JP2004356633A - リソグラフィ装置 - Google Patents

Abstract

【課題】パターン形成したビームを基板に描像する前に、投影ビームを選択的に透過する手段を含むリソグラフィ投影装置を提供する。
【解決手段】手段は、以下のいずれかを含むことができる。つまり、投影ビームの方向でパターニング手段の下流に配置された選択的透過デバイス、走査システム内の固定または可動セットのマスキングブレード、またはアレイ状の切り換え可能要素である。手段は、マスクテーブルまたはフレームまたはリソグラフィ投影装置の構造に設けることができる。
【選択図】図４

Description

本発明はリソグラフィ投影装置で、
− 放射線の投影ビームを供給する放射線システムと、
− パターニング手段を支持する支持構造とを備え、パターニング手段は、所望のパターンに従って投影ビームにパターンを形成する働きをし、さらに、
− 基板を保持する基板テーブルと、
− パターン形成したビームを基板の目標部分に投影する装置システムとを備えるリソグラフィ投影装置に関する。

本明細書において使用する「パターニング手段」なる用語は、入射する放射線ビームに、基板の目標部分に作り出されるべきパターンと一致するパターン化断面を与えるために使用し得る手段に当たるものとして広義に解釈されるべきである。また、「ライトバルブ」なる用語もこうした状況において使用される。一般的に、上記のパターンは、集積回路や他のデバイス（以下を参照）であるような、デバイスにおいて目標部分に作り出される特別な機能層に相当する。そのようなパターニング手段には以下が含まれる。すなわち、
− マスク。マスクの概念はリソグラフィにおいて周知のものであり、これには、様々なハイブリッドマスクタイプのみならず、バイナリマスク、レベンソンマスク、減衰位相シフトマスクといったようなマスクタイプも含まれる。放射線ビームにこのようなマスクを配置することにより、マスクに照射する放射線の、マスクパターンに従う選択的透過（透過性マスクの場合）や選択的反射（反射性マスクの場合）を可能にする。マスクの場合、その支持構造は一般的に、入射する放射線ビームの所望する位置にマスクを保持しておくことが可能であり、かつ、必要な場合、ビームに対して運動させることの可能なマスクテーブルである。
− プログラマブルミラーアレイ。このようなデバイスの一例として、制御層および反射面を有するアドレス可能面があげられる。こうした装置の基本的原理は、（例えば）反射面のアドレスされた領域は入射光を回折光として反射するが、アドレスされていない領域は入射光を非回折光として反射するといったことである。適切なフィルタを使用することにより、回折光のみを残して上記非回折光を反射ビームからフィルタすることが可能である。この方法において、ビームはアドレス可能面のアドレスパターンに従ってパターン形成される。必要なアドレス指定は、適切な電子手段を使用して実行することができる。このようなミラーアレイに関するより多くの情報は、例えば、米国特許第ＵＳ５，２９６，８９１号および同第ＵＳ５，５２３，１９３号に開示されており、これは参照により本明細書に組み込まれる。
− プログラマブルＬＣＤアレイ。このような構成の例が米国特許第ＵＳ５，２２９，８７２号に開示されており、これは参照により本明細書に組み込まれる。上記同様、この場合における支持構造も、例えばフレームもしくはテーブルとして具体化され、これも必要に応じて、固定式となるか、もしくは可動式となる。簡潔化の目的で、本文の残りを、特定の箇所において、マスクおよびマスクテーブルを必要とする例に限定して説明することとする。しかし、こうした例において論じられる一般的な原理は、既に述べたようなパターニング手段のより広範な状況において理解されるべきである。

簡潔化の目的で、これより投影システムを「レンズ」と称するものとする。しかし、この用語は、例えば屈折光学システム、反射光学システム、および反射屈折光学システムを含むさまざまなタイプの投影システムを網羅するものとして広義に解釈されるべきである。放射線システムはまた、放射線の投影ビームの誘導、成形、あるいは制御を行う、こうした設計タイプのいずれかに応じて操作される構成要素も備えることが出来る。こうした構成要素もまた以降において集約的に、あるいは単独的に「レンズ」と称する。さらに、リソグラフィ装置は２つあるいはそれ以上の基板テーブル（および／あるいは２つもしくはそれ以上のマスクテーブル）を有するタイプのものである。このような「多段」デバイスにおいては、追加のテーブルが並列して使用される。もしくは、１つ以上の他のテーブルが露光に使用されている間に予備工程が１つ以上のテーブルにて実行される。例えば、デュアルステージリソグラフィ装置について、米国特許第ＵＳ５，９６９，４４１号および１９９８年２月２７日に出願された米国特許第０９／１８０，０１１号（国際特許出願第ＷＯ９８／４０７９１号）において記載がなされており、これは両方とも参照により本明細書に組み込まれる。

リソグラフィ投影装置は例えば、集積回路（ＩＣ）の製造において使用可能である。この場合、パターニング手段はＩＣの個々の層に対応する回路パターンを生成する。そして、放射線感光材料（レジスト）の層が塗布された基板（シリコンウェハ）上の目標部分（例えば１つあるいはそれ以上のダイから成る）にこのパターンを描像することが出来る。一般的に、シングルウェハは、投影システムを介して１つずつ順次照射される近接目標部分の全体ネットワークを含んでいる。マスクテーブル上のマスクによるパターン形成を用いる現在の装置は、異なる２つのタイプのマシンに区分される。リソグラフィ投影装置の一タイプでは、全体マスクパターンを目標部分に１回の作動にて露光することによって各目標部分が照射される。こうした装置は一般的にウェハステッパと称されている。一般に走査ステップ式装置と称される別の装置では、所定の基準方向（「走査」方向）にマスクパターンを投影ビームで徐々に走査し、これと同時に基板テーブルをこの方向と平行に、あるいは反平行に走査することにより、各目標部分が照射される。一般的に、投影装置は倍率係数Ｍ（一般的に、＜１）を有することから、基板テーブルが走査される速度Ｖは、マスクテーブルが走査される速度の係数Ｍ倍となる。ここに記載を行ったリソグラフィデバイスに関するさらなる情報は、例えば、米国特許第ＵＳ６，０４６，７９２号から得ることができ、これは参照により本明細書に組み込まれる。

従来、迷光がパターニング手段に衝突するのを防止するため、照明システムとパターニング手段との間にデバイスが設けられ、このようなデバイスはマスキングデバイスと呼ばれる。従来のマスキングデバイスは、照明ユニットに配置されたブレードを備える。１組のブレードが配置されて、一緒に動作し、一方向、つまりＹ方向に分離し、これはこれ以降Ｙブレードと呼ぶ。Ｙ方向は一般に走査方向でもある。本明細書では、他に記載していない限りＹ方向は走査方向である。

