JP2004323954A - 脱酸素剤及び脱酸素処理方法 - Google Patents
脱酸素剤及び脱酸素処理方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2004323954A JP2004323954A JP2003123464A JP2003123464A JP2004323954A JP 2004323954 A JP2004323954 A JP 2004323954A JP 2003123464 A JP2003123464 A JP 2003123464A JP 2003123464 A JP2003123464 A JP 2003123464A JP 2004323954 A JP2004323954 A JP 2004323954A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- compound
- hydroxylamine
- substituted amino
- heterocyclic compound
- amino group
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F14/00—Inhibiting incrustation in apparatus for heating liquids for physical or chemical purposes
- C23F14/02—Inhibiting incrustation in apparatus for heating liquids for physical or chemical purposes by chemical means
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/68—Treatment of water, waste water, or sewage by addition of specified substances, e.g. trace elements, for ameliorating potable water
- C02F1/683—Treatment of water, waste water, or sewage by addition of specified substances, e.g. trace elements, for ameliorating potable water by addition of complex-forming compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F11/00—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent
- C23F11/08—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent in other liquids
- C23F11/10—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent in other liquids using organic inhibitors
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F11/00—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent
- C23F11/08—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent in other liquids
- C23F11/10—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent in other liquids using organic inhibitors
- C23F11/14—Nitrogen-containing compounds
- C23F11/141—Amines; Quaternary ammonium compounds
- C23F11/142—Hydroxy amines
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F11/00—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent
- C23F11/08—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent in other liquids
- C23F11/10—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent in other liquids using organic inhibitors
- C23F11/14—Nitrogen-containing compounds
- C23F11/149—Heterocyclic compounds containing nitrogen as hetero atom
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
- F24D—DOMESTIC- OR SPACE-HEATING SYSTEMS, e.g. CENTRAL HEATING SYSTEMS; DOMESTIC HOT-WATER SUPPLY SYSTEMS; ELEMENTS OR COMPONENTS THEREFOR
