JP2004262757A - 窒化物半導体、半導体素子およびこれらの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 基板100の上に種結晶層201を成長させた後、この種結晶層201上に成長抑止層216を形成する。種結晶層201の開口より表出する部分が種結晶部215となる。種結晶部215を基礎としてGaN:Siを成長させ、第2の種結晶部217aを形成する。成長温度は1000℃以下とする。次に、第2の種結晶部217aを基礎として高温成長部217bを成長させる。成長温度は1050℃以上であり、主として横方向に結晶成長が進行して連続した1つの層が形成される。第2の種結晶部217aの直上には殆ど転位や結晶欠陥が存在せず、窒化物半導体層217は表面の低欠陥領域が広くなる。
【選択図】 図13
Description
(A)表面に平坦面を有する基板上にIII−V族系窒化物半導体よりなる層状の第1の種結晶部を形成した後、前記第1の種結晶部の表面に複数の開口部を有する成長抑止層を形成する工程
(B)III−V族系窒化物半導体を、前記第1の種結晶部を基礎とし前記成長抑止層の開口部を介して、第1の成長条件により所望の厚みになるまで成長させることにより、互いに離間した複数の第2の種結晶部を形成する第1の成長工程
(C)複数の第2の種結晶部それぞれを基礎として、前記第1の条件とは異なる第2の条件で、III−V族系窒化物半導体を前記基板の表面に平行な方向の成長が支配的になるように成長させて半導体層を形成すると共に、前記第1の種結晶部から第2の種結晶部に伝播した転位の伝播方向を変化させて前記半導体層の表面における転位密度を低減させる第2の成長工程
(A)III−V族系窒化物半導体よりなる層状の第1の種結晶部
(B)第1の種結晶部の表面に形成された複数の開口部を有する成長抑止層
(C)III−V族系窒化物半導体よりなり、前記第1の種結晶部から前記成長抑止層の開口部を介して成長した層厚み方向の断面が三角形状または台形状であり、かつ互いに離間した複数の第2の種結晶部
(D)III−V族系窒化物半導体よりなり、前記複数の第2の種結晶部を基礎として主として前記第2の種結晶部の両側面から成長し、前記複数の第2の種結晶部間を埋め込むと共に、前記第2の種結晶部とほぼ同じ厚みを有する半導体層
(E)結晶中の転位が第2の種結晶部と半導体層との界面で屈曲していること
図1〜図5は、本発明の第1の実施の形態に係る窒化物半導体の製造方法を順に説明するためのものである。本実施の形態では、これらの図をもとに、まず窒化物半導体の製造方法から説明することとする。ここでいう窒化物半導体とは、ガリウム(Ga)と窒素(N)とを含んだ窒化ガリウム系化合物のことであり、例えばGaN,AlGaN(窒化アルミニウム・ガリウム)混晶,あるいはAlGaInN(窒化アルミニウム・ガリウム・インジウム)混晶などが挙げられる。これらは、必要に応じてSi(シリコン),Ge(ゲルマニウム),O(酸素),Se(セレン)などのIV族およびVI族元素からなるn型不純物、または、Mg(マグネシウム),Zn(亜鉛),C(炭素)などのII族およびIV族元素からなるp型不純物を含有している。
<1−100>
{11−22}
この変形例は、第1の実施の形態において種結晶部105の形状とその形成工程が異なったものであり、窒化物半導体層117が形成される。以下、その製造方法を具体的に説明する。
図11は第2の実施の形態に係る窒化物半導体の製造工程を順に表しており、図12は製造工程に対応する結晶の成長過程において転位が伝播する様子を表している。本実施の形態では種結晶部105から窒化物半導体層207を形成するが、その際、結晶成長をその成長温度によって2つの段階に分けて行う。なお、種結晶部105の形成までの工程は第1の実施の形態と同様なので(図1(A)〜(D)参照)、同一の構成要素には同一の符号を付し、その説明を省略する。
{11−20}
この変形例は、第2の実施の形態において種結晶部105の形状とその形成工程が異なったものであり、窒化物半導体層217が形成される。以下、その製造方法を具体的に説明する。
図14は第3の実施の形態に係る半導体レーザの断面構成を表している。この半導体レーザでは、第1の実施の形態に係る窒化物半導体層107の上に半導体層300(308〜315)が形成されている。
図15は第4の実施の形態に係る半導体レーザの断面構成を表している。この半導体レーザは、種結晶部105, 105間で電流狭窄部314Aが設けられる位置が更に特定されることを除き、第3の実施の形態と同様の構成を有している。よって、ここでは同一構成要素には同一の符号を付してその説明は省略し、異なる部分を詳述する。
Claims (41)
- III−V族系窒化物半導体よりなる層状の第1の種結晶部と、
前記第1の種結晶部の表面に形成された複数の開口部を有する成長抑止層と、
