | Droplet discharge method, electro-optical device, and electronic device |
US8256874B2 (en) | 2009-05-20 | 2012-09-04 | Seiko Epson Corporation | Droplet discharge device |
JP2013000706A (ja) * | 2011-06-20 | 2013-01-07 | Alpha- Design Kk | 基板遮蔽層形成方法及び装置及びプログラム |
US8899714B2 (en) | 2012-11-19 | 2014-12-02 | Samsung Display Co., Ltd. | Inkjet apparatus for depositing liquid crystal |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007115464A (ja) * | 2005-10-19 | 2007-05-10 | Toppan Printing Co Ltd | 表示素子の製造方法 |
US20070287080A1 (en) * | 2006-06-08 | 2007-12-13 | Orbotech Ltd | Enhancement of inkjet-printed elements using photolithographic techniques |
CN101382613B (zh) * | 2007-09-05 | 2012-07-04 | 富士胶片株式会社 | 滤色片的制造方法 |
TWI509673B (zh) * | 2007-09-05 | 2015-11-21 | 尼康股份有限公司 | A manufacturing method of a display element, a manufacturing apparatus for a display element, and a display device |
JP5028402B2 (ja) * | 2008-03-12 | 2012-09-19 | カシオ計算機株式会社 | El素子の製造方法及びelパネルの製造方法 |
EP2296442B1 (en) * | 2008-05-29 | 2016-08-31 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Method of manufacturing an organic electroluminescent display |
WO2012001744A1 (ja) * | 2010-07-01 | 2012-01-05 | パナソニック株式会社 | 有機発光素子用インク、有機発光素子の製造方法、有機表示パネル、有機表示装置、有機発光装置、インク、機能層の形成方法、および有機発光素子 |
US20230276685A9 (en) * | 2016-08-26 | 2023-08-31 | Najing Technology Corporation Limited | Manufacturing method for light emitting device, light emitting device, and hybrid light emitting device |
JP6925746B2 (ja) * | 2017-12-15 | 2021-08-25 | 住友重機械工業株式会社 | 膜形成装置及び膜形成方法 |
WO2021141157A1 (ko) * | 2020-01-08 | 2021-07-15 | 엘지전자 주식회사 | 디스플레이의 박막 패턴 제조 방법 |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5483268A (en) * | 1992-04-17 | 1996-01-09 | Rohm Co., Ltd. | Method for driving ink jet print head |
JP3152799B2 (ja) * | 1993-05-31 | 2001-04-03 | 富士写真フイルム株式会社 | 熱記録方法 |
US5668581A (en) * | 1993-10-27 | 1997-09-16 | Mita Industrial Co., Ltd. | Ink jet printing apparatus |
JP3111024B2 (ja) * | 1995-07-19 | 2000-11-20 | キヤノン株式会社 | カラーフィルタの製造装置及び製造方法及び表示装置の製造方法及び表示装置を備えた装置の製造方法 |
US6092887A (en) * | 1996-07-22 | 2000-07-25 | Minolta Co., Ltd. | Ink-jet printer |
JP2000106278A (ja) * | 1997-09-02 | 2000-04-11 | Seiko Epson Corp | 有機el素子の製造方法及び有機el素子 |
JPH11198452A (ja) * | 1998-01-12 | 1999-07-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像補正方法 |
JP3045138B2 (ja) * | 1998-04-01 | 2000-05-29 | ブラザー工業株式会社 | 多機能印刷装置 |
US6644766B1 (en) * | 1998-04-28 | 2003-11-11 | Xerox Corporation | Printing system with phase shift printing to reduce peak power consumption |
US6394578B1 (en) * | 1998-09-02 | 2002-05-28 | Canon Kabushiki Kaisha | Production process of color filter, liquid crystal display device using the color filter produced by the production process, and ink-jet head |
US6305781B1 (en) * | 1999-06-17 | 2001-10-23 | Xerox Corporation | Method and apparatus for improved bi-directional error for multicolor printers |
JP3446686B2 (ja) * | 1999-10-21 | 2003-09-16 | セイコーエプソン株式会社 | インクジェット式記録装置 |
US6296349B1 (en) * | 1999-12-17 | 2001-10-02 | Lexmark International, Inc. | Aligning a tab circuit on print head intersecting surfaces |
JP3697131B2 (ja) * | 2000-02-21 | 2005-09-21 | キヤノン株式会社 | カラーフィルタの製造方法、製造装置、カラーフィルタを備えた表示装置の製造方法及び該表示装置を備えた装置の製造方法 |
ES2262604T3 (es) * | 2000-11-23 | 2006-12-01 | Oce-Technologies B.V. | Metodo e impresora para imprimir en colores con chorro de tinta. |
JP3953776B2 (ja) * | 2001-01-15 | 2007-08-08 | セイコーエプソン株式会社 | 材料の吐出装置、及び吐出方法、カラーフィルタの製造装置及び製造方法、液晶装置の製造装置及び製造方法、el装置の製造装置及び製造方法 |
US7025437B2 (en) * | 2001-10-31 | 2006-04-11 | Agfa-Gevaert | Printing methods and apparatus for mutually interstitial printing and optional interlacing |
-
2003
- 2003-06-02 JP JP2003156869A patent/JP4311084B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2004
- 2004-05-18 US US10/847,446 patent/US20050008769A1/en not_active Abandoned
- 2004-05-27 TW TW093115122A patent/TWI266951B/zh not_active IP Right Cessation
- 2004-06-01 KR KR1020040039482A patent/KR100643643B1/ko active IP Right Grant
- 2004-06-01 CN CNB2004100478081A patent/CN100411223C/zh not_active Expired - Lifetime
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN100363761C (zh) * | 2005-01-11 | 2008-01-23 | 精工爱普生株式会社 | 图案形成方法、滤色片及其制法、电光学装置及其制法 |
JP2006281104A (ja) * | 2005-03-31 | 2006-10-19 | Toppan Printing Co Ltd | インクジェット塗工機のインクジェット吐出データ多階調化方法 |
US8071169B2 (en) | 2005-06-30 | 2011-12-06 | Seiko Epson Corporation | Droplet discharge method, electro-optical device, and electronic device |
JP2008147195A (ja) * | 2006-12-12 | 2008-06-26 | Lg Electronics Inc | プラズマディスプレイパネル及びその製造方法 |