- F24D19/00—Details
- F24D19/0092—Devices for preventing or removing corrosion, slime or scale
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/68—Treatment of water, waste water, or sewage by addition of specified substances, e.g. trace elements, for ameliorating potable water
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2101/00—Nature of the contaminant
- C02F2101/10—Inorganic compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2103/00—Nature of the water, waste water, sewage or sludge to be treated
- C02F2103/02—Non-contaminated water, e.g. for industrial water supply
- C02F2103/023—Water in cooling circuits
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2303/00—Specific treatment goals
- C02F2303/08—Corrosion inhibition
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Water Supply & Treatment (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Hydrology & Water Resources (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Combustion & Propulsion (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Preventing Corrosion Or Incrustation Of Metals (AREA)
- Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)
- Removal Of Specific Substances (AREA)
- Gas Separation By Absorption (AREA)
Abstract
【解決手段】N−置換アミノ基を有する複素環式化合物と、ヒドロキシルアミン化合物とを含有する脱酸素剤。この脱酸素剤を高温水系の給水に添加する脱酸素処理方法。なお、N−置換アミノ基を有する複素環式化合物が、N−アミノモルホリン、1−アミン−4−メチルピペラジン、N−アミノヘキサメチレンイミン、1−アミノピロリジン、および1−アミノピペリジンよりから選ばれる1種または2種以上であり、ヒドロキシルアミン化合物が、ヒドロキシルアミン、N,N−ジエチルヒドロキシルアミン、およびN−イソプロピルヒドロキシルアミンよりから選ばれる1種または2種以上である。
【選択図】なし
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、ボイラや蒸気発生プラント等の高温水系における腐食抑制のための脱酸素剤及び脱酸素処理方法に係り、特に、従来のヒドラジン代替の揮発性脱酸素剤と比較して、低圧〜高圧及び低温〜高温の幅広い条件で優れた脱酸素効果を得ることができる脱酸素剤と、この脱酸素剤を用いた脱酸素処理方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
ボイラ、蒸気発生器等の給水に含まれている溶存酸素は、ボイラ本体、ボイラ本体前段の熱交換器やエコノマイザー、蒸気復水系配管等の腐食を引き起こす原因となる。このため、これらの腐食を防止するためには、水中の溶存酸素を除去するための脱酸素処理を施す必要がある。
【0003】
脱酸素処理方法としては、物理的処理方法と化学的処理方法があり、通常、化学的処理方法単独か、或いは物理的処理方法と化学的処理方法を併用する方法が採られる。従来、物理的処理方法としては加熱脱気装置、膜脱気装置等による脱気処理が、化学的処理方法としては脱酸素剤としてヒドラジン、亜硫酸ナトリウム、糖類(グルコース等)を添加する方法が広く採用されてきた。化学的処理方法で使用される脱酸素剤のなかでも、亜硫酸ナトリウムや糖類は不揮発性物質であり、ボイラ、蒸気発生器等の缶水中に固形分として濃縮し、電気伝導率を大きく上昇させるのに対して、ヒドラジンは揮発性物質であり、缶水中に濃縮しないため、缶水中の固形分濃度を低く抑えたい場合にはヒドラジンが使用されてきた。
【0004】
しかし、ヒドラジンは、人体への安全性の面で疑問が持たれてきたため、近年、ヒドラジンに代わる揮発性脱酸素剤として、カルボヒドラジド(特許第1511025号)、オキシム化合物(特許第1449004号)、ヒドロキシルアミン化合物(特公昭58−28349)、N−置換アミノ基を有する複素環式化合物(特許第3287243号)等が提案されている。
【0005】
【特許文献1】
特許第1511025号
【特許文献2】
特許第1449004号
