JP2004301974A - 走査光学装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】レジストレーション性能の安定したタンデム型の走査光学装置を提供する。
【解決手段】4本のレーザービーム(LY,LM.LC,LK)を偏向させる偏向器(10)と、偏向後のレーザービーム(LY,LM.LC,LK)を対応する感光体(30Y,30M,30C,30K)に分けて導くとともに各感光体(30Y,30M,30C,30K)上で結像走査させる走査光学系(20)とを備える。走査光学系(20)は、各感光体(30Y,30M,30C,30K)に導くレーザービーム(LY,LM.LC,LK)に対してそれぞれ光学的に作用する4つの光学素子群(24Y,24M,24C,24K)を有する。3つの光学素子群(24Y,24M,24C)には、レジストレーション調整のための調整機構が設けられている。レジストレーション調整のための基準ビームとして用いられるレーザービーム(LK)に対して光学的に作用する光学素子群(24K)には、調整機構が設けられていない。
【選択図】 図2
【解決手段】4本のレーザービーム(LY,LM.LC,LK)を偏向させる偏向器(10)と、偏向後のレーザービーム(LY,LM.LC,LK)を対応する感光体(30Y,30M,30C,30K)に分けて導くとともに各感光体(30Y,30M,30C,30K)上で結像走査させる走査光学系(20)とを備える。走査光学系(20)は、各感光体(30Y,30M,30C,30K)に導くレーザービーム(LY,LM.LC,LK)に対してそれぞれ光学的に作用する4つの光学素子群(24Y,24M,24C,24K)を有する。3つの光学素子群(24Y,24M,24C)には、レジストレーション調整のための調整機構が設けられている。レジストレーション調整のための基準ビームとして用いられるレーザービーム(LK)に対して光学的に作用する光学素子群(24K)には、調整機構が設けられていない。
【選択図】 図2
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は走査光学装置に関するものであり、例えばカラー画像形成装置(カラーレーザープリンタ,カラーデジタル複写機等)において、複数のレーザービームを偏向走査することにより、複数の感光体のそれぞれに画像を露光記録するタンデム型の走査光学装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
Y(黄),M(マゼンタ),C(シアン),K(黒)の4色に対応した4本のレーザービームを偏向させて、4つの感光体にそれぞれ画像を露光記録するタンデム型の走査光学装置が従来より知られている(例えば、特許文献1参照。)。偏向後の4本のレーザービームは、対応する感光体に到達するまでに光路分離され、光路分離された各レーザービームは、対応する光学素子(ミラー,レンズ等)により光学的な作用(反射,屈折等)を受けることになる。各光学素子には調整機構が設けられており、レーザービーム毎に感光体に対する入射位置が調整されることによってレジストレーション性能が確保される。
【0003】
【特許文献1】
特開2002−148542号公報
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
上記のように調整機構を各光学素子に設けておけば、初期のレジストレーション性能を良好にすることは可能である。しかし、レーザービーム4本のうちの1本はレジストレーション調整のための基準ビームとして用いられるため、基準ビームに対して作用する光学素子の調整機構は、レジストレーション性能を低下させる原因の1つとなる。例えば、レジストレーション性能が良好に調整されていても、環境変化(温度変化等)や振動(輸送時の振動等)によって基準ビーム用の調整機構に状態変化(膨張・収縮,位置ズレ等)が生じると、他の光学素子及び調整機構の状態に変化がなくてもレジストレーション性能は低下してしまう。つまり基準ビーム用の調整機構は、他のビーム用の調整機構よりもレジストレーション性能に与える影響の大きい不安定要素といえる。したがって、従来の走査光学装置では安定したレジストレーション性能が得られないという問題がある。
【0005】
本発明はこのような状況に鑑みてなされたものであって、その目的は、レジストレーション性能の安定したタンデム型の走査光学装置を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、第1の発明の走査光学装置は、複数のビームを偏向させる偏向器と、偏向後の複数のビームを対応する被走査面に分けて導くとともに各被走査面上で結像走査させる走査光学系と、を備えたタンデム型の走査光学装置であって、前記走査光学系が各被走査面に導くビームに対してそれぞれ光学的に作用する複数の光学素子群を有し、前記複数の光学素子群のうちの少なくとも1つには、レジストレーション調整のための調整機構が設けられており、前記レジストレーション調整のための基準ビームとして用いられるビームに対して光学的に作用する光学素子群には、前記調整機構が設けられていないことを特徴とする。
