JP2003231980A - ボイラ用の防食剤 - Google Patents
ボイラ用の防食剤Info
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- JP2003231980A JP2003231980A JP2002034028A JP2002034028A JP2003231980A JP 2003231980 A JP2003231980 A JP 2003231980A JP 2002034028 A JP2002034028 A JP 2002034028A JP 2002034028 A JP2002034028 A JP 2002034028A JP 2003231980 A JP2003231980 A JP 2003231980A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 少ない薬剤量で高温腐食環境におけるｐＨ上
昇が容易であり、揮発性が低くて蒸気への移行が少な
く、このため反応系への影響が少ないうえ、脱酸素剤を
併用する場合に脱酸能力を高くすることができ、少ない
添加量で高い防食効果が得られるボイラ用の防食剤を提
供する。 【解決手段】 メチルジエタノールアミンを含む防食剤
であって、さらにヒドラジン、１−アミノピロリジン、
Ｎ，Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミン等の脱酸素剤、防
食剤を、低・中圧ボイラのボイラ水に添加して防食を行
う。
昇が容易であり、揮発性が低くて蒸気への移行が少な
く、このため反応系への影響が少ないうえ、脱酸素剤を
併用する場合に脱酸能力を高くすることができ、少ない
添加量で高い防食効果が得られるボイラ用の防食剤を提
供する。 【解決手段】 メチルジエタノールアミンを含む防食剤
であって、さらにヒドラジン、１−アミノピロリジン、
Ｎ，Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミン等の脱酸素剤、防
食剤を、低・中圧ボイラのボイラ水に添加して防食を行
う。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はボイラで発生する腐
食を防止するための防食剤、特に石油化学プラント、石
油精製プラント等で用いられる低・中圧ボイラの防食に
適したボイラ用の防食剤に関するものである。
食を防止するための防食剤、特に石油化学プラント、石
油精製プラント等で用いられる低・中圧ボイラの防食に
適したボイラ用の防食剤に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】ボイラはボイラ水を高温で蒸気を発生さ
せる構造となっており、ボイラを構成する金属（特に
鉄）の腐食を防止するために防食剤が使用されている。
石油化学プラント、石油精製プラントなどでは、排水や
廃熱の有効利用のために、排水（プロセスコンデンセー
ト）を給水とする、０．０１〜２ＭＰａ−Ｇの低・中圧
廃熱ボイラが利用されていることが多い。これらのボイ
ラで発生する蒸気は、プロセスの反応系で利用されるこ
とがある。このような場合、無機のアルカリ性分や固形
分は反応系に悪影響を与えることがあるため、これらの
ボイラの防食には揮発性防食剤として用いられている中
和性アミンが採用されている。このような系で使用され
ている代表的な防食剤としてはモノエタノールアミン
（以下、ＭＥＡという場合がある）、モノイソプロパノ
ールアミン（以下、ＭＩＰＡという場合がある）などが
ある。
せる構造となっており、ボイラを構成する金属（特に
鉄）の腐食を防止するために防食剤が使用されている。
石油化学プラント、石油精製プラントなどでは、排水や
廃熱の有効利用のために、排水（プロセスコンデンセー
ト）を給水とする、０．０１〜２ＭＰａ−Ｇの低・中圧
廃熱ボイラが利用されていることが多い。これらのボイ
ラで発生する蒸気は、プロセスの反応系で利用されるこ
とがある。このような場合、無機のアルカリ性分や固形
分は反応系に悪影響を与えることがあるため、これらの
ボイラの防食には揮発性防食剤として用いられている中
和性アミンが採用されている。このような系で使用され