【特許文献3】
特公昭58−28349
【特許文献4】
特許第3287243号
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
上記従来のヒドラジン代替の揮発性脱酸素剤の中で、カルボヒドラジドは、高温になるとヒドラジンが生成するため、ヒドラジン代替の根本的な解決にはならなかった。
【0007】
その他のヒドラジン代替揮発性脱酸素剤については、それぞれ以下のような問題点があった。
・オキシム化合物としては、主としてメチルエチルケトオキシムが挙げられるが、これは脱酸素速度が遅く、かつ単位重量当たりの脱酸素量が少ないため、添加量が多く必要である。
・ヒドロキシルアミン化合物としては、主としてジエチルヒドロキシルアミンが挙げられるが、これは脱酸素速度が遅く、かつ単位重量当たりの脱酸素量が少ないため、添加量が多く必要である。
・N−置換アミノ基を有する複素環式化合物としては、主としては1−アミノピロリジンや1−アミノ−4−メチルピペラジン等が挙げられるが、1−アミノピロリジンは低圧条件に比較して高圧条件ではやや脱酸素効果が低下し、また、1−アミノ−4−メチルピペラジンは低温条件における脱酸素速度がやや遅い。
【0008】
本発明は上記従来の問題点を解決し、安全性の高い優れた脱酸素剤と、この脱酸素剤を用いた脱酸素処理方法を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】
本発明の脱酸素剤は、N−置換アミノ基を有する複素環式化合物と、ヒドロキシルアミン化合物とを含有することを特徴とする。
【0010】
本発明の脱酸素処理方法は、このような本発明の脱酸素剤を高温水系に添加することを特徴とする。
【0011】
N−置換アミノ基を有する複素環式化合物(少なくとも1つのNにアミノ基を有する複素環式化合物。以下「N−置換アミノ複素環式化合物」と称す。)及びヒドロキシルアミン化合物は、いずれも、その優れた還元作用でボイラ、蒸気発生器の系内における水中の溶存酸素を効率的に還元除去することにより、金属表面における腐食を防止する。また、その還元力により腐食を抑制する。
【0012】
本発明では、N置換アミノ複素環式化合物とヒドロキシルアミン化合物との併用による優れた相乗効果で、低圧〜高圧及び低温〜高温の幅広い条件で優れた脱酸素効果を得ることができ、少ない添加量で良好な添加効果を得ることができる。
【0013】
本発明においては、更に、多価フェノール系触媒を併用することにより、低温条件における脱酸素効果を更に向上させることができる。
【0014】
本発明において、N置換アミノ複素環式化合物としては、1−アミノ−4−メチルピペラジンが好ましく、ヒドロキシルアミン化合物としては、N,N−ジエチルヒドロキシルアミンが好ましい。また、多価フェノール系触媒としてはピロガロールが好ましい。
【0015】
【発明の実施の形態】
以下に本発明の脱酸素剤及び脱酸素処理方法の実施の形態を詳細に説明する。
【0016】
本発明において用いるN置換アミノ複素環式化合物としては、好ましくは、次の▲1▼〜▲5▼等、特に好ましくは1−アミノ−4−メチルピペラジンが挙げられるが、何ら以下のものに限定されるものではない。
【0017】
【化1】
【0018】
また、本発明で用いるヒドロキシルアミン化合物は、例えば下記一般式で表されるものであって、具体的には、ヒドロキシルアミン、N,N−ジエチルヒドロキシルアミン、N−イソプロピルヒドロキシルアミン等、特に好ましくはN,N−ジエチルヒドロキシルアミンが挙げられるが、同様の構造を有している化合物であれば良く、特にこれらに限定されるものではない。
【0019】
【化2】
【0020】
N置換アミノ複素環式化合物及びヒドロキシルアミン化合物はいずれも、各々1種の化合物を単独で用いても良く、2種以上を併用しても良い。
【0021】
N置換アミノ複素環式化合物及びヒドロキシルアミン化合物の使用量は、処理対象水の溶存酸素濃度や水質等に応じて適宜決められ、特に限定されないが、通常は、水系の給水に対して各々0.001〜1000mg/L、特に各々0.001〜300mg/L、とりわけ0.001〜100mg/Lとなるように添加することが好ましい。また、N置換アミノ複素環式化合物とヒドロキシルアミン化合物との添加比率は、重量比で通常は100:1〜1:100、好ましくは10:1〜1:10の範囲で適宜選択できる。
【0022】
本発明においては、N置換アミノ複素環式化合物及びヒドロキシルアミン化合物に、更に、触媒として多価フェノール系触媒を併用することにより、低温条件における脱酸素効果を更に高めることができる。この多価フェノール系触媒としては、ハイドロキノン、ピロガロール、メチルハイドロキノン、トリメチルハイドロキノン、t−ブチルハイドロキノン、t−ブチルカテコール等、好ましくはピロガロールが挙げられる。これらの多価フェノール系触媒は、1種を単独で使用しても良く、2種以上を組み合わせて使用しても良い。多価フェノール系触媒の使用量は、N置換アミノ複素環式化合物とヒドロキシルアミン化合物との合計の添加量に対して、1/200〜1/5(重量割合)の範囲で設定するのが良い。
【0023】