III−V族系窒化物半導体よりなり、前記第1の種結晶部から前記成長抑止層の開口部を介して成長した層厚み方向の断面が三角形状または台形状であり、かつ互いに離間した複数の第2の種結晶部と、
III−V族系窒化物半導体よりなり、前記複数の第2の種結晶部を基礎として主として前記第2の種結晶部の両側面から成長し、前記複数の第2の種結晶部間を埋め込むと共に、前記第2の種結晶部とほぼ同じ厚みを有する半導体層と
を備え、結晶中の転位が前記第2の種結晶部と前記半導体層との界面で屈曲している
ことを特徴とする窒化物半導体。 - 前記第1の種結晶部はストライプ状に下記に示した結晶軸の方向に展延することを特徴とする請求項1に記載の窒化物半導体。
<1−100> - 前記第2の種結晶部はストライプ状に展延する2つの斜面で構成されていることを特徴とする請求項1に記載の窒化物半導体。
- 前記第2の種結晶部の2つの斜面はファセットであることを特徴とする請求項3に記載の窒化物半導体。
- 前記第2の種結晶部は、層厚み方向の断面形状が(前記第1の種結晶部から上底までの高さH):(下底の前記第1の種結晶部から外縁までの幅W)の比を1:2とする台形状であることを特徴とする請求項1に記載の窒化物半導体。
- 前記III−V族系窒化物半導体は窒化ガリウム(GaN)系化合物半導体であることを特徴とする請求項1に記載の窒化物半導体。
- III−V族系窒化物半導体よりなる層状の第1の種結晶部と、
前記第1の種結晶部の表面に形成された複数の開口部を有する成長抑止層と、
III−V族系窒化物半導体よりなり、前記第1の種結晶部から前記成長抑止層の開口部を介して成長した層厚み方向の断面が三角形状または台形状である複数の第2の種結晶部と、
III−V族系窒化物半導体よりなり、前記複数の第2の種結晶部を基礎として主として前記第2の種結晶部の両側面から成長し、前記複数の第2の種結晶部間を埋め込むと共に、前記第2の種結晶部とほぼ同じ厚みを有する半導体層と
を備え、結晶中の転位が第2の種結晶部と半導体層との界面で屈曲している
ことを特徴とする半導体素子。 - 前記半導体層は、前記第2の種結晶部を基礎として、前記半導体層の層厚み方向とは異なる方向に成長することにより形成された複数の会合部と、
前記複数の会合部の上方に形成されると共に、前記電流注入領域を有する活性層と、
前記活性層の電流注入領域を制限し、前記会合部の間の領域に対応して設けられた電流狭窄部と
を備えたことを特徴とする請求項7に記載の半導体素子。 - 前記電流狭窄部は、前記第1の種結晶部と前記会合部との間の領域に対応して設けらている
ことを特徴とする請求項8に記載の半導体素子。 - 前記第1の種結晶部と前記電流狭窄部との間隔と前記電流狭窄部と前記会合部との間隔との和が、4μm以上である
ことを特徴とする請求項9に記載の半導体素子。 - 前記電流狭窄部の幅が、1μm以上3μm以下である
ことを特徴とする請求項10に記載の半導体素子。 - 前記第1の種結晶部と前記電流狭窄部との間隔と前記電流狭窄部と前記会合部との間隔との和が、5μm以上である
ことを特徴とする請求項9に記載の半導体素子。 - 前記電流狭窄部の幅が、1. 3μm以上2.5μm以下である
ことを特徴とする請求項12に記載の半導体素子。 - 前記第1の種結晶部と前記電流狭窄部との間隔と前記電流狭窄部と前記会合部との間隔とが等しい
ことを特徴とする請求項9に記載の半導体素子。 - 表面に平坦面を有する基板上にIII−V族系窒化物半導体よりなる層状の第1の種結晶部を形成した後、前記第1の種結晶部の表面に複数の開口部を有する成長抑止層を形成する工程と、
III−V族系窒化物半導体を、前記第1の種結晶部を基礎とし前記成長抑止層の開口部を介して、第1の成長条件により所望の厚みになるまで成長させることにより、互いに離間した複数の第2の種結晶部を形成する第1の成長工程と、
前記複数の第2の種結晶部それぞれを基礎として、前記第1の条件とは異なる第2の条件で、III−V族系窒化物半導体を前記基板の表面に平行な方向の成長が支配的になるように成長させて半導体層を形成すると共に、前記第1の種結晶部から第2の種結晶部に伝播した転位の伝播方向を変化させて前記半導体層の表面における転位密度を低減させる第2の成長工程と
を含むことを特徴とする窒化物半導体の製造方法。 - 前記第1の成長工程と第2の成長工程は、成長温度または成長圧力の少なくとも一方を変化させて行う
ことを特徴とする請求項15に記載の窒化物半導体の製造方法。 - 前記第1の成長工程は、第1の温度または第1の圧力の下で行い、前記第2の成長工程は、第1の温度より高温の第2の温度または第1の圧力より低圧の第2の圧力の下で行う
ことを特徴とする請求項16に記載の窒化物半導体の製造方法。 - 前記第1の成長工程において、前記第2の種結晶部をその厚みが0.5μm以上となるように成長させる