ている代表的な防食剤としてはモノエタノールアミン
（以下、ＭＥＡという場合がある）、モノイソプロパノ
ールアミン（以下、ＭＩＰＡという場合がある）などが
ある。
【０００３】しかし石油化学プラント、石油精製プラン
ト等の廃熱ボイラで採用されている従来の揮発性防食剤
の処理では、以下のような問題点がある。 （１）高温腐食環境でのｐＨが上がりにくい。 低・中圧ボイラ、特に１ＭＰａ−Ｇ以下のボイラにおい
ては、溶存酸素に起因する腐食が起こることが多い。そ
の対策としては、高温腐食環境でｐＨを上昇させ、併用
する脱酸素剤の効果を上げることが有効である。しか
し、従来の揮発性の防食剤は、高温腐食環境における解
離度が小さく、ｐＨを上げにくかった。このため、ｐＨ
を上げるためには多量の揮発性防食剤を注入せざるを得
ず、コスト高になる。 （２）反応系への影響 対象となるような廃熱ボイラで発生する蒸気は、プロセ
スの反応系で使用されることが多いが、反応系では多く
の触媒が使われており、中和性アミンのような含窒素化
合物は、これらの触媒に対して悪影響を及ぼす場合が多
い。特に前記のようにｐＨを上げるために多量に添加す
ると、影響が大きい。 （３）揮発性が高い 従来のアミンは、揮発性が高く、蒸気へ移行する量が多
かった。このため、廃熱ボイラ系に添加できる揮発性防
食剤の量にも制限があった。これらの理由により、高温
腐食環境において十分にｐＨを上昇させ、かつスチーム
への移行性の低い揮発性防食剤が求められていた。
ト等の廃熱ボイラで採用されている従来の揮発性防食剤
の処理では、以下のような問題点がある。 （１）高温腐食環境でのｐＨが上がりにくい。 低・中圧ボイラ、特に１ＭＰａ−Ｇ以下のボイラにおい
ては、溶存酸素に起因する腐食が起こることが多い。そ
の対策としては、高温腐食環境でｐＨを上昇させ、併用
する脱酸素剤の効果を上げることが有効である。しか
し、従来の揮発性の防食剤は、高温腐食環境における解
離度が小さく、ｐＨを上げにくかった。このため、ｐＨ
を上げるためには多量の揮発性防食剤を注入せざるを得
ず、コスト高になる。 （２）反応系への影響 対象となるような廃熱ボイラで発生する蒸気は、プロセ
スの反応系で使用されることが多いが、反応系では多く
の触媒が使われており、中和性アミンのような含窒素化
合物は、これらの触媒に対して悪影響を及ぼす場合が多
い。特に前記のようにｐＨを上げるために多量に添加す
ると、影響が大きい。 （３）揮発性が高い 従来のアミンは、揮発性が高く、蒸気へ移行する量が多
かった。このため、廃熱ボイラ系に添加できる揮発性防
食剤の量にも制限があった。これらの理由により、高温
腐食環境において十分にｐＨを上昇させ、かつスチーム
への移行性の低い揮発性防食剤が求められていた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、少な
い薬剤量で高温腐食環境におけるｐＨ上昇が容易であ
り、揮発性が低くて蒸気への移行が少なく、このため反
応系への影響が少ないうえ、脱酸素剤を併用する場合に
脱酸能力を高くすることができ、少ない添加量で高い防
食効果が得られるボイラ用の防食剤を提供することであ
る。
い薬剤量で高温腐食環境におけるｐＨ上昇が容易であ
り、揮発性が低くて蒸気への移行が少なく、このため反
応系への影響が少ないうえ、脱酸素剤を併用する場合に
脱酸能力を高くすることができ、少ない添加量で高い防
食効果が得られるボイラ用の防食剤を提供することであ
る。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は次のボイラ用防
食剤である。 （１） メチルジエタノールアミンを含むボイラ用の防
食剤。 （２） メチルジエタノールアミンおよび脱酸素剤を含
むボイラ用の防食剤。 （３） 脱酸素剤がヒドラジン、１−アミノピロリジン
およびＮ，Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミンから選ばれ
る１種以上の化合物である上記（２）記載の防食剤。
食剤である。 （１） メチルジエタノールアミンを含むボイラ用の防
食剤。 （２） メチルジエタノールアミンおよび脱酸素剤を含
むボイラ用の防食剤。 （３） 脱酸素剤がヒドラジン、１−アミノピロリジン