【0007】
第2の発明の走査光学装置は、上記第1の発明において、前記複数の光学素子群のうち光学素子数の最も少ない光学素子群が、前記基準ビームとして用いられるビームに対して光学的に作用する光学素子群であることを特徴とする。
【0008】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を実施した走査光学装置を、図面を参照しつつ説明する。図1にタンデム型走査光学装置の一実施の形態を示し、その概略光学構成を図2に示す。図1,図2中、10はポリゴンミラーから成る偏向器、20は走査光学系、30Y,30M,30C,30Kは被走査面を構成する感光体、40はハウジング、LY,LM,LC,LKはレーザービームである。1は第1レンズ、2は第2レンズであり、図2に示すように4本のレーザービーム(LY,LM,LC,LK)が共に入射する共通光学素子群(22)は、第1レンズ(1)と第2レンズ(2)で構成されている。3Y,3M,3C,3Kは平面反射面を有する第1ミラー、4M,4C,4Kは平面反射面を有する第2ミラー、5Y,5M,5C,5Kは副走査方向にのみ光学的パワーを有する長尺レンズである。図2に示すように、4本のレーザービーム(LY,LM,LC,LK)に対して個別に作用する4つの光学素子群(24Y,24M,24C,24K)は、第1ミラー(3Y,3M,3C,3K),第2ミラー(4M,4C,4K)及び長尺レンズ(5Y,5M,5C,5K)で構成されている。また、図1中の9Y,9M,9Cはレジストレーション調整{感光体(30Y,30M,30C,30K)の被走査面上での基準ビームに対する相対的なビーム位置調整}のための調整機構である。
【0009】
この走査光学装置は、Y(黄),M(マゼンタ),C(シアン),K(黒)の各色に対応した4つの感光体(30Y,30M,30C,30K)に対して、4本のレーザービーム(LY,LM,LC,LK)で同時に画像記録を行うタイプのタンデム型レーザー走査装置であり、カラーレーザープリンタ,カラーデジタル複写機等のカラー画像形成装置に使用される。カラー画像形成装置においては、4つの感光体(30Y,30M,30C,30K)に形成された画像が、現像の後、同じ紙に転写されることによってカラー画像となる。4つの感光体(30Y,30M,30C,30K)のそれぞれに対する描画のための光源として、4つのレーザーダイオード(不図示)が走査光学装置に搭載されている。つまり、1つのレーザーダイオードが1本のレーザービームを射出し、1つの感光体に対する露光走査を1本のレーザービームで行う構成になっている。なお、2本以上のレーザービームを射出するマルチビームタイプの光源を用いて、1つの感光体に対する露光走査を2本以上のレーザービームで行う構成にしてもよい。また、ビーム数も4本に限らず、装置の光学構成に応じて必要とされる複数のレーザービームで偏向走査を行う構成にしてもよい。
【0010】
4つのレーザーダイオードから発せられた4本のレーザービーム(LY,LM,LC,LK)は、ビーム整形された後、偏向器(10)の同一位置にある反射面上で副走査方向にのみ集光して線状の光源像を形成する。その際、4本のレーザービーム(LY,LM,LC,LK)は、偏向器(10)の反射面に対して副走査方向に互いに異なる角度で入射する。そして、偏向器(10)の回転する同一の反射面で同時に反射されることにより、主走査方向に偏向される。偏向反射されたレーザービーム(LY,LM,LC,LK)は、副走査方向に互いに異なる角度で反射されるため、空間的に光路分離されながら走査光学系(20)に入射することになる。走査光学系(20)は、図2に示すように1つの共通光学素子群(22)と4つの光学素子群(24Y,24M,24C,24K)とを有しており、偏向後の4本のレーザービーム(LY,LM,LC,LK)を対応する4つの感光体(30Y,30M,30C,30K)に1本ずつ分けて導くとともに、各感光体(30Y,30M,30C,30K)の被走査面上で結像走査させる。なお、各感光体(30Y,30M,30C,30K)に対するレーザービーム(LY,LM,LC,LK)の偏向走査の方向(図1の紙面に対して垂直方向)が主走査方向に対応し、その主走査方向と被走査面法線とに対して垂直な方向が副走査方向に対応する。
【0011】
走査光学系(20)において4本のレーザービーム(LY,LM,LC,LK)は、第1,第2レンズ(1,2)から成る共通光学素子群(22)により共に光学的な作用(屈折,回折等)を受けた後、各光学素子群(24Y,24M,24C,24K)に1本ずつ分かれて入射し、それぞれ光学的な作用(反射,屈折,回折等)を受けることになる。例えば、光学素子群(24Y)に入射したYのレーザービーム(LY)は、第1ミラー(3Y)で反射された後、長尺レンズ(5Y)を通って感光体(30Y)上で結像する。光学素子群(24M)に入射したMのレーザービーム(LM)は、第1,第2ミラー(3M,4M)で順に反射された後、長尺レンズ(5M)を通って感光体(30M)上で結像する。光学素子群(24C)に入射したCのレーザービーム(LC)は、第1,第2ミラー(3C,4C)で順に反射された後、長尺レンズ(5C)を通って感光体(30C)上で結像する。光学素子群(24K)に入射したKのレーザービーム(LK)は、第1,第2ミラー(3K,4K)で順に反射された後、長尺レンズ(5K)を通って感光体(30K)上で結像する。以上のようにして、4本のレーザービーム(LY,LM,LC,LK)により4つの感光体(30Y,30M,30C,30K)に対する露光走査が同時に行われる。
