CN102466963A - 一种掩膜版及一种掩膜曝光的方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种掩膜版及一种掩膜曝光的方法,涉及液晶显示器领域,为能够有效降低生产成本而发明。本发明公开的掩膜版,包括扇叶支撑装置,所述扇叶支撑装置上设置有可移动的遮光扇叶,所述掩膜版能够通过所述遮光扇叶的移动而形成不同的遮光区域和透光区域。本发明可用于液晶显示器的制作中。
Description
技术领域
本发明涉及液晶显示器领域,尤其涉及一种掩膜版及一种掩膜曝光的方法。
背景技术
液晶面板由阵列基板,彩膜基板以及位于这两个基板中间的液晶组成,其中,阵列基板和彩膜基板通过封框胶粘接在一起,并将液晶封闭在面板内部。
在制造液晶面板的过程中,根据液晶面板的尺寸和设计的不同,固定尺寸的形成有阵列的玻璃基板和形成有彩膜的玻璃基板经过对盒工序后,再经过切割工序,得到若干个液晶面板,如图1所示,固定尺寸的玻璃基板对应制造12张液晶面板,而如图2所示,同样尺寸的玻璃基板对应制造4张液晶面板。
对盒工序中,需通过封框胶将形成有阵列的玻璃基板和形成有彩膜的玻璃基板进行粘接,粘结后需对封框胶进行固化,使封框胶达到化学及物理性质稳定的状态,不与液晶发生化学反应,并将上下基板牢固的粘结在一起。
目前,封框胶的固化方式通常为紫外光固化,即通过紫外光照射封框胶使其固化。而由于液晶被紫外光照射后,电学及光学特性会发生变化,故在使用紫外光照射时,需使用掩膜版遮蔽液晶区域,只暴露封框胶区域接受紫外照射固化。
由于不同尺寸的液晶显示器产品,封框胶区域和液晶区域的尺寸不同,因此,进行紫外光固化时,针对不同尺寸产品需要选择不同尺寸的掩膜版遮蔽液晶区域,暴露封框胶区域,如图1、图2阴影区域为液晶区域,非阴影区域为进行紫外光照射的封框胶区域,因此,需要大量与各尺寸产品相对应的掩膜版,生产成本较高。
发明内容
本发明的主要目的在于,提供一种掩膜版及一种掩膜曝光的方法,能够有效降低生产成本。
为达到上述目的,本发明采用如下技术方案:
一种掩膜版,包括:
扇叶支撑装置,所述扇叶支撑装置上设置有可移动的遮光扇叶,所述掩膜版能够通过所述遮光扇叶的移动而形成不同的遮光区域和透光区域。
一种掩膜曝光的方法,包括:
提供掩膜版,所述掩膜版包括扇叶支撑装置,所述扇叶支撑装置上设置有可移动的遮光扇叶,所述掩膜版能够通过所述遮光扇叶的移动而形成不同的遮光区域和透光区域;
移动所述掩膜版的遮光扇叶形成与曝光图形相应的遮光区域和透光区域,利用所述形成有与曝光图形相应的遮光区域和透光区域的所述掩膜版进行掩膜曝光。
采用上述技术方案后,本发明提供的掩膜版和掩膜曝光的方法,由于所述遮光扇叶是可移动的,遮光扇叶覆盖的遮光区域随着遮光扇叶的移动而变化,因此,通过遮光扇叶的移动能够灵活变更掩膜版的遮光区域和透光区域,即:本发明提供的掩膜版和掩膜曝光的方法,可以提供多种不同的曝光图形,因此,一方面,工艺过程中,通过一套掩膜版就可以为各尺寸产品提供相对应的曝光图形,有效降低了生产成本。另一方面,进行产品切换时,不需要进行掩膜版更换,只需移动遮光扇叶形成需要的曝光图形即可,减少了更换掩膜版的时间,提高了生产效率。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为现有技术中固定尺寸的玻璃基板与液晶面板的对应关系示意图;
图2为图1所示的固定尺寸的玻璃基板与液晶面板的另一种对应关系示意图;
图3为本发明实施例一的结构示意图;
图4为本发明实施例一的原理示意图;
图5为本发明实施例二的结构示意图;
图6为本发明实施例三的结构示意图;
图7为本发明实施例三的横向扇叶面的结构示意图;
图8为本发明实施例三的纵向扇叶面的结构示意图;
图9为本发明实施例三的原理示意图;
图10为本发明实施例三进行二次曝光的曝光图形示意图。
附图标记:
1-支撑板,2-遮光扇叶,3-控制装置,4-转轴,11-横向扇叶面(第一平面),12-纵向扇叶面(第二平面)。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
本发明旨在提供一种掩膜版和掩膜曝光的方法,能够有效降低生产成本。
本发明实施例提供的掩膜版,包括:
扇叶支撑装置,扇叶支撑装置上设置有可移动的遮光扇叶,本发明实施例提供的掩膜版能够通过遮光扇叶的移动而形成不同的遮光区域和透光区域。
其中,遮光扇叶用于形成掩膜版的遮光区域,即遮光扇叶覆盖的区域为掩膜版的遮光区域,掩膜版所能提供的曝光图形由遮光区域和透光区域组成。由于遮光扇叶是可移动的,遮光扇叶覆盖的遮光区域随着遮光扇叶的移动而变化,通过遮光扇叶的移动能够灵活变更掩膜版的遮光区域和透光区域,即灵活变更由遮光区域和透光区域组成的曝光图形。基于此,本发明提供的掩膜版,通过遮光扇叶的移动,可以提供多种不同的曝光图形,一方面,工艺过程中,通过一套掩膜版就可以为各尺寸产品提供相对应的曝光图形,有效降低了生产成本。另一方面,进行产品切换时,不需要进行掩膜版更换,只需移动遮光扇叶形成需要的曝光图形即可,减少了更换掩膜版的时间,提高了生产效率。
其中,遮光扇叶的尺寸和形状不限,根据对应的产品和相应的曝光图形等实际情况设定。每套掩膜版,可包括至少一个遮光扇叶,各遮光扇叶的尺寸和形状可相同也可不同。
遮光扇叶可以人工手动或自动地进行移动,其中,遮光扇叶的移动包括平动、折叠伸缩、卷曲伸缩或者围绕特定转轴进行旋转等,例如,遮光扇叶沿着扇叶支撑装置上下或左右平移,遮光扇叶进行类似折扇般的伸展、收缩等。本发明实施例提供的掩膜版,通过遮光扇叶的移动而形成不同的遮光区域和透光区域,即能够提供多种曝光图形。
由于遮光扇叶用于形成掩膜版的遮光区域,因此,遮光扇叶为不透光的。具体的,遮光扇叶可完全由不透光材料制成,或者,遮光扇叶包括透明基底和设置在透明基底上的不透光涂层,以达到不透光效果。
另外,当遮光扇叶为至少两个时,至少两个遮光扇叶可设置在相同的平面上,也可设置在不同的平面上。遮光扇叶设置在不同平面时,本发明实施例的掩膜版通过不同平面的遮光区域和透光区域的叠加,形成不同的遮光区域和曝光区域。
本发明实施例中,扇叶支撑装置用于对遮光扇叶进行承架支撑,显而易见地,本发明实施例的掩膜版,扇叶支撑装置可根据实际需要任意设置。
其中,扇叶支撑装置包括支撑板,此时遮光扇叶可整体铺设于支撑板上。具体的,支撑板的边缘设有凸起或凹槽,遮光扇叶两端设有连接部,该连接部设置在所述凸起或所述凹槽中,以使遮光扇叶设置在支撑板上。支撑板可为全透明的,例如透明玻璃板,这时,支撑板上覆盖有遮光扇叶的区域为掩膜版的遮光区域,未被遮光扇叶覆盖的区域为透光区域,随着遮光扇叶的移动,掩膜版的遮光区域和透光区域也随之相应移动,形成不同的曝光图形;支撑板上也可以设置有固定的遮光区域和透光区域,即支撑板上的部分区域为不透光的遮光区域,其它区域为透光区域。具体的,支撑板的部分区域上设有不透光涂层,形成遮光区域,其它区域为透光区域。此时,支撑板自身的遮光区域和覆盖有遮光扇叶的区域形成了掩膜版的遮光区域,而且,随着遮光扇叶的移动,遮光扇叶和支撑板自身的遮光区域相叠加,形成不同的曝光图形。
扇叶支撑装置还可以为至少两个相对的支撑架,所述遮光扇叶两端设置在所述相对的支撑架上;各支撑架可以为分立设置的,也可以彼此相连接。
扇叶支撑装置还包括支撑框,支撑框可由四个首尾相连的支撑架组成,此时,遮光扇叶两端可设置在两个相对的支撑架上。
进一步的,本发明实施例提供的掩膜版,还可包括与所述遮光扇叶相连接的控制装置,用于根据用户的指令,驱动用户指令指定的所述遮光扇叶进行相应的移动,以形成所述用户指令指定的遮光区域和透光区域,即形成所述用户指令指定的曝光图形。通过控制装置驱动遮光扇叶进行移动,使掩膜版的使用更加便利快捷,并且还能够精确控制遮光扇叶的移动,使所形成的曝光图形更加精确。