本発明者は、従来のマスキングデバイスで問題が発生することを発見した。特に、パターニング手段は複数のパターンを含むことができ、そのうち１つのみを所定の露光に使用する。このような状況では、パターニング手段の特定部分のみが投影ビームで照明されるか、パターン形成した投影ビームの特定部分が基板に描像されることを保証することが望ましい。さらに、パターニング手段を正確に曖昧にするため、従来のマスキングデバイスに頼ることはできない。本発明者は、以下でさらに詳細に検討するように、リソグラフィ装置が走査ステップモードで動作する場合に、このような問題が悪化することを発見した。要求される走査速度が高まるほど、従来のマスキングデバイスの不具合が多くなる。特に走査モードで、本発明者は従来の装置で、加速および減速段階での走査メカニズムにより、パターニング手段に完全な黒い境界線がないので、パターニング手段の隣接する部分が照明されてしまうことを発見した。従来の装置には、走査の開始および終了時に必要な高い加速および減速のため、装置に機械の正確さを脅かす動的障害が発生するという問題がある。

パターニング手段の所望の部分を基板に描像できる装置および方法を提供することが、本発明の目的である。

以上および他の目的は、冒頭のパラグラフで指定され、前記パターン形成されたビームの一部を選択的に遮断する空間フィルタを特徴とするリソグラフィ装置で、本発明の実施形態により達成される。

この配置構成は、基板で描像されるパターニング手段の部分の改善された選択性を提供する。また、これは費用効果が高く、リソグラフィ装置の空間の使用を最適化し、装置の設計に複雑さを追加しない解決法である。

本発明のさらなる実施形態によると、前記空間フィルタが、投影ビームの路に配置された第一および第二対の空間フィルタリング手段を備えることを特徴とするリソグラフィ装置が提供され、前記第一空間フィルタリング手段対は、一方向で相互から所定の距離に配置され、前記第二空間フィルタリング手段対は、同じ方向で相互から所定の距離に配置され、前記第二空間フィルタリング手段対は、前記第一空間フィルタリング手段対に対して前記方向に移動して、前記投影ビームを前記方向で走査させるよう構成される。

この配置構成は、走査中に第一および第二空間フィルタリング手段が、装置に動的障害を引き起こすような加速をしないという利点を提供する。したがって、パターニング手段を描像する正確さが向上する。

本発明の実施形態によると、前記空間フィルタが、投影ビーム遮断状態と投影ビーム透過状態との間で選択的に切り換え可能なアレイ状のエレメントを備えることを特徴とするリソグラフィ装置が提供される。このようなエレメントの例は、ミラーまたは調整可能な格子である。

この配置構成は、大きい可動質量を有し、したがって装置の動的障害に寄与するマスキングデバイスを省けるという利点を提供する。さらに、アレイはコンパクトな解決法を提供し、リソグラフィ装置内の空間の使用を改善する。

本発明の実施形態によると、デバイス製造方法で、
− 少なくとも部分的に放射線感光材料の層で覆われた基板を提供するステップと、
− 照明システムを使用して放射線の投影ビームを提供するステップと、
− 投影ビームの断面にパターンを与えるために、パターニング手段を使用するステップと、
− 放射線感光材料の層の目標部分にパターン形成した放射線ビームを投影するステップとを含み、空間フィルタを使用して前記パターン形成ビームの一部を選択的に遮断することを特徴とするデバイス製造方法が提供される。

本発明によるリソグラフィ投影装置を使用する製造プロセスにおいて、パターン（例えばマスクにおける）は少なくとも部分的に放射線感光材料（レジスト）の層で覆われた基板上に描像される。この描像ステップに先立ち、基板は、プライミング、レジスト塗布、およびソフトベークといったような各種のプロセスを経る。露光後、基板は、露光後ベーク（ＰＥＢ）、現像、ハードベーク、および描像フィーチャの測定／検査といったような他の工程を経てもよい。このプロセスの配列は、例えばＩＣといったような素子の個々の層をパターン化するための基準として使用される。このようなパターン形成された層は、それから、全て個々の層を仕上げる目的である、エッチング、イオン注入（ドーピング）、メタライゼーション、酸化、化学機械的研磨等といった種々のプロセスを経る。数枚の層が必要とされる場合には、全体プロセス、もしくはその変形をそれぞれの新しい層に繰り返す必要がある。最終的に、素子のアレイが基板（ウェハ）上に形成される。次に、これらの素子はダイシングやソーイングといったような技法で相互より分離される。それから個々の素子は、キャリアに装着されたり、ピンに接続されたりし得る。こうしたプロセスに関するさらなる情報は、１９９７年にマグローヒル出版会社より刊行された、Ｐｅｔｅｒ ｖａｎ Ｚａｎｔ著、「マイクロチップ製造：半導体処理に対する実用ガイド」という名称の書籍（“Ｍｉｃｒｏｃｈｉｐ Ｆａｂｒｉｃａｔｉｏｎ：Ａ Ｐｒａｔｉｃａｌ Ｇｕｉｄｅ ｔｏ Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ”）の第三版、ＩＳＢＮ０−０７−０６７２５０−４に記載され、これは参照により本明細書に組み込まれる。

本発明による装置の使用法に関して、本文ではＩＣの製造において詳細なる参照説明を行うものであるが、こうした装置が他の多くの用途においても使用可能であることは明確に理解されるべきである。例えば、これは、集積光学装置、磁気ドメインメモリ用ガイダンスおよび検出パターン、液晶ディスプレイパネル、薄膜磁気ヘッド等の製造に使用され得る。こうした代替的な用途においては、本文にて使用した「レチクル」、「ウェハ」、「ダイ」といった用語は、それぞれ「マスク」、「基板」、「目標部分」といった、より一般的な用語に置き換えて使用され得ることは当業者にとって明らかである。

本明細書では、照明放射線および照明ビームという用語は、イオンビームあるいは電子ビームといったような粒子ビームのみならず、紫外線放射線（例えば、３６５ｎｍ、２４８ｎｍ、１９３ｎｍ、１５７ｎｍ、あるいは１２６ｎｍの波長を有する）およびＥＵＶを含むあらゆるタイプの電磁放射線を網羅するものとして使用される。