およびＮ，Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミンから選ばれ
る１種以上の化合物である上記（２）記載の防食剤。
【０００６】本発明で防食剤の成分として用いるメチル
ジエタノールアミン（以下、ＭＤＥＡという場合があ
る）はＣＨ3Ｎ(ＣＨ2ＣＨ2ＯＨ)2で表される化合物であ
る。ＭＤＥＡはそれ単独で防食剤とすることもでき、ま
た他の防食剤、脱酸素剤、皮膜性防食剤、安定剤その他
の補助剤と併用してもよい。
ジエタノールアミン（以下、ＭＤＥＡという場合があ
る）はＣＨ3Ｎ(ＣＨ2ＣＨ2ＯＨ)2で表される化合物であ
る。ＭＤＥＡはそれ単独で防食剤とすることもでき、ま
た他の防食剤、脱酸素剤、皮膜性防食剤、安定剤その他
の補助剤と併用してもよい。
【０００７】本発明ではＭＤＥＡと脱酸素剤とを併用す
る防食剤が好ましい。脱酸素剤としては従来より公知の
ものが使用できるが、ヒドラジン、１−アミノピロリジ
ンおよびＮ，Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミンから選ば
れる１種以上の化合物が好ましい。
る防食剤が好ましい。脱酸素剤としては従来より公知の
ものが使用できるが、ヒドラジン、１−アミノピロリジ
ンおよびＮ，Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミンから選ば
れる１種以上の化合物が好ましい。
【０００８】ＭＤＥＡまたはＭＤＥＡと脱酸素剤の複合
剤を含む防食剤は、これらのみからなるものでもよく、
また水その他の溶媒その他の成分を含むものであっても
よい。複合剤の場合、それぞれの成分を別々にボイラに
注入して複合させてもよく、また予め配合剤としてボイ
ラに添加するようにしてもよい。
剤を含む防食剤は、これらのみからなるものでもよく、
また水その他の溶媒その他の成分を含むものであっても
よい。複合剤の場合、それぞれの成分を別々にボイラに
注入して複合させてもよく、また予め配合剤としてボイ
ラに添加するようにしてもよい。
【０００９】ＭＤＥＡを含む防食剤において、ＭＤＥＡ
の配合割合は１〜１００重量％であり、前述のように他
の薬剤との複合物であってもよい。ＭＤＥＡと脱酸素剤
とを含む防食剤とする場合、両者の配合割合はＭＤＥＡ
がボイラ水所定のｐＨ、一般的にはｐＨ１０．５〜１
１．５に調整するのに必要な割合、また脱酸素剤がその
ｐＨで所定の溶存酸素濃度、一般的には２μｇ／ｌ以下
に脱酸素できる割合であるが、一般的にＭＤＥＡ１〜９
９．９重量％、好ましくは４０〜８５重量％、脱酸素剤
が９９〜０．１重量％、好ましくは０．１〜５重量％と
することができる。他の防食剤その他の薬剤の添加量は
その目的の範囲で任意に決めることができる。溶媒の配
合割合は任意に決めることができるが、全く含まなくて
もよく、薬剤自体の吸湿性により吸湿される範囲で含ん
でいてもよい。
の配合割合は１〜１００重量％であり、前述のように他
の薬剤との複合物であってもよい。ＭＤＥＡと脱酸素剤
とを含む防食剤とする場合、両者の配合割合はＭＤＥＡ
がボイラ水所定のｐＨ、一般的にはｐＨ１０．５〜１
１．５に調整するのに必要な割合、また脱酸素剤がその
ｐＨで所定の溶存酸素濃度、一般的には２μｇ／ｌ以下
に脱酸素できる割合であるが、一般的にＭＤＥＡ１〜９
９．９重量％、好ましくは４０〜８５重量％、脱酸素剤
が９９〜０．１重量％、好ましくは０．１〜５重量％と
することができる。他の防食剤その他の薬剤の添加量は
その目的の範囲で任意に決めることができる。溶媒の配
合割合は任意に決めることができるが、全く含まなくて
もよく、薬剤自体の吸湿性により吸湿される範囲で含ん
でいてもよい。
【００１０】対象系としては０．０１〜２Ｍｐａ−Ｇ
（０．１〜２０ｋｇｆ／ｃｍ2Ｇ）の低・中圧ボイラが
適しており、特に石油化学プラント、石油精製プラント
などに設置されている廃熱ボイラ、例えばスチレンモノ
マー製造プラントの廃熱ボイラやエチレンプラントの廃
熱ボイラなどでの適用が有効であるが、使用対象をこれ
らの廃熱ボイラに限るものではなく、ボイラ一般に適用
することができる。
（０．１〜２０ｋｇｆ／ｃｍ2Ｇ）の低・中圧ボイラが
適しており、特に石油化学プラント、石油精製プラント
などに設置されている廃熱ボイラ、例えばスチレンモノ
