CN105549321B - 一种掩模板罩及掩模板 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及显示制造领域,公开一种掩模板罩及掩模板。掩模板罩,包括支架和至少一个调节单元,每个所述调节单元包括遮挡板和驱动组件,所述支架具有与至少一个所述调节单元对应设置的开口部,其中,每一对相互对应的开口部和调节单元中:所述遮挡板处于初始状态时收纳于所述开口部的一侧;所述驱动组件安装于所述支架、且与所述遮挡板的第一端连接,所述驱动组件可带动所述遮挡板的第一端沿第一方向运动以使所述遮挡板的至少一部分从所述开口部的一侧释放,以沿所述第一方向调节所述遮挡板覆盖所述开口部的大小。该掩模板罩可在同一掩模板上形成多种大小不同的图形区域,减少了测试过程中的掩模板使用数量,简化了显示面板的生产工序。
Description
技术领域
本发明涉及显示制造领域,特别涉及一种掩模板罩及掩模板。
背景技术
在显示面板的制备过程中常采用光刻技术或蒸镀技术,在光刻工艺和蒸镀工艺中均需采用掩摸板。掩模板上形成有用于透光或透过蒸镀气体的图形区域,以在基板上形成所需的光刻图形或蒸镀图形。
在显示面板的生产过程中,如需在同一基板上的不同区域内形成厚度不同的光刻图形或蒸镀图形,需使用多张具有不同大小的图形区域的掩膜板,增加了显示面板的生产工序。
发明内容
本发明提供了一种掩模板罩及掩模板,该掩模板罩可在同一掩模板上形成多种大小不同的图形区域,减少了测试过程中的掩模板使用数量,简化了显示面板的生产工序。
为实现上述目的,本发明提供如下的技术方案:
一种掩模板罩,包括支架和至少一个调节单元,每个所述调节单元包括遮挡板和驱动组件,所述支架具有开口部,所述开口部的至少一部分与所述调节单元对应设置,其中,每一对相互对应的开口部和调节单元中:
沿第一方向,所述遮挡板处于初始状态时收纳于所述开口部的一侧;所述第一方向与所述开口部的延展平面平行;
所述驱动组件安装于所述支架、且与所述遮挡板的第一端连接,所述驱动组件可带动所述遮挡板的第一端沿第一方向运动以使所述遮挡板的至少一部分从所述开口部的一侧释放,以沿所述第一方向调节所述遮挡板覆盖所述开口部的大小。
该掩模板罩中包括支架和调节单元,通过驱动组件可调节遮挡板覆盖所述开口部面积的大小,在显示面板的生产过程中,可通过调整遮挡板覆盖开口部的区域的面积大小,使掩模板罩上形成大小不同的开口部,从而改变与该掩模板罩配合的掩模板上的图形区域的开口大小,以使一张掩模板可提供多个大小不同的图形区域,进而实现在基板上的不同区域内形成厚度不同的材料。综上可知,该掩模板罩可减少显示面板的生产过程中使用的掩模板的数量,简化了显示面板的生产工序。
优选地,所述支架上设有当所述遮挡板处于初始状态时用于收纳所述遮挡板的收纳组件。
优选地,所述收纳组件包括遮挡板转轴,所述遮挡板转轴的轴心线与所述第一方向垂直、且与所述开口部的延展平面平行,所述遮挡板的第二端与所述遮挡板转轴连接、且所述遮挡板处于初始状态时缠绕于所述遮挡板转轴。
优选地,所述收纳还包括与所述遮挡板转轴连接的复位机构,所述复位机构用于驱动所述遮挡板转轴转动,以使所述遮挡板缠绕于所述遮挡板转轴。
优选地,所述复位机构为与所述遮挡板转轴连接的发条弹簧或电机。
优选地,所述收纳组件包括设置于所述开口部一侧的容纳腔,所述遮挡板处于初始状态时收纳于所述容纳腔内。
优选地,所述驱动组件包括驱动转轴、电机和至少一条连接线,其中,
沿所述第一方向,所述驱动转轴位于所述开口部背离所述遮挡板转轴的一侧、且与所述遮挡板转轴平行;
所述电机安装于所述支架且与所述驱动转轴连接以驱动所述驱动转轴绕其轴心线转动;
所述连接线的第一端固定于所述驱动转轴,所述连接线的第二端与所述遮挡板的第一端连接,所述连接线可在所述驱动转轴的转动下缠绕于所述驱动转轴,以使所述遮挡板的第一端沿所述第一方向动作。
优选地,所述连接线为两条,且沿第二方向,两条所述连接线分别位于所述开口部的延伸方向上的两侧,所述第二方向与所述第一方向垂直、且与所述开口部的延展平面平行。
优选地,每个所述调节单元中,所述支架的开口部为长方形开口,且所述开口部沿所述第一方向延伸,其中,所述开口部中沿垂直于所述第一方向排列的两个侧壁上分别设有一个滑槽,且所述开口部两个侧壁上设置的滑槽开口相对、且沿所述第一方向延伸;所述遮挡板沿垂直于所述第一方向排列的两个侧边的至少一部分位于所述滑槽内、且可相对于所述支架沿所述滑槽延伸方向滑动。
优选地,所述掩模板罩包括多个并排设置的调节单元,且多个所述调节单元的排列方向与所述第一方向垂直、且与所述开口部的延展平面平行。