次に本発明の実施形態を、添付の図面を参照に、例示の方法においてのみ説明する。

図面で、対応する参照記号は対応する部品を示すものとする。

図１および図２は、本発明の独自の実施形態に基づくリソグラフィ投影装置を概略的に示す。この装置は、
この特別なケースでは放射線源ＬＡも備えた、放射線の投影ビームＰＢ（例えばＥＵＶ、ＤＵＶまたはＵＶ放射線）を供給する放射線システムＥｘ、ＩＬと、
マスクＭＡ（例えばレクチル）を保持するマスクホルダを備え、品目ＰＬに対して正確にマスクの位置決めを行う第一位置決め手段ＰＭに連結を行った第一オブジェクトテーブル（マスクテーブル）ＭＴと、
マスクに当たる投影ビームの一部またはパターン形成したビームの一部を選択的に遮断するよう提供された空間フィルタＳＦ（例えばレチクルマスキングデバイスで、当技術分野では「リーマ（ｒｅｍａ）」としても知られる）と、
基板Ｗ（例えば、レジスト塗布シリコンウェハ）を保持する基板ホルダを備え、品目ＰＬに対して正確に基板の位置決めを行う第二位置決め手段ＰＷに連結を行った第二オブジェクトテーブル（基板テーブル）ＷＴと、
マスクＭＡの照射部分を、基板Ｗの目標部分Ｃ（例えば、１つあるいはそれ以上のダイから成る）に描像する投影システム（「レンズ」）ＰＬ（例えばミラーまたは反射レンズシステム）とにより構成されている。

図１で示すように、本装置は透過タイプ（すなわち透過マスクを有する）である。しかし、図２で示すように、例えば（反射マスクを有する）反射タイプのものも可能である。あるいは、本装置は、上記に関連するタイプであるプログラマブルミラーアレイといったような、他の種類のパターニング手段も使用可能である。

放射線システムは、放射線ビームを生成するソースＬＡ（例えば水銀ランプ、ＫｒＦエキシマレーザまたはプラズマソース）を備えることができる。このビームは、直接的に、あるいは、例えばビームエキスパンダＥｘといったようなコンディショニング手段を横断した後に、照明システム（照明装置）ＩＬに供給される。照明装置ＩＬは、ビームにおける強度分布の外部かつ／あるいは内部放射範囲（一般的にそれぞれ、σ−ｏｕｔｅｒおよびσ−ｉｎｎｅｒと呼ばれる）を設定する調整手段ＡＭを備える。さらに、これは一般的にコンデンサＣＯおよび積分器ＩＮといったような、他のさまざまな構成要素を備える。積分器ＩＮは、入射光をコンデンサＣＯに投影する。積分器ＩＮは、例えばクォーツ棒で形成することができ、ビームの断面にわたって投影ビームの輝度分布の改善に使用される。したがって、積分器は、投影ビームＰＢの照明の均一性を改善する。このようにして、マスクＭＡに照射するビームＰＢは、その断面にわたり所望する均一性と強度分布とを有する。

図１および図２に関して、ソースＬＡはリソグラフィ投影装置のハウジング内にあるが、リソグラフィ投影装置から離れていてもよいことを注記する。これが作り出す放射線ビームは（例えば適した誘導ミラーにより）装置内に導かれる。この後者のシナリオでは、ソースＬＡがエキシマレーザである場合が多い。本発明および請求の範囲はこれら両方のシナリオを網羅するものである。

図１では、パターン形成したビームの路に空間フィルタを配置し、したがって図１に示した例では、空間フィルタはマスクと基板間で投影ビームの方向の下流に配置される。図２では、空間フィルタは、投影ビームのソースとマスク間で投影ビームの方向の上流に配置される。したがって、本発明の実施形態によると、空間フィルタは、支持構造ＭＴ上に支持されたマスクによって反射または透過する前、またはその後に配置することができる。例えば、図９から図１２に関して説明する実施形態は、パターニング手段を支持する支持構造の上、またはパターニング手段を支持する支持構造の下に配置してよい。

投影ビームまたはパターン形成したビームのうち、投影ビームまたはパターン形成したビームを遮断する空間フィルタの区域にある部分は、反射または吸収されることが好ましい。投影ビームまたはパターン形成したビームのうち、投影ビームまたはパターン形成したビームを遮断する空間フィルタの区域に入らない部分のみが透過される。空間フィルタは以下で述べるように構成される。しかし一般的に、空間フィルタは「スリット」を形成する。以下で検討するように、マスキングデバイスは、投影ビームが通過するスリットの寸法を制御するよう制御可能である。空間フィルタは、マスクの近傍に配置することが好ましい。

図１に示すように空間フィルタを通過する前、または図２に示すように空間フィルタを通過した直後に、ビームＰＢは、マスクテーブルＭＴ上のマスクホルダに保持されたマスクＭＡと交差する。マスクＭＡを透過するか、それによって反射した後、パターン形成されたビームは、投影ビームがマスクＭＡと交差する前に既に空間的にフィルタリングされていなければ、図２に示すように空間的にフィルタリングされる。その後または他の方法で、ビームＰＢはレンズＰＬを通過し、これはビームＰＢを基板Ｗの目標部分Ｃに集束する。第二位置決め手段（および干渉計測定手段ＩＦ）の助けにより、例えばビームＰＢの路内で様々な目標部分Ｃを位置決めするよう、基板テーブルＷＴを正確に移動することができる。同様に、第一位置決め手段は、例えばマスクからマスクＭＡを機械的に検索した後に、あるいは走査中に、ビームＰＢの経路に対してマスクＭＡを正確に位置決めするように使用可能である。一般的に、オブジェクトテーブルＭＴ、ＷＴの運動はロングストロークモジュール（粗動位置決め）およびショートストロークモジュール（微動位置決め）または組み合わせたモジュールにて行われ、これについては図１に明示を行っていない。しかし、ウェハステッパの場合（走査ステップ式装置とは対照的に）、マスクテーブルＭＴはショートストロークアクチュエータに連結されるだけであるか、あるいは固定される。

図１および図２に示した装置は２つの異なるモードにて使用可能である。
１．ステップモードにおいては、マスクテーブルＭＴは基本的に静止状態に保たれ、そして、マスクの像全体が１回の作動（すなわち１回の「フラッシュ」）で目標部分Ｃに投影される。次に基板テーブルＷＴがｘ方向および／あるいはｙ方向にシフトされ、異なる目標部分ＣがビームＰＢにより照射され得る。
２．走査モードにおいては、基本的に同一シナリオが適用されるが、但し、ここでは、所定の目標部分Ｃが１回の「フラッシュ」では露光されない。代わって、マスクテーブルＭＴが、速度ｖにて所定方向（いわゆる「走査方向」、例えばＹ方向）に運動可能であり、それによって投影ビームＰＢがマスクの像を走査する。これと同時に、基板テーブルＷＴが速度Ｖ＝Ｍｖで、同一方向あるいは反対方向に運動する。ここで、ＭはレンズＰＬの倍率（一般的にＭ＝１／４あるいは１／５）である。このように、解像度を妥協することなく、比較的大きな目標部分Ｃを露光することが可能となる。本発明は、走査モードの使用時に特に適用可能である。走査露光では、マスクの一部が所定の長さだけブロックされる。