为了使本领域的技术人员更好的理解本发明的技术方案,下面通过具体的实施例对本发明的技术方案进行进一步的详细描述。可以理解的是,以下的具体实施例只为了描述本发明,但本发明不限于此。
实施例一
如图3所示,本实施例的掩膜版,包括:
支撑板1,支撑板1上设置有一个可移动的遮光扇叶2,遮光扇叶2连接有控制装置3;本实施例中,遮光扇叶2能够在支撑板1上上下平移。
其中,支撑板1为全透明的,支撑板1上覆盖有遮光扇叶2的区域为本实施例的遮光区域,其他区域为透光区域。当然,本实施例的扇叶支撑装置不限于支撑板,还可以为支撑架等其他装置。
本实施例中,控制装置3包括电动机,能够根据用户的指令,驱动遮光扇叶2进行相应的移动,以形成所述用户指令指定的遮光区域和透光区域,即形成所述用户指令指定的曝光图形。另外,控制装置3还可包括控制模块,用于接收用户指令,根据用户的指令,控制电动机驱动遮光扇叶进行特定长度的上移或下移,以形成所述用户指令指定的曝光图形,这样能够精确控制遮光扇叶的移动,使所形成的曝光图形更加精确。
如图4所示的原理示意图,随着遮光扇叶2的移动,本实施例掩膜版的遮光区域和透光区域也随之相应移动,形成不同的曝光图形,因此,可根据各尺寸产品的曝光需要,进行遮光扇叶2的相应移动以形成对应的曝光图形,一套掩膜版就可以为各尺寸产品提供相对应的曝光图形,有效降低了生产成本。
实施例二
如图5所示,本实施例的掩膜版,与实施例一不同的是,支撑板1上设置有多个可移动的遮光扇叶2,因此,相对于实施例一来讲,本实施例的掩膜版能够提供的曝光图形更多,使用范围更广。
其中,本实施例的多个遮光扇叶2位于同一平面上,且互相平行设置。支撑板1为全透明的,遮光扇叶2可沿着支撑板1上下平移。支撑板1上覆盖有遮光扇叶2的区域为本实施例的遮光区域,其他区域为透光区域。当然,本实施例的扇叶支撑装置不限于支撑板,还可以为支撑架等其他装置。
需要注意的是,当需要两个或多个相邻的遮光扇叶2形成整片的遮光区域时,彼此相邻的两个遮光扇叶2需要紧密相接,优选的,彼此相邻的两个遮光扇叶2之间略有搭接,即一个遮光扇叶2的边缘搭接在相邻的另一个遮光扇叶2上,使两者之间不存在透光孔隙,防止出现透光而影响曝光效果。
实施例三
如图6所示,与实施例二不同,本实施例的掩膜版,包括多个可移动的遮光扇叶2,遮光扇叶2设置于横向扇叶面11(第一平面)和纵向扇叶面12(第二平面)两个不同的平面上;这两个平面上的遮光扇叶2均设置在扇叶支撑装置上(图中未显示);其中,横向扇叶面11和纵向扇叶面12彼此平行;横向扇叶面11上,遮光扇叶2横向分布,纵向扇叶面12上,遮光扇叶2纵向分布,即,设置在横向扇叶面11上遮光扇叶2垂直于设置在纵向扇叶面12上的遮光扇叶2。
具体的,如图7所示,横向扇叶面11上,设置有多个横向的遮光扇叶2,且遮光扇叶2互相平行,各个遮光扇叶2通过转轴4与控制装置3相连接,遮光扇叶2能够在控制装置3的驱动下,围绕转轴4进行旋转。遮光扇叶2旋转至平铺于横向扇叶面11上时,本实施例的横向扇叶面11处于全遮蔽状态,优选的,相邻的遮光扇叶2略有搭接,以保证遮光效果。当平铺状态的遮光扇叶2围绕转轴4发生旋转后,将形成透光区域,当遮光扇叶2旋转至与横向扇叶面11垂直时,遮光扇叶2平铺时覆盖的横向区域将全部露出,形成透光区域。
如图8所示,纵向扇叶面12上,设置有多个纵向的遮光扇叶2,且遮光扇叶2互相平行,各个遮光扇叶2通过转轴4与控制装置3相连接,遮光扇叶2能够在控制装置3的驱动下,围绕转轴4进行旋转。遮光扇叶2旋转至平铺于纵向扇叶面12上时,本实施例的纵向扇叶面12处于全遮蔽状态,优选的,相邻的遮光扇叶2略有搭接,以保证遮光效果。当平铺状态的遮光扇叶2围绕转轴4发生旋转后,将形成透光区域,当遮光扇叶2旋转至与纵向扇叶面12垂直时,遮光扇叶2平铺时覆盖的纵向区域将全部露出,形成透光区域。