本发明还提供了一种掩模板,包括如上所述的掩模板罩,每个所述掩模板罩上的开口部与所述掩模板上的图形区域的至少一部分对应设置。
该掩模板中的掩模板罩包括支架和调节单元,通过驱动组件可调节遮挡板覆盖所述开口部面积的大小,在显示面板的生产过程中,可通过调整遮挡板覆盖开口部的区域的面积大小,使掩模板罩上形成大小不同的开口部,从而改变与该掩模板罩配合的掩模板上的图形区域的开口大小,以使一张掩模板可提供多个大小不同的图形区域,进而实现在基板上的不同区域内形成厚度不同的材料。综上可知,该掩模板罩可减少显示面板的生产过程中使用的掩模板的数量,简化了显示面板的生产工序。
附图说明
图1是本发明具体实施方式提供的一种掩模板罩的结构示意图;
图2是本发明具体实施方式提供的一种掩模板罩在遮挡板处于初始状态时的结构示意图;
图3是图1所示的掩模板罩在C方向上的结构示意图;
图4是本发明具体实施方式提供的另一种掩模板罩的结构示意图;
图5是本发明具体实施方式提供的另一种掩模板罩的结构示意图;
图6是本发明具体实施方式提供的一种掩模板的结构示意图;
图7是本发明具体实施方式提供的一种掩模板的另一种结构示意图。
附图标记:
10,掩模板罩;11,支架;111,开口部;12,调节单元;
121,遮挡板;122,驱动组件;1221,驱动转轴;1222,连接线;
1223,电机;131,遮挡板转轴;20,掩模板本体;21,图形区域。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
如图1-图3所示,本发明具体实施方式提供了一种掩模板罩10,包括支架11和一个调节单元12,其中:
调节单元12包括遮挡板121和驱动组件122,遮挡板121为可折叠或卷曲的柔性结构;
支架11具有与调节单元12对应设置的开口部111,在应用于光刻工艺时,开口部111为形成于支架11上的可透光区域,在应用于蒸镀工艺时,开口部111为形成于支架11上的镂空区域。优选地,本实施例中的开口部111为形成于支架11上的镂空区域,以便于透光或通过蒸镀气体。
在对应设置的开口部111和调节单元12中:
如图2所示,沿第一方向A,遮挡板121处于初始状态时收纳于开口部111的一侧,第一方向A与开口部111的延展平面平行;
如图1所示,驱动组件122安装于支架11、且与遮挡板121的第一端连接,驱动组件122可带动遮挡板121的第一端沿第一方向A运动以使遮挡板121的至少一部分从开口部111的一侧释放,以沿第一方向A调节遮挡板121覆盖开口部111的大小。
该掩模板罩10中包括支架11和调节单元12,通过驱动组件122可调节遮挡板121覆盖开口部111面积的大小,在显示面板的生产过程中,可通过调整遮挡板121覆盖开口部111的区域的面积大小,使掩模板罩10上形成大小不同的开口部111,从而改变与该掩模板罩10配合的掩模板上的图形区域的开口大小,以使一张掩模板可提供多个大小不同的图形区域,进而实现在基板上的不同区域内形成厚度不同的材料。因此,该掩模板罩10可减少显示面板的生产过程中使用的掩模板的数量,简化了显示面板的生产工序。
上述实施方式中,每个开口部111对应设置有一个调节单元12,且遮挡板121可完全覆盖于开口部111,此外,开口部111和调节单元12还可如下方法对应设置:
如图4所示,开口部111的面积大于遮挡板121的面积,遮挡板121可覆盖于开口部111的一部分;
如图5所示,每个支架上设置有两个并排设置的调节单元,两个调节单元12的排列方向与第一方向A垂直、且与开口部111的延展平面平行;根据实际生产需求,调节单元还可为多个。
一种优选方式中,支架11上设有当遮挡板121处于初始状态时用于收纳遮挡板121的收纳组件,该收纳组件可采用如下方式实现:
实现方式一,如图3所示,收纳组件包括遮挡板转轴131,遮挡板转轴131的轴心线与第一方向A垂直,且与开口部111的延展平面平行,遮挡板121的第二端与遮挡板转轴131连接、且遮挡板121处于初始状态时缠绕于遮挡板转轴131。
优选地,本实现方式中的收纳组件还包括与遮挡板转轴131连接的复位机构,复位机构用于驱动遮挡板转轴131转动,以使遮挡板121缠绕于遮挡板转轴131。优选地,复位机构为与遮挡板转轴131连接的发条弹簧或电机。
在遮挡板121的第一端被驱动组件122带动沿第一方向A覆盖于开口部111时,遮挡板121的至少一部分从遮挡板转轴131上退绕,复位机构可驱动遮挡板转轴131转动,以使遮挡板121缠绕于遮挡板转轴131,从而带动遮挡板121的第一端沿方向B运动,使遮挡板121覆盖于开口部111的面积减小,进而使遮挡板121恢复初始状态。