図３は、自身上に設けたマスクＭＡを有するマスクテーブルＭＴを平面図で示す。空間フィルタＳＦの第一実施形態も図示されている。空間フィルタは第一および第二フィルタリング手段を備える。フィルタリング手段は、パターン形成したビームの選択的遮断に適した複数のプレートまたはブレードまたは他の構造を備えることができる。空間フィルタは、パターン形成したビームの一部を選択的に遮断するよう構成された２枚の可動ブレード１０、２０を備えることが好ましい。ブレードは一緒に移動可能であり、マスクの走査方向でもあるＹ方向に分離する。

図３で示すように、ブレード１０、２０はマスクテーブルＭＴに機械的に結合され、したがって矢印で示す方向（つまり図３、図４および図５で示す左／右）に移動可能である。この結合は、例えばブレード１０、２０の細長い部分５０、６０と係合するリニアモータ３０、４０を介して達成される。

マスクテーブルＭＴはそれ自体、図３、図４および図５でリニアモータとして図示された位置決め手段ＰＭによって移動可能である。図示の構造は、空間フィルタＳＦがマスクテーブルＭＴと機械的に結合されているので、一緒に移動するよう働くことが明白になる。ブレードは、任意の適切な材料で作成することができ、これは一般に、放射線に耐えられる材料を備え、剛性かつ軽量である。アルミなどの金属またはセラミックが理想的である。というのは、これが、参照により本明細書に組み込まれる共願未公開欧州特許（出願人の参照番号Ｐ−１５６７．０００−ＥＰ）に記載されているように、空間フィルタ構造が自身内に１つまたは複数の冷却路を含むことができるという利点を有するからである。

他の実施形態では、空間フィルタＳＦは磁気または静電気でマスクテーブルＭＴに結合することができる。空間フィルタは取り外し可能であることが好ましい。あるいは、空間フィルタＳＦは、図７および図８に関して以下で述べるように、マスクテーブルＭＴではなく位置決め手段ＰＭのロングストロークまたはショートストロークモジュールに結合することができる。

従来のリソグラフィ装置では、ブレードを備える空間フィルタを、投影ビームのソースとパターニング手段の間で投影ビームの方向の上流に配置する。しかし、従来のリソグラフィ装置のさらなる問題は、走査機構の加速および減速段階のため、マスク（レチクル）に完全な黒い境界線がなく、そのため基板（ダイ）の隣接区域が照明されてしまうことである。これは、露光する区域（ダイ）のみを照明すべきであるので望ましくない。本発明の実施形態によると、この問題の解決法が判明し、これは放射線ビームのサイズをその縁で制限しない。露光する区域（ダイ）の縁部分が十分に照明されないからである。

空間フィルタは、パターン形成したビームの路に、つまりパターニング手段と基板との間で投影ビームの方向の下流に配置される。ビームの拡散を防止するため、空間フィルタは、マスクのすぐ隣に、可能な限りマスクに近づけて配置することが好ましい。この配置構成は、ビームがパターン形成される場所のすぐ近傍にビームが限定されるので、ビーム拡散効果が最小限に抑えられるという利点を提供する。したがって、加速および減速段階中でも、基板（ダイ）の隣接区域の照明が減少する。さらに、この解決法は、装置の費用または複雑さにさらに寄与しないという利点を有することができる。

したがって図３では、マスクテーブルＭＴ上に配置されたパターニング手段を、空間フィルタＳＦの上流に配置する。投影ビームの方向は、図示のようにＺ方向で紙の面に入る。

走査モードでは、走査中にマスクＭＡとともに移動できるようブレード１０、２０を配置することが好ましい。照明野のサイズの調節を容易にするため、ブレードはマスクＭＡに対して移動可能である。しかし、ステップモードではこれは通常、走査中または露光中には実行されず、露光と露光の間に実行される。

図４および図５は、本発明の空間フィルタの実施形態のＹ−Ｚ面における断面を示す。

図４では、空間フィルタＳＦを図３に示したように支持構造ＭＴに結合する。

図５では、空間フィルタＳＦを直接には支持構造ＭＴに結合しない。代わりに、図示の実施形態では空間フィルタを、第二位置決め手段ＰＭ’によってフレーム（例えば図１に図示）などのリソグラフィ装置の別の部分に取り付ける。位置決め手段ＰＭ’は、例えばリニアモータでよく、これは支持体７０を移動させる働きがあり、したがって空間フィルタＳＦは常にマスクに対して正しく位置合わせされる。この実施形態では、モータ３０、４０をなお使用して、ブレード１０、２０の位置を調節する。位置決め手段ＰＭ’は、位置決め手段ＰＭによってブレード１０、２０で実行するどの調節にも責任を負うよう働く。走査運動中にマスクＭＡと同じ速度でブレード１０、２０を移動させるため、適切なサーボ制御装置を設けることができる。

本発明のさらなる実施形態では、ブレード１０、２０はロボットアームなどの遠隔手段（図示せず）によって動作する。ロボットアームは、例えばマスクテーブルＭＴ上にマスクＭＡを配置するために設けたものと同じロボットアームでよい。特に、遠隔手段は、マスクテーブルＭＴに対してブレードを正しい位置に移動させ、さらにブレードがマスクテーブルＭＴと結合できるようにする。遠隔手段は、走査中は一般に能動的でないことも加えておく。

図６および図７は、本発明の実施形態の断面をＸ−Ｚ面で示す。

図６を参照すると、空間フィルタＳＦはパターニング手段ＭＡの下流側４に装着される。結合手段２も設けてあり、これはフィルタＳＦをパターニング手段またはパターニング手段支持構造と結合する働きをする。結合手段２は、フィルタをパターニング手段に着脱式に結合するよう制御可能である。あるいは、結合手段２は、空間フィルタＳＦを支持構造ＭＴの下流表面１６と結合するよう構成してもよい。フィルタの放射線通過区域の調節は、以下の方法で実現される。つまり、フィルタを支持構造ＭＴまたはパターニング手段ＭＡから切り離したら、支持構造を所望の走査位置へと移動させ、その後にロボットアーム（図示せず）によってフィルタを支持構造またはパターニング手段に結合する。結合手段は、クリップまたは変形可能な蝶番など、またはフィルタをパターニング手段ＭＡまたは支持構造ＭＴのいずれかの表面に取り付けるために適切な他の手段を備えることができる。

支持構造は、レチクルピン（図示せず）を備えることが好ましい。レチクルピンは、マスクテーブルへのマスクの装填および取り出しのプロセスに使用する。外部ロボットアームがマスクを引き込み式ピンに載せる。マスクがピン上の所定の位置に置かれたら、マスクテーブルの表面を通してピンを引っ込め、このようにしてマスクをマスクテーブルの表面上へと下げる。前述したように、外部ロボットアームは、再調節の目的でブレードを切り離すのにも適している。例えば、新しい像を露光する場合、新しい像が配置されるレチクル上の位置に、空間フィルタＳＦを配置し直す。これは、上述したロボットアームによって実行される。