マー製造プラントの廃熱ボイラやエチレンプラントの廃
熱ボイラなどでの適用が有効であるが、使用対象をこれ
らの廃熱ボイラに限るものではなく、ボイラ一般に適用
することができる。
【００１１】本発明の防食剤は上記ボイラのボイラ水に
添加した状態で防食効果を発揮する。ボイラ水に添加す
る方法としては給水系に添加することにより、防食剤が
給水とともにボイラに至り、そこでボイラ水に混合する
のが好ましいが、ボイラ水に直接添加してもよい。ボイ
ラではＭＤＥＡは一部揮発して蒸気とともに持ち出さ
れ、また脱酸素剤は脱酸素作用により消費されるので、
給水に所定量添加することにより、ボイラ水における防
食剤濃度を一定に保持することができる。
添加した状態で防食効果を発揮する。ボイラ水に添加す
る方法としては給水系に添加することにより、防食剤が
給水とともにボイラに至り、そこでボイラ水に混合する
のが好ましいが、ボイラ水に直接添加してもよい。ボイ
ラではＭＤＥＡは一部揮発して蒸気とともに持ち出さ
れ、また脱酸素剤は脱酸素作用により消費されるので、
給水に所定量添加することにより、ボイラ水における防
食剤濃度を一定に保持することができる。
【００１２】防食剤の添加量は、ＭＤＥＡがボイラ水の
ｐＨを前記値に調整するのに必要な量であり、また脱酸
素剤がそのｐＨにおいて前記所定の溶存酸素濃度に維持
するのに必要な量である。一般的には、ＭＤＥＡ、脱酸
素剤のそれぞれについてボイラ水中の濃度として１００
〜１００００ｍｇ／ｌ、好ましくは５００〜１０００ｍ
ｇ／ｌ、給水に添加する場合は給水に対して１〜１００
０ｍｇ／ｌ、好ましくは５０〜２００ｍｇ／ｌとするこ
とができる。
ｐＨを前記値に調整するのに必要な量であり、また脱酸
素剤がそのｐＨにおいて前記所定の溶存酸素濃度に維持
するのに必要な量である。一般的には、ＭＤＥＡ、脱酸
素剤のそれぞれについてボイラ水中の濃度として１００
〜１００００ｍｇ／ｌ、好ましくは５００〜１０００ｍ
ｇ／ｌ、給水に添加する場合は給水に対して１〜１００
０ｍｇ／ｌ、好ましくは５０〜２００ｍｇ／ｌとするこ
とができる。
【００１３】ＭＤＥＡをボイラ水に添加することによ
り、ボイラ水中の高温腐食環境でのｐＨが上昇しこれに
より腐食性は低下する。また脱酸素剤を併用する場合は
ｐＨ上昇により脱酸素剤の脱酸素効率を高くすることが
できる。このため高温腐食環境での防食効果が大きくな
る。ＭＤＥＡは高温腐食環境での解離性が従来のものよ
りも高いため、少量の添加量で所定のｐＨに上げること
ができる。しかも揮発性は低いため蒸気への持出は少な
く、このため薬剤の系外への持出による防食効果の減少
を少なくするとともに、反応系等への悪影響を小さくす
ることができる。ｐＨ上昇により脱酸素効果も高くなる
ので、脱酸素剤の使用量も少なくすることができる。
り、ボイラ水中の高温腐食環境でのｐＨが上昇しこれに
より腐食性は低下する。また脱酸素剤を併用する場合は
ｐＨ上昇により脱酸素剤の脱酸素効率を高くすることが
できる。このため高温腐食環境での防食効果が大きくな
る。ＭＤＥＡは高温腐食環境での解離性が従来のものよ
りも高いため、少量の添加量で所定のｐＨに上げること
ができる。しかも揮発性は低いため蒸気への持出は少な
く、このため薬剤の系外への持出による防食効果の減少
を少なくするとともに、反応系等への悪影響を小さくす
ることができる。ｐＨ上昇により脱酸素効果も高くなる
ので、脱酸素剤の使用量も少なくすることができる。
【００１４】
【発明の効果】以上の通り本発明によれば、特定の薬剤
を用いることにより、少ない薬剤量で高温腐食環境にお
けるｐＨ上昇が容易であり、揮発性が低くて蒸気への移
行が少なく、このため反応系への影響が少ないうえ、脱
酸素剤を併用する場合に脱酸能力を高くすることがで
き、少ない添加量で高い防食効果が得られる。
を用いることにより、少ない薬剤量で高温腐食環境にお
けるｐＨ上昇が容易であり、揮発性が低くて蒸気への移
行が少なく、このため反応系への影響が少ないうえ、脱
酸素剤を併用する場合に脱酸能力を高くすることがで
き、少ない添加量で高い防食効果が得られる。
【００１５】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て説明する。各例中、％は重量％である。