【0012】
Y,M,C用の光学素子群(24Y,24M,24C)の第1ミラー(3Y,3M,3C)には、図1に示すように、レジストレーション調整のための調整機構(9Y,9M,9C)が設けられている。さらに、図2に示すように、M,C用の光学素子群(24M,24C)の第2ミラー(4M,4C)やY,M,C用の光学素子群(24Y,24M,24C)の長尺レンズ(5Y,5M,5C)にも、レジストレーション調整のための調整機構が設けられている。これらのレジストレーション調整のための基準ビームとしては、Kのレーザービーム(LK)が用いられる。ただし、Kのレーザービーム(LK)に対して光学的に作用する光学素子群(24K)は、レジストレーション調整のための調整機構を有していない。
【0013】
Y,M,C用の第1ミラー(3Y,3M,3C)は、各々の調整機構(9Y,9M,9C)を介してハウジング(40)に保持されており、各調整機構(9Y,9M,9C)により主走査方向に傾斜するように構成されている。その調整機構(9Y,9M,9C)で第1ミラー(3Y,3M,3C)を主走査方向に傾けることにより、感光体(30Y,30M,30C)上でのビーム位置のズレを調整すれば、レジストレーション性能を良好にすることができる。また、第2ミラー(4M,4C)には、主走査方向に平行な軸を中心としてミラー(4M,4C)を回転させることにより、副走査方向のオフセットを調整する調整機構が設けられている。長尺レンズ(5Y,5M,5C)には、レンズ(5Y,5M,5C)を湾曲させることにより、ボウを調整する調整機構が設けられている。したがって、これらの調整機構によってもレジストレーション性能を良好にすることができる。なお、第1ミラー(3Y,3M,3C)に関しても、主走査方向に平行な軸を中心とした回転により、副走査方向のオフセット調整を行うことが可能である。
【0014】
上記のように3つの光学素子群(24Y,24M,24C)にはレジストレーション調整のための調整機構が設けられている一方で、基準ビームであるKのレーザービーム(LK)に対して光学的に作用する光学素子群(24K)には、レジストレーション調整のための調整機構が設けられていない。光学素子群(24K)は調整機構を介することなくハウジング(40)に保持されているため、レジストレーション性能に大きな影響を与える不安定要素が存在しないことになる。このため基準ビームが安定し、その結果、環境変化(温度変化等)や振動(輸送時の振動等)による影響を受けにくくなる。したがって、レジストレーション性能の安定化を達成することができる。
【0015】
この実施の形態(図1,図2)では、Y用の光学素子群(24Y)にミラーが1枚しか用いられていない。このためY用の光学素子群(24Y)は、4つの光学素子群(24Y,24M,24C,24K)のうちで光学素子数が最も少なくなっている。このように光学素子数の最も少ない光学素子群を、基準ビームとして用いられるレーザービームに対して光学的に作用する光学素子群とすれば、光学素子数が少ない分、基準ビームをより一層安定化させることが可能である。そのように基準ビームを変更したときの概略光学構成を図3に示す。図3から分かるように、介在する光学素子数の最も少ないYのレーザービーム(LY)が基準ビームになっており、Yのレーザービーム(LY)に対して光学的に作用する光学素子群(24Y)にはレジストレーション調整のための調整機構が設けられていない。したがって、環境変化(温度変化等)や振動(輸送時の振動等)による影響は更に受けにくくなり、更に安定したレジストレーション性能を得ることが可能となる。
【0016】
図2に示すY,M,C用の光学素子群(24Y,24M,24C)には、それらを構成しているすべての光学素子に調整機構が設けられている。また、図3に示すM,C,K用の光学素子群(24M,24C,24K)にも、それらを構成しているすべての光学素子に調整機構が設けられている。しかし、調整機構を必要とするか否かは、各光学素子に要求される部品精度やその保持部材に要求される部品精度等に応じて決定されるため、必ずしもすべての光学素子に調整機構を設ける必要はない。基準ビームに対して光学的に作用する光学素子群以外の光学素子群のうち、少なくとも1つに調整機構を設けるようにしてもよく、基準ビームに対して光学的に作用する光学素子群以外のすべての光学素子群が、各々少なくとも1つの調整機構を有する構成にしてもよい。また、基準ビームとして用いるビームの選択に関しても、前述した光学素子数、各光学素子に要求される部品精度、その保持部材に要求される部品精度等に応じて決定されるため、YMCKのいずれのレーザービーム(LY,LM,LC,LK)にも限定されない。同様に、各光学素子群(24Y,24M,24C,24K)内の光学素子の数も、図1〜図3に示すものに限定されない。これらの観点から、光学素子群(24Y,24M,24C,24K)の構成を一般化して図4に示す。