図７を参照すると、空間フィルタＳＦは、支持構造の駆動システムＰＭのスピンドルシステム６、８上に、好ましくはロングストローク駆動モジュール１６上に装着される。一般的に、図面に示されたリソグラフィ装置には、マスクＭＡ、マスクテーブルＭＴおよびロングストロークモジュールが設けられる。マスクテーブルＭＴとロングストロークモジュールの間には、ショートストロークアクチュエータを備えるショートストロークモジュールを設けてもよい。ショートストロークアクチュエータは２つの部品を備える。通常、第一部品はマスクテーブルＭＴに取り付けられ、第二部品はロングストロークモジュールに取り付けられる。２つの部品は相互に接触しないことが好ましい。

スピンドルシステム６、８は、図７および図８に示した例のボルト８およびナット６などのスピンドルを備えることが好ましい。スピンドルシステム６、８の機能は、支持構造ＭＴ上に位置するパターニング手段に対してＹ方向でフィルタ１０の位置を調節することである。図示のように、フィルタ１０はマスクＭＡの下流側１４に装着される。スピンドル８はＹ方向に延在する。２つのスピンドル８ａ、８ｂを設けて、ブレード１０および／あるいは２０の対向する側にＸ方向の支持を提供する。ブレード１０および／あるいは２０のＹ方向での並進を実行するため、ボルト６を静止状態に維持しながらスピンドルを回転させる。スピンドルの回転を実行するには、これをロングストロークモジュールに接続する。

図８は、Ｘ−Ｙ面でロングストロークモジュール１６の平面図を示し、ここでＺ方向の投影ビームは紙の面から出るよう投影される。ロングストロークモジュール１６は、第一スピンドル８ａおよび第二スピンドル８ｂを備える。スピンドル８ａおよび８ｂには、それぞれねじ山８００ａ、８００ｂを設ける。ねじ山は、例えば正方形でよく、スピンドル８ａ、８ｂ上にある。それぞれスピンドル８ａおよび８ｂに設けたねじ山と一致するねじ山を有するナット６ａ、６ｂを設ける。第一ナット６ａは第一ブレード１０に接続する。第二ナット６ｂは第二ブレード２０に接続される。スピンドル８ａ、８ｂを回転すると、対応するナット６ａ、６ｂが動作し、それぞれ対応するブレード１０、２０を駆動する。ブッシュ２２ａ、２２ｂも設け、これは円筒形要素であることが好ましく、ねじ山の頂部上を滑動でき、したがってブレード１０、２０それぞれに支承機能を提供する。第一ブッシュ２２ａは、第一スピンドル８ａ上で滑動するよう構成され、第二ブレード２０に接続される。第二ブッシュ２２ｂは、第二スピンドル８ｂ上で滑動するよう構成され、第一ブレード１０に接続される。この方法で、第一フィルタ部分、ブレード１０は第一スピンドル８ａ上に支持され、第二フィルタ部分、ブレード２０は第二スピンドル８ｂ上に支持される。第一スピンドル８ａは第二フィルタ部分２０を誘導し、第二スピンドル８ｂは第一フィルタ部分１０を誘導する。上述したように、スライダー２２ａ、２２ｂとも呼ばれるブッシュがスピンドル上に配置され、スピンドルが回転すると、運動せずにスピンドルに沿って移動することができる。スライダー２２はブレード１０、２０に誘導表面を提供する。図８から、スピンドルの駆動と第一および第二フィルタ部分の誘導とが統合されていることが分かる。第一ブレードのスピンドル駆動は他方の誘導であり、その逆もある。スピンドルはセラミック材料を備えることが好ましい。スピンドルが特定の剛性を有する必要があるからである。

図９は、本発明の実施形態による空間フィルタＳＦのＸ−Ｙ面における平面図を示す。図示の空間フィルタは、図１および図２に示した装置に使用するのに適している。さらに、装置の任意の場所に配置することができる。しかし、これは好ましくは投影ビームの方向にパターニング手段のすぐ上流または下流で、投影ビームの路に配置することが好ましい。つまり、照明ユニットＩＬとパターニング手段の間、またはパターニング手段と基板Ｗの間に配置することが好ましい。いずれの場合も、パターニング手段の近傍、例えばすぐ上流またはすぐ下流が好ましい。この特定の配置構成は、ビームの開きを防止するという利点を提供する。

図９は、第一および第二対の空間フィルタリング手段１０、２０、９１、９２を備える空間フィルタを示す。フィルタリング手段は、（図１０で詳細に示すように）ブレード部分を設けた板状部分を備える。しかし通常、フィルタリング手段はブレード、好ましくは可動ブレードを備える。第一および第二対のフィルタリング手段を、投影ビームの路に配置する。第一対のフィルタリング手段１０、２０は、相互からある距離９３で配置され、これは走査の走査長を画定する。第二対の空間フィルタリング手段９１、９２は、同じ方向で相互からある距離９４に配置される。ブレードは走査方向に配置される。各フィルタリング手段の対は、相互に対して移動可能でよい。ブレード１０は例えば、ブレード２０に対して移動可能である。同様に、ブレード９２は、ブレード９１に対して方向９５にて支持部分９０に沿って移動可能である。第二対の空間フィルタリング手段は、投影ビームの投影方向で第一対の空間フィルタリング手段の下流に配置することが好ましい。さらに図１および図２の照明システムＩＬによって、投影ビームは焦点面に集束し、第一および第二対の空間フィルタリング手段は焦点面に配置することが好ましい。

実施形態では、第二対のフィルタリング手段はＵ字形部分９１、９８、９９を備える。Ｕ字形部分はブレード９２を支持するが、追加のブレード支持手段も設けることができる。Ｕ字形部分の中央部分９１は、第二対の第二ブレードを形成する。図９から第二対のフィルタリング手段のＵ字形部分の部分９８、９９は、Ｘ方向の距離を画定する。本発明の実施形態では、Ｘ方向にブレード間で画定された距離は、Ｘ方向の露光窓である。しかし、別の実施形態では、この距離は必ずしも露光窓を画定せず、追加のブレードセット（図示せず）を設けてこの機能を果たす。その場合、部分９８、９９は必要ないことがある。図示の実施形態のブレードは、図３から図８に示したブレードに関して説明した材料を備えることが好ましい。

第二対のフィルタリング手段は、使用時には第一対の空間フィルタリング手段に対して走査方向で移動するよう構成される。そうすることで、走査投影ビームがフィルタリング手段を透過する。第二対のフィルタリング手段の動作は、図９に示すような機械的手段によって達成され、マスクテーブルのロングストロークモジュール１６に接続されたカンチレバー機構９７は、Ｕ字形部分９０、９８、９９およびブレード９２をマスクと同期させてＹ方向で移動するよう構成される。あるいは、第二動作を電気的に駆動することができ、動作するブレード対に、マスクテーブルのロングストロークモジュール１６と電気的に同期するアクチュエータシステム（図示せず）を設ける。

