JP2004356651A - 誘導結合プラズマ処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】誘導結合プラズマエッチング装置は、誘電体壁3を含む仕切り構造2により、アンテナ室4と処理室5とに区画された本体容器1を含む。アンテナ室4内には高周波アンテナ13が配設され、処理室5内にはLCDガラス基板LSを載置するための載置台22が配設される。載置台22と誘電体壁3との間に、金属からなるシャワー筐体16を含むシャワーヘッド配設される。シャワー筐体16は、高周波アンテナ13の延在する方向に対して直交する方向に延在する形状を有する。
【選択図】 図1
Description
気密な処理室と、
前記処理室内で被処理基板を載置するための載置台と、
前記処理室内に処理ガスを供給するための処理ガス供給系と、
前記処理室内を排気すると共に前記処理室内を真空に設定するための排気系と、
前記処理室の天井に配設された誘電体壁と、
前記処理室外で前記誘電体壁に面して配設された高周波アンテナと、前記高周波アンテナは、前記処理ガスをプラズマに転化するための誘導電界を前記処理室内に形成することと、
前記載置台と前記誘電体壁との間に配設され、前記処理ガス供給系に接続されたガス流路と前記載置台に対して開口する複数のガス供給孔とを有する金属から実質的になるシャワー筐体を含むシャワーヘッドと、前記シャワー筐体は、前記高周波アンテナの延在する方向に対して実質的に直交する方向に延在する形状を有することと、
を具備することを特徴とする。
中央の支持梁61aに接続された管状のサスペンダ8a内には、支持梁兼シャワー筐体61a内のガス流路66に連通するガス供給管20aが配設される。ガス供給管20aは、本体容器の1の天井を貫通し、本体容器1外に配設された処理ガス源部20に接続される。即ち、プラズマ処理中、処理ガスが、処理ガス源部20からガス供給管20aを介して、支持梁兼シャワー筐体61a内に供給され、更に、その下面のガス供給孔66aから処理室5内に放出される。
Claims (5)
- 気密な処理室と、
前記処理室内で被処理基板を載置するための載置台と、
前記処理室内に処理ガスを供給するための処理ガス供給系と、
前記処理室内を排気すると共に前記処理室内を真空に設定するための排気系と、
前記処理室の天井に配設された誘電体壁と、
前記処理室外で前記誘電体壁に面して配設された高周波アンテナと、前記高周波アンテナは、前記処理ガスをプラズマに転化するための誘導電界を前記処理室内に形成することと、
前記載置台と前記誘電体壁との間に配設され、前記処理ガス供給系に接続されたガス流路と前記載置台に対して開口する複数のガス供給孔とを有する金属から実質的になるシャワー筐体を含むシャワーヘッドと、前記シャワー筐体は、前記高周波アンテナの延在する方向に対して実質的に直交する方向に延在する形状を有することと、
を具備することを特徴とする誘導結合プラズマ処理装置。 - 前記高周波アンテナは渦巻きアンテナを具備し、前記シャワー筐体は放射方向に延在する形状を有することを特徴とする請求項1に記載の誘導結合プラズマ処理装置。
- 前記高周波アンテナは互いに平行に延在する複数の長い直線部分を有するアンテナを具備し、前記シャワー筐体は前記直線部分に直交するように互いに平行に延在する複数の部分を有することを特徴とする請求項1に記載の誘導結合プラズマ処理装置。
- 前記シャワー筐体は接地されることを特徴とする請求項1に記載の誘導結合プラズマ処理装置。
- 前記シャワー筐体の下面を被覆する誘電体カバーを更に具備し、前記ガス供給孔に対応して前記誘電体カバーに孔が形成されることを特徴とする請求項1に記載の誘導結合プラズマ処理装置。
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