其中,控制装置3可包括控制模块和电动机,所述控制模块能够接收用户指令,根据用户的指令,控制电动机驱动所述用户指令指定的遮光扇叶2进行旋转,以形成所述用户指令指定的曝光图形。
如图9所示的原理示意图,使用本实施例进行曝光操作时,每次曝光时,本实施例的曝光图形是由横向扇叶面11和纵向扇叶面12的曝光图形叠加而成。初始时,遮光扇叶2平铺于横向扇叶面11和纵向扇叶面12上,整个掩膜版处于全遮蔽状态。根据曝光需要,使横向扇叶面11上对应的遮光扇叶2和纵向扇叶面12上对应的遮光扇叶2进行旋转,露出横向和纵向的透光区域,进而通过横向和纵向的透光区域和遮光区域的叠加,形成需要的曝光图形。
另外,可根据实际的曝光图形需要,使用本实施例进行多次曝光,多次的曝光图形相叠加而形成最终的曝光图形。具体的,例如,当本实施例用于前述封框胶的固化过程中时,参见图1和图2,由于封框胶区域横纵向交叉,而液晶区域被横纵向交叉的封框胶区域所包围,因此可使用本实施例进行两次曝光。如图10所示,首先将纵向扇叶面12上的遮光扇叶2全部旋转至与纵向扇叶面12垂直的位置上,使纵向扇叶面12为全透明的,横向扇叶面11上对应于封框胶的横向区域的遮光扇叶2旋转至与横向扇叶面11垂直的位置上,横向扇叶面11上的其它遮光扇叶2平铺于横向扇叶面11上,进行第一次曝光,此时,仅对封框胶的横向区域进行了紫外光照射;之后,将横向扇叶面11上的遮光扇叶2全部旋转至与横向扇叶面11垂直的位置上,使横向扇叶面11为全透明的,纵向扇叶面12上对应于封框胶的纵向区域的遮光扇叶2旋转至与纵向扇叶面12垂直的位置上,纵向扇叶面12上的其它遮光扇叶2平铺于纵向扇叶面12上,进行第二次曝光,此时,仅对封框胶的纵向区域进行了紫外光照射。
如图10所示,经过两次曝光,封框胶区域全部得到了紫外光的照射,即达到了固化效果,而液晶区域未受到影响。当封框胶区域的尺寸不同时,可调节横向扇叶面11和纵向扇叶面12上对应的遮光扇叶2而改变遮光区域和透光区域的尺寸以满足相应的尺寸要求,因此通过一套掩膜版就可以为各尺寸产品提供相对应的曝光图形,有效降低了生产成本。
显而易见的,本发明实施例的掩膜板,遮光扇叶不限于设置在两个不同的平面上,还可设置于多个不同的平面上,且设置在各平面上的遮光扇叶不限于横向和纵向排列,可根据实际曝光需要设置。
相应的,本发明的实施例还提供了一种掩膜曝光的方法,包括下述步骤:
步骤101,提供掩膜版,所述掩膜版包括扇叶支撑装置,所述扇叶支撑装置上设置有可移动的遮光扇叶,所述掩膜版能够通过所述遮光扇叶的移动而形成不同的遮光区域和透光区域;
具体的,本步骤所采用的掩膜版可为本发明实施例提供的掩膜版,前文已经进行了详细描述,这里不再赘述。
步骤102,移动所述掩膜版的遮光扇叶形成与曝光图形相应的遮光区域和透光区域,利用所述形成有与曝光图形相应的遮光区域和透光区域的所述掩膜版进行掩膜曝光。
本发明实施例提供的掩膜曝光的方法,通过所采用的掩膜版的遮光扇叶的移动,可以提供多种不同的曝光图形,这样,一方面,工艺过程中,通过一套掩膜版就可以为各尺寸产品提供相对应的曝光图形,有效降低了生产成本。另一方面,进行产品切换时,不需要进行掩膜版更换,只需移动遮光扇叶形成需要的曝光图形即可,减少了更换掩膜版的时间,提高了生产效率。
需要指出的是,本发明实施例的掩膜曝光的方法,可进行一次曝光,也可进行多次曝光,通过多次形成的曝光图形相叠加,形成最终的曝光图形。当进行两次曝光时,步骤102具体可包括:
移动所述掩膜版的遮光扇叶形成与曝光图形相应的第一遮光区域和透光区域,利用所述形成有所述第一遮光区域和透光区域的所述掩膜版进行掩膜曝光;
移动所述掩膜版的遮光扇叶形成与曝光图形相应的第二遮光区域和透光区域,利用所述形成有所述第二遮光区域和透光区域的所述掩膜版进行掩膜曝光;