使用時には、第一セットのブレード１０、２０を、例えば装置のフレームなどに固定するが、ブレード間の距離は走査ごとに調節することができる。第二セットのブレード９０、９８、９９、９２は、パターニング手段と同期して動作するよう構成される。ブレード間の距離は、各走査中、一定に維持される。装置内で投影ビームに対する空間フィルタの位置に応じて、パターニング手段と第二対のフィルタリング手段間に特定のギア比が必要であることが理解される。

この配置構成は、第二対のフィルタリング手段が移動しても、ブレードの大きい加速および減速が回避されるという利点を提供する。ブレード９２の先縁１０１がブレード１０の縁１０５を通過するにつれ、ブレード９１および９２がＹ方向に、つまり図９で示す右方向に移動すると仮定すると、走査窓が開放段階を開始し、ブレード９１の先縁１０２がブレード１０上を通過すると、走査ブレードが全開する。ブレード９２の先縁１０１がブレード２０の先縁１０６を通過すると、走査窓が閉鎖段階を開始し、ブレード９１の先縁１０２がブレード２０の縁１０６を通過すると、走査窓が全閉する。第一粋のフィルタリング手段のブレード間距離９３は、走査長さを画定する。第二対のフィルタリング手段のブレード間距離は、スリット幅を画定する。Ｕ字形部分９８、９９のアーム間距離は制御可能である。一つの実施形態では、この距離が走査ビームのスリット高さを画定する。しかし、別の実施形態では、追加のＸブレードのセット（図示せず）によってスリット幅が決定される。

第二対のフィルタリング手段の寸法、特にＵ字形部分およびブレード９２の寸法は、特定の走査スリット幅および必要な走査長さによって決定される。例えば、迷光がパターニング手段または基板に衝突するのを回避するため、Ｕ字形部分のアームを接合する部分９１がＹ方向にさらに延在することができる。

図９に示す空間フィルタは、走査プロフィールを制御するコンピュータなどの制御手段１１０も含むことが好ましい。これは、制御手段から第一および第二フィルタリング手段および第二フィルタリング手段の駆動機構に送信された制御信号によって達成される。

図１０は、図９の第一対１０、２０および第二対９１、９２のフィルタリング手段の断面をＹ−Ｚ面で示す。特に、図１０は、フィルタリング手段が板状構造を備えることを示し、これは一方端にブレード部分を有することが好ましい。しかし当技術分野では、この組合せ構造を往々にして「ブレード」と呼ぶ。図１０は、第一ブレード１０、２０間の距離９３が走査長さを画定し、第二ブレード９１、９２間の距離９４が走査スリット幅を画定することも示す。

図１１および図１２は、本発明のさらなる実施形態を示す。この実施形態で図示された空間フィルタ１２０、１３０は、図１および図２に示した装置に適用可能である。しかし、図１１および図１２に示した空間フィルタを組み込むために装置の構成要素に多少の調節が必要であることが理解される。

前述したように、従来の空間フィルタの、特に走査モードでの問題は、可動ブレードが極めて高速の加速および減速が必要であり、それが装置の正確さを脅かす装置の動的障害を引き起こし得ることである。さらに、従来の空間フィルタ、特に幾つかの可動構成要素を有するフィルタは、動作する空間を必要とし、これはリソグラフィ装置では、特にＥＵＶ範囲で動作する装置にはほとんどない。

可動ブレード構成を有する従来の空間フィルタは、空間フィルタが、投影ビーム遮断状態と投影ビーム透過状態との間で選択的に切り換え可能なアレイ状の要素を備える場合、省略することができる。つまり、空間フィルタを局所的に透明か局所的に反射性および／あるいは吸収性にできる場合、従来の空間フィルタの可動ブレードは回避することができる。

図１１および図１２は、リソグラフィ投影装置に適用した状態の本発明のこの態様の実施形態を示す。装置は、
− 放射線の投影ビームＰＢを供給する放射線システムＥｘ、ＩＬと、
− 投影ビームの一部を選択的に遮断するため設けた空間フィルタ１２０、１３０と、
− マスクＭＡを保持するためにマスクホルダが設けられ、品目ＰＬに対してマスクを正確に位置決めする第一位置決め手段に接続された第一オブジェクトテーブル（マスクテーブル）と、
− 基板Ｗを保持するために基板ホルダが設けられ、品目ＰＬに対して基板を正確に位置決めする第二位置決め手段に接続された第二オブジェクトテーブル（基板テーブル）と、
− マスクＭＡの照射部分を基板Ｗの目標部分Ｃ（１つまたは複数のダイを備える）に描像する投影システム（「レンズ」）とを備える。

図１１および図１２は透過タイプ（つまり透過マスクを有する）装置を示す。しかし一般的に、これは例えば（反射マスクを有する）反射タイプでよい。あるいは、本装置は、上記に関連するタイプであるプログラマブルミラーアレイといったような、他の種類のパターニング手段も使用可能である。リソグラフィ装置の操作は、図１および図２に関して以上で概略されている。

放射線システムは任意選択で、照明装置ＩＬとマスクＭＡの間に配置されたリーマレンズＲＬを含む。リーマレンズは、リソグラフィ装置に装着されたアセンブリで、通常は拡張光学系、投影ビームをマスクへ配向するミラー、さらなるコンデンサレンズおよび投影レンズ、例えばユニコムを含む。リーマレンズＲＬの機能は、リーマ「像」面をレチクルマスクの「焦点」面に鮮明に描像することである。したがって、リーマレンズは、十分に小さい縁幅を有するマスキング像の縁を描像し、投影ビームの入射ひとみと一致させ、マスクの均一な照明を提供するよう機能する。

図１１では、照明ユニットＩＬから出る投影ビームは、アレイ状の要素１２０、好ましくはマイクロメカニカルミラーアレイに入射する。アレイは、複数の個々にアドレス可能なマイクロミラー１２１を備える２次元である。アレイ１２０は、透過状態でミラーに入射する光が、支持構造ＭＴに配置されたパターニング手段に向かって反射され、遮断状態でミラーに入射する光が、パターニング手段以外へと反射するよう、装置内に配置される。空間フィルタ１２０は、さらにアドレス可能ミラーを制御するコンピュータなどの制御手段１４０をさらに含むことが好ましい。

マイクロメカニカルミラーばかりでなく、アレイは、電気的に切り換え可能なミラー、つまり液晶アレイなどの透過状態と反射状態とで電気的に切り換え可能なミラーを備えることができる。この場合、アレイは、入射投影ビームに対して傾斜するのではなく、マイクロメカニカルミラーアレイの場合と同様、それに直角の面に配置される。