实现方式二,收纳组件包括设置于开口部111一侧的容纳腔,遮挡板121处于初始状态时收纳于容纳腔内,具体地,遮挡板121可通过卷曲或折叠收纳于容纳腔内。
如图1、图2和图3所示的一种优选方式中,驱动组件122包括驱动转轴1221、电机1223和两条连接线1222,其中,
沿第一方向A,驱动转轴1221位于开口部111背离遮挡板转轴131的一侧、且与遮挡板转轴131平行;
电机1223安装于支架11且与驱动转轴1221连接以驱动驱动转轴1221绕其轴心线转动;
连接线1222的第一端固定于驱动转轴1221,连接线1222的第二端与遮挡板121的第一端连接,连接线1222可在驱动转轴1221的转动下缠绕于驱动转轴1221,以使遮挡板121的第一端沿第一方向A动作。
连接线1222至少可为一条,优选地,为提高遮挡板121的第一端的运动稳定性,且避免连接线遮挡开口部111,连接线1222为两条,且沿第二方向,两条连接线1222分别位于开口部111的延伸方向上的两侧,第二方向与第一方向A垂直且与开口部111的延展平面平行。
如图1所示的一种优选方式中,支架11的开口部111为长方形开口,且开口部111沿第一方向A延伸;为提高遮挡板121的第一端的运动稳定性,每个调节单元12中,支架11开口部111中沿垂直于第一方向A排列的两个侧壁上分别设有一个滑槽(图中未示出),且开口部111两个侧壁上设置的滑槽开口相对、且沿第一方向A延伸;遮挡板121沿垂直于第一方向A排列的两个侧边的至少一部分位于滑槽内、且可相对于支架11沿滑槽延伸方向滑动。
如图6和图7所示,本发明还提供了一种掩模板,包括上述的掩模板罩10,还包括掩模板本体20,掩模板本体20上形成有图形区域21,每个掩模板罩10上的开口部111与掩模板上的图形区域21对应设置。
掩模板罩10上的开口部111与掩模板上的图形区域21对应设置方式可如图6所示,掩模板上的图形区域21全部对应设置有掩模板罩10,也可如图7所示,掩模板上的图形区域21的一部分对应设置有掩模板罩10。
该掩模板罩10中包括支架11和调节单元12,通过驱动组件122可调节遮挡板121覆盖开口部111面积的大小,在显示面板的生产过程中,可通过调整遮挡板121覆盖开口部111的区域的面积大小,使掩模板罩10上形成大小不同的开口部111,从而改变与该掩模板罩10配合的掩模板上的图形区域的开口大小,以使一张掩模板可提供多个大小不同的图形区域,进而实现在基板上的不同区域内形成厚度不同的材料。因此,该掩模板罩10可减少显示面板的生产过程中使用的掩模板的数量,简化了显示面板的生产工序。
显然,本领域的技术人员可以对本发明实施例进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样,倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内,则本发明也意图包含这些改动和变型在内。
Claims (8)
1.一种掩模板罩,其特征在于,包括支架和至少一个调节单元,每个所述调节单元包括遮挡板和驱动组件,所述支架具有开口部,所述开口部的至少一部分与所述调节单元对应设置;其中,每一对相互对应的开口部和调节单元中:
沿第一方向,所述遮挡板处于初始状态时收纳于所述开口部的一侧;所述第一方向与所述开口部的延展平面平行;
所述驱动组件安装于所述支架、且与所述遮挡板的第一端连接,所述驱动组件可带动所述遮挡板的第一端沿第一方向运动以使所述遮挡板的至少一部分从所述开口部的一侧释放,以沿所述第一方向调节所述遮挡板覆盖所述开口部的大小;
所述支架上设有当所述遮挡板处于初始状态时用于收纳所述遮挡板的收纳组件;
所述收纳组件包括遮挡板转轴,所述遮挡板转轴的轴心线与所述第一方向垂直、且与所述开口部的延展平面平行,所述遮挡板的第二端与所述遮挡板转轴连接、且所述遮挡板处于初始状态时缠绕于所述遮挡板转轴。
2.根据权利要求1所述的掩模板罩,其特征在于,所述收纳组件还包括与所述遮挡板转轴连接的复位机构,所述复位机构用于驱动所述遮挡板转轴转动,以使所述遮挡板缠绕于所述遮挡板转轴。
3.根据权利要求2所述的掩模板罩,其特征在于,所述复位机构为与所述遮挡板转轴连接的发条弹簧或电机。
4.根据权利要求1所述的掩模板罩,其特征在于,所述驱动组件包括驱动转轴、电机和至少一条连接线,其中,
沿所述第一方向,所述驱动转轴位于所述开口部背离所述遮挡板转轴的一侧、且与所述遮挡板转轴平行;