ことを特徴とする請求項15に記載の窒化物半導体の製造方法。 - 前記第2の種結晶部を前記半導体層の層厚み方向の断面が台形状となるように形成することを特徴とする請求項18に記載の窒化物半導体の製造方法。
- 前記第1の成長工程は、前記第2の種結晶部を1040℃以下の温度で成長させる
ことを特徴とする請求項19に記載の窒化物半導体の製造方法。 - 前記第2の成長工程は、前記半導体層を1070℃以上の温度で成長させる
ことを特徴とする請求項20に記載の窒化物半導体の製造方法。 - 前記第1の成長工程は、前記半導体層を(層厚み方向:層面に平行方向)のレート比が1:2となる速度で成長させる
ことを特徴とする請求項19に記載の窒化物半導体の製造方法。 - 前記第2の成長工程は、前記半導体層を(層厚み方向:層面に平行方向)のレート比が1:10となる速度で成長させる
ことを特徴とする請求項22に記載の窒化物半導体の製造方法。 - 前記第2の種結晶部を前記半導体層の層厚み方向の断面が三角形となるように形成する
ことを特徴とする請求項15に記載の窒化物半導体の製造方法。 - 前記第2の種結晶部をファセットにより形成する
ことを特徴とする請求項24に記載の窒化物半導体の製造方法。 - 前記第1の成長工程は、前記半導体層を1000℃以下の温度で成長させる
ことを特徴とする請求項24記載の窒化物半導体の製造方法。 - 前記第1の成長工程は、前記半導体層を67kPa以上の圧力で成長させる
ことを特徴とする請求項24に記載の窒化物半導体の製造方法。 - 前記第2の成長工程は、前記半導体層を1050℃以上の温度で成長させる
ことを特徴とする請求項24に記載の窒化物半導体の製造方法。 - 前記第2の成長工程は、前記半導体層を40kPa以下の圧力で成長させる
ことを特徴とする請求項24に記載の窒化物半導体の製造方法。 - 前記第2の成長工程の後に、前記半導体層を前記第2の成長工程よりも低温で成長させる
ことを特徴とする請求項15に記載の窒化物半導体の製造方法。 - 前記第1の種結晶部を下記に示した方向に展延するストライプ状に形成する
ことを特徴とする請求項15に記載の窒化物半導体の製造方法。
<1−100> - 前記III−V族系窒化物半導体は窒化ガリウム系化合物半導体である
ことを特徴とする請求項15に記載の窒化物半導体の製造方法。 - 表面に平坦面を有する基板上にIII−V族系窒化物半導体よりなる層状の第1の種結晶部を形成した後、前記第1の種結晶部の表面に複数の開口部を有する成長抑止層を形成する工程と、
III−V族系窒化物半導体を、前記第1の種結晶部を基礎とし前記成長抑止層の開口部を介して、第1の成長条件により所望の厚みになるまで成長させることにより、互いに離間した複数の第2の種結晶部を形成する第1の成長工程と、
前記複数の第2の種結晶部それぞれを基礎として、前記第1の条件とは異なる第2の条件で、III−V族系窒化物半導体を前記基板の表面に平行な方向の成長が支配的になるように成長させて半導体層を形成すると共に、前記第1の種結晶部から第2の種結晶部に伝播した転位の伝播方向を変化させて前記半導体層の表面における転位密度を低減させる第2の成長工程と
を含むことを特徴とする半導体素子の製造方法。 - 前記第1の成長工程では、第1の温度または第1の圧力の下で第2の種結晶部を形成し、前記第2の成長工程では、第1の温度より高温の第2の温度または第1の圧力より低圧の第2の圧力の下で前記第2の種結晶部を形成する
ことを特徴とする請求項33に記載の半導体素子の製造方法。 - 前記第2の成長工程は、
前記第2の種結晶部を基礎として、層厚み方向と異なる方向に成長させることにより複数の会合部を形成する工程と、
前記複数の会合部の上方に、電流注入領域を有する活性層を形成する工程と、
前記会合部の間の領域に対応して、前記活性層の電流注入領域を制限するための電流狭窄部を形成する工程と、
を含むことを特徴とする請求項34に記載の半導体素子の製造方法。 - 前記電流狭窄部を前記種結晶部と前記会合部との間の領域に対応させて形成する
ことを特徴とする請求項35に記載の半導体素子の製造方法。 - 前記種結晶部と前記電流狭窄部との間隔と前記電流狭窄部と前記会合部との間隔との和を4μm以上とする
ことを特徴とする請求項36に記載の半導体素子の製造方法。 - 前記電流狭窄部の幅を、1μm以上3μm以下にする
ことを特徴とする請求項36に記載の半導体素子の製造方法。 - 前記種結晶部と前記電流狭窄部との間隔と前記電流狭窄部と前記会合部との間隔との和を5μm以上とする
ことを特徴とする請求項38に記載の半導体素子の製造方法。 - 前記電流狭窄部の幅を、1. 3μm以上2.5μm以下とする
ことを特徴とする請求項39に記載の半導体素子の製造方法。 - 前記種結晶部と前記電流狭窄部との間隔と前記電流狭窄部と前記会合部との間隔とを等しくする
ことを特徴とする請求項36に記載の半導体素子の製造方法。
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