図１２は、さらなる実施形態によるアレイを備える空間フィルタを示す。図１２では、照明ユニットＩＬから出る投影ビームが、複数のアドレス可能ラメラ１３０を備える空間フィルタに入射する。アレイは、走査方向に延在する１次元アレイのエレメントである。各ラメラは、投影ビーム透過位置と投影ビーム遮断位置との間で移動可能である。遮断位置では、投影ビームは隣接するエレメント間を透過することができない。ラメラは、第一ラメラが遮断状態にあり、さらに第二ラメラが第一ラメラに隣接している場合、ラメラが相互に重なるよう構成される。アレイは、ベネチアンブラインドの構成として説明することができる。空間フィルタ１３０は、アレイを起動するために個々のラメラを制御するコンピュータなどの制御手段１５０も備えることが好ましい。

図１１および図１２に示す実施形態は、静止モードと走査モードの両方で装置に適用可能であるが、走査モードに特定の用途を有する。特に、マイクロメカニカルミラーは、非常に高速で切り換え可能であり、これにより走査速度が上昇する。図１１および図１２に示す構成は、従来の空間フィルタに対してコンパクトで汎用性のある解決法を提供する。

以上、本発明の特定の実施形態を説明したが、説明とは異なる方法でも本発明を実践できることが理解される。本説明は本発明を制限する意図ではない。

本発明の実施形態によるリソグラフィ投影装置を示す。 本発明のさらなる実施形態によるリソグラフィ投影装置を示す。 自身上に設けた空間フィルタの第一の実施形態を有するマスクテーブルのＸ−Ｙ面における平面図を示す。 図３のマスクテーブルおよび空間フィルタのＹ−Ｚ面における断面を示す。 自身上に設けた空間フィルタの第二の実施形態を有するマスクテーブルのＹ−Ｚ面における断面を示す。 本発明の実施形態による空間フィルタを有するマスクテーブルのＸ−Ｚ面における側面図を示す。 さらなる実施形態による空間フィルタを有するマスクテーブルのＸ−Ｚ面における側面図を示す。 図７に示したような空間フィルタの態様のＸ−Ｙ面における平面図を示す。 本発明のさらなる実施形態による空間フィルタＳＦのＸ−Ｙ面における平面図を示す。 図９に示した空間フィルタＳＦのＹ−Ｚ面における断面を示す。 本発明のさらなる実施形態による空間フィルタを示す。 本発明のさらなる実施形態による空間フィルタを示す。

Claims (41)