所述电机安装于所述支架且与所述驱动转轴连接以驱动所述驱动转轴绕其轴心线转动;
所述连接线的第一端固定于所述驱动转轴,所述连接线的第二端与所述遮挡板的第一端连接,所述连接线可在所述驱动转轴的转动下缠绕于所述驱动转轴,以使所述遮挡板的第一端沿所述第一方向动作。
5.根据权利要求4所述的掩模板罩,其特征在于,所述连接线为两条,且沿第二方向,两条所述连接线分别位于所述开口部的延伸方向上的两侧,所述第二方向与所述第一方向垂直、且与所述开口部的延展平面平行。
6.根据权利要求1所述的掩模板罩,其特征在于,每个所述调节单元中,所述支架的开口部为长方形开口,且所述开口部沿所述第一方向延伸,其中,所述开口部中沿垂直于所述第一方向排列的两个侧壁上分别设有一个滑槽,且所述开口部两个侧壁上设置的滑槽开口相对、且沿所述第一方向延伸;所述遮挡板沿垂直于所述第一方向排列的两个侧边的至少一部分位于所述滑槽内、且可相对于所述支架沿所述滑槽延伸方向滑动。
7.根据权利要求1-6任一项所述的掩模板罩,其特征在于,所述掩模板罩包括多个并排设置的调节单元,且多个所述调节单元的排列方向与所述第一方向垂直、且与所述开口部的延展平面平行。
8.一种掩模板,其特征在于,包括如权利要求1-7任一项所述的掩模板罩,每个所述掩模板罩上的开口部与所述掩模板上的图形区域的至少一部分对应设置。
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CN108873597A (zh) * | 2018-06-26 | 2018-11-23 | 南京中电熊猫液晶显示科技有限公司 | 一种掩膜版及配向曝光方法 |
CN109920931B (zh) * | 2019-03-04 | 2022-08-26 | 荣耀终端有限公司 | 显示终端、掩膜组件、蒸镀系统及其控制方法 |
CN109972086B (zh) * | 2019-03-14 | 2021-12-28 | 昆山国显光电有限公司 | 用于掩膜板的辅助配件及掩膜板组件 |
CN110846614B (zh) * | 2019-11-21 | 2022-03-25 | 昆山国显光电有限公司 | 一种掩膜版和蒸镀系统 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5151928A (en) * | 1990-08-31 | 1992-09-29 | Shimadzu Corporation | Method and apparatus for generating x rays |
US6597002B1 (en) * | 1998-06-02 | 2003-07-22 | Nikon Corporation | Scanning exposure apparatus and its making method, and device manufacturing method |
CN102466963A (zh) * | 2010-11-12 | 2012-05-23 | 北京京东方光电科技有限公司 | 一种掩膜版及一种掩膜曝光的方法 |
CN105045032A (zh) * | 2015-08-27 | 2015-11-11 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种掩模板、隔垫物及显示装置 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5203392A (en) * | 1992-03-30 | 1993-04-20 | Anchuan Corporation | Mechanism for controlling the raising and lowering of a door |
US5780861A (en) * | 1996-11-26 | 1998-07-14 | Advanced Micro Devices, Inc. | Adjustable blade reticle assembly |
US6566018B2 (en) | 2001-04-23 | 2003-05-20 | Intel Corporation | Dual-member pellicle assemblies and methods of use |
US7423730B2 (en) * | 2003-05-28 | 2008-09-09 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus |
US8467034B2 (en) * | 2008-07-02 | 2013-06-18 | Nikon Corporation | Light shielding unit, variable slit apparatus, and exposure apparatus |
CN101840149B (zh) * | 2009-03-20 | 2012-05-30 | 北京京东方光电科技有限公司 | 掩膜板及其制造方法和掩膜曝光方法 |
WO2012093627A1 (ja) * | 2011-01-07 | 2012-07-12 | シャープ株式会社 | 蒸着装置および蒸着方法 |
US8828856B2 (en) * | 2011-01-20 | 2014-09-09 | Sharp Kabushiki Kaisha | Substrate on which film is formed, and organic EL display device |
CN102650820B (zh) * | 2011-10-31 | 2014-02-26 | 北京京东方光电科技有限公司 | 一种掩膜架及光固化方法 |
CN103207517B (zh) * | 2012-01-11 | 2019-02-12 | 昆山允升吉光电科技有限公司 | 掩模板夹持框 |
JP6077906B2 (ja) * | 2013-03-28 | 2017-02-08 | 株式会社アツミテック | スパッタリング装置 |
KR102242562B1 (ko) * | 2014-09-04 | 2021-04-20 | 삼성전자주식회사 | 극자외선(euv) 마스크 보호장치 및 그 보호장치를 포함한 euv 노광 장치 |
CN105549321B (zh) * | 2016-02-18 | 2020-01-31 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种掩模板罩及掩模板 |
-
2016
- 2016-02-18 CN CN201610091362.5A patent/CN105549321B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2016-05-16 EP EP16819410.8A patent/EP3418805B1/en active Active
- 2016-05-16 US US15/324,381 patent/US10401725B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2016-05-16 WO PCT/CN2016/082218 patent/WO2017140052A1/zh active Application Filing
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5151928A (en) * | 1990-08-31 | 1992-09-29 | Shimadzu Corporation | Method and apparatus for generating x rays |
US6597002B1 (en) * | 1998-06-02 | 2003-07-22 | Nikon Corporation | Scanning exposure apparatus and its making method, and device manufacturing method |
CN102466963A (zh) * | 2010-11-12 | 2012-05-23 | 北京京东方光电科技有限公司 | 一种掩膜版及一种掩膜曝光的方法 |
CN105045032A (zh) * | 2015-08-27 | 2015-11-11 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种掩模板、隔垫物及显示装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP3418805A4 (en) | 2019-10-23 |
US10401725B2 (en) | 2019-09-03 |
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