本発明において、更に、必要に応じて通常のボイラ水処理に用いられる中和性アミン、リン酸塩、アルカリ剤、防食剤等を適宜併用することは有効である。中和性アミンとしては、揮発性のアミン系化合物であれば特に限定されないが、例としてシクロヘキシルアミン、モルホリン、モノエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジエチルエタノールアミン、2−アミノ−2−メチル−1−プロパノール、アンモニア等が挙げられる。リン酸塩としては第二リン酸ナトリウム、第二リン酸カリウム、第三リン酸ナトリウム、第三リン酸カリウム等が挙げられる。アルカリ剤としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等が挙げられる。防食剤としてはグルコン酸(塩)、コハク酸(塩)、クエン酸(塩)等のオキシカルボン酸(塩)化合物、ジカルボン酸(塩)化合物が挙げられる。これらの化合物はそれぞれ単独で使用しても良く、2種以上を組み合わせて使用しても良い。これらの薬剤の添加量についても、水質に応じて適宜決定されるが、例えば中和性アミンであれば給水に対して0.001〜100mg/L程度、リン酸塩であればボイラ水中において0.01〜100mg/L程度の添加量とすることが好ましい。
【0024】
なお、本発明の脱酸素剤の注入点は特に限定されず、設備状況に合わせて、適切な箇所に注入すれば良い。また、N置換アミノ複素環式化合物及びヒドロキシルアミン化合物、その他の併用薬剤は予め混合して添加しても良く、同一の注入点に各々別々に添加しても良く、異なる注入点で添加しても良い。
【0025】
【実施例】
以下に実施例及び比較例を挙げて、本発明をより具体的に説明する。
【0026】
実施例1〜4、比較例1〜9
60℃にて空気中の酸素で飽和させたイオン交換水を、容量5Lの自然循環式テストボイラに給水し、この給水に第三リン酸ナトリウムを給水に対して1mg/L添加しながら、缶内温度290℃、缶内圧力7.5MPa、蒸発量9L/h、ブロー量1L/hにて運転した。発生した蒸気を熱交換器にて完全に凝縮して室温の凝縮水とし、この凝縮水中の溶存酸素濃度を溶存酸素計を用いて測定し、結果を表1に示した(比較例1)。
【0027】
また、この給水に対して、それぞれ表1に示す薬剤を表1に示す濃度となるように添加して同様の条件にて蒸気を発生させ、その蒸気凝縮水中の溶存酸素濃度を測定し、結果を表1に示した(実施例1〜4、比較例2〜9)。
【0028】
【表1】
【0029】
実施例5〜7、比較例10〜14
40℃にて空気中の酸素で飽和させたイオン交換水を、容量5Lの自然循環式テストボイラに給水し、この給水に第三リン酸ナトリウムを給水に対して1mg/L添加しながら、缶内温度212℃、缶内圧力2.0MPa、蒸発量9L/h、ブロー量1L/hにて運転した。発生した蒸気を熱交換器にて完全に凝縮して室温の凝縮水とし、この凝縮水中の溶存酸素濃度を溶存酸素計を用いて測定し、結果を表2に示した(比較例10)。
【0030】
また、この給水に対して、それぞれ表2に示す薬剤を表2に示す濃度となるように添加して同様の条件にて蒸気を発生させ、その蒸気凝縮水中の溶存酸素濃度を測定し、結果を表2に示した(実施例5〜7、比較例11〜14)。
【0031】
【表2】
【0032】
実施例8,9、比較例15〜21
40℃にて空気中の酸素で飽和させたイオン交換水を、容量5Lの圧力容器に給水し、この給水に第三リン酸ナトリウムを給水に対して2mg/L添加しながら、缶内温度133℃、缶内圧力0.3MPa、蒸発量5L/h、ブロー量10L/hにて運転した。ここでブロー水を熱交換器にて室温に冷却し、この水中の溶存酸素濃度を溶存酸素計を用いて測定し、結果を表3に示した(比較例15)。
【0033】
また、この給水に対して、それぞれ表3に示す薬剤を表3に示す濃度となるように添加して同様の条件にて蒸気を発生させ、その蒸気凝縮水中の溶存酸素濃度を測定し、結果を表3に示した(実施例8,9、比較例16〜21)。
【0034】
【表3】
【0035】
実施例10〜13
常温(25℃)のイオン交換水にモノイソプロパノールアミンを添加してpHを9.0に調整し、これを容量1Lの容器に入れ、60℃に設定した高温水槽に浸漬して10分間撹拌し、水中の溶存酸素濃度を60℃における大気平衡の濃度とした。これに溶存酸素計の電極を浸漬し、気相が生じないように開口部を密閉した。
【0036】
ここに、それぞれ表4に示す薬剤を表4に示す濃度となるように添加し、添加直後(開始時)と、10分及び20分経過後の系内の溶存酸素濃度を測定し、結果を表4に示した。
【0037】
【表4】
【0038】
以上の結果から、N置換アミノ複素環式化合物とヒドロキシルアミン化合物との併用により、優れた相乗効果が奏され、幅広い条件下で優れた脱酸素効果を得ることができることが分かる。また、多価フェノール系触媒の併用で低温条件での脱酸素効果が高められることが分かる。
【0039】
【発明の効果】
以上詳述した通り、本発明によれば、安全性が高く、脱酸素効果に優れた脱酸素剤により、少ない脱酸素剤添加量でボイラや蒸気発生プラント等の高温水系における腐食を効果的に防止することができる。
Claims (10)
- N−置換アミノ基を有する複素環式化合物と、ヒドロキシルアミン化合物とを含有することを特徴とする脱酸素剤。
- 請求項1において、N−置換アミノ基を有する複素環式化合物が、N−アミノモルホリン、1−アミノ−4−メチルピペラジン、N−アミノヘキサメチレンイミン、1−アミノピロリジン、及び1−アミノピペリジンよりなる群から選ばれる1種又は2種以上であり、ヒドロキシルアミン化合物が、ヒドロキシルアミン、N,N−ジエチルヒドロキシルアミン、及びN−イソプロピルヒドロキシルアミンよりなる群から選ばれる1種又は2種以上であることを特徴とする脱酸素剤。
- 請求項2において、N−置換アミノ基を有する複素環式化合物が1−アミノ−4−メチルピペラジンであり、ヒドロキシルアミン化合物がN,N−ジエチルヒドロキシルアミンであることを特徴とする脱酸素剤。
- 請求項1ないし3のいずれか1項において、更に多価フェノール系触媒を含有することを特徴とする脱酸素剤。