1. リソグラフィ投影装置で、
   − 放射線の投影ビームを供給する放射線システムと、
   − パターニング手段を支持する支持構造とを備え、パターニング手段が、所望のパターンに従って投影ビームにパターンを形成する働きをし、さらに、
   − 基板を保持する基板テーブルと、
   − パターン形成したビームを基板の目標部分に投影する装置システムとを備え、前記パターン形成したビームの一部を選択的に遮断する空間フィルタを特徴とするリソグラフィ装置。
2. 前記支持構造および前記基板テーブルが、相互から独立して駆動可能である、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
3. 前記支持構造および前記基板テーブルが相互に対して移動可能であり、したがって前記目標部分における前記像の寸法が、前記パターニング手段上の対応するパターンの寸法に対して変化する、請求項１または２に記載のリソグラフィ装置。
4. 前記空間フィルタが、前記支持構造の近傍に、それとともに移動可能であるよう配置される、請求項１から３のいずれか１項に記載のリソグラフィ投影装置。
5. 前記空間フィルタが、前記支持構造に対して投影ビームの方向で下流に配置される、請求項１から４のいずれか１項に記載のリソグラフィ投影装置。
6. 前記空間フィルタが可動ブレードを備える、請求項１から５のいずれか１項に記載のリソグラフィ投影装置。
7. 前記可動ブレードが、ともに移動し、Ｙ方向に分離するよう構成された１対のブレードを備える、請求項６に記載のリソグラフィ投影装置。
8. 前記空間フィルタが前記支持構造に結合される、請求項１から７のいずれか１項に記載のリソグラフィ投影装置。
9. 前記支持構造が、パターニングマスクを保持するマスクテーブルを備え、前記マスクテーブルが、第一位置決め手段を使用して移動可能である、請求項１から８のいずれか１項に記載のリソグラフィ投影装置。
10. 前記第一位置決め手段がロングストロークモジュールを備える、請求項９に記載のリソグラフィ投影装置。
11. 前記空間フィルタが前記第一位置決め手段に装着される、請求項９または１０に記載のリソグラフィ投影装置。
12. 前記ロングストロークモジュールが第一スピンドルおよび第二スピンドルを備え、第一ブレードが前記第一スピンドル上に支持され、第二ブレードが前記第二スピンドル上に装着されて、前記第一スピンドルが前記第二ブレードを誘導し、前記第二スピンドルが前記第一ブレードを誘導する、請求項１１に記載のリソグラフィ投影装置。
13. 前記空間フィルタが、機械的または静電気でまたは磁気で前記パターニング手段に結合される、請求項１から１２のいずれか１項に記載のリソグラフィ投影装置。
14. 前記空間フィルタが着脱自在に前記支持構造に結合可能である、請求項１から１３のいずれか１項に記載のリソグラフィ投影装置。
15. 空間フィルタを前記支持構造に着脱自在に結合し、切り離すためにロボットアームを備える、請求項１４に記載のリソグラフィ投影装置。
16. デバイス製造方法で、
    − 放射線感光材料の層で少なくとも部分的に覆われた基板を設けるステップと、
    − 放射線システムを使用して放射線の投影ビームを設けるステップと、
    − パターニング手段を支持する支持構造を設け、前記パターニング手段を使用して投影ビームの断面にパターンを与えるステップと、
    − 放射線感光材料の層の目標部分にパターン形成した放射線ビームを投影するステップとを含み、前記パターン形成したビームを選択的に遮断するために空間フィルタを使用することを特徴とする方法。
17. リソグラフィ投影装置で、
    − 放射線の投影ビームを提供する照明システムと、
    − パターニング手段を支持する支持構造とを備え、パターニング手段が、所望のパターンに従って投影ビームにパターンを形成する働きをし、さらに、
    − 基板を保持する基板テーブルと、
    − パターン形成した投影ビームを基板の目標部分に描像する投影システムと、
    − 前記投影ビームの一部を選択的に遮断する空間フィルタとを備え、前記空間フィルタが、投影ビームの路に配置された第一および第二対の空間フィルタリング手段を備え、前記第一対の空間フィルタリング手段が、ある方向で相互から所定の距離に配置され、前記だ２対の空間フィルタリング手段が、同じ方向で相互から所定の距離で配置され、前記第二対の空間フィルタリング手段が、前記方向で前記第一対の空間フィルタリング手段に対して移動し、前記投影ビームに前記方向で走査させるよう構成されることを特徴とするリソグラフィ投影装置。
18. 前記第一および第二空間フィルタリング手段がブレードを備える、請求項１７に記載のリソグラフィ投影装置。
19. 前記ブレードが移動可能である、請求項１８に記載のリソグラフィ投影装置。
20. 前記可動ブレードが、ともに移動し、Ｙ方向に分離するよう構成された、請求項１９に記載のリソグラフィ投影装置。
21. ともに移動し、Ｙ方向に分離するよう構成された前記第一対の空間フィルタリング手段の前記ブレードが、前記支持構造に結合される、請求項２０に記載のリソグラフィ投影装置。
22. ともに移動し、Ｙ方向に分離するよう構成された前記第一対の空間フィルタリング手段の前記ブレードが、リソグラフィ投影装置のフレームに結合され、追加的にそれに対してＹ方向に移動するようそれぞれ構成される、請求項２０に記載のリソグラフィ投影装置。
23. 前記第一対の空間フィルタリング手段間の距離が、走査長さを画定する、請求項１７から２２のいずれか１項に記載のリソグラフィ投影装置。
24. 前記第二対の空間フィルタリング手段間の距離が、走査スリット幅を画定する、請求項１７から２３のいずれか１項に記載のリソグラフィ投影装置。
25. 前記第二対の空間フィルタリング手段が、前記投影ビームの投影方向に前記第一対の空間フィルタリング手段の下流に配置される、請求項１７から２４のいずれか１項に記載のリソグラフィ投影装置。
26. 前記照明システムにより、前記投影ビームが所定の焦点面に集束し、前記第一および第二対の空間フィルタリング手段が前記焦点面の領域に配置される、請求項１７から２５のいずれか１項に記載のリソグラフィ投影装置。
27. 前記第一および第二空間フィルタリング手段が前記支持構造の近傍に配置される、請求項１７から２６のいずれか１項に記載のリソグラフィ投影装置。
28. 前記第一空間フィルタリング手段が、前記照明システムと前記支持構造の間に配置される、請求項２７に記載のリソグラフィ投影装置。
29. 前記第一空間フィルタリング手段が、前記支持構造と前記投影システムとの間に配置される、請求項２７に記載のリソグラフィ投影装置。
30. それぞれ第一および第二対の空間フィルタリング手段間の距離、および前記第一、第二空間フィルタリング手段間の相対運動により、所定の走査プロフィールを実行することができる、請求項１７から２９のいずれか１項に記載のリソグラフィ投影装置。
31. デバイス製造方法で、
    − 放射線感光材料の層で少なくとも部分的に覆われた基板を設けるステップと、
    − 放射線システムを使用して放射線の投影ビームを設けるステップと、
    − パターニング手段を支持する支持構造を設け、前記パターン手段を使用して投影ビームの断面にパターンを与えるステップと、
    − 放射線感光材料の層の目標部分にパターン形成した放射線ビームを投影するステップと、
    − 前記投影ビームの一部を選択的に遮断するステップとを含み、
    前記選択的に遮断するステップが、
    投影ビームの路に配置された第一および第二対の空間フィルタリング手段を使用することを含み、前記第一対の空間フィルタリング手段が、ある方向で相互から所定の距離に配置され、前記第二対の空間フィルタリング手段が、同じ方向で相互から所定の距離に配置され、さらに投影ビームに前記方向で走査させるため、前記方向で前記第一対の空間フィルタリング手段に対して前記第二対の空間フィルタリング手段を移動させることを含むことを特徴とする方法。
32. リソグラフィ投影装置で、
    − 放射線の投影ビームを提供する照明システムと、
    − パターニング手段を支持する支持構造とを備え、パターニング手段が、所望のパターンに従って投影ビームにパターンを形成する働きをし、さらに、
    − 基板を保持する基板テーブルと、
    − パターン形成したビームを基板の目標部分に描像する投影システムと、
    − 前記投影ビームの一部を選択的に遮断する空間フィルタとを備え、
    前記空間フィルタが、投影ビーム遮断状態と投影ビーム透過状態との間で選択的に切り換え可能なアレイ状の要素を備えることを特徴とするリソグラフィ投影装置。
33. 前記要素が切り換え可能なミラーまたは調整可能な格子を備え、これが前記透過状態では前記投影ビームを前記基板へと反射し、前記遮断状態では前記投影ビームを前記基板から離れるように反射させる、請求項３２に記載のリソグラフィ投影装置。
34. 前記アレイが複数のラメラを備える、請求項３２に記載のリソグラフィ投影装置。
35. 前記要素は、使用時に前記遮断位置で投影ビームが、隣接する要素間で透過するのを防止されるよう構成される、請求項３２から３４のいずれか１項に記載のリソグラフィ投影装置。
36. 前記ラメラの一つは、前記ラメラの前記一つおよびその隣接ラメラが前記遮断状態にある場合に、前記ラメラと重なるよう構成される、請求項３４に記載のリソグラフィ投影装置。
37. 前記要素がベネチアンブラインドの構成で配置される、請求項３２、請求項３４、請求項３５または請求項３６に記載のリソグラフィ投影装置。
38. リソグラフィ装置に衝突する投影ビームまたはリソグラフィ装置内のパターニング手段の一部を選択的に遮断するか、リソグラフィ装置内でパターン形成したビームの一部を選択的に遮断するために、アレイ内での切り換え可能な要素の使用。
39. デバイス製造方法で、
    − 放射線感光材料の層で少なくとも部分的に覆われた基板を設けるステップと、
    − 照明システムを使用して放射線の投影ビームを設けるステップと、
    − パターニング手段を支持する支持構造を設け、前記パターニング手段を使用して投影ビームの断面に断面を与えるステップと、
    − 放射線のパターン形成したビームを放射線感光材料の層の目標部分に投影するステップと、
    − 空間フィルタを使用して、前記投影ビームの一部を選択的に遮断するステップとを含み、
    前記選択的に遮断するステップが、
    投影ビーム透過状態と投影ビーム遮断状態との間でアレイ状の要素を選択的に切り換えることを含むことを特徴とする方法。
40. 前記投影ビームが、約５０ｎｍ未満、好ましくは８から１６ｎｍの波長を有するＥＵＶ放射線である、請求項１から１５、１７から３０のいずれか１項に記載のリソグラフィ投影装置。
41. コンピュータ上で実行すると、コンピュータを制御して、請求項１６、３１または３９のいずれか１項に記載の方法を実行するプログラムを記憶する、コンピュータで読み取り可能な記憶媒体。

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