【0017】
図4に示すように、Y,M,C用の光学素子群(24Y,24M,24C)には各々少なくとも1つの調整機構が設けられている。このため、Kのレーザービーム(LK)に対するY,M,Cのレーザービーム(LY,LM,LC)の相対的な位置を確実に調整して、初期のレジストレーション性能を良好にすることが可能である。一方、基準ビームとして用いられているKのレーザービーム(LK)に対して光学的に作用する光学素子群(24K)には調整機構が設けられていない。このため、基準ビームが安定化され、初期の良好なレジストレーション性能は安定して保持される。
【0018】
なお、前述した実施の形態には以下の構成(i)〜(v)を有する発明が含まれており、その構成により基準ビームを安定化して、環境変化(温度変化等)や振動(輸送時の振動等)による影響を受けにくくし、レジストレーション性能の安定化を達成することができる。
(i) 複数のビームを対応する被走査面に分けて導くとともに各被走査面上で結像走査させるタンデム型の走査光学系であって、各被走査面に導くビームに対してそれぞれ光学的に作用する複数の光学素子群を有し、前記複数の光学素子群のうちの少なくとも1つが、レジストレーション調整のための調整機構を有し、前記レジストレーション調整のための基準ビームとして用いられるビームに対して光学的に作用する光学素子群が、前記調整機構を有しないことを特徴とする走査光学系。
(ii) 前記複数の光学素子群のうち光学素子数の最も少ない光学素子群の光学的な作用を受けるビームが前記基準ビームとして用いられることを特徴とする上記(i)記載の走査光学系。
【0019】
(iii) 複数のビームを偏向させる偏向器と、偏向後の複数のビームを対応する被走査面に分けて導くとともに各被走査面上で結像走査させる走査光学系と、を備えたタンデム型の走査光学装置であって、前記走査光学系が各被走査面に導くビームに対してそれぞれ光学的に作用する複数の光学素子群を有し、前記複数の光学素子群が、レジストレーション調整のための調整機構を少なくとも1つ有する複数の第1光学素子群と、レジストレーション調整のための調整機構を有しない第2光学素子群と、から成り、前記第2光学素子群がレジストレーション調整のための基準ビームとして用いられるビームに対して光学的に作用することを特徴とする走査光学装置。
(iv) 複数の光源と、各光源から発せられたビームを偏向させる偏向器と、偏向後の複数のビームを対応する被走査面に分けて導くとともに各被走査面上で結像走査させる走査光学系と、を備えたタンデム型の走査光学装置であって、前記走査光学系が各被走査面に導くビームに対してそれぞれ光学的に作用する複数の光学素子群を有し、前記複数の光学素子群が、レジストレーション調整のための調整機構を少なくとも1つ有する複数の第1光学素子群と、レジストレーション調整のための調整機構を有しない第2光学素子群と、から成り、前記第2光学素子群がレジストレーション調整のための基準ビームとして用いられるビームに対して光学的に作用することを特徴とする走査光学装置。
(v) 前記複数の光学素子群のうち前記第2光学素子群の光学素子数が最も少ないことを特徴とする上記(iii)又は(iv)記載の走査光学装置。
【0020】
【発明の効果】
以上説明したように本発明によれば、レジストレーション調整のための基準ビームとして用いられるビームに対して光学的に作用する光学素子群には、調整機構が設けられていないので、基準ビームは安定化され、環境変化(温度変化等)や振動(輸送時の振動等)による影響は受けにくくなる。したがって、レジストレーション性能の安定したタンデム型の走査光学装置を実現することができる。また、複数の光学素子群のうち光学素子数の最も少ない光学素子群を、基準ビームとして用いられるビームに対して光学的に作用する光学素子群とすることにより、レジストレーション性能を更に安定化することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】走査光学装置の一実施の形態を示す副走査断面図。
【図2】図1の走査光学装置の概略光学構成を示すブロック図。
【図3】図1の走査光学装置において基準ビームを変更したときの概略光学構成を示すブロック図。
【図4】図1の走査光学装置を光学素子群の構成が一般化された状態で示すブロック図。
【符号の説明】
LY,LM,LC,LK …レーザービーム
10 …偏向器
20 …走査光学系
22 …共通光学素子群
1 …第1レンズ
2 …第2レンズ
24Y,24M,24C,24K …光学素子群
3Y,3M,3C,3K …第1ミラー
4M,4C,4K …第2ミラー