- 請求項4において、多価フェノール系触媒がピロガロールであることを特徴とする脱酸素剤。
- 請求項1ないし5のいずれか1項において、更に中和性アミン、リン酸塩、アルカリ剤及び防食剤よりなる群から選ばれる1種又は2種以上を含有することを特徴とする脱酸素剤。
- 請求項1ないし6のいずれか1項に記載の脱酸素剤を、高温水系の給水に添加することを特徴とする脱酸素処理方法。
- 請求項7において、N−置換アミノ基を有する複素環式化合物の添加量が0.001〜100mgであり、ヒドロキシルアミン化合物の添加量が0.001〜100mgであることを特徴とする脱酸素処理方法。
- 請求項7又は8において、N−置換アミノ基を有する複素環式化合物の添加量とヒドロキシルアミン化合物の添加量との重量比が10:1〜1:10であることを特徴とする脱酸素処理方法。
- 請求項7ないし9のいずれか1項において、多価フェノール系触媒の添加量がN−置換アミノ基を有する複素環式化合物及びヒドロキシルアミン化合物の合計の添加量に対して重量比で1/200〜1/5であることを特徴とする脱酸素処理方法。
Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003123464A JP3855961B2 (ja) | 2003-04-28 | 2003-04-28 | 脱酸素剤及び脱酸素処理方法 |
CNA200480010592XA CN1777701A (zh) | 2003-04-28 | 2004-03-18 | 脱氧剂及脱氧处理方法 |
EP04721722A EP1619272A1 (en) | 2003-04-28 | 2004-03-18 | Oxygen scavenger and method of deoxidizing treatment |
PCT/JP2004/003701 WO2004097071A1 (ja) | 2003-04-28 | 2004-03-18 | 脱酸素剤及び脱酸素処理方法 |
KR1020057003774A KR100987742B1 (ko) | 2003-04-28 | 2004-03-18 | 탈산소제 및 탈산소 처리 방법 |
MXPA05002421A MXPA05002421A (es) | 2003-04-28 | 2004-03-18 | Depurador de oxigeno y metodo para el tratamiento por reduccion de oxigeno. |
US11/044,292 US7112284B2 (en) | 2003-04-28 | 2005-01-28 | Oxygen scavenger and the method for oxygen reduction treatment |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003123464A JP3855961B2 (ja) | 2003-04-28 | 2003-04-28 | 脱酸素剤及び脱酸素処理方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004323954A true JP2004323954A (ja) | 2004-11-18 |
JP3855961B2 JP3855961B2 (ja) | 2006-12-13 |
Family
ID=33410127
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003123464A Expired - Fee Related JP3855961B2 (ja) | 2003-04-28 | 2003-04-28 | 脱酸素剤及び脱酸素処理方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7112284B2 (ja) |
EP (1) | EP1619272A1 (ja) |
JP (1) | JP3855961B2 (ja) |
KR (1) | KR100987742B1 (ja) |
CN (1) | CN1777701A (ja) |
MX (1) | MXPA05002421A (ja) |
WO (1) | WO2004097071A1 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007022961A (ja) * | 2005-07-15 | 2007-02-01 | Asanuma Corporation | 水除去性美爪料 |
JP2011080725A (ja) * | 2009-10-09 | 2011-04-21 | Kurita Water Ind Ltd | ボイラ装置の運転方法 |
JP2011174173A (ja) * | 2010-01-28 | 2011-09-08 | Kurita Water Ind Ltd | ボイラ用防食剤 |
JP2018003124A (ja) * | 2016-07-06 | 2018-01-11 | 栗田工業株式会社 | ボイラ用脱酸素剤、及びボイラ水系の脱酸素方法 |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7018461B2 (en) | 2002-02-22 | 2006-03-28 | Cellulose Solutions, Llc | Release agents |