て説明する。各例中、％は重量％である。
【００１６】実施例１、比較例１、２
実施例１としてＭＤＥＡ、比較例１としてＭＥＡ、比較
例２としてＭＩＰＡの２５℃、１００℃、１７０℃にお
ける解離度ならびに１００℃、１７０℃における揮発度
を調べた結果を表１に示す。
例２としてＭＩＰＡの２５℃、１００℃、１７０℃にお
ける解離度ならびに１００℃、１７０℃における揮発度
を調べた結果を表１に示す。
【００１７】
【表１】
【００１８】表１よりＭＤＥＡは２５℃の解離度は従来
品であるＭＥＡ、ＭＩＰＡに比べて低いが、１００℃、
１７０℃の解離度は従来品より高く、高温腐食環境にお
けるｐＨ上昇効果が大きいことが解る。またＭＤＥＡは
従来品であるＭＥＡ、ＭＩＰＡに比べると高温腐食環境
における揮発度は１／２以下であり、蒸気への移行が少
ないことがわかる。
品であるＭＥＡ、ＭＩＰＡに比べて低いが、１００℃、
１７０℃の解離度は従来品より高く、高温腐食環境にお
けるｐＨ上昇効果が大きいことが解る。またＭＤＥＡは
従来品であるＭＥＡ、ＭＩＰＡに比べると高温腐食環境
における揮発度は１／２以下であり、蒸気への移行が少
ないことがわかる。
【００１９】実施例２
実施例２として、ＭＤＥＡ８３重量％および脱酸素剤と
してのヒドラジン０．３重量％（残部水）を含む防食剤
について小型ボイラを用いて防食試験を実施した。試験
条件は、防食剤の添加量：給水に対して１００ｍｇ／
ｌ、圧力：０．１Ｍｐａ−Ｇ、給水：プロセスコンデン
セート（ｐＨ＝９．０、炭酸（ＣＯ2）２０ｍｇ／ｌ、
ブロー率：１％である。それぞれの試験において効果の
確認は、ブロー水中の溶存酸素、全鉄、腐食環境でのｐ
Ｈ、スチーム中の全窒素、ボイラ缶内における腐食速度
について行った。結果を表２に示す。
してのヒドラジン０．３重量％（残部水）を含む防食剤
について小型ボイラを用いて防食試験を実施した。試験
条件は、防食剤の添加量：給水に対して１００ｍｇ／
ｌ、圧力：０．１Ｍｐａ−Ｇ、給水：プロセスコンデン
セート（ｐＨ＝９．０、炭酸（ＣＯ2）２０ｍｇ／ｌ、
ブロー率：１％である。それぞれの試験において効果の
確認は、ブロー水中の溶存酸素、全鉄、腐食環境でのｐ
Ｈ、スチーム中の全窒素、ボイラ缶内における腐食速度
について行った。結果を表２に示す。
【００２０】実施例３
実施例３として、ＭＤＥＡ８３重量％および脱酸素剤と
しての１−アミノピロリジン０．６重量％（残部水）を
含む防食剤について、実施例２と同様にして防食試験を
実施した。結果を表２に示す。
しての１−アミノピロリジン０．６重量％（残部水）を
含む防食剤について、実施例２と同様にして防食試験を
実施した。結果を表２に示す。
【００２１】実施例４
実施例４として、ＭＤＥＡ８３重量％および脱酸素剤と
してのＮ,Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミン１．０重量
％（残部水）を含む防食剤について、実施例２と同様に
して防食試験を実施した。結果を表２に示す。
してのＮ,Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミン１．０重量
％（残部水）を含む防食剤について、実施例２と同様に
して防食試験を実施した。結果を表２に示す。
【００２２】比較例３
比較例３として、ＭＩＰＡ８３重量％および脱酸素剤と
してヒドラジン０．３重量％（残部水）を含む防食剤に
ついて、実施例２と同様にして防食試験を実施した。結
果を表２に示す。
してヒドラジン０．３重量％（残部水）を含む防食剤に
ついて、実施例２と同様にして防食試験を実施した。結
果を表２に示す。
【００２３】
【表２】
【００２４】以上の結果、本発明品は従来品に比べる
と、腐食環境でのｐＨを上げやすく、かつ蒸気中全窒素
の値から蒸気中への移行率も低いことが確認できた。こ
れらの効果により、脱酸素能力の向上、防食効果の改善
がはかられることも確認できた。
と、腐食環境でのｐＨを上げやすく、かつ蒸気中全窒素
の値から蒸気中への移行率も低いことが確認できた。こ
れらの効果により、脱酸素能力の向上、防食効果の改善
がはかられることも確認できた。
Claims (3)
- 【請求項１】 メチルジエタノールアミンを含むボイラ
用の防食剤。 - 【請求項２】 メチルジエタノールアミンおよび脱酸素