5Y,5M,5C,5K …長尺レンズ
9Y,9M,9C …調整機構
30Y,30M,30C,30K …感光体(被走査面)
40 …ハウジング
【発明の属する技術分野】
本発明は走査光学装置に関するものであり、例えばカラー画像形成装置(カラーレーザープリンタ,カラーデジタル複写機等)において、複数のレーザービームを偏向走査することにより、複数の感光体のそれぞれに画像を露光記録するタンデム型の走査光学装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
Y(黄),M(マゼンタ),C(シアン),K(黒)の4色に対応した4本のレーザービームを偏向させて、4つの感光体にそれぞれ画像を露光記録するタンデム型の走査光学装置が従来より知られている(例えば、特許文献1参照。)。偏向後の4本のレーザービームは、対応する感光体に到達するまでに光路分離され、光路分離された各レーザービームは、対応する光学素子(ミラー,レンズ等)により光学的な作用(反射,屈折等)を受けることになる。各光学素子には調整機構が設けられており、レーザービーム毎に感光体に対する入射位置が調整されることによってレジストレーション性能が確保される。
【0003】
【特許文献1】
特開2002−148542号公報
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
上記のように調整機構を各光学素子に設けておけば、初期のレジストレーション性能を良好にすることは可能である。しかし、レーザービーム4本のうちの1本はレジストレーション調整のための基準ビームとして用いられるため、基準ビームに対して作用する光学素子の調整機構は、レジストレーション性能を低下させる原因の1つとなる。例えば、レジストレーション性能が良好に調整されていても、環境変化(温度変化等)や振動(輸送時の振動等)によって基準ビーム用の調整機構に状態変化(膨張・収縮,位置ズレ等)が生じると、他の光学素子及び調整機構の状態に変化がなくてもレジストレーション性能は低下してしまう。つまり基準ビーム用の調整機構は、他のビーム用の調整機構よりもレジストレーション性能に与える影響の大きい不安定要素といえる。したがって、従来の走査光学装置では安定したレジストレーション性能が得られないという問題がある。
【0005】
本発明はこのような状況に鑑みてなされたものであって、その目的は、レジストレーション性能の安定したタンデム型の走査光学装置を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、第1の発明の走査光学装置は、複数のビームを偏向させる偏向器と、偏向後の複数のビームを対応する被走査面に分けて導くとともに各被走査面上で結像走査させる走査光学系と、を備えたタンデム型の走査光学装置であって、前記走査光学系が各被走査面に導くビームに対してそれぞれ光学的に作用する複数の光学素子群を有し、前記複数の光学素子群のうちの少なくとも1つには、レジストレーション調整のための調整機構が設けられており、前記レジストレーション調整のための基準ビームとして用いられるビームに対して光学的に作用する光学素子群には、前記調整機構が設けられていないことを特徴とする。
【0007】
第2の発明の走査光学装置は、上記第1の発明において、前記複数の光学素子群のうち光学素子数の最も少ない光学素子群が、前記基準ビームとして用いられるビームに対して光学的に作用する光学素子群であることを特徴とする。
【0008】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を実施した走査光学装置を、図面を参照しつつ説明する。図1にタンデム型走査光学装置の一実施の形態を示し、その概略光学構成を図2に示す。図1,図2中、10はポリゴンミラーから成る偏向器、20は走査光学系、30Y,30M,30C,30Kは被走査面を構成する感光体、40はハウジング、LY,LM,LC,LKはレーザービームである。1は第1レンズ、2は第2レンズであり、図2に示すように4本のレーザービーム(LY,LM,LC,LK)が共に入射する共通光学素子群(22)は、第1レンズ(1)と第2レンズ(2)で構成されている。3Y,3M,3C,3Kは平面反射面を有する第1ミラー、4M,4C,4Kは平面反射面を有する第2ミラー、5Y,5M,5C,5Kは副走査方向にのみ光学的パワーを有する長尺レンズである。図2に示すように、4本のレーザービーム(LY,LM,LC,LK)に対して個別に作用する4つの光学素子群(24Y,24M,24C,24K)は、第1ミラー(3Y,3M,3C,3K),第2ミラー(4M,4C,4K)及び長尺レンズ(5Y,5M,5C,5K)で構成されている。また、図1中の9Y,9M,9Cはレジストレーション調整{感光体(30Y,30M,30C,30K)の被走査面上での基準ビームに対する相対的なビーム位置調整}のための調整機構である。
【0009】
この走査光学装置は、Y(黄),M(マゼンタ),C(シアン),K(黒)の各色に対応した4つの感光体(30Y,30M,30C,30K)に対して、4本のレーザービーム(LY,LM,LC,LK)で同時に画像記録を行うタイプのタンデム型レーザー走査装置であり、カラーレーザープリンタ,カラーデジタル複写機等のカラー画像形成装置に使用される。カラー画像形成装置においては、4つの感光体(30Y,30M,30C,30K)に形成された画像が、現像の後、同じ紙に転写されることによってカラー画像となる。4つの感光体(30Y,30M,30C,30K)のそれぞれに対する描画のための光源として、4つのレーザーダイオード(不図示)が走査光学装置に搭載されている。つまり、1つのレーザーダイオードが1本のレーザービームを射出し、1つの感光体に対する露光走査を1本のレーザービームで行う構成になっている。なお、2本以上のレーザービームを射出するマルチビームタイプの光源を用いて、1つの感光体に対する露光走査を2本以上のレーザービームで行う構成にしてもよい。また、ビーム数も4本に限らず、装置の光学構成に応じて必要とされる複数のレーザービームで偏向走査を行う構成にしてもよい。
【0010】
4つのレーザーダイオードから発せられた4本のレーザービーム(LY,LM,LC,LK)は、ビーム整形された後、偏向器(10)の同一位置にある反射面上で副走査方向にのみ集光して線状の光源像を形成する。その際、4本のレーザービーム(LY,LM,LC,LK)は、偏向器(10)の反射面に対して副走査方向に互いに異なる角度で入射する。そして、偏向器(10)の回転する同一の反射面で同時に反射されることにより、主走査方向に偏向される。偏向反射されたレーザービーム(LY,LM,LC,LK)は、副走査方向に互いに異なる角度で反射されるため、空間的に光路分離されながら走査光学系(20)に入射することになる。走査光学系(20)は、図2に示すように1つの共通光学素子群(22)と4つの光学素子群(24Y,24M,24C,24K)とを有しており、偏向後の4本のレーザービーム(LY,LM,LC,LK)を対応する4つの感光体(30Y,30M,30C,30K)に1本ずつ分けて導くとともに、各感光体(30Y,30M,30C,30K)の被走査面上で結像走査させる。なお、各感光体(30Y,30M,30C,30K)に対するレーザービーム(LY,LM,LC,LK)の偏向走査の方向(図1の紙面に対して垂直方向)が主走査方向に対応し、その主走査方向と被走査面法線とに対して垂直な方向が副走査方向に対応する。
【0011】
走査光学系(20)において4本のレーザービーム(LY,LM,LC,LK)は、第1,第2レンズ(1,2)から成る共通光学素子群(22)により共に光学的な作用(屈折,回折等)を受けた後、各光学素子群(24Y,24M,24C,24K)に1本ずつ分かれて入射し、それぞれ光学的な作用(反射,屈折,回折等)を受けることになる。例えば、光学素子群(24Y)に入射したYのレーザービーム(LY)は、第1ミラー(3Y)で反射された後、長尺レンズ(5Y)を通って感光体(30Y)上で結像する。光学素子群(24M)に入射したMのレーザービーム(LM)は、第1,第2ミラー(3M,4M)で順に反射された後、長尺レンズ(5M)を通って感光体(30M)上で結像する。光学素子群(24C)に入射したCのレーザービーム(LC)は、第1,第2ミラー(3C,4C)で順に反射された後、長尺レンズ(5C)を通って感光体(30C)上で結像する。光学素子群(24K)に入射したKのレーザービーム(LK)は、第1,第2ミラー(3K,4K)で順に反射された後、長尺レンズ(5K)を通って感光体(30K)上で結像する。以上のようにして、4本のレーザービーム(LY,LM,LC,LK)により4つの感光体(30Y,30M,30C,30K)に対する露光走査が同時に行われる。
【0012】
Y,M,C用の光学素子群(24Y,24M,24C)の第1ミラー(3Y,3M,3C)には、図1に示すように、レジストレーション調整のための調整機構(9Y,9M,9C)が設けられている。さらに、図2に示すように、M,C用の光学素子群(24M,24C)の第2ミラー(4M,4C)やY,M,C用の光学素子群(24Y,24M,24C)の長尺レンズ(5Y,5M,5C)にも、レジストレーション調整のための調整機構が設けられている。これらのレジストレーション調整のための基準ビームとしては、Kのレーザービーム(LK)が用いられる。ただし、Kのレーザービーム(LK)に対して光学的に作用する光学素子群(24K)は、レジストレーション調整のための調整機構を有していない。
【0013】
Y,M,C用の第1ミラー(3Y,3M,3C)は、各々の調整機構(9Y,9M,9C)を介してハウジング(40)に保持されており、各調整機構(9Y,9M,9C)により主走査方向に傾斜するように構成されている。その調整機構(9Y,9M,9C)で第1ミラー(3Y,3M,3C)を主走査方向に傾けることにより、感光体(30Y,30M,30C)上でのビーム位置のズレを調整すれば、レジストレーション性能を良好にすることができる。また、第2ミラー(4M,4C)には、主走査方向に平行な軸を中心としてミラー(4M,4C)を回転させることにより、副走査方向のオフセットを調整する調整機構が設けられている。長尺レンズ(5Y,5M,5C)には、レンズ(5Y,5M,5C)を湾曲させることにより、ボウを調整する調整機構が設けられている。したがって、これらの調整機構によってもレジストレーション性能を良好にすることができる。なお、第1ミラー(3Y,3M,3C)に関しても、主走査方向に平行な軸を中心とした回転により、副走査方向のオフセット調整を行うことが可能である。
【0014】
上記のように3つの光学素子群(24Y,24M,24C)にはレジストレーション調整のための調整機構が設けられている一方で、基準ビームであるKのレーザービーム(LK)に対して光学的に作用する光学素子群(24K)には、レジストレーション調整のための調整機構が設けられていない。光学素子群(24K)は調整機構を介することなくハウジング(40)に保持されているため、レジストレーション性能に大きな影響を与える不安定要素が存在しないことになる。このため基準ビームが安定し、その結果、環境変化(温度変化等)や振動(輸送時の振動等)による影響を受けにくくなる。したがって、レジストレーション性能の安定化を達成することができる。
【0015】
この実施の形態(図1,図2)では、Y用の光学素子群(24Y)にミラーが1枚しか用いられていない。このためY用の光学素子群(24Y)は、4つの光学素子群(24Y,24M,24C,24K)のうちで光学素子数が最も少なくなっている。このように光学素子数の最も少ない光学素子群を、基準ビームとして用いられるレーザービームに対して光学的に作用する光学素子群とすれば、光学素子数が少ない分、基準ビームをより一層安定化させることが可能である。そのように基準ビームを変更したときの概略光学構成を図3に示す。図3から分かるように、介在する光学素子数の最も少ないYのレーザービーム(LY)が基準ビームになっており、Yのレーザービーム(LY)に対して光学的に作用する光学素子群(24Y)にはレジストレーション調整のための調整機構が設けられていない。したがって、環境変化(温度変化等)や振動(輸送時の振動等)による影響は更に受けにくくなり、更に安定したレジストレーション性能を得ることが可能となる。
【0016】
図2に示すY,M,C用の光学素子群(24Y,24M,24C)には、それらを構成しているすべての光学素子に調整機構が設けられている。また、図3に示すM,C,K用の光学素子群(24M,24C,24K)にも、それらを構成しているすべての光学素子に調整機構が設けられている。しかし、調整機構を必要とするか否かは、各光学素子に要求される部品精度やその保持部材に要求される部品精度等に応じて決定されるため、必ずしもすべての光学素子に調整機構を設ける必要はない。基準ビームに対して光学的に作用する光学素子群以外の光学素子群のうち、少なくとも1つに調整機構を設けるようにしてもよく、基準ビームに対して光学的に作用する光学素子群以外のすべての光学素子群が、各々少なくとも1つの調整機構を有する構成にしてもよい。また、基準ビームとして用いるビームの選択に関しても、前述した光学素子数、各光学素子に要求される部品精度、その保持部材に要求される部品精度等に応じて決定されるため、YMCKのいずれのレーザービーム(LY,LM,LC,LK)にも限定されない。同様に、各光学素子群(24Y,24M,24C,24K)内の光学素子の数も、図1〜図3に示すものに限定されない。これらの観点から、光学素子群(24Y,24M,24C,24K)の構成を一般化して図4に示す。
【0017】
図4に示すように、Y,M,C用の光学素子群(24Y,24M,24C)には各々少なくとも1つの調整機構が設けられている。このため、Kのレーザービーム(LK)に対するY,M,Cのレーザービーム(LY,LM,LC)の相対的な位置を確実に調整して、初期のレジストレーション性能を良好にすることが可能である。一方、基準ビームとして用いられているKのレーザービーム(LK)に対して光学的に作用する光学素子群(24K)には調整機構が設けられていない。このため、基準ビームが安定化され、初期の良好なレジストレーション性能は安定して保持される。
【0018】
なお、前述した実施の形態には以下の構成(i)〜(v)を有する発明が含まれており、その構成により基準ビームを安定化して、環境変化(温度変化等)や振動(輸送時の振動等)による影響を受けにくくし、レジストレーション性能の安定化を達成することができる。
(i) 複数のビームを対応する被走査面に分けて導くとともに各被走査面上で結像走査させるタンデム型の走査光学系であって、各被走査面に導くビームに対してそれぞれ光学的に作用する複数の光学素子群を有し、前記複数の光学素子群のうちの少なくとも1つが、レジストレーション調整のための調整機構を有し、前記レジストレーション調整のための基準ビームとして用いられるビームに対して光学的に作用する光学素子群が、前記調整機構を有しないことを特徴とする走査光学系。
(ii) 前記複数の光学素子群のうち光学素子数の最も少ない光学素子群の光学的な作用を受けるビームが前記基準ビームとして用いられることを特徴とする上記(i)記載の走査光学系。
【0019】
(iii) 複数のビームを偏向させる偏向器と、偏向後の複数のビームを対応する被走査面に分けて導くとともに各被走査面上で結像走査させる走査光学系と、を備えたタンデム型の走査光学装置であって、前記走査光学系が各被走査面に導くビームに対してそれぞれ光学的に作用する複数の光学素子群を有し、前記複数の光学素子群が、レジストレーション調整のための調整機構を少なくとも1つ有する複数の第1光学素子群と、レジストレーション調整のための調整機構を有しない第2光学素子群と、から成り、前記第2光学素子群がレジストレーション調整のための基準ビームとして用いられるビームに対して光学的に作用することを特徴とする走査光学装置。
(iv) 複数の光源と、各光源から発せられたビームを偏向させる偏向器と、偏向後の複数のビームを対応する被走査面に分けて導くとともに各被走査面上で結像走査させる走査光学系と、を備えたタンデム型の走査光学装置であって、前記走査光学系が各被走査面に導くビームに対してそれぞれ光学的に作用する複数の光学素子群を有し、前記複数の光学素子群が、レジストレーション調整のための調整機構を少なくとも1つ有する複数の第1光学素子群と、レジストレーション調整のための調整機構を有しない第2光学素子群と、から成り、前記第2光学素子群がレジストレーション調整のための基準ビームとして用いられるビームに対して光学的に作用することを特徴とする走査光学装置。
(v) 前記複数の光学素子群のうち前記第2光学素子群の光学素子数が最も少ないことを特徴とする上記(iii)又は(iv)記載の走査光学装置。
【0020】
【発明の効果】
以上説明したように本発明によれば、レジストレーション調整のための基準ビームとして用いられるビームに対して光学的に作用する光学素子群には、調整機構が設けられていないので、基準ビームは安定化され、環境変化(温度変化等)や振動(輸送時の振動等)による影響は受けにくくなる。したがって、レジストレーション性能の安定したタンデム型の走査光学装置を実現することができる。また、複数の光学素子群のうち光学素子数の最も少ない光学素子群を、基準ビームとして用いられるビームに対して光学的に作用する光学素子群とすることにより、レジストレーション性能を更に安定化することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】走査光学装置の一実施の形態を示す副走査断面図。
【図2】図1の走査光学装置の概略光学構成を示すブロック図。
【図3】図1の走査光学装置において基準ビームを変更したときの概略光学構成を示すブロック図。
【図4】図1の走査光学装置を光学素子群の構成が一般化された状態で示すブロック図。
【符号の説明】
LY,LM,LC,LK …レーザービーム
10 …偏向器
20 …走査光学系
22 …共通光学素子群
1 …第1レンズ
2 …第2レンズ
24Y,24M,24C,24K …光学素子群
3Y,3M,3C,3K …第1ミラー
4M,4C,4K …第2ミラー
5Y,5M,5C,5K …長尺レンズ
9Y,9M,9C …調整機構
30Y,30M,30C,30K …感光体(被走査面)
40 …ハウジング
Claims (2)
- 複数のビームを偏向させる偏向器と、偏向後の複数のビームを対応する被走査面に分けて導くとともに各被走査面上で結像走査させる走査光学系と、を備えたタンデム型の走査光学装置であって、
前記走査光学系が各被走査面に導くビームに対してそれぞれ光学的に作用する複数の光学素子群を有し、前記複数の光学素子群のうちの少なくとも1つには、レジストレーション調整のための調整機構が設けられており、前記レジストレーション調整のための基準ビームとして用いられるビームに対して光学的に作用する光学素子群には、前記調整機構が設けられていないことを特徴とする走査光学装置。 - 前記複数の光学素子群のうち光学素子数の最も少ない光学素子群が、前記基準ビームとして用いられるビームに対して光学的に作用する光学素子群であることを特徴とする請求項1記載の走査光学装置。
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JP2008139343A (ja) * | 2006-11-29 | 2008-06-19 | Konica Minolta Business Technologies Inc | 光走査光学装置 |
JP2009222863A (ja) * | 2008-03-14 | 2009-10-01 | Konica Minolta Business Technologies Inc | 走査光学装置 |
JP2009222861A (ja) * | 2008-03-14 | 2009-10-01 | Konica Minolta Business Technologies Inc | 走査光学装置 |
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