US7582126B2 (en) * | 2005-12-20 | 2009-09-01 | Arkema France | Fatty ester compositions with improved oxidative stability |
EP2468834A1 (de) * | 2010-12-23 | 2012-06-27 | Sika Technology AG | Hitzehärtende Dichtstoffzusammensetzungen mit schneller Hautbildung und hoher Zugfestigkeit |
DE102013013121A1 (de) | 2013-08-07 | 2015-02-12 | Bk Giulini Gmbh | Sauerstoffbindemittel |
CN109292876A (zh) * | 2018-11-13 | 2019-02-01 | 中盐安徽红四方股份有限公司 | 锅炉水氧调节剂 |
CN110156105A (zh) * | 2019-05-08 | 2019-08-23 | 安徽省力皖节能环保科技有限公司 | 一种环保型锅炉除氧剂 |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4067690A (en) * | 1976-05-04 | 1978-01-10 | Chemed Corporation | Boiler water treatment |
US5256311A (en) * | 1989-06-21 | 1993-10-26 | Betz Laboratories, Inc. | Hydroxyalkylhydroxylamine oxygen scavenger in aqueous mediums |
JP3287284B2 (ja) | 1997-10-21 | 2002-06-04 | 栗田工業株式会社 | ボイラ水処理薬剤 |
JP3287243B2 (ja) | 1996-11-28 | 2002-06-04 | 栗田工業株式会社 | 脱酸素剤 |
JP3552460B2 (ja) * | 1997-05-28 | 2004-08-11 | 栗田工業株式会社 | 脱酸素剤 |
JP3309757B2 (ja) | 1997-03-17 | 2002-07-29 | 栗田工業株式会社 | ボイラ水処理用の薬剤 |
US5989440A (en) * | 1996-11-28 | 1999-11-23 | Kurita Water Industries Ltd. | Method of using oxygen scavenger and removing oxygen from water |
JP5017742B2 (ja) * | 2000-10-23 | 2012-09-05 | 栗田工業株式会社 | 休止中のボイラの防食方法 |
US6540923B2 (en) * | 2000-12-05 | 2003-04-01 | Kurita Water Industries Ltd. | Oxygen scavenger |
JP3705355B2 (ja) | 2001-07-30 | 2005-10-12 | 栗田工業株式会社 | ボイラ給水用脱酸素剤 |
JP3624945B2 (ja) | 2001-07-30 | 2005-03-02 | 栗田工業株式会社 | 脱酸素剤 |
JP3624944B2 (ja) | 2001-07-30 | 2005-03-02 | 栗田工業株式会社 | 脱酸素剤 |
US6669853B2 (en) * | 2001-08-09 | 2003-12-30 | Ashland Inc. | Composition for removing dissolved oxygen from a fluid |
JP5140899B2 (ja) | 2001-08-30 | 2013-02-13 | 株式会社片山化学工業研究所 | ボイラの水処理方法 |
-
2003
- 2003-04-28 JP JP2003123464A patent/JP3855961B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2004
- 2004-03-18 KR KR1020057003774A patent/KR100987742B1/ko active IP Right Grant
- 2004-03-18 WO PCT/JP2004/003701 patent/WO2004097071A1/ja not_active Application Discontinuation
- 2004-03-18 CN CNA200480010592XA patent/CN1777701A/zh active Pending
- 2004-03-18 MX MXPA05002421A patent/MXPA05002421A/es active IP Right Grant
- 2004-03-18 EP EP04721722A patent/EP1619272A1/en not_active Withdrawn
-
2005
- 2005-01-28 US US11/044,292 patent/US7112284B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007022961A (ja) * | 2005-07-15 | 2007-02-01 | Asanuma Corporation | 水除去性美爪料 |
JP2011080725A (ja) * | 2009-10-09 | 2011-04-21 | Kurita Water Ind Ltd | ボイラ装置の運転方法 |