其中,所述第一透光区域和遮光区域与所述第二透光区域和遮光区域不同,两次曝光后,所述第一遮光区域与所述第二遮光区域的重合部分在两次曝光过程中均为遮光区域,因此,这部分构成最终的曝光图形的遮光区域,而所述第一透光区域、第二透光区域以及两者的重合部分,构成了最终的曝光图形的透光区域。
可以理解的是,本发明实施例的掩膜曝光的方法,不限于前述的两次掩膜曝光,可根据曝光图形的需要,进行多次掩膜曝光,每次移动所述遮光扇叶形成的曝光图形相应的遮光区域和透光区域不同,通过多次掩膜曝光分别形成的曝光图形的叠加,形成最终的曝光图形。
以上所述,仅为本发明的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,可轻易想到变化或替换,都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此,本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。
Claims (11)
1.一种掩膜版,其特征在于,包括:
扇叶支撑装置,所述扇叶支撑装置上设置有可移动的遮光扇叶,所述掩膜版能够通过所述遮光扇叶的移动而形成不同的遮光区域和透光区域。
2.根据权利要求1所述的掩膜版,其特征在于,所述遮光扇叶的移动包括平动、折叠伸缩、卷曲伸缩、或者围绕特定转轴进行旋转。
3.根据权利要求1或2所述的掩膜版,其特征在于,所述遮光扇叶由不透光材料制成;或者所述遮光扇叶包括透明基底,所述透明基底上设置有不透光涂层。
4.根据权利要求1或2所述的掩膜版,其特征在于,
所述扇叶支撑装置包括支撑板,所述支撑板的边缘设有凸起或凹槽,所述遮光扇叶两端设有连接部,所述连接部设置在所述凸起或所述凹槽中;或,
所述扇叶支撑装置包括至少两个相对的支撑架,所述遮光扇叶两端设置在所述相对的支撑架上;或,
所述扇叶支撑装置包括支撑框,所述支撑框由四个首尾相连的支撑架组成,所述遮光扇叶设置在两个相对的所述支撑架上。
5.根据权利要求4所述的掩膜版,其特征在于,
所述支撑板为全透明支撑板;或,
所述支撑板上设有遮光区域和透光区域。
6.根据权利要求1所述的掩膜版,其特征在于,所述掩模版还包括与所述遮光扇叶相连接的控制装置,用于根据用户的指令,驱动所述用户指令指定的所述遮光扇叶进行相应的移动,以形成所述用户指令指定的遮光区域和透光区域。
7.根据权利要求1或6所述的掩膜版,其特征在于,所述遮光扇叶为至少两个,至少两个所述遮光扇叶设置在相同平面上或不同平面上。
8.根据权利要求7所述的掩膜版,其特征在于,设置在同一平面上的所述遮光扇叶为至少两个,且该至少两个所述遮光扇叶互相平行设置。
9.根据权利要求8所述的掩膜版,其特征在于,所述遮光扇叶设置在两个彼此平行的第一平面和第二平面上,且设置在所述第一平面上的所述遮光扇叶垂直于设置在所述第二平面上的所述遮光扇叶。
10.一种掩膜曝光的方法,其特征在于,包括:
提供掩膜版,所述掩膜版包括权利要求1至权利要求9任一项所述的掩膜版;
移动所述掩膜版的遮光扇叶形成与曝光图形相应的遮光区域和透光区域,利用所述形成有与曝光图形相应的遮光区域和透光区域的所述掩膜版进行掩膜曝光。
11.根据权利要求10所述的方法,其特征在于,所述移动所述掩膜版的遮光扇叶形成与曝光图形相应的遮光区域和透光区域,利用所述形成有与曝光图形相应的遮光区域和透光区域的所述掩膜版进行掩膜曝光包括:
移动所述掩膜版的遮光扇叶形成与曝光图形相应的第一遮光区域和透光区域,利用所述形成有所述第一遮光区域和透光区域的所述掩膜版进行掩膜曝光;
移动所述掩膜版的遮光扇叶形成与曝光图形相应的第二遮光区域和透光区域,利用所述形成有所述第二遮光区域和透光区域的所述掩膜版进行掩膜曝光;
其中,所述第一透光区域和遮光区域与所述第二透光区域和遮光区域不同,所述第一遮光区域与所述第二遮光区域的重合部分构成所述曝光图形的遮光区域。
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