剤を含むボイラ用の防食剤。 - 【請求項３】 脱酸素剤がヒドラジン、１−アミノピロ
リジンおよびＮ，Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミンから
選ばれる１種以上の化合物である請求項２記載の防食
剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002034028A JP2003231980A (ja) | 2002-02-12 | 2002-02-12 | ボイラ用の防食剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002034028A JP2003231980A (ja) | 2002-02-12 | 2002-02-12 | ボイラ用の防食剤 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003231980A true JP2003231980A (ja) | 2003-08-19 |
Family
ID=27776652
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002034028A Pending JP2003231980A (ja) | 2002-02-12 | 2002-02-12 | ボイラ用の防食剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003231980A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006169627A (ja) * | 2004-11-17 | 2006-06-29 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 防錆剤 |
| CN100353160C (zh) * | 2005-09-22 | 2007-12-05 | 上海宝钢设备检修有限公司 | 联氨分析仪加药方法 |
| JP2012188682A (ja) * | 2011-03-08 | 2012-10-04 | Kurita Water Ind Ltd | ボイラ水処理剤及びボイラの水処理方法 |
| JP2016191152A (ja) * | 2010-01-28 | 2016-11-10 | 栗田工業株式会社 | ボイラの防食方法及び防食剤 |
| CN115180726A (zh) * | 2021-12-09 | 2022-10-14 | 青岛华节鼎孚节能科技有限公司 | 一种无磷锅炉水节能剂及其制备方法和应用 |
-
2002
- 2002-02-12 JP JP2002034028A patent/JP2003231980A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006169627A (ja) * | 2004-11-17 | 2006-06-29 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 防錆剤 |
| CN100353160C (zh) * | 2005-09-22 | 2007-12-05 | 上海宝钢设备检修有限公司 | 联氨分析仪加药方法 |
| JP2016191152A (ja) * | 2010-01-28 | 2016-11-10 | 栗田工業株式会社 | ボイラの防食方法及び防食剤 |
| JP2012188682A (ja) * | 2011-03-08 | 2012-10-04 | Kurita Water Ind Ltd | ボイラ水処理剤及びボイラの水処理方法 |
| CN115180726A (zh) * | 2021-12-09 | 2022-10-14 | 青岛华节鼎孚节能科技有限公司 | 一种无磷锅炉水节能剂及其制备方法和应用 |
| CN115180726B (zh) * | 2021-12-09 | 2023-06-27 | 青岛华节鼎孚节能科技有限公司 | 一种无磷锅炉水节能剂及其制备方法和应用 |
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