US8256874B2 (en) | 2009-05-20 | 2012-09-04 | Seiko Epson Corporation | Droplet discharge device |
US8529019B2 (en) | 2009-05-20 | 2013-09-10 | Seiko Epson Corporation | Pattern film formation method and organic EL device manufacturing method |
US8757772B2 (en) | 2009-05-20 | 2014-06-24 | Seiko Epson Corporation | Droplet discharge device |
JP2011049002A (ja) * | 2009-08-26 | 2011-03-10 | Casio Computer Co Ltd | 塗布装置 |
US8464653B2 (en) | 2009-08-26 | 2013-06-18 | Casio Computer Co., Ltd. | Application device and method of producing application layer using same |
JP2013000706A (ja) * | 2011-06-20 | 2013-01-07 | Alpha- Design Kk | 基板遮蔽層形成方法及び装置及びプログラム |
US8899714B2 (en) | 2012-11-19 | 2014-12-02 | Samsung Display Co., Ltd. | Inkjet apparatus for depositing liquid crystal |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN1575054A (zh) | 2005-02-02 |
KR20040103499A (ko) | 2004-12-08 |
CN100411223C (zh) | 2008-08-13 |
JP4311084B2 (ja) | 2009-08-12 |
TW200508787A (en) | 2005-03-01 |
KR100643643B1 (ko) | 2006-11-10 |
TWI266951B (en) | 2006-11-21 |
US20050008769A1 (en) | 2005-01-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4311084B2 (ja) | 薄膜パターンの製造方法、有機電界発光素子の製造方法、カラーフィルタの製造方法、プラズマディスプレイパネルの製造方法、液晶表示パネルの製造方法 | |
KR100660383B1 (ko) | 유기이엘장치의 제조방법 | |
TWI335775B (en) | Method for forming film pattern and method for manufacturing an organic el device, a color filter substrate and a liquid crystal display device | |
US20060197788A1 (en) | Film forming apparatus and method of driving same, device manufacturing method, device manufacturing apparatus, and device | |
US7784425B2 (en) | Droplet ejecting apparatus, electro-optic device, electronic apparatus, and droplet ejecting method | |
KR20080058909A (ko) | 유기전계발광표시장치 및 그 제조방법 | |
TW200533426A (en) | Discharge apparatus, material application method, manufacturing method for color filter substrate, manufacturing method for electroluminescence display apparatus, manufacturing method for plasma display apparatus, and wiring manufacturing method | |
JP2000106278A (ja) | 有機el素子の製造方法及び有機el素子 | |
JP2006178208A (ja) | 表示装置用基板及びその製造方法 | |
US8523319B2 (en) | Method for arranging liquid droplet ejection heads, head unit, liquid droplet ejection apparatus, method for manufacturing electro-optical apparatus, electro-optical apparatus, and electronic device | |
JP2004335180A (ja) | 電気光学装置、電気光学装置用基板、及び電気光学装置の製造方法 | |
JP5037145B2 (ja) | カラーフィルタ製造方法 | |
JP2004362818A (ja) | 薄膜パターンの製造方法、有機電界発光素子の製造方法、カラーフィルタの製造方法、プラズマディスプレイパネルの製造方法、液晶表示パネルの製造方法及び電子機器 | |
JP2007044582A (ja) | 表面処理方法、電気光学装置の製造方法及び電気光学装置 | |
TW200526326A (en) | Ejecting apparatus, applying method, manufacturing method of color filter substrate, manufacturing method of electroluminescence display apparatus, manufacturing method of plasma display apparatus, and manufacturing method of wire | |
JP2004358298A (ja) | 薄膜パターンの製造方法、有機電界発光素子の製造方法、カラーフィルタの製造方法、プラズマディスプレイパネルの製造方法、液晶表示パネルの製造方法及び電子機器 | |
JP2007024925A (ja) | ディスプレイパネル、ディスプレイパネルの製造方法及び製造装置 | |
JP2008012384A (ja) | 微細ラインの形成方法 | |
JP2004031361A (ja) | 正孔注入輸送層用組成物、有機el素子及びその製造方法 | |
JP5899763B2 (ja) | 塗工装置及び有機機能性素子の製造方法 | |
JP2013214396A (ja) | 機能膜の形成方法、有機elパネルの製造方法、表示装置 | |
KR20030059628A (ko) | 플라즈마 디스플레이 패널 제조방법 | |
JP2004055555A (ja) | 正孔注入輸送層用組成物、有機el素子及びその製造方法 | |
JP2004111367A (ja) | 正孔注入輸送層用組成物、有機el素子及びその製造方法 | |
JP2004031360A (ja) | 正孔注入輸送層用組成物、有機el素子及びその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050804 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20050805 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20071120 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20071221 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080218 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090203 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090327 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090421 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090504 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120522 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 4311084 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130522 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140522 Year of fee payment: 5 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R360 | Written notification for declining of transfer of rights |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360 |
|
R360 | Written notification for declining of transfer of rights |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360 |
|
R371 | Transfer withdrawn |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R371 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |