CN105045032A - 一种掩模板、隔垫物及显示装置 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种掩模板、隔垫物及显示装置。所述掩模板包括遮光区以及对应基板上形成隔垫物位置的透光区,所述透光区的中心设置有遮挡板,所述遮挡板的边缘与所述透光区的边缘之间形成透光环。采用该掩模板制作隔垫物,可以减小隔垫物的底部尺寸,从而提高显示装置的解析度。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种掩模板、隔垫物及显示装置。
背景技术
在平板显示装置中,薄膜晶体管液晶显示器(ThinFilmTransistorLiquidCrystalDisplay,简称TFT-LCD)具有体积小、功耗低、制造成本相对较低和无辐射等特点,在当前的平板显示器市场占据了主导地位。
其中,TFT-LCD面板主要由相对而置的彩膜基板和阵列基板以及填充于其间的液晶层构成。为了保证液晶层厚度的均一稳定性,通常在彩膜基板和阵列基板之间通过隔垫物隔离出注入液晶层的空间,具体为利用掩模板对光刻胶进行曝光、显影、刻蚀等工序,从而形成隔垫物。
现有技术中,掩模板对应基板上形成隔垫物的位置设有开孔,以在开孔处形成曝光区,通过掩模构图工艺形成的隔垫物具有顶部尺寸小、底部尺寸大的结构特点。由于隔垫物为非显示结构件,因此需要通过黑矩阵进行覆盖。
随着显示技术的不断进步,人们对显示装置解析度的要求越来越高。而现有技术中的隔垫物底部尺寸较大,导致显示装置的解析度较低,因此,提高显示装置的解析度是目前亟待解决的问题。
发明内容
本发明的目的是提供一种掩模板、隔垫物及显示装置,以减小隔垫物的底部尺寸,提高显示装置的解析度。
本发明实施例提供的掩模板,包括遮光区以及对应基板上形成隔垫物位置的透光区,所述透光区的中心设置有遮挡板,所述遮挡板的边缘与所述透光区的边缘之间形成透光环。
采用上述掩模板在制作隔垫物时,遮挡板边缘与透光区边缘之间的透光环可以加强边缘衍射效果,从而提高透光光强,进而减小所形成隔垫物的底部尺寸,从而有利于提高显示装置的解析度。
可选的,所述遮挡板包括圆形遮挡板或多边形遮挡板,所述透光区的形状与所述遮挡板的形状相匹配。
较佳的,当所述遮挡板为圆形遮挡板时,所述透光环的外径为6~12μm,所述透光环的宽度为1~5μm。
具体的,所述透光环的外径为9μm,所述透光环的宽度为4μm。
具体的,所述透光环的外径为9μm,所述透光环的宽度为3.5μm。
具体的,所述透光环的外径为9μm,所述透光环的宽度为3μm。
具体的,所述透光环的外径为9μm,所述透光环的宽度为2.5μm。
具体的,所述透光环的外径为9μm,所述透光环的宽度为2μm。
本发明实施例提供的隔垫物,使用如上述任一项技术方案所述的掩模板形成。该隔垫物的底部尺寸较小,应用于显示装置时,有利于提高显示装置的解析度。
本发明实施例提供的显示装置,包括相对而置的第一基板和第二基板,以及支撑于所述第一基板和所述第二基板之间的如上述技术方案所述的隔垫物。该显示装置具有较高的解析度,显示效果较佳。
附图说明
图1为本发明实施例的掩模板结构示意图;
图2为本发明各实施例隔垫物厚度与透光区透射率的对应关系曲线;
图3为归一化处理后本发明各实施例与对比例的光强透射率在遮挡板半径方向上的分布曲线。
附图标记说明:
1-掩模板1a-遮光区
20a-透光区边缘2a-透光环
3a-遮挡板30a-遮挡板边缘
具体实施方式
为了减小隔垫物的底部尺寸,提高显示装置的解析度,本发明实施例提供了一种掩模板、隔垫物及显示装置。
本发明实施例提供的掩模板1,如图1所示,包括遮光区1a以及对应基板上形成隔垫物位置的透光区,透光区的中心设置有遮挡板3a,遮挡板边缘30a与透光区边缘20a之间形成透光环2a。
在本发明实施例中,采用上述掩模板在制作隔垫物时,遮挡板边缘与透光区边缘之间的透光环可以加强边缘衍射效果,从而提高透光光强,进而减小所形成隔垫物的底部尺寸,从而有利于提高显示装置的解析度。
其中,遮挡板3a可以为圆形遮挡板或多边形遮挡板,透光区的形状与遮挡板3a的形状相匹配。例如,遮挡板为四边形遮挡板,透光区的形状相应的为四边形;又例如,遮挡板为五边形遮挡板,透光区的形状相应的为五边形。
作为优选的实施例,遮挡板3a为圆形遮挡板,透光区的形状相应的为圆形。本申请的发明人经过大量实验后得出,透光环2a的外径为6~12μm,透光环2a的宽度为1~5μm时,光的边缘衍射效果较好,可以大幅提高透光光强,从而使所形成隔垫物的底部尺寸达到较佳值。
在本发明实施例中,设有遮挡板的掩模板透光区可以利用其边缘衍射加强引起的聚光效果,产生极大的光强,同时在遮挡板的中心线上,由于不同方向照射过来的光线光程差相同,因此,在此处光的干涉作用加强,光线透过透光环形成的图案不仅光强变大,并且光强分布范围变窄,经过对光刻胶进行曝光、显影及刻蚀等工序后,在基板及黑矩阵上就会形成底部尺寸较小的隔垫物,满足了高解析度的显示装置的设计要求。
如图2所示为本发明各实施例隔垫物厚度与透光区的透射率的对应关系曲线,X轴代表透光区的透射率,Y轴代表由掩模板形成的隔垫物的厚度,可以看出,当掩模板透光区的透射率达到60%以上时,所形成隔垫物的厚度损失小于0.1μm,此时,隔垫物顶部的平坦度较好,对基板可以起到良好的支撑效果。
在本发明的实施例中,透光环的具体外径尺寸以及透光环的具体宽度尺寸不限,以下仅列举几个较佳的实施例方案。
在本发明所提供的实施例一中,透光环2a的外径为9μm,透光环2a的宽度为4μm。
在本发明所提供的实施例二中,透光环2a的外径为9μm,透光环2a的宽度为3.5μm。
在本发明所提供的实施例三中,透光环2a的外径为9μm,透光环2a的宽度为3μm。
在本发明所提供的实施例四中,透光环2a的外径为9μm,透光环2a的宽度为2.5μm。
在本发明所提供的实施例五中,透光环2a的外径为9μm,透光环2a的宽度为2μm。
现有的一种掩模板,其透光区为圆孔,半径为9μm。以现有的一种掩模板为对比例,与本发明的各实施例一起,对其调节曝光量,使得材料的感光量相同,即对不同结构尺寸的掩膜板进行归一化处理,使其经过曝光后光强透射率相同且均为1,如图3所示为进行归一化处理后,在以遮挡板圆心为原点的条件下,本发明各实施例与对比例的光强透射率在遮挡板半径方向上的分布,其中,X轴的原点代表遮挡板3a的圆心,Y轴代表透光区的透射率,图中虚线L与各曲线交点之间的距离为隔垫物的底部尺寸,可以明显看出,各实施例相对对比例而言,形成的隔垫物的底部尺寸均有所减小,因此,在保证曝光量的前提下,可以大幅度提高显示装置的解析度。
该对比例的掩模板与本发明的实施例一至实施例五的掩模板所形成隔垫物的底部尺寸对比结果如表一所示。可以看出,各实施例相对对比例而言,底部尺寸均得到了减小,其对应显示装置的解析度均可以得到提高。
对比例 | 实施例一 | 实施例二 | 实施例三 | 实施例四 | 实施例五 | |
底部尺寸/μm | 14.2 | 9.32 | 8.21 | 7.83 | 7.69 | 7.55 |
表一本发明各实施例与对比例隔垫物底部尺寸的数据对比表
本发明实施例提供的隔垫物,使用如上述任一项技术方案的掩模板形成。该隔垫物的底部尺寸较小,应用于显示装置时,有利于提高显示装置的解析度。
本发明实施例提供的显示装置,包括相对而置的第一基板和第二基板,以及支撑于第一基板和第二基板之间的如上述技术方案所述的隔垫物。该显示装置具有较高的解析度,显示效果较佳。
显然,本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样,倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内,则本发明也意图包含这些改动和变型在内。
Claims (10)
1.一种掩模板,其特征在于,所述掩模板包括遮光区以及对应基板上形成隔垫物位置的透光区,所述透光区的中心设置有遮挡板,所述遮挡板的边缘与所述透光区的边缘之间形成透光环。
2.如权利要求1所述的掩模板,其特征在于,所述遮挡板包括圆形遮挡板或多边形遮挡板,所述透光区的形状与所述遮挡板的形状相匹配。
3.如权利要求2所述的掩模板,其特征在于,当所述遮挡板为圆形遮挡板时,所述透光环的外径为6μm~12μm,所述透光环的宽度为1μm~5μm。
4.如权利要求3所述的掩模板,其特征在于,所述透光环的外径为9μm,所述透光环的宽度为4μm。
5.如权利要求3所述的掩模板,其特征在于,所述透光环的外径为9μm,所述透光环的宽度为3.5μm。
6.如权利要求3所述的掩模板,其特征在于,所述透光环的外径为9μm,所述透光环的宽度为3μm。
7.如权利要求3所述的掩模板,其特征在于,所述透光环的外径为9μm,所述透光环的宽度为2.5μm。
8.如权利要求3所述的掩模板,其特征在于,所述透光环的外径为9μm,所述透光环的宽度为2μm。
9.一种隔垫物,其特征在于,使用权利要求1-8任一项所述的掩模板形成。
10.一种显示装置,其特征在于,包括相对而置的第一基板和第二基板,以及支撑于所述第一基板和所述第二基板之间的如权利要求9所述的隔垫物。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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CN105045032B CN105045032B (zh) | 2020-01-31 |
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Family Applications (1)
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CN201510535951.3A Active CN105045032B (zh) | 2015-08-27 | 2015-08-27 | 一种掩模板、隔垫物及显示装置 |
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