JP2011174173A (ja) * | 2010-01-28 | 2011-09-08 | Kurita Water Ind Ltd | ボイラ用防食剤 |
JP2016191152A (ja) * | 2010-01-28 | 2016-11-10 | 栗田工業株式会社 | ボイラの防食方法及び防食剤 |
WO2012101844A1 (ja) * | 2011-01-25 | 2012-08-02 | 栗田工業株式会社 | ボイラ用防食剤 |
CN103403226A (zh) * | 2011-01-25 | 2013-11-20 | 栗田工业株式会社 | 锅炉用防腐剂 |
JP2018003124A (ja) * | 2016-07-06 | 2018-01-11 | 栗田工業株式会社 | ボイラ用脱酸素剤、及びボイラ水系の脱酸素方法 |
WO2018008477A1 (ja) * | 2016-07-06 | 2018-01-11 | 栗田工業株式会社 | ボイラ用脱酸素剤、及びボイラ水系の脱酸素方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1619272A1 (en) | 2006-01-25 |
US7112284B2 (en) | 2006-09-26 |
US20050156143A1 (en) | 2005-07-21 |
KR20060005336A (ko) | 2006-01-17 |
MXPA05002421A (es) | 2005-11-16 |
KR100987742B1 (ko) | 2010-10-18 |
JP3855961B2 (ja) | 2006-12-13 |
CN1777701A (zh) | 2006-05-24 |
WO2004097071A1 (ja) | 2004-11-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7112284B2 (en) | Oxygen scavenger and the method for oxygen reduction treatment | |
KR100342269B1 (ko) | 산소 소거제 및 보일러수 처리용 화학물질 | |
TWI515340B (zh) | 鍋爐的抗蝕方法 | |
US10703659B2 (en) | Scale remover in steam generating facility | |
JP6160741B2 (ja) | ボイラの防食方法及び防食剤 | |
JP6256538B2 (ja) | ボイラ用脱酸素剤、及びボイラ水系の脱酸素方法 | |
WO2007058132A1 (ja) | 休止中のボイラの防食方法 | |
JP2013194256A (ja) | 防食方法 | |
JP2013068341A (ja) | ボイラにおけるエコノマイザの防食方法 | |
JP2006274337A (ja) | ボイラ水系処理剤、及び、ボイラ水系処理方法 | |
JP2003004203A (ja) | 軟水仕様蒸気ボイラ装置の運転方法 | |
JP5691697B2 (ja) | 蒸気発生設備の水処理方法 | |
JP3287243B2 (ja) | 脱酸素剤 | |
JP3552460B2 (ja) | 脱酸素剤 | |
JP2003231980A (ja) | ボイラ用の防食剤 | |
JP3963040B2 (ja) | 脱酸素剤 | |
JP3705355B2 (ja) | ボイラ給水用脱酸素剤 | |
JP4066195B2 (ja) | 脱酸素剤 | |
JP4066194B2 (ja) | 脱酸素剤 | |
JP2005342716A (ja) | ボイラ給水用脱酸素剤 | |
JPH1119510A (ja) | ボイラ用脱酸素剤 | |
JP2002146565A (ja) | 脱酸素剤 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060502 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060630 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20060822 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20060904 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 3855961 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090922 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100922 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110922 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120922 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130922 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140922 Year of fee payment: 8 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |