JP2004259580A - 表示装置の製造方法及び転写ローラ - Google Patents
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Abstract
【課題】発光特性の劣化要因を軽減し、高精細な画素の効率的なパターニングにより表示装置を製造することである。
【解決手段】活性光線の照射により任意のパターンの親液領域２０２ａ及び撥液領域２０２ｂが形成された版２００Ｒが円周上に形成された転写ローラ４０Ａが溶液プール４２中で回転され、親液領域２０２ａに光学材料層の溶液である有機ＥＬ層の有機化合物含有液６０ｒが付着される。そして、透明基板１２に対向して転写ローラ４０Ａを回転させることにより、透明基板１２上の仕切り壁２０により囲繞された囲繞領域１９（Ｒ）に、付着された有機化合物含有液６０ｒを転写して光学材料層としての有機ＥＬ層１５（Ｒ）を形成して、表示装置を製造する。
【選択図】 図４
【解決手段】活性光線の照射により任意のパターンの親液領域２０２ａ及び撥液領域２０２ｂが形成された版２００Ｒが円周上に形成された転写ローラ４０Ａが溶液プール４２中で回転され、親液領域２０２ａに光学材料層の溶液である有機ＥＬ層の有機化合物含有液６０ｒが付着される。そして、透明基板１２に対向して転写ローラ４０Ａを回転させることにより、透明基板１２上の仕切り壁２０により囲繞された囲繞領域１９（Ｒ）に、付着された有機化合物含有液６０ｒを転写して光学材料層としての有機ＥＬ層１５（Ｒ）を形成して、表示装置を製造する。
【選択図】 図４
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光学素子が基板上に設けられた表示装置の製造方法及びその製造に用いる転写ローラに関する。
【０００２】
【従来の技術】
有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ：エレクトロルミネッセンス）素子はアノード、有機化合物からなる有機ＥＬ層、カソードの順に積層された積層構造を為しており、アノードとカソードの間に正バイアス電圧が印加されると有機ＥＬ層において発光する。このような複数の有機ＥＬ素子を赤、緑、青の何れかに発光させるサブピクセルとして基板上にマトリクス状に配列して画像表示を行う有機ＥＬ表示パネルが実現化されている。
【０００３】
アクティブマトリクス駆動型有機ＥＬ表示パネルでは、アノード又はカソードのうちの一方の電極を全てのサブピクセルに共通する共通電極とすることができるが、少なくとも他方の電極及び有機ＥＬ層をサブピクセルごとにパターニングする必要がある。アノードやカソードをサブピクセルごとにパターニングする手法は従来の半導体装置製造技術を適用できる。つまり、ＰＶＤ法又はＣＶＤ法等による成膜工程、フォトリソグラフィー法等によるマスク工程、エッチング法等による薄膜の形状加工工程を適宜行うことで、アノードやカソードをサブピクセルごとにパターニングすることができる。
【０００４】
一方、インクジェット技術を応用することでサブピクセルごとに有機ＥＬ層をパターニングする技術が提案されている。例えば、赤、緑及び青の各色の有機発光層形成のため、有機発光層になる発光材料を液滴として画素ごとにノズルから吐出することで、画素ごとに有機発光層をパターニングする（例えば、特許文献１参照）。
【０００５】
しかし、特許文献１のようなインクジェット方式では、液状の発光材料が吐出口で乾きやすいために吐出口を塞いでしまい、発光材料の吐出量が不安定になり易いおそれがあった。そのため、画素内の有機ＥＬ層の膜厚が不均一となったり、画素欠陥が発生するおそれがあった。また、インクジェット方式は、スピンコートやロールコート等の方式と比べて、製造時間が長くなるというおそれがあった。このため、インクジェット方式よりも容易に、赤、緑及び青の各色の高分子発光層をパターニングする方式が模索されている。
【０００６】
例えば、画素基板に発光層を形成した後、赤、緑及び青の各色の色素を含有する所定形状の光反応性樹脂層を、その発光層に密着させ加熱することにより、それぞれの色素を発光層に拡散させることで、赤、緑及び青の各色の高分子発光層をパターニングする方法が考えられている（例えば、特許文献２参照）。
【０００７】
また、開口部（微細孔）を設けたマスクを作成し、そのマスクに赤、緑及び青の各色の有機発光材料を一旦スクリーン印刷し、印刷された有機発光材料をマスクに設けられた開口部を介して基板上の各画素領域にさらに供給することにより、高精細な有機発光層のパターニングを行う方法が考えられている（例えば、特許文献３参照）。
【０００８】
また、画素基板上に発光層を形成した後、赤、緑及び青の各色の染料層をそれぞれベースフィルム上に設け、このベースフィルムを発光層へ密着させサーマルヘッドにより加熱し、各色の染料を所望の画素上の発光層へ拡散させることにより、赤、緑及び青の各色の高分子発光層をパターニングする方法が考えられている（例えば、特許文献４参照）。
【０００９】
【特許文献１】
特開平１０−１２３７７号公報（第３頁、図１）
【特許文献２】
特開２００２−１５８６４号公報（第４−５頁、図３）
【特許文献３】
特開２００１−１８５３５２号公報（第４−５頁、図２−図５）
【特許文献４】
特開２００１−１５５８５９号公報（第６−９頁、図２−図１３）
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、特許文献２又は特許文献３のような有機ＥＬ層のパターニング方式では、画素基板に形成した発光層に、対向基板上の赤、緑及び青の各色の色素を拡散させるが、１画素内の色素の拡散の均一性や、加熱による色素の劣化等により十分な発光特性を得ることができないという問題があった。
【００１１】
また、特許文献４のような有機ＥＬ層のパターニング方式では、微細な開口部を設けたマスク上を、スクリーン版を介してスキージを押し当ててインクを塗布するが、アクティブマトリクス駆動の表示装置のように高精細な画素をパターニングするには、微細な画素に合わせた開口部を有し、且つスキージの押力に耐えられる強度を持つマスクの作成は困難であるという問題があった。例えば、１２００［ｐｐｉ（ｐｉｘｅｌ ｐｅｒ ｉｎｃｈ）］のフルカラパネルを考えた場合、サブピクセル（画素）ピッチは７０［μｍ］となり、マスクに７０［μｍ］以下の径で貫通口を設けねばならず、このピッチでスクリーン印刷に絶えられる強度を持ったマスクを作ることは困難であった。
【００１２】
本発明の課題は、発光特性の劣化要因を軽減し、高精細な画素の効率的なパターニングにより表示装置を製造することである。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
以上の課題を解決するために、請求項１に記載の発明は、第１の電極と、第２の電極と、その第１及び第２の電極の間に設けられた光学材料層とを有する光学素子が基板に形成された表示装置の製造方法において、
濡れ性が互いに異なる所定領域及び前記所定領域以外の領域からなるパターンを有する第１の濡れ性可変層（例えば、図３に示す濡れ性可変層２０２）が取り付けられた転写ローラを回転することにより前記第１の濡れ性可変層の前記所定領域に、前記光学材料層の光学材料を含有する溶液を付着する付着工程と、
前記第１の濡れ性可変層に前記溶液が付着された前記転写ローラ（例えば、図４（ａ）に示す転写ローラ４０Ａ）を回転して、前記付着された溶液を前記基板側に転写する転写工程とを含むことを特徴とする。
【００１４】
請求項１３に記載の発明は、転写ローラであって、活性光線の被照射の有無により、濡れ性が互いに異なる所定領域及び前記所定領域以外の領域からなるパターンが形成された濡れ性可変層（例えば、図３に示す濡れ性可変層２０２）を有する版を備え、
前記パターンが形成された濡れ性可変層を有する版は、円周上に取り付けられ、
前記濡れ性可変層は、前記形成されたパターンに基づいて、第１の電極及び第２の電極の間に光学材料層が設けられる表示装置の前記光学材料層となる光学材料を含有する溶液が付着されることが可能であることを特徴とする。
【００１５】
請求項１又は１３に記載の発明によれば、活性光線により任意のパターンが形成された第１の濡れ性可変層又は濡れ性可変層が取り付けられた転写ローラに付着された光学材料を含有する溶液が、その転写ローラの回転により、基板側の所定の位置に転写されることにより光学材料層を形成して表示装置を製造することができる。このため、活性光線により、第１の濡れ性可変層又は濡れ性可変層に任意の高精度且つ微細な濡れ性の異なるパターンを容易に形成することができ、その転写ローラの回転による溶液の転写により、そのパターンに基づいた微細且つ高精度な光学材料層を有する表示装置を短時間で効率的に製造することができる。また、そのパターンに基づいて均一な膜厚の光学材料層を形成するので、発光特性の劣化要因を軽減することができる。
【００１６】
請求項２に記載の発明は、第１の電極と、第２の電極と、その第１及び第２の電極の間に設けられた光学材料層とを有する光学素子が基板に形成された表示装置の製造方法において、
転写ローラ（例えば、図８に示す転写ローラ４０Ｃ）に設けられた第１の濡れ性可変層（例えば、図８に示す濡れ性可変層２０２Ｃ）に活性光線を照射することにより、濡れ性が互いに異なる所定領域及び前記所定領域以外の領域からなるパターンを形成する第１のパターン形成工程と、
前記光学材料層の光学材料を含有する溶液を前記転写ローラ上の第１の濡れ性可変層に付着する付着工程と、
前記第１の濡れ性可変層に付着された前記溶液を、前記転写ローラを回転して前記基板側に接触させることにより転写する転写工程とを含むことを特徴とする。
【００１７】
請求項１４に記載の発明は、転写ローラであって、活性光線の被照射の有無により、濡れ性が互いに異なる所定領域及び前記所定領域以外の領域からなるパターンが形成された濡れ性可変層（例えば、図３に示す濡れ性可変層２０２Ｃ）を円周上に備え、
前記濡れ性可変層は、前記形成されたパターンに基づいて、第１の電極及び第２の電極の間に光学材料層が設けられる表示装置の前記光学材料層となる光学材料を含有する溶液が付着されることが可能であることを特徴とする。
【００１８】
請求項２又は１４に記載の発明によれば、活性光線により転写ローラの第１の濡れ性可変層又は濡れ性可変層に任意のパターンが形成され、光学材料を含有する溶液が第１の濡れ性可変層に付着され、その転写ローラの回転により、基板側に溶液を転写して光学材料層を形成して表示装置を製造することができる。このため、活性光線により第１の濡れ性可変層又は濡れ性可変層に任意の高精度且つ微細なパターンを容易に形成することができ、その転写ローラの回転による溶液の転写により、そのパターンに基づいた微細且つ極めて高精度な光学材料層を有する表示装置を短時間で効率的に製造することができる。また、そのパターンに基づいて均一な膜厚の光学材料層を形成するので、発光特性の劣化要因を軽減することができる。
【００１９】
請求項３に記載の発明は、請求項１又は２に記載の表示装置の製造方法において、
前記第１の濡れ性可変層は、光を透過する任意のパターンが形成された第１のフォトマスク基板を介して活性光線を照射することにより濡れ性が互いに異なる前記所定領域及び前記所定領域以外の領域のパターンが形成されることを特徴とする。
【００２０】
請求項３に記載の発明によれば、光を透過する任意のパターンが形成された第１のフォトマスク基板を用いて、活性光線により第１の濡れ性可変層に任意の微細且つ高精度なパターンを容易に形成することができる。
【００２１】
請求項４に記載の発明は、請求項３に記載の表示装置の製造方法において、
前記第１のフォトマスク基板は、光触媒を含むことを特徴とする。
【００２２】
請求項４に記載の発明によれば、第１のフォトマスク基板には光触媒が含まれるので、光触媒に対する活性光線の通過により活性酸素種が発生し、その活性酸素種により第１の濡れ性可変層に任意の微細且つ高精度なパターンを容易に形成することができる。
【００２３】
請求項５に記載の発明は、請求項１から４のいずれか一項に記載の表示装置の製造方法において、
前記第１の濡れ性可変層は、光触媒を含むことを特徴とする。
【００２４】
請求項１５に記載の発明は、請求項１３又は１４に記載の転写ローラにおいて、
前記濡れ性可変層は、光触媒を含むことを特徴とする。
【００２５】
請求項５又は１５に記載の発明によれば、第１の濡れ性可変層又は濡れ性可変層には光触媒が含まれるので、光触媒に対する活性光線の通過により活性酸素種が発生し、その活性酸素種により第１の濡れ性可変層又は濡れ性可変層に任意の高精度且つ微細なパターンを容易に形成することができる。
【００２６】
請求項６に記載の発明は、請求項１から５のいずれか一項に記載の表示装置の製造方法において、
前記基板には第２の濡れ性可変層が形成され、
活性光線の照射により前記第２の濡れ性可変層に濡れ性が互いに異なる所定領域及び前記所定領域以外の領域からなるパターンを形成する第２のパターン形成工程を含むことを特徴とする。
【００２７】
請求項６に記載の発明によれば、基板に第２の濡れ性可変層が形成され、活性光線により第２の濡れ性可変層に任意のパターンが形成され、転写ローラの回転による溶液の転写が多少ずれていても、第２の濡れ性可変層に形成されたパターンに基づいた光学材料層を形成するので、より高精度な光学層を有する表示装置を製造することができる。
【００２８】
請求項７に記載の発明は、請求項６に記載の表示装置の製造方法において、
前記第２のパターン形成工程において、光を透過する任意のパターンが形成された第２のフォトマスク基板を用いて前記活性光線を前記第２の濡れ性可変層に照射することを特徴とする。
【００２９】
請求項７に記載の発明によれば、任意のパターンが形成された第２のフォトマスク基板を用いて、活性光線により第２の濡れ性可変層に任意の微細且つ高精度なパターンを容易に形成することができる。
【００３０】
請求項８に記載の発明は、請求項７に記載の表示装置の製造方法において、
前記第２のフォトマスク基板は、光触媒を含むことを特徴とする。
【００３１】
請求項８に記載の発明によれば、第２のフォトマスク基板には光触媒が含まれるので、光触媒に対する活性光線の通過により活性酸素種が発生し、その活性酸素種により第２の濡れ性可変層に任意の微細且つ高精度なパターンを容易に形成することができる。
【００３２】
請求項９に記載の発明は、請求項６から８のいずれか一項に記載の表示装置の製造方法において、
前記第２の濡れ性可変層は、光触媒を含むことを特徴とする。
【００３３】
請求項９に記載の発明によれば、第２の濡れ性可変層には光触媒が含まれるので、光触媒に対する活性光線の通過により活性酸素種が発生し、その活性酸素種により第２の濡れ性可変層に任意の微細且つ高精度なパターンを容易に形成することができる。
【００３４】
請求項１０に記載の発明は、請求項１から５のいずれか一項に記載の表示装置の製造方法において、
濡れ性が互いに異なる所定領域及び前記所定領域以外の領域からなるパターンを前記基板側に直接形成する基板パターン形成工程を含むことを特徴とする。
【００３５】
請求項１０に記載の発明によれば、基板に任意のパターンを直接形成し、転写ローラの回転による溶液の転写が多少ずれていても、基板に直接形成されたパターンに基づいた光学材料層を形成するので、より高精度な光学層を有する表示装置を製造することができる。
【００３６】
請求項１１に記載の発明は、請求項１から１０のいずれか一項に記載の表示装置の製造方法において、
前記所定の領域は、少なくとも１つの前記第１の電極に対応する親液領域であり、前記所定領域以外の領域は撥液領域であることを特徴とする。
【００３７】
請求項１６に記載の発明は、請求項１３から１５のいずれか一項に記載の転写ローラにおいて、
前記所定の領域は、少なくとも１つの前記第１の電極に対応する親液領域であり、前記所定領域以外の領域は撥液領域であることを特徴とする。
【００３８】
請求項１１又は１６に記載の発明によれば、少なくとも１つの第１の電極に対応する親液領域と、それ以外の撥液領域とのパターンに基づいて、微細且つ高精度な光学材料層を所定の第１の電極上に有する表示装置を短時間で効率的に製造することができる。
【００３９】
請求項１２に記載の発明は、請求項１から１１のいずれか一項に記載の表示装置の製造方法において、
前記基板は、仕切り壁により前記第１の電極が囲繞された囲繞領域を有し、
前記転写工程において、前記第１の濡れ性可変層に前記溶液が付着された前記転写ローラを回転して、前記付着された溶液を前記基板側の前記囲繞領域に接触させることにより転写することを特徴とする。
【００４０】
請求項１２に記載の発明によれば、転写ローラの回転により、付着された溶液を基板側の仕切り壁に囲繞された囲繞領域に接触させることにより転写するので、転写された溶液が囲繞領域からあふれ出ることなく、より均一な膜厚の光学材料層を形成し、その光学材料層の発光特性の劣化要因をより軽減することができる。
【００４１】
【発明の実施の形態】
以下に、図面を用いて本発明に係る具体的な第１、第２及び第３の実施の形態について順に説明する。ただし、発明の範囲を図示例に限定するものではない。また、以下の説明において、『平面視して』とは、『透明基板１２（後述）面に対して垂直な方向に見て』という意味である。
【００４２】
〔第１の実施の形態〕
本発明に係る第１の実施の形態を図１〜図４を参照して説明する。先ず、図１及び図２を参照して、表示装置としての有機ＥＬ表示パネル１０を説明する。図１は、有機ＥＬ表示パネル１０の平面図である。図２は、図１の切断線Ｓ１−Ｓ２における有機ＥＬ表示パネル１０の断面図である。
【００４３】
有機ＥＬ表示パネル１０は、赤、緑、青のサブピクセル（画素）が平面視してマトリクス状に配列されており、アクティブマトリクス駆動方式によりマトリクス表示を行うものである。即ち、有機ＥＬ表示パネル１０では、一つのサブピクセルにつき、一つの有機ＥＬ素子１１と、有機ＥＬ素子１１を駆動するための一つの画素回路とから構成されており、周辺ドライバ（図示略）から信号線５１及び走査線５２を介して画素回路へ電流又は電圧信号が入力されると、画素回路は信号に従って有機ＥＬ素子１１に流れる電流をオン・オフしたり、有機ＥＬ素子１１の発光期間中に電流値を保持することで有機ＥＬ素子１１の発光輝度を一定に保ったりする。画素回路は、一サブピクセルにつき、少なくとも一つ以上の薄膜トランジスタから構成され、適宜コンデンサ等も付加されることもあるが、本実施の形態では画素回路が二つのトランジスタ２１，２１から構成されている。また、連続して配列された赤、緑及び青の三つのサブピクセルが、一つの組となって、一つのピクセルとなる。
【００４４】
有機ＥＬ表示パネル１０は平板状の透明基板１２を有しており、透明基板１２の表面１２ａ上には、横方向に延在した複数の走査線５２，５２，…が形成されている。走査線５２，５２，…は、平面視して、ほぼ等間隔となって互いに平行に配列されている。走査線５２，５２，…は、導電性を有しており、透明基板１２の表面１２ａ一面に成膜されたゲート絶縁膜２３によって被膜されている。このゲート絶縁膜２３上には、縦方向に延在した複数の信号線５１，５１，…が形成されており、平面視して信号線５１，５１，…は走査線５２，５２，…に対して直交している。信号線５１，５１，…も、平面視して、ほぼ等間隔となって互いに平行に配列されている。図中、透明基板１２には信号線５１、走査線５２が延在しているが、それ以外の配線が延在されていてもよい。
【００４５】
透明基板１２の表面１２ａには、複数のトランジスタ２１，２１，…が形成されている。各トランジスタ２１は、ゲート電極２２、ゲート絶縁膜２３、半導体膜２４、不純物半導体膜２５，２６、ドレイン電極２７、ソース電極２８から構成されており、これらが積層されてなるＭＯＳ型電界効果トランジスタである。ゲート絶縁膜２３は、透明基板１２一面に成膜されており、全てのトランジスタ２１，２１，…について共通の層となっている。図中、トランジスタ２１は、逆スタガ構造であるが、これに限らずコプラナ型等の構造でもよい。
【００４６】
トランジスタ２１，２１、…は保護絶縁膜１８によって被覆されている。平面視して、保護絶縁膜１８が信号線５１及び走査線５２に沿って網目状に形成されることで、保護絶縁膜１８によって囲繞された複数の囲繞領域１９，１９，…が透明基板１２上にマトリクス状に配列されたように形成される。保護絶縁膜１８は、酸化シリコン（ＳｉＯ２）及び窒化シリコン（ＳｉＮ）といった無機珪素化物で形成されている。
【００４７】
保護絶縁膜１８に重なるようにして、仕切り壁２０が保護絶縁膜１８上に形成されており、仕切り壁２０も保護絶縁膜１８と同様に平面視して信号線５１、走査線５２に沿うように網目状に形成されている。仕切り壁２０の幅は、透明基板１２に近づくにつれて大きくなり、縦断面が図２に示すように略台形状になっている。仕切り壁２０は、絶縁性を有しており、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂又はノボラック樹脂等の感光性樹脂といった有機化合物で形成されている。また、仕切り壁２０の表面に撥液性を有した膜（例えば、フッ素樹脂膜）が形成されていても良いし、仕切り壁２０の表層が撥液性を有するようにしても良い。ここで、撥液性とは、光学材料含有液としての有機化合物含有液と、その有機化合物含有液が塗布された塗布面との接触角が４０°〜５０°を越える表面の性質であって有機化合物含有液をはじきやすい性質をいう。有機化合物含有液とは、後述する有機ＥＬ層１５を構成した光学材料としての有機化合物又はその前駆体を含有した液であり、有機ＥＬ層１５を構成した有機化合物又はその前駆体が溶質として溶媒に溶けた溶液であっても良いし、有機ＥＬ層１５を構成した有機化合物又はその前駆体が液体に分散した分散液であっても良い。仕切り壁２０の撥液性については、本実施の形態の第１の変形例の「親液処理・撥液処理」の項で詳説する。
【００４８】
次に、光学素子である有機ＥＬ素子１１について説明する。有機ＥＬ素子１１は、透明基板１２側からアノード１３、ＥＬ層１５、カソード１６の順に積層した積層構造となっている。アノード１３は、可視光に対して透過性を有するとともに導電性を有する。アノード１３は、比較的仕事関数の高いものである。アノード１３は、例えば、酸化インジウム、酸化亜鉛若しくは酸化スズ又はこれらのうちの少なくとも一つを含む混合物（例えば、錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、亜鉛ドープ酸化インジウム）で形成されている。
【００４９】
平面視して、アノード１３は信号線５１，５１，…と走査線５２，５２，…に囲まれた各領域に配設されており、複数のアノード１３、１３，…が互いに間隔をあけて且つマトリクス状になってゲート絶縁膜２３上に配列されている。
【００５０】
また、平面視して、アノード１３はそれぞれ囲繞領域１９に対応して臨んでおり、囲繞領域１９の面積はアノード１３の面積より小さく、囲繞領域１９は一部がアノード１３内に配されており、アノード１３の外周部は保護絶縁膜１８及び仕切り壁２０の一部に重なって被覆されている。ここではアノード１３がトランジスタ２１のソース電極２８に接続されているが、カソードをアノード１３のようにマトリクス状にして各ソース電極８に接続し、ＥＬ層１５を介して上方にカソード１６の代わりに共通電極としてアノード電極を配置させてもよく、画素回路の回路構成によっては他のトランジスタやコンデンサにアノード１３が接続されていても良い。また、アノード１３の表面に親液性を有した膜が形成されていても良いし、アノード１３の表層が親液性を有するようにしても良い。ここで、親液性とは、有機化合物含有液と、その有機化合物含有液が塗布された塗布面との接触角が４０°〜５０°以下の表面の性質であって、有機化合物含有液をはじきにくい性質をいう。有機化合物含有液になじむ性質をいう。なお、アノード１３の親液性については、本実施の形態の第１の変形例の「親液処理・撥液処理」の項で詳説する。
【００５１】
それぞれのアノード１３上には有機ＥＬ層１５が成膜されている。平面視して、これら有機ＥＬ層１５，１５，…は、マトリクス状に配列されており、それぞれの囲繞領域１９内に配設されている。
【００５２】
各有機ＥＬ層１５は、例えば、チオフェン系高分子、ポリフルオレン系高分子等の有機化合物である発光材料（蛍光体）で形成された光学材料層であって、アノード１３から注入された正孔とカソード１６から注入された電子を再結合させることで励起子を生成して、赤色、緑色、青色の何れか１つに発光する狭義の層を含む。このような有機ＥＬ層１５は、サブピクセル毎に、例えば、赤色に発光する有機ＥＬ層１５、緑色に発光する有機ＥＬ層１５、青色に発光する有機ＥＬ層１５のいずれかが設けられ、隣り合うサブピクセル同士が互いに異なる発光色の層となるように配列されており、これら三色の有機ＥＬ層１５，１５，１５でそれぞれ構成されたサブピクセルによって一ピクセルの色調が定まる。なお、図面において赤色に発光する有機ＥＬ層１５には括弧書きでＲを付し、緑色に発光する有機ＥＬ層１５には括弧書きでＧを付し、青色に発光する有機ＥＬ層１５には括弧書きでＢを付し、それぞれの色に対応するアノード１３及び囲繞領域１９にもＲ、Ｇ、Ｂを括弧書きで付す。
【００５３】
各有機ＥＬ層１５には、電子輸送性の物質が適宜混合されていても良いし、正孔輸送性の物質が適宜混合されても良いし、電子輸送性の物質及び正孔輸送性の物質が適宜混合されていても良い。
【００５４】
また、各有機ＥＬ層１５は、アノード１３側から順に正孔輸送層、狭義の発光層、電子輸送層となる三層構造であったり、アノード１３側から順に正孔輸送層、電子輸送層を兼ねた狭義の発光層となる二層構造であったり、狭義の発光層からなる一層構造であったり、これらの層構造において適切な層間に電子或いは正孔の注入層が介在した積層構造であったりする。なお、正孔輸送層、狭義の発光層、電子輸送層も有機化合物からなる層であって、光学材料層である。
カソード１６は、全ての有機ＥＬ層１５，１５，…と仕切り壁２０を被覆するように透明基板１２一面に連続して形成されており、それぞれの囲繞領域１９内においてアノード１３と対向している。カソード１６は、少なくとも仕事関数の低い材料を含み、具体的にはマグネシウム、カルシウム、リチウム、バリウム若しくは希土類からなる単体又はこれらの単体を少なくとも一種を含む合金を有している。更に、カソード１６が積層構造となっていても良く、例えば、上述のような低仕事関数材料で形成された膜上にアルミニウム、クロム等の高仕事関数で且つ低抵抗率の材料で被膜した積層構造でも良い。また、有機ＥＬ層１５，１５，…からの光を透明基板１２を介して出射させる場合、カソード１６は可視光に対して遮光性を有するのが望ましく、さらに、有機ＥＬ層１５から発する可視光に対して高い反射性を有するのが望ましい。つまり、カソード１６は可視光を反射する鏡面として作用することで光の利用効率を向上することができる。対して有機ＥＬ層１５，１５，…からの光をカソード１６を介して出射させる場合、カソード１６の有機ＥＬ層１５，１５，…と接する面に上述した低仕事関数の材料を可視光波長域よりも短い厚さに成膜してからさらにその上にＩＴＯ等の透明電極層を積層させてもよい。
【００５５】
以上のように、カソード１６は、全てのサブピクセルについて連続して共通した層となっており、アノード１３及び有機ＥＬ層１５は、サブピクセルごとに電気的に絶縁されて形成されている。
【００５６】
次に、有機ＥＬ表示パネル１０の製造方法について説明する。
有機ＥＬ表示パネル１０の製造方法は、以下のような工程からなる。
（ア）駆動基板製造工程：透明基板１２上にトランジスタ２１，２１，…、アノード１３，１３，…及び仕切り壁２０等を適宜形成する。
（イ）印刷工程：それぞれの色の版を用いて、色ごとに有機ＥＬ層１５，１５，…を形成する。つまり、赤色用の有機化合物含有液を赤用版に塗布し、赤用版に塗布された有機化合物含有液を透明基板１２に転写することによって、赤色用のそれぞれのアノード１３（Ｒ）上に赤色の有機ＥＬ層１５（Ｒ）を成膜する。同様に、緑色の有機ＥＬ層１５（Ｇ）、青色の有機ＥＬ層１５（Ｂ）の成膜もそれぞれ緑用版、青用版を用いて順次行う。
（ウ）電極形成工程：カソード１６を成膜する。
以下、これらの工程について詳説する。
【００５７】
まず、（ア）駆動基板製造工程の前に下準備として「製版工程」を行う。製版工程は、赤、緑、青の色ごとに原版を準備する。そして、これら原版から、赤色の有機ＥＬ層１５（Ｒ）をパターニングするための赤用版、緑色の有機ＥＬ層１５（Ｇ）をパターニングするための緑用版、青色の有機ＥＬ層１５（Ｂ）をパターニングするための青用版を製版する。
【００５８】
図３を参照して、製版方法について説明する。図３は、赤用版２００Ｒの製造工程を示した図である。まず、平板状の基材である基板２０１の表面２０１ａ上に濡れ性可変層２０２を成膜し、これが版の元となる原版となる。
濡れ性可変層２０２は、活性光線ｈνの被照射により濡れ性が変化する層である。活性光線ｈνとしては、光触媒を励起する紫外線とするが、これに限るものではなく、可視光線、赤外線等の光触媒を励起する光線でもよい。また、基板２０１は、可撓性を有することが望ましく、例えば、ポリイミド、ポリエーテルサルホン、ポリカーボネイト、ポリアリレート、ポリエステル等の材料からなる。このため、赤用版２００Ｒは変形可能なフィルム状となる。
【００５９】
濡れ性可変層２０２に用いることのできるバインダーは、好ましくは主骨格が前記光触媒の光励起により分解されないような高い結合エネルギーを有するものであり、例えば、（Ａ）ゾルゲル反応等によりクロロまたはアルコキシシラン等を加水分解、重縮合して大きな強度を発揮するオルガノポリシロキサン、或いは（Ｂ）撥水性や撥油性に優れた反応性シリコーンを架橋したオルガノポリシロキサン等を挙げることができる。
【００６０】
前記（Ａ）の場合、一般式Ｒ３ ｎＳｉＲ４ ４−ｎ（ｎ＝１〜３）で表される珪素化合物の１種または２種以上の加水分解縮合物、共加水分解化合物が主体であることができる。前記一般式では、Ｒ３は例えばアルキル基、フルオロアルキル基、ビニル基、アミノ基またはエポキシ基であることができ、Ｒ４は例えばハロゲンやハロゲンを含む官能基、メトキシル基、エトキシル基、またはアセチル基であることができる。また、バインダーとして、特に好ましくはフルオロアルキル基を含有するポリシロキサンを用いることができ、具体的には、フルオロアルキルシランの１種または２種以上の加水分解縮合物、共加水分解縮合物が挙げられ、また、一般にフッ素系シランカップリング剤として知られているものを使用してもよい。フルオロアルキル基としては、例えば、次の一般式（１），（２）で表す官能基が挙げられる。
−（ＣＨ２）ａ（ＣＦ２）ｂＣＦ３ …（１）
−（ＣＨ２）ｃ（ＣＦ２）ｄＣＦ（ＣＦ３）２ …（２）
一般式（１），（２）において、ａ，ｂ，ｃ，ｄはいずれも０以上の整数である。
【００６１】
前記（Ｂ）の反応性シリコーンとしては、下記一般式（３）で表される骨格を持つ化合物を挙げることができる。
−（Ｓｉ（Ｒ１）（Ｒ２）Ｏ）ｎ− …（３）
一般式（３）において、ｎは２以上の整数、Ｒ１，Ｒ２はそれぞれ炭素数１〜１０の置換もしくは非置換のアルキル、アルケニル、アリールあるいはシアノアルキル基であることができる。好ましくは全体の４０モル％以下がビニル、フェニル、ハロゲン化フェニルであることができる。また、Ｒ１とＲ２のうちの少なくとも一方がメチル基であるものは表面エネルギーが最も小さくなるので好ましく、好ましくはメチル基が６０モル％以上であり、鎖末端または側鎖には、分子鎖中に少なくとも１個以上の水酸基などの反応性基を有する。
【００６２】
また、前記のオルガノポリシロキサンとともにジメチルポリシロキサンのような架橋反応を起こさない安定なオルガノシリコン化合物をバインダーに混合してもよい。
【００６３】
濡れ性可変層２０２の形成方法は、例えば塗布液を、スプレーコート、ディップコート、ロールコート、ビードコートなどの方法により基材に塗布して形成することができる。塗布液に使用することができる溶剤としては、特に限定されないが、例えばエタノール、イソプロパノールといったアルコール系の有機溶剤を挙げることができる。
【００６４】
濡れ性可変層２０２の形成方法の一例を詳述する。
基板２０１を純水で洗浄し、フルオロアルキル基を有したシラザン化合物を溶解した塗布液（以下、シラザン系溶液という。）を基板２０１の表面２０１ａ上にディップコート法により塗布する。シラザン系溶液の溶媒としては、フッ素系溶剤が挙げられる。
【００６５】
ここで、「フルオロアルキル基を有したシラザン化合物」とは、Ｓｉ−Ｎ−Ｓｉ結合を有し、Ｎ又は／及びＳｉにフルオロアルキル基が結合したものであり、例えば次の一般式（１）で表すモノマー、オリゴマー又はポリマーが挙げられる。
ＲｆＳｉ（ＮＨ）３／２ …（４）
一般式（４）においてＲｆは、フルオロアルキル基である。
【００６６】
シラザン化合物として、次の一般式（５）及び化学構造式（６）で表せるシラザンオリゴマー（ＫＰ−８０１Ｍ：信越化学工業株式会社製）を用いる。そして、上述のディップコート工程においては、このシラザンオリゴマーを溶質としてｍ−キシレンヘキサフロイド溶媒に溶かしたシラザン系溶液（濃度３％）をディップコート法により基板２０１に塗布する。
Ｃ８Ｆ１７Ｃ２Ｈ４Ｓｉ（ＮＨ）３／２ …（５）
【化１】
【００６７】
次いで、基板２０１に窒素ガス及びアルゴンガスといった不活性ガスを吹き付けて、シラザン系溶液の溶媒を蒸発させることで、シラザン化合物が基板２０１の表面２０１ａに堆積した状態となる。溶媒は加熱により蒸発させてもよい。
【００６８】
次いで、基板２０１を１０〜３０分間放置すると、雰囲気中の水分によってシラザン化合物が加水分解して基板２０１の表面と結合するとともに重合して珪素と酸素からなる主鎖に対してフルオロアルキル基が結合した縮合物をバインダーとした濡れ性可変層２０２が基板２０１上に成膜される。濡れ性可変層２０２に含まれる縮合物は、次の一般式（７）で表される。
【化２】
【００６９】
一般式（７）において、Ｒｆは上述したように撥液性を示すフルオロアルキル基であり、Ｘは基板２０１の原子又は基板２０１の表面に化学吸着した原子であり、シラザン化合物が一般式（５）で表されるシラザンオリゴマーの場合には、ＲｆはＣ８Ｆ１７Ｃ２Ｈ４となる。この濡れ性可変層２０２のバインダーが、フッ素を含む官能基を側鎖に含んだ縮合物であるから、有機化合物含有液に対して濡れ性が低く、撥液性を示す。
【００７０】
そして、図３に示すように、フォトマスク基板２０３を用いて濡れ性可変層２０２に図示しない光源からの活性光線ｈνを部分的に照射することで、赤用版２００Ｒが完成する。
ここで、フォトマスク基板２０３は活性光線ｈνを透過する平板状の透明基板２０４を有し、この透明基板２０４の表面２０４ａに活性光線ｈνをほとんど透過しないマスク２０５が網目状に形成されており、マスク２０５が網目状となることによってマスク２０５間にマトリクス状に配列された複数の開口部２０５ａ，２０５ａ，…が形成されている。
また、光触媒膜２０６がマスク２０５全体を被覆するように透明基板２０４の表面２０４ａ一面に成膜されている。光触媒膜２０６の膜厚は、例えば約０．２［μｍ］である。光触媒膜２０６の光触媒材料としては、酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ２）、チタン酸ストロンチウム（ＳｒＴｉＯ３）、酸化タングステン（ＷＯ３）、酸化ビスマス（Ｂｉ２Ｏ３）、酸化鉄（Ｆｅ２Ｏ３）のような金属酸化物を挙げることができるが、特に酸化チタンが好ましい。酸化チタンにおいては、アナターゼ型とルチル型のいずれも使用することができるが、アナターゼ型酸化チタンが励起波長が３８０ｎｍ以下であるからより好ましい。光触媒膜２０６のバインダーは活性光線ｈνによる耐性があれば特に限定されない。
【００７１】
平面視した場合の開口部２０５ａ，２０５ａ，…の配列パターンは、赤色に発光する画素に対応する囲繞領域１９（Ｒ），１９（Ｒ），…の配列パターンと同様である。
【００７２】
以上のようなフォトマスク基板２０３を濡れ性可変層２０２に対向させて、フォトマスク基板２０３を介して図示しない光源から活性光線ｈνを濡れ性可変層２０２に入射させる。フォトマスク基板２０３のマスク２０５では活性光線ｈνが遮蔽され、開口部２０５ａ，２０５ａ，…では活性光線ｈνが通過し、濡れ性可変層２０２に活性光線ｈνが入射する。活性光線ｈνの通過した開口部２０５ａの光触媒膜２０６では、光触媒（例えば酸化チタン）に活性光線ｈνが入射されることで活性酸素種（例えば・ＯＨ）が生成され、活性酸素種がフォトマスク基板２０３と濡れ性可変層２０２との間の気相を拡散し、濡れ性可変層２０２に到達した活性酸素種が濡れ性可変層２０２の撥液性を示す官能基（例えばＲｆ）を脱離させ、親液性を示す官能基（例えば−ＯＨ）に置換する。このため、活性光線ｈνの入射した親液性領域２０２ａは、濡れ性が向上して親液性を示す。これにより、濡れ性可変層２０２には、濡れ性の相違によるパターンであって、マトリクス状に配列された複数の親液性領域２０２ａと親液性領域２０２ａの周囲に配置された撥液性領域２０２ｂからなるパターンが形成される。
【００７３】
活性光線ｈνの入射した親液性領域２０２ａは、濡れ性可変層２０２において赤色発光画素の囲繞領域１９（Ｒ）に対応しており、活性光線ｈνの入射していない撥液性領域２０２ｂは、緑色発光画素の囲繞領域１９（Ｇ）及び青色発光画素の囲繞領域１９（Ｂ）並びに仕切り壁２０に対応している。従って、平面視した場合の親液性領域２０２ａ，２０２ａ，…の配列パターンは、平面視した場合の囲繞領域１９（Ｒ），１９（Ｒ），…の配列パターンと同様である。
【００７４】
緑用版２００Ｇ（図示せず）、青用版２００Ｂ（図示せず）を製版する場合にも赤用版２００Ｒと同様に用いて原版に活性光線ｈνを部分的に照射することによって製版するが、緑用版２００Ｇの場合にはフォトマスク基板を用いて緑色用の囲繞領域１９（Ｇ），１９（Ｇ），…に対応した領域のみにおいて濡れ性可変層２０２に活性光線ｈνを入射させ、青用版２００Ｂの場合にはフォトマスク基板を用いて青色用の囲繞領域１９（Ｂ），１９（Ｂ），…に対応した領域のみにおいて濡れ性可変層２０２に活性光線ｈνを入射させる。従って、緑用版２００Ｇにおいては、平面視した場合の親液性領域２０２ａ，２０２ａ，…の配列パターンは、平面視した場合の囲繞領域１９（Ｇ），１９（Ｇ），…の配列パターンと同様であり、青用版２００Ｂにおいては、平面視した場合の親液性領域２０２ａ，２０２ａ，…の配列パターンは、平面視した場合の囲繞領域１９（Ｂ），１９（Ｂ），…の配列パターンと同様である。
【００７５】
また、以上で説明した製版方法とは別の製版方法も存在する。その別の製版方法は、フォトマスク基板２０３に光触媒層２０６を形成することなく、濡れ性可変層２０２が光触媒を含有する構成となる。この場合、上記の濡れ性可変層２０２の形成方法において、シラザン系溶液に光触媒を分散させる。光触媒含有層中の光触媒の量は、５重量％〜６０重量％であることが好ましく、２０重量％〜４０重量％であることがより好ましい。
【００７６】
そのフォトマスク基板をその濡れ性可変層に対向させて、フォトマスク基板を介して活性光線ｈνを濡れ性可変層に入射させる。フォトマスク基板のマスク２０５では活性光線ｈνが遮蔽され、開口部２０５ａ，２０５ａ，…では活性光線ｈνが通過し、濡れ性可変層に活性光線ｈνが入射する。活性光線ｈνの入射した親液性領域２０２ａでは、光触媒（例えば酸化チタン）に活性光線ｈνが入射されることで活性酸素種（例えば・ＯＨ）が生成され、この活性酸素種が撥液性を示す官能基（例えばＲｆ）を脱離させ、親液性を示す官能基（例えば−ＯＨ）に置換する。このため、活性光線ｈνの入射した親液性領域２０２ａは、濡れ性が向上して親液性を示す。これにより、濡れ性可変層には、濡れ性の相違によるパターンであって、マトリクス状に配列された複数の親液性領域２０２ａと親液性領域２１０ａの周囲に配置された撥液性領域２０２ｂとからなるパターンが形成される。
【００７７】
また、この別の製版方法は、緑用版２００Ｇ、青用版２００Ｂを製版する際にも適用することができる。また、他の手順は、最初に説明した製版方法と同様である。また、最初に説明した製版方法において、濡れ性可変層２０２に光触媒を含ませる構成でもよい。
【００７８】
「（ア）駆動基板製造工程」
図１及び図２に示すように、ＰＶＤ法及びＣＶＤ法といった成膜工程、フォトリソグラフィー法といったマスク工程、エッチング法といった薄膜の形状加工工程を適宜行うことによって、行方向に配列するように複数の走査線５２，５２，…及びゲート電極２２をパターニングしてから、透明基板１２の表面１２ａ一面に成膜されたゲート絶縁膜２３に被膜する。次いで半導体膜２４、不純物半導体膜２５，２６をそれぞれ成膜パターニングし、サブピクセルごとにアノード１３を透明基板１２の表面１２ａ上にパターニング形成する。そして行方向と直交する列方向に配列するように複数の信号線５１，５１，…をパターニング形成するとともにドレイン電極２７、ソース電極２８をパターニングする。ここで、アノード１３及びトランジスタ２１をパターニング形成する際には、トランジスタ２１のソース電極２８とアノード１３が接続されるように、レジストでマスクする。
【００７９】
アノード１３，１３，…及びトランジスタ２１，２１，…の形成後、ＰＶＤ法及びＣＶＤ法といった成膜工程、フォトリソグラフィー法といったマスク工程、エッチング法といった薄膜の形状加工工程を行うことによって、それぞれのアノード１３を囲繞するように窒化シリコンや酸化シリコンからなる網目状の保護絶縁膜１８を形成する。次いで、感光性樹脂からなる感光性樹脂膜を透明基板１２の一面に成膜し、この感光性樹脂膜を部分的に露光した後に除去液を感光性樹脂膜に塗布することによって、感光性樹脂膜を網目状に形状加工する。
【００８０】
これにより感光性樹脂からなる網目状の仕切り壁２０が形成され、保護絶縁膜１８及び仕切り壁２０に囲繞された囲繞領域１９，１９，…が形成され、各囲繞領域１９においてアノード１３が露出している。なお、感光性樹脂膜を露光する際において、感光性樹脂膜がネガ型の場合には、保護絶縁膜１８に重なった部分に光を照射し、逆に感光性樹脂膜がポジ型の場合には、保護絶縁膜１８に囲繞された領域の部分に光を照射する。
【００８１】
次いで、透明基板１２の表面１２ａ側を、即ちアノード１３，１３，…、保護絶縁膜１８及び仕切り壁２０の表面を洗浄する。洗浄としては、大気圧未満の減圧下における酸素プラズマ洗浄であっても良いし、紫外線／オゾン洗浄であっても良い。必要に応じて、各囲繞領域１９内のアノード１３の表面を親液処理するとともに、仕切り壁２０の表面を撥液処理する。これについては本実施の形態の第１の変形例の「親液処理・撥液処理」の項において詳述する。なお、透明基板１２の表面１２ａにアノード１３，１３，…、トランジスタ２１，２１，…、保護絶縁膜１８及び仕切り壁２０が形成されたものを、駆動基板という。
【００８２】
「（イ）印刷工程」
図４を参照して、透明基板１２への赤色用の有機化合物含有液６０ｒの印刷方法を説明する。図４は、本実施の形態における有機ＥＬ表示パネル１０の製造工程を示した図であり、（ａ）は赤用版２００Ｒへの赤色用の有機化合物含有液６０ｒの付着を示す図であり、（ｂ）は有機ＥＬ表示パネル１０への赤色用の有機化合物含有液６０ｒの転写を示す図であり、（ｃ）は（ｂ）のＸ方向からの転写を示す図であり、（ｄ）は赤色用の有機化合物含有液６０ｒが印刷された有機ＥＬ表示パネル１０を示す図である。
【００８３】
図４（ａ）に示すように、先ず、変形可能な赤用版２００Ｒをローラ４１の円周面に貼り付けて転写ローラ４０Ａとする。そして、赤色用の有機化合物含有液６０ｒが満たされた溶液プール４２に赤用版２００Ｒが浸されるように転写ローラ４０Ａを浸し、転写ローラ４０Ａをローラ４１を軸４１ａを軸として矢印Ａ方向に回転させつつ溶液プール４２を矢印Ｂ方向に移動させて、赤用版２００Ｒの円周面に赤色用の有機化合物含有液６０ｒが浸される。赤色用の有機化合物含有液６０ｒは、溶質としての発光材料を溶剤等で溶解した溶液であり、例えば、チオフェン系高分子、ポリフルオレン系高分子等の発光材料を、テトラリン、テトラメチルベンゼン、メシチレン等の有機溶剤等で溶解した溶液である。
【００８４】
濡れ性可変層２０２において活性光線ｈνの照射された親液性領域２０２ａ，２０２ａ，…が親液性であり且つ活性光線ｈνが照射されなかった撥液性領域２０２ｂが撥液性であるから、活性光線ｈνが照射された親液性領域２０２ａ，２０２ａ，…にのみに有機化合物含有液６０ｒが液滴として付着する。つまり有機化合物含有液６０ｒは、濡れ性可変層２０２上にマトリクス状に配列される。
【００８５】
このとき、有機化合物含有液６０ｒの表面張力を利用して、転写ローラ４０Ａを振動させて、撥液性領域２０２ｂに有機化合物含有液６０ｒがわずかに残った場合、残査となる有機化合物含有液６０ｒを赤用版２００Ｒの外へはじいてもよい。また、転写ローラ４０Ａを傾けることで親液性領域２０２ａの有機化合物含有液６０ｒを残しながら撥液性領域２０２ｂ上の有機化合物含有液６０ｒを自重で滑り落としてもよい。さらには、転写ローラ４０Ａを傾けながら振動させることで撥液性領域２０２ｂ上の不要の有機化合物含有液６０ｒを外へはじくことができる。
【００８６】
そして、図４（ｂ），（ｃ）に示すように、トランジスタ２１，２１，…、アノード１３，１３，…及び仕切り壁２０等が形成された透明基板１２の表面１２ａに印刷用ローラ４０Ａを対向させる。図４（ｂ），（ｃ）においては、透明基板１２上に形成されたトランジスタ２１，２１，…、アノード１３，１３，…等は図示を省略されている。
【００８７】
ここで、赤用のアノード１３（Ｒ）と、有機化合物含有液６０ｒの付着した親液性領域２０２ａとをそれぞれ対向させるように、透明基板１２と赤用版２００Ｒ（転写ローラ４０Ａ）との位置合わせを行う。そして、赤用版２００Ｒの面から突出している有機化合物含有液６０ｒがアノード１３（Ｒ）に接触することで、親液性領域２０２ａに付着した有機化合物含有液６０ｒを赤用のアノード１３（Ｒ）に転写し、転写ローラ４０Ａを矢印方向に回転させつつ透明基板１２を矢印Ｃの方向に移動させることで、それぞれの親液性領域２０２ａに付着した有機化合物含有液６０ｒを赤用のアノード１３（Ｒ）に次々と転写する。アノード１３がＩＴＯである場合、表面が平滑でない金属酸化物なので比較的有機化合物含有液６０ｒになじみやすい。これにより、図４（ｄ）に示すように、それぞれの囲繞領域１９（Ｒ）内において赤色に発光する画素に対応するアノード１３（Ｒ）上に赤色に発光する有機ＥＬ層１５（Ｒ）が形成される。
【００８８】
このとき、位置合わせが若干ずれていて、有機化合物含有液６０ｒが仕切り壁２０の側壁に接触しても、仕切り壁２０の側壁から赤用のアノード１３（Ｒ）上に滑り落ちるので、成膜された赤色の有機ＥＬ層１５（Ｒ）の厚さが表示に影響ある程度にばらつくことはない。なお、仕切り壁２０によって囲繞領域１９（Ｒ），１９（Ｒ），…が仕切られているため、囲繞領域１９（Ｒ）に転写された有機化合物含有液６０ｒが、異なる色の有機化合物含有液が成膜される隣りの囲繞領域１９に漏れることが殆どない。
【００８９】
次いで、赤色の場合と同様に、緑用版２００Ｇの貼り付けられた転写ローラ４０Ａを用いて、転写ローラ４０Ａに有機化合物含有液６０ｇ（図示せず）を付着させ、転写ローラ４０Ａを回転させつつ透明基板１２を移動させて、液滴である緑色用の有機化合物含有液６０ｇ（図示せず）をアノード１３（Ｇ）に接触させることでアノード１３（Ｇ），１３（Ｇ），…に転写し、それぞれの囲繞領域１９（Ｇ）内においてアノード１３（Ｇ）上に緑色の有機ＥＬ層１５（Ｇ）を形成する。
【００９０】
次いで、赤色の場合と同様に、青用版２００Ｂが貼り付けられた転写ローラ４０Ａを用いて、転写ローラ４０Ａの版２００に有機化合物含有液６０ｂ（図示せず）を付着させ、転写ローラ４０Ａを回転させつつ透明基板１２を移動させて、液滴である青色用の有機化合物含有液６０ｂ（図示せず）をアノード１３（Ｂ）に接触させることでアノード１３（Ｂ），１３（Ｂ），…に転写し、それぞれの囲繞領域１９（Ｂ）内においてアノード１３（Ｂ）上に緑色の有機ＥＬ層１５（Ｂ）を形成する。なお、成膜する順番は、赤色の有機ＥＬ層１５（Ｒ）、緑色の有機ＥＬ層１５（Ｇ）、青色の有機ＥＬ層１５（Ｂ）の順でなくてもよく、また赤色の有機ＥＬ層１５（Ｒ）、緑色の有機ＥＬ層１５（Ｇ）、青色の有機ＥＬ層１５（Ｂ）の順に配列していなくてもよい。
【００９１】
「（ウ）電極形成工程」
図２に示すように、蒸着やスパッタのようなＰＶＤ法及びＣＶＤ法といった成膜方法によって、有機ＥＬ層１５，１５，…を被覆するようにしてカソード１６を一面に成膜する。カソード１６の成膜後、封止材でこれら有機ＥＬ素子１１，１１，…を封止する。
【００９２】
以上のように製造された有機ＥＬ表示パネル１０では、画素回路が信号線５１及び走査線５２を介して入力した信号に従って有機ＥＬ素子１１に電流を流す。有機ＥＬ素子１１では、アノード１３から有機ＥＬ層１５へ正孔が注入され且つカソード１６から有機ＥＬ層１５へ電子が注入されることで、電流が流れる。そして、有機ＥＬ層１５において正孔及び電子が輸送されて、有機ＥＬ層１５にて正孔及び電子が再結合することによって有機ＥＬ層１５で発光する。アノード１３，１３，…及び透明基板１２が透明であるため、有機ＥＬ層１５で発した光は透明基板１２の裏面１２ｂから出射し、裏面１２ｂが表示面となる。
【００９３】
以上のように本実施の形態では、色ごとに版２００Ｒ，２００Ｇ，２００Ｂを製版し、それぞれの版を用いて色ごとに有機ＥＬ層１５，１５，…を形成するので、赤の有機ＥＬ層１５（Ｒ），１５（Ｒ），…、緑の有機ＥＬ層１５（Ｇ），１５（Ｇ），…、青の有機ＥＬ層１５（Ｂ），１５（Ｂ），…をそれぞれまとめて形成することができる。つまり、（イ）印刷工程において転写を単に三回行うことによって透明基板１２上の全ての有機ＥＬ層１５，１５，…を形成することができるから、短時間で効率的に有機ＥＬ表示パネル１０を製造することができる。
【００９４】
また、インクジェット方式のようにノズルを用いて有機ＥＬ層を形成するのではなく、版２００Ｒ，２００Ｇ，２００Ｂを用いて転写によって有機ＥＬ層１５，１５，…をパターニングするため、有機ＥＬ層が成膜される画素数が多くなるほど高効率に成膜することができる。またインクジェット方式のような溶液の目詰まりがなく、色素拡散方式やサーマル方式のような色素の不均一及び加熱による色素の劣化等がなく、有機ＥＬ層１５の厚みを均一にすることができるので、有機ＥＬ層１５の発光特性の劣化要因を軽減することができる。更に、活性光線ｈνにより親液領域及び撥液領域のパターンを形成するので、インクジェット方式に比較しても有機ＥＬ層１５を容易に高精細に配列して形成することができる。特に、本実施の形態によれば、従来のマスクに微細孔を設ける構成では不可能であったサブピクセルのピッチが７０［μｍ］以下の微細な画素の有機ＥＬ表示パネルを作成することができる。
【００９５】
〔第１の実施の形態の変形例〕
次に、図５〜図７を参照して、第１の実施の形態の第１及び第２の変形例を順に説明する。
【００９６】
（第１の変形例）
「親液処理・撥液処理」
図５を参照して、第１の実施の形態の第１の変形例を説明する。図５は、本変形例における有機ＥＬ表示パネル１０の製造工程を示した図である。第１の実施の形態では、透明基板１２の表面１２ａ（アノード１３，１３，…、保護絶縁膜１８及び仕切り壁２０）を酸素プラズマ洗浄を行う構成であったが、（イ）の印刷工程の前に、図５に示すように、透明基板１２の表面１２ａ側を純水で洗浄、乾燥後に、アノード１３，１３，…及び仕切り壁２０全体を被覆するような濡れ性可変層１４を透明基板１２の表面１２ａ側一面に形成しても良い。
【００９７】
濡れ性可変層１４は、版２００の元となる原版材の濡れ性可変層２０２と同様である。また、濡れ性可変層１４の形成方法も濡れ性可変層２０２と同様である。第１の実施の形態において説明した別の製版方法のように、塗布液に光触媒を分散させて濡れ性可変層１４に光触媒を含める構成としてもよいが、濡れ性可変層１４に濡れ性可変層１４に光触媒が含有していない方が、アノード１３に対する腐食を抑えることができたり、アノード１３から有機ＥＬ層１５への正孔注入性の低下を抑えることができたりするという効果をもたらす。
【００９８】
（イ）の印刷工程の前では、濡れ性可変層１４は、全体が撥液性となっており、有機化合物含有液をはじく撥液層になっている。（イ）の印刷工程では、版を用いてそれぞれの色の有機ＥＬ層１５（Ｒ），１５（Ｇ），１５（Ｂ）を形成する前に、濡れ性可変層１４をそれぞれの色のアノード１３（Ｒ），１３（Ｇ），１３（Ｂ）に重なった領域において活性光線ｈνを照射する。なお、図５は、有機ＥＬ層１５（Ｒ）を形成する囲繞領域１９に対しての活性光線ｈνの照射を示す。最終的には、全ての囲繞領域１９に対して活性光線ｈνを照射する。
【００９９】
つまり、赤用版２００Ｒで有機ＥＬ層１５（Ｒ），１５（Ｒ），…を形成する前に、例えば赤用版２００Ｒを製版する際に用いたフォトマスク基板２０３を用いて赤色に発光する画素に対応する囲繞領域１９（Ｒ），１９（Ｒ），…に重なった領域にのみ活性光線ｈνを照射する。これにより、濡れ性可変層１４は、赤用のアノード１３（Ｒ），１３（Ｒ），…に重なった領域内にて親液性の親液層１４（Ｒ）となる。
【０１００】
次いで、第１の実施の形態の（イ）の印刷工程で説明したように赤用版２００Ｒが貼り付けられた転写ローラ４０Ａを用いて、転写ローラ４０Ａの赤用版２００Ｒに有機化合物含有液６０ｒを付着させ、転写ローラ４０Ａを回転させつつ透明基板１２を移動させて、赤用のアノード１３（Ｒ），１３（Ｒ），…の表面に形成された親液層１４（Ｒ）上に赤色の有機化合物含有液６０ｒを転写して塗布する。囲繞領域１９（Ｒ）に有機化合物含有液６０ｒを転写する前に、囲繞領域１９（Ｒ）内のみにおいて濡れ性可変層１４が親液性の親液層１４（Ｒ）に変質しているため、有機化合物含有液６０ｒになじみ、仕切り壁２０や他の色の囲繞領域１９（Ｇ），１９（Ｂ）の表面では、撥液性を示す濡れ性可変層１４が成膜されているために、有機化合物含有液６０ｒをはじくので赤色の囲繞領域１９（Ｒ）のみに有機化合物含有液６０ｒが溜まり、溶液中の溶媒が乾燥することで有機ＥＬ層１５（Ｒ），１５（Ｒ），…が形成される。なお、赤色に発光する有機ＥＬ材料は、有機化合物含有液６０ｒ溶液中でポリマとなるものでもよく、また溶液が成膜されてから重合するモノマやオリゴマでもよい。
【０１０１】
次いで、緑用版２００Ｇを製版する際に用いたフォトマスク基板を用いて、濡れ性可変層１４のうち緑用の囲繞領域１９（Ｇ），１９（Ｇ），…にのみ活性光線ｈνを照射して囲繞領域１９（Ｇ），１９（Ｇ），…内の濡れ性可変層１４を親液層１４（Ｇ）に変質させる。その後上記（イ）の印刷工程で説明したように緑用版２００Ｇが貼り付けられた転写ローラ４０Ａを用いて、転写ローラ４０Ａの緑用版２００Ｇに有機化合物含有液６０ｇを付着させ、転写ローラ４０Ａを回転させつつ透明基板１２を移動させて、緑用のアノード１３（Ｇ），１３（Ｇ），…の表面に形成された親液層１４（Ｇ）上に緑色の有機化合物含有液６０ｇを転写して塗布する。囲繞領域１９（Ｇ）の表面は親液層１４（Ｇ）のために溶液になじむが、仕切り壁２０や他の色の囲繞領域１９（Ｂ）の表面は、撥液性を示す濡れ性可変層１４のままであるために、緑色の有機化合物含有液６０ｇをはじくので緑色の囲繞領域１９（Ｇ）のみに緑色の有機化合物含有液６０ｇが溜まり、溶液中の溶媒が乾燥することで有機ＥＬ層１５（Ｇ），１５（Ｇ），…が形成される。なお、緑色に発光するＥＬ材料は、有機化合物含有液６０ｇ溶液中でポリマとなるものでもよく、また溶液が成膜されてから重合するモノマやオリゴマでもよい。
【０１０２】
次いで、青用版２００Ｂを製版する際に用いたフォトマスク基板を用いて、濡れ性可変層１４のうち緑用の囲繞領域１９（Ｂ），１９（Ｂ），…にのみ活性光線ｈνを照射して囲繞領域１９（Ｂ），１９（Ｂ），…内の濡れ性可変層１４を親液層１４（Ｂ）に変質させる。その後上記（イ）の印刷工程で説明したように青用版２００Ｂが貼り付けられた転写ローラ４０Ａを用いて、転写ローラ４０Ａの青用版２００ｂに有機化合物含有液６０ｂを付着させ、転写ローラ４０Ａを回転させつつ透明基板１２を移動させて、青用のアノード１３（Ｂ），１３（Ｂ），…上に形成された親液層１４（Ｂ）上に青色の有機化合物含有液６０ｂを塗布する。囲繞領域１９（Ｂ）の表面は親液層１４（Ｂ）のために溶液になじむが、仕切り壁２０の表面は、撥液性を示す濡れ性可変層１４のままであるために、青色の有機化合物含有液６０ｂをはじくので青色の囲繞領域１９（Ｂ）のみに青色の有機化合物含有液６０ｂが溜まり、溶液中の溶媒が乾燥することで有機ＥＬ層１５（Ｂ），１５（Ｂ），…が形成される。なお、青色に発光するＥＬ材料は、有機化合物含有液６０ｂ溶液中でポリマとなるものでもよく、また溶液が成膜されてから重合するモノマやオリゴマでもよい。
【０１０３】
図５に示すように、光触媒膜２０６の形成されたフォトマスク基板２０３を図示して説明したが、濡れ性可変層１４に光触媒が含有する構成でもよい。
【０１０４】
例えば上記一般式（５）で示されたようなフルオロアルキル基を有したシラザン化合物を加水分解・縮合させることで濡れ性可変層１４を成膜した場合、珪素と酸素の主鎖がアノード１３，１３，…、保護絶縁膜１８及び仕切り壁２０の表面に沿った状態で形成され、濡れ性可変層１４が非常に薄い。その上、親液層１４（Ｒ）、親液層１４（Ｇ）、親液層１４（Ｂ）では、濡れ性可変層１４の厚さ方向に並んだフルオロアルキル基が水酸基に置換されているから、各囲繞領域１９内の親液層１４（Ｒ）、親液層１４（Ｇ）、親液層１４（Ｂ）の厚さが０．０ｎｍより厚く且つ１．０ｎｍ以下の厚さと更に薄くなる。つまり、親液層１４（Ｒ）、親液層１４（Ｇ）及び親液層１４（Ｂ）は、光が照射されていない部分（撥液部）より薄い。従って、アノード１３とＥＬ層１５との間に親液層１４（Ｒ）、親液層１４（Ｇ）、親液層１４（Ｂ）のいずれかが介在しても親液層１４（Ｒ）、親液層１４（Ｇ）、親液層１４（Ｂ）の絶縁性を無視することができ、アノード１３から有機ＥＬ層１５へ正孔が注入されることが阻害されない。
【０１０５】
なお、濡れ性可変層１４を形成せずに、以下のようにしてアノード１３，１３，…の表面を親液性とし、仕切り壁２０の表面を撥液性としても良い。即ち、上記（イ）の印刷工程の前に、仕切り壁２０に向けてＣＦ４プラズマといったフッ化物プラズマを照射することで、仕切り壁２０の表層でフッ素のラジカル種が反応し、仕切り壁２０の表層にフッ化物（主にフッ素と炭素の化合物）が形成される。これにより、仕切り壁２０の表面が撥液性となる。次いで、アノード１３，１３，…に向けてＯ２プラズマを照射することによってアノード１３，１３，…の表層をアッシングすると、アノード１３，１３，…の表層の不純物が除去される。これにより、アノード１３，１３，…が親液性となる。その後、上述した（イ）の印刷工程を行う。
【０１０６】
（第２の変形例）
次に、図６及び図７を参照して、第１の実施の形態の第２の変形例を説明する。
図６は、有機ＥＬ表示パネル１１０の断面図である。図７は、濡れ性可変層１４１を有する有機ＥＬ表示パネル１１０の製造工程を示す図である。
【０１０７】
図６に示すように、有機ＥＬ表示パネル１１０において、第１の実施形態の場合と同様に、透明基板１２上に信号線５１，５１，…及び走査線５２，５２，…をパターニング形成するとともに、サブピクセルごとにアノード１３，１３，…及びトランジスタ２１，２１，…を透明基板１２の表面１２ａ上にパターニング形成する。その後、トランジスタ２１及び信号線５１等の配線を覆うように保護絶縁膜１８を形成する。ここで、第１の実施形態では仕切り壁２０をパターニングしたが、本変形例では仕切り壁を形成しない。次いで、第１の実施形態の場合と同様に、アノード１３，１３，…及び保護絶縁膜１８を被覆するように、透明基板１２の表面１２ａ側、全面に撥液効果を有する濡れ性可変層１４１を成膜する。濡れ性可変層１４１には、光触媒が含まれていないのが望ましい。
【０１０８】
次いで、図７に示すように、フォトマスク基板２０３を用いて、濡れ性可変層１４１を部分的に露光する。（イ）の印刷工程の前では、濡れ性可変層１４１は、全体が撥液性となっており、有機化合物含有液をはじく撥液層になっている。（イ）の印刷工程では、版を用いてそれぞれの色の有機ＥＬ層１５（Ｒ），１５（Ｇ），１５（Ｂ）を形成する前に、濡れ性可変層１４１をそれぞれの色のアノード１３（Ｒ），１３（Ｇ），１３（Ｂ）に重なった領域において活性光線ｈνを照射する。
【０１０９】
なお、図７は、有機ＥＬ層１５（Ｒ）を形成するための濡れ性可変層１４１の部分に対しての活性光線ｈνの照射を示す。最終的には、有機ＥＬ層１５（Ｒ），（Ｇ），（Ｂ）を形成するための濡れ性可変層１４１の全ての部分に対して活性光線ｈνを照射する。また、図７において、見易くするため、アノード１３，１３，…及びトランジスタ２１，２１，…、保護絶縁膜１８等は図示を省略している。
【０１１０】
開口部２０５ａ，２０５ａ，…が囲繞領域１９，１９，…の配列パターンにそれぞれ対向するように透明基板２０４を透明基板１２上に配置させた後に、透明基板２０４の上側から活性光線ｈνを照射すると、光触媒膜２０６の光触媒膜作用によりアノード１３（Ｒ），１３（Ｇ），１３（Ｂ）上においてのみ（つまり、光の照射された部分においてのみ）、濡れ性可変層１４１の撥液性を示す感応基が脱離して親液性を示す官能基に置換され、親液層１４１ａ，１４１ａ，…になる。このとき、保護絶縁膜１８の表面を覆う濡れ性可変層１４１は、マスク２０５により活性光線ｈνが遮光されるので親液層１４１ａに変質することはなく、撥液層１４１ｂとなる。
【０１１１】
そして、第１の実施の形態と同様にして、赤用版２００Ｒがローラ４１に貼り付けられた転写ローラ４０Ａに赤色用の有機化合物含有液６０ｒが付着される。そして、転写ローラ４０Ａを、濡れ性可変層１４１が形成された透明基板１２に対向させ、有機化合物含有液６０ｒが親液層１４１ａ（Ｒ）に接触するように位置合せされる。更に転写ローラ４０Ａを回転させつつ透明基板１２を移動させて、親液層１４１ａ（Ｒ）に赤色用の有機化合物含有液６０ｒが転写され、有機ＥＬ層１５（Ｒ），１５（Ｒ），…が形成される。
【０１１２】
次に、緑用版２００Ｇを用いて、有機ＥＬ層１５（Ｇ），１５（Ｇ），…を形成する。つまり、緑用版２００Ｇが貼り付けられた転写ローラ４０Ａに緑色用の有機化合物含有液６０ｇを付着させる。その転写ローラ４０Ａを濡れ性可変層１４１が形成された透明基板１２に対向させ、有機化合物含有液６０ｇが親液層１４１ａ（Ｇ）に接触するように位置合せされる。更に転写ローラ４０Ａを回転させつつ透明基板１２を移動させて、親液層１４１ａ（Ｇ）に緑色用の有機化合物含有液６０ｇが転写され、有機ＥＬ層１５（Ｇ），１５（Ｇ），…が形成される。
【０１１３】
次に、青用版２００Ｂを用いて、有機ＥＬ層１５（Ｂ），１５（Ｂ），…を形成する。つまり、青用版２００Ｂが貼り付けられた転写ローラ４０Ａに青色用の有機化合物含有液６０ｂを付着させる。その転写ローラ４０Ａを濡れ性可変層１４１が形成された透明基板１２に対向させ、有機化合物含有液６０ｂが親液層１４１ａ（Ｂ）に接触するように位置合せされる。更に転写ローラ４０Ａが回転させつつ透明基板１２を移動させて、親液層１４１ａ（Ｂ）に青色用の有機化合物含有液６０ｂが転写され、有機ＥＬ層１５（Ｂ），１５（Ｂ），…が形成される。
【０１１４】
青色用の有機化合物含有液６０ｂ，６０ｂ，…の転写は、１４１ａ（Ｇ），１４１ａ（Ｇ），…上に転写された緑色用の有機化合物含有液６０ｇ，６０ｇ，…が乾燥して有機ＥＬ層１５（Ｇ），１５（Ｇ），…になった後の方が歩留まりの点で好ましいが、量産性を優先するのであれば、乾燥が完了する前に転写してもよい。なお、成膜する順番は、赤色の有機ＥＬ層１５（Ｒ）、緑色の有機ＥＬ層１５（Ｇ）、青色の有機ＥＬ層１５（Ｂ）の順でなくてもよく、また赤色の有機ＥＬ層１５（Ｒ）、緑色の有機ＥＬ層１５（Ｇ）、青色の有機ＥＬ層１５（Ｂ）の順に配列していなくてもよい。
その後、蒸着やスパッタのようなＰＶＤ法及びＣＶＤ法といった成膜方法によって、有機ＥＬ層１５（Ｒ），１５（Ｇ），１５（Ｂ），…を被覆するようにしてカソード１６を一面に成膜する。カソード１６の成膜後、図示しない封止材でこれら有機ＥＬ素子１１，１１，…を覆い封止する。
【０１１５】
本変形例においては、第１の実施形態の効果とともに、親液性と撥液性とからなるパターンを濡れ性可変層１４１に形成しているため、第１の実施の形態のように仕切り壁２０を形成せずともサブピクセルごとに有機ＥＬ層１５をパターニングすることができる。
【０１１６】
なお、版のパターニングに用いたフォトマスク基板２０３を、本変形例での濡れ性可変層１４１のパターニングにも用いることとしたが、それぞれ異なるフォトマスク基板を用いてもよい。
【０１１７】
〔第２の実施の形態〕
次に、図８及び図９を参照して、本発明に係る第２の実施の形態を説明する。図８中、（ａ）は、転写ローラ４０Ｃの製造工程を示す図であり、（ｂ）は（ａ）のＹ方向からの転写を示す図である。図９は、本実施の形態における有機ＥＬ表示パネル１０の製造工程を示した図であり、（ａ）は転写ローラ４０Ｃへの赤色用の有機化合物含有液６０ｒの付着を示す図であり、（ｂ）は有機ＥＬ表示パネル１０への赤色用の有機化合物含有液６０ｒの転写を示す図である。
【０１１８】
本実施の形態は、第１の実施の形態における版２００が貼り付けられた転写ローラ４０Ａに代えて、濡れ性可変層２０２Ｃ（版２１０）がローラ４１に直接形成された転写ローラ４０Ａを用いる構成である。よって、説明の重複を避けるため、第１の実施の形態と異なる構成について説明する。また、第１の実施の形態と同じ構成部分には、同じ符号が付されている。
【０１１９】
本実施の形態においては、図１に示す有機ＥＬ表示パネル１０を製造する。その製造工程の「（ア）駆動基板製造工程」「（ウ）電極形成工程」は第１の実施の形態と同様であるので、製版工程及び「（イ）印刷工程」について説明する。
【０１２０】
先ず、図８を参照して、製版方法について説明する。まず、ローラ４１の表面に濡れ性可変層２０２ｃが直接円周面に製膜されている転写ローラ４０Ｃを用意する。濡れ性可変層２０２Ｃが版の元となる原版（版２１０）となる。
【０１２１】
そして、図８（ａ），（ｂ）に示すように、転写ローラ４０Ｃのローラ４１を軸４１ａを軸として矢印Ａ方向に回転させてフォトマスク基板２０３Ｃを用いて濡れ性可変層２０２Ｃに活性光線ｈνを断続的に照射することで、赤用版２１０Ｒが完成する。
ここで、フォトマスク基板２０３Ｃは活性光線ｈνを透過する平板状の透明基板２０４を有し、この透明基板２０４の表面２０４ａにマスク２０５Ｂが形成され、マスク２０５Ｂに１列に並んだ複数の開口部２０５ｂが形成されている。
また、光触媒膜２０６Ｃがマスク２０５Ｂ全体を被覆するように透明基板２０４の表面２０４ａ側に成膜されている。
【０１２２】
以上のようなフォトマスク基板２０３Ｃを、転写ローラ４０Ｃの濡れ性可変層２０２Ｃに対向させて、フォトマスク基板２０３Ｃを介して活性光線ｈνを濡れ性可変層２０２Ｃに入射させる。フォトマスク基板２０３Ｃのマスク２０５Ｂでは活性光線ｈνが遮蔽され、開口部２０５ｂでは活性光線ｈνが通過し、濡れ性可変層２０２Ｃに活性光線ｈνが入射する。ここで活性光線ｈνの照射を断続的に繰り返すことで活性光線ｈνの通過した開口部２０５ａの光触媒膜２０６Ｃにより親液性領域２１０ａが図８（ｂ）に示すようにマトリクス状に形成される。
【０１２３】
親液性領域２１０ａが形成されると、活性光線ｈνの照射を止めて、転写ローラ４０Ｃが矢印の方向に回転されて、次の所定の位置で再び活性光線ｈνの照射を行い、親液性領域２１０ａの形成を行い、この手順を繰り返す。親液性領域２１０ａを形成する濡れ性可変層２０２Ｃ上の位置は、透明基板１２上の赤色に対する囲繞領域１９（Ｒ）のピッチに基づいて決められる。このようにして、全体として、濡れ性可変層２０２Ｃには、マトリクス状に設けられた複数の親液性領域２１０ａと親液性領域２１０ａの周囲に配置された撥液性領域２１０ｂからなるパターンが形成される。このパターンが形成された濡れ性可変層２０２Ｃを赤用版２１０Ｒとする。
【０１２４】
親液性領域２１０ａは、赤色発光画素の囲繞領域１９（Ｒ）に対応している。撥液性領域２１０ｂは、緑色発光画素の囲繞領域１９（Ｇ）及び青色発光画素の囲繞領域１９（Ｂ）並びに仕切り壁２０に対応している。従って、転写ローラ４０Ｃを回転した場合の親液性領域２１０ａ，２１０ａ，…の配列パターンは、平面視した場合の囲繞領域１９（Ｒ），１９（Ｒ），…の配列パターンと同様である。
【０１２５】
緑用版２１０Ｇ（図示せず）を製版する場合にも赤用版２００Ｒと同様に、フォトマスク基板２０３Ｃを用いて緑色用の囲繞領域１９（Ｇ），１９（Ｇ），…に対応した領域のみにおいて濡れ性可変層２０２Ｃに活性光線ｈνを入射させる。青用版２１０Ｂ（図示せず）を製版する場合にも赤用版２００Ｒと同様に、フォトマスク基板２０３Ｃを用いて青色用の囲繞領域１９（Ｂ），１９（Ｂ），…に対応した領域のみにおいて濡れ性可変層２０２Ｃに活性光線ｈνを入射させる。
【０１２６】
次に、図９を参照して、透明基板１２への赤色用の有機化合物含有液６０ｒの印刷方法を説明する。図９（ａ）に示すように、赤色用の有機化合物含有液６０ｒが満たされた溶液プール４２に、赤用版２１０Ｒが浸されるように、赤用版２１０Ｒを有する転写ローラ４０Ｃを浸し、転写ローラ４０Ｃを矢印方向に回転させつつ透明基板１２を移動させて、赤用版２１０Ｒの円周面に赤色用の有機化合物含有液６０ｒが浸される。濡れ性可変層２０２Ｃにおいて活性光線ｈνの照射された親液性領域２１０ａ，２１０ａ，…が親液性であり且つ活性光線ｈνが照射されなかった撥液性領域２１０ｂが撥液性であるから、活性光線ｈνが照射された親液性領域２１０ａ，２１０ａ，…にのみに有機化合物含有液６０ｒが液滴として付着する。
【０１２７】
そして、図９（ｂ）に示すように、トランジスタ２１，２１，…、アノード１３，１３，…及び仕切り壁２０等が形成された透明基板１２の表面１２ａに印刷用ローラ４０Ａを対向させる。図９（ｂ）においては、透明基板１２上に形成されたトランジスタ２１，２１，…、アノード１３，１３，…等は図示を省略されている。
【０１２８】
ここで、赤用のアノード１３（Ｒ）と、有機化合物含有液６０ｒの付着した親液性領域２１０ａとをそれぞれ対向させるように、透明基板１２と赤用版２１０Ｒ（転写ローラ４０Ｃ）との位置合わせを行う。そして、赤用版２１０Ｒの面から突出している有機化合物含有液６０ｒがアノード１３（Ｒ）に接触することで、親液性領域２１０ａに付着した有機化合物含有液６０ｒを赤用のアノード１３（Ｒ）に転写し、転写ローラ４０Ｃを矢印方向に回転させつつ透明基板１２を移動させることで、それぞれの親液性領域２１０ａに付着した有機化合物含有液６０ｒを赤用のアノード１３（Ｒ）に次々と転写する。これにより、図４（ｃ）に示すように、それぞれの囲繞領域１９（Ｒ）内において赤色に発光する画素に対応するアノード１３（Ｒ）上に赤色に発光する有機ＥＬ層１５（Ｒ）が形成される。
【０１２９】
このとき、位置合わせが若干ずれていて、有機化合物含有液６０ｒが仕切り壁２０の側壁に接触しても、仕切り壁２０の側壁から赤用のアノード１３（Ｒ）上に滑り落ちるので、成膜された赤色の有機ＥＬ層１５（Ｒ）の厚さが表示に影響ある程度にばらつくことはない。なお、仕切り壁２０によって囲繞領域１９（Ｒ），１９（Ｒ），…が仕切られているため、囲繞領域１９（Ｒ）に転写された有機化合物含有液６０ｒが、異なる色の有機化合物含有液が成膜される隣りの囲繞領域１９に漏れることが殆どない。
【０１３０】
次いで、赤色の場合と同様に、緑用版２１０Ｇを有する転写ローラ４０Ｃを用いて、転写ローラ４０Ｃを回転させつつ透明基板１２を移動させて、液滴である緑色用の有機化合物含有液６０ｇ（図示せず）をアノード１３（Ｇ）に接触させることでアノード１３（Ｇ），１３（Ｇ），…に転写し、それぞれの囲繞領域１９（Ｇ）内においてアノード１３（Ｇ）上に緑色の有機ＥＬ層１５（Ｇ）を形成する。
【０１３１】
次いで、赤色の場合と同様に、青用版２１０Ｂを有する転写ローラ４０Ｃを用いて、転写ローラ４０Ｃを回転させつつ透明基板１２を移動させて、液滴である青色用の有機化合物含有液６０ｂ（図示せず）をアノード１３（Ｂ）に接触させることでアノード１３（Ｂ），１３（Ｂ），…に転写し、それぞれの囲繞領域１９（Ｂ）内においてアノード１３（Ｂ）上に緑色の有機ＥＬ層１５（Ｂ）を形成する。なお、成膜する順番は、赤色の有機ＥＬ層１５（Ｒ）、緑色の有機ＥＬ層１５（Ｇ）、青色の有機ＥＬ層１５（Ｂ）の順でなくてもよく、また赤色の有機ＥＬ層１５（Ｒ）、緑色の有機ＥＬ層１５（Ｇ）、青色の有機ＥＬ層１５（Ｂ）の順に配列していなくてもよい。
【０１３２】
以上、本実施の形態によれば、第１の実施の形態と同様な効果が得られるとともに、転写ローラ４０Ｃに親液性領域２１０ａと撥液性領域２１０ｂとを直接パターニングしているので、より高精度に有機化合物含有液を透明基板に転写することができる。なぜなら、第１の実施の形態のように、版２００が貼り付けられた転写ローラ４０Ａの場合では、版２００がテンションをかけられてローラ４１に貼り付けられているため、版２００に伸びが発生し、その伸びにより有機化合物含有液を透明基板に転写する精度がいくらか落ちるおそれがあるからである。
【０１３３】
また、本実施の形態においても、第１の実施の形態の第１の変形例で説明したように、濡れ性可変層が仕切り壁２０を有する透明基板１２に形成されて、活性光線ｈν照射により親液性領域及び撥液性領域をその濡れ性可変層に形成する構成でもよい。また、仕切り壁２０を有する透明基板１２に対するＯ２プラズマ処理及びＣＦ４プラズマ処理により、親液性領域及び撥液性領域を透明基板１２等に形成する構成でもよい。また、本実施の形態においても、第１の実施の形態の第２の変形例で説明したように、仕切り壁２０による囲繞領域を透明基板１２等に設けない構成でもよい。
【０１３４】
〔第２の実施の形態の変形例〕
次に、図１０を参照して、第２の実施の形態の変形例を説明する。図１０の（ａ）は、転写ローラ４０Ｄの製造工程を示す図であり、（ｂ）は（ａ）のＺ方向からの転写を示す図である。本変形例は、第１の実施の形態で説明した、別の製版方法と同様にして、転写ローラの濡れ性可変層が光触媒材料を含むように製造し、フォトマスク基板には光触媒膜を形成しないものである。
【０１３５】
図１０（ａ）、（ｂ）に示すように、本変形例におけるフォトマスク２０３Ｄは、透明基板２０４の表面に複数の開口部２０５ｄが一列に配列されるようにマスク２０５Ｄが設けられている。
そして、転写ローラ４０Ｄのローラ４１の表面には、濡れ性可変層２０２Ｄが形成されている。
濡れ性可変層２０２Ｄに用いることのできるバインダーは、好ましくは主骨格が前記光触媒の光励起により分解されないような高い結合エネルギーを有するものであり、例えば、（Ａ）ゾルゲル反応等によりクロロまたはアルコキシシラン等を加水分解、重縮合して大きな強度を発揮するオルガノポリシロキサン、或いは（Ｂ）撥水性や撥油性に優れた反応性シリコーンを架橋したオルガノポリシロキサン等を挙げることができる。濡れ性可変層２０２Ｄは、このバインダーに酸化チタン等の光触媒粒子が分散されている。光触媒は、第１の実施の形態でも述べたような他の光触媒を用いてもよい。
【０１３６】
そして、（イ）印刷工程において、そのフォトマスク基板２０３Ｄを転写ローラ４０Ｄに対向させて、フォトマスク基板２０３Ｄを介して活性光線ｈνを濡れ性可変層２０２Ｄに開口部２０５ｄから入射させる。フォトマスク基板２０３Ｄのマスク２０５Ｄでは活性光線ｈνが遮蔽され、開口部２０５ｄでは活性光線ｈνが通過し、濡れ性可変層２０２Ｄの所定の箇所に活性光線ｈνが入射する。活性光線ｈνの入射した親液性領域２２０ａでは、光触媒（例えば酸化チタン）に活性光線ｈνが入射されることで活性酸素種（例えば・ＯＨ）が生成され、この活性酸素種が撥液性を示す官能基（例えばＲｆ）を脱離させ、親液性を示す官能基（例えば−ＯＨ）に置換する。このため、活性光線ｈνの入射した親液性領域２２０ａは、濡れ性が向上して親液性を示す。開口部２０５ｄに応じた濡れ性可変層２０２Ｄの所定の箇所が親液性領域２２０ａに変化したら、光源からの活性光線ｈνの照射が一旦停止され、転写ローラ４０Ｄが軸４１ａを軸として矢印Ａ方向に回転し、所定の箇所の撥液性領域２０２ｂがフォトマスク基板２０３Ｄの開口部２０５ｄに対向するように配置されると、転写ローラ４０Ｄの回転が停止される。そして、上述のように光源からの活性光線ｈνの入射が繰り返される。これにより、濡れ性可変層２０２Ｄには、濡れ性の相違によるパターンであって、マトリクス状に配列された複数の親液性領域２２０ａと親液性領域２２０ａの周囲に位置する撥液性領域２２０ｂとからなるパターンが形成されて、赤用版２２０Ｒとなる。また、この製版方法は、上記所定の箇所の位置が異なることを除けば緑用版２００Ｇ、青用版２００Ｂを製版する際にも適用することができる。
【０１３７】
〔第３の実施の形態〕
次に、図１１〜図１４を参照して本発明に係る第３の実施の形態を説明する。図１１は、ノズル基板３１の構成を示す図であり、（ａ）はノズル基板３１の平面図であり、（ｂ）は（ａ）の切断線Ｔ１−Ｔ２における断面図であり、（ｃ）は（ａ）の切断線Ｕ１−Ｕ２における断面図である。図１２は、溶液吐出ヘッド３０の構成を示す図であり、（ａ）は溶液吐出ヘッド４０の平面図であり、（ｂ）は（ａ）の切断線Ｖ１−Ｖ２における溶液吐出ヘッド４０の断面図である。図１３は、本実施の形態における有機ＥＬ表示パネル１０の製造工程を示す図である。図１４は、溶液のメニスカス状態を示す図であり、（ａ）は溶液に負圧がかけられたメニスカス状態を示す図であり、（ｂ）は溶液に正圧がかけられたメニスカス状態を示す図である。
【０１３８】
本実施の形態は、図１に示す有機ＥＬ表示パネル１０の製造において、有機ＥＬ層１５の形成に溶液吐出ヘッド３０を使用する構成であり、説明の重複を避けるため、第１の実施の形態と異なる部分を主として説明する。
【０１３９】
先ず、溶液吐出ヘッド３０の構成を説明する。ここでは、赤色の有機ＥＬ層１５（Ｒ）を透明基板１２の所定のサブピクセルに形成するための溶液吐出ヘッド３０を説明する。図１１に示すように、溶液吐出ヘッド３０の構成要素となるノズル基板３１は、ガラスからなる基板部３２と、基板部３２に形成された溶液溜めとなる複数の溝部３３と、各溝部３３に溶液を供給するための貫通孔３４とを有する。ノズル基板３１の材料としては、ガラスに限るものではなく、シリコン等でもよい。溝部３３及び貫通孔３４は、未加工の基板部３２にサンドブラスト加工、ウエットエッチング等の処理により形成される。
【０１４０】
図１２に示すように、溶液吐出ヘッド３０は、ノズル基板３１と、溝部３３を覆うような天板３５とを有する。天板３５には、各溝部３３内の溶液を吐出するための円形の溶液吐出孔３６が形成されている。天板３５は、例えば感光性のドライフィルムである。そのドライフィルムがノズル基板３１に貼り付けられた後にフォトリゾグラフィにより溶液吐出孔３６が天板３５に形成されてもよい。また、天板３５は、ポリイミドフィルムでもよい。そのポリイミドフィルムがノズル基板３１に貼り付けられた後に、そのポリイミドフィルムにアルミ等をスパッタリングした後、所望の溶液吐出孔３６の形状にエッチング加工されたメタルマスクを設け、そのメタルマスクを用いてドライエッチングにより溶液吐出孔３６が天板３５に形成される構成でもよい。
【０１４１】
また、溶液吐出孔３６の間隔は、有機ＥＬ表示パネル１０の囲繞領域１９（Ｒ）に対応するサブピクセルのピッチに合せて形成されている。そして、図１３に示すように、溶液吐出ヘッド３０に溶液を格納する溶液格納部３７と、溶液のタンク（図示せず）から溶液を溶液格納部３７に供給する溶液供給管３８とが形成される。また、その溶液のタンクには、溶液の圧力を変化する圧力変化手段（図示せず）も設けられているものとする。また、溶液吐出ヘッド３０は、赤色の有機化合物含有液６０ｒを吐出するためのものの他に、緑色の有機化合物含有液６０ｇを吐出するためのものと、青色の有機化合物含有液６０ｂを吐出するためのものとが作成される。
【０１４２】
そして、（イ）印刷工程において、溶液として赤色の有機化合物含有液６０ｒが、溶液のタンクから溶液供給管３８を通じて溶液吐出ヘッド３０に充填される。そして、アノード１３、囲繞領域１９、仕切り壁２０等が形成された透明基板１２と溶液吐出ヘッド３０とが対向するように移動させ、溶液吐出ヘッド３０の溶液吐出孔３６と囲繞領域１９（Ｒ）とが対向するように位置合せする。そして、圧力変化手段により適当な圧力が溶液吐出ヘッド３０内の有機化合物含有液６０ｒに印加され、溶液吐出ヘッド３０内に充填された有機化合物含有液６０ｒが溶液吐出孔３６から囲繞領域１９（Ｒ）に吐出され、囲繞領域１９（Ｒ）に有機ＥＬ層１５（Ｒ）が形成される。
【０１４３】
有機化合物含有液６０ｒの吐出前及び吐出後には、図１４（ａ）に示すように、圧力変化手段により有機化合物含有液６０ｒに負圧を加えることにより、溶液吐出ヘッド３０の溶液吐出孔３６から有機化合物含有液６０ｒが漏れないようなメニスカス状態にする。また、有機化合物含有液６０ｒの吐出時には、図１４（ｂ）に示すように、圧力変化手段により有機化合物含有液６０ｒに正圧を加えることにより、溶液吐出ヘッド３０の溶液吐出孔３６から有機化合物含有液６０ｒが染み出て吐出されるようなメニスカス状態にする。
【０１４４】
囲繞領域１９（Ｇ）に対する緑色発光画素の有機ＥＬ層１５（Ｇ）の形成は、赤色発光画素の有機ＥＬ層１５（Ｒ）の形成と同様に、緑用の溶液吐出ヘッド３０から有機化合物含有液６０ｇを囲繞領域１９（Ｇ）に吐出させて行う。また、囲繞領域１９（Ｂ）に対する青色発光画素の有機ＥＬ層１５（Ｂ）の形成は、赤色発光画素の有機ＥＬ層１５（Ｒ）の形成と同様に、青色発光画素の溶液吐出ヘッド４０から有機化合物含有液６０ｂを囲繞領域１９（Ｂ）に吐出させて行う。
【０１４５】
また、本実施の形態においても、第１の実施の形態の第１の変形例で説明したように、濡れ性可変層が、仕切り壁２０等を有する透明基板１２に形成されて、活性光線ｈν照射により親液性領域及び撥液性領域をその濡れ性可変層に形成する構成でもよい。また、仕切り壁２０を有する透明基板１２に対するＯ２プラズマ処理及びＣＦ４プラズマ処理により、親液性領域及び撥液性領域を透明基板１２側に直接形成する構成でもよい。また、本実施の形態においても、第１の実施の形態の第２の変形例で説明したように、仕切り壁２０による囲繞領域を透明基板１２等に設けない構成でもよい。
【０１４６】
以上、本実施の形態によれば、溶液吐出ヘッド３０内の溶液の圧力を変化してそのメニスカスをコントロールして有機化合物含有液を吐出して有機ＥＬ層１５（Ｒ）を形成して有機ＥＬ表示パネルを製造する。このため、インクジェット方式と比べて、溶液吐出ヘッド３０の機構が簡単で、溶液吐出孔の間隔及び個数を任意に設けることができる。また、有機ＥＬ表示パネルの製造工程が簡便で且つ一度に多くの画素の有機ＥＬ層を生成できることにより有機ＥＬ表示パネルの製造時間を短縮することができる。更に、画素ごとに均一な膜圧の有機ＥＬ層を形成できるので発光特性の劣化要因を少なくすることができる。
【０１４７】
〔第３の実施の形態の変形例〕
次に、図１５を参照して、第３の実施の形態の変形例を説明する。図１５は、溶液吐出ヘッド３０Ｅの構成を示す図であり、（ａ）は溶液吐出ヘッド３０Ｅの平面図であり、（ｂ）は（ａ）の切断線Ｗ１−Ｗ２における溶液吐出ヘッド３０Ｅの断面図である。
【０１４８】
本変形例は、第３の実施の形態の溶液吐出ヘッド３０に代えて、溶液吐出孔の形状が異なる溶液吐出ヘッド３０Ｅを用いるものである。図１５に示すように、溶液吐出ヘッド３０Ｅは、基板部３２、溝部３３及び貫通孔３４を有するノズル基板３１と、長尺なスリット状の溶液吐出孔３６Ｅが複数形成された天板３５Ｅとを有する。溶液吐出孔３６Ｅの形状が長尺なスリット状であるので、１回の溶液の吐出量を多くすることができ、その吐出時間を短縮することができる。特に、サブピクセルが長細い形状の場合に、１つの溶液吐出孔３６Ｅの長手方向の長さを、その長細いサブピクセルに対応させる構成にすれば、有機ＥＬ層の膜厚を均一にできるので好ましい。
【０１４９】
なお、本変形例の場合、サブピクセルが略矩形である場合には、透明基板１２の仕切り壁２０等の有機ＥＬ層１５を形成しない部分にも溶液を吐出することになる。よって、第１の実施の形態の変形例で説明したような、溶液の吐出前に、透明基板１２側で親液性領域及び撥液性領域を形成しておく構成が好ましい。つまり、囲繞領域１９を親液性領域とし、それ以外の領域を撥液性領域とする。
【０１５０】
なお、本発明は上記各実施の形態及びその変形例に限定されることなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において、種々の改良並びに設計の変更を行っても良い。
上記各実施形態では、カソード１６が全ての有機ＥＬ素子１１，１１，…について共通しているが、有機ＥＬ素子１１の発光色ごとに共通のカソードを形成しても良い。このようにすることによって、カソード１６が各発光色の有機ＥＬ層１５毎に、印加される基準電圧値又は基準電流値を変えることができるので、例えば赤、緑、青に発光する有機ＥＬ層１５のそれぞれの電流比視効率（ｃｄ／Ａ）が互いに異なる場合であっても、所定の輝度階調で発光させるために、アノードが各色の電流比視効率に合わせて輝度階調電圧（又は輝度階調電流）を供給する必要がない。すなわち、アノードが所定の輝度で各色の有機ＥＬ層１５を発光させる場合、発光色にしたがって輝度階調電圧（又は輝度階調電流）を変調させなくてよい。例えば、各色の有機ＥＬ層１５を同一輝度階調で発光する際に、アノードは各色共通の同値の輝度階調電圧（又は輝度階調電流）を供給するだけで、各画素の輝度（ｃｄ／ｍ２）を等しくすることができ、色バランスを良好にすることができる。また、有機ＥＬ素子１１ごとにカソードを形成しても良い。カソードを有機ＥＬ素子１１ごとに形成した場合、アノードを全ての有機ＥＬ素子１１，１１，…に共通させてもよいが、サブピクセルごとの画素回路はカソードに接続されることになる。また、有機ＥＬ素子１１を透明基板１２から順にカソード、有機ＥＬ層、アノードの順にしても良い。また、各実施形態においてはトランジスタ２１，２１，…を設けたアクティブマトリクス有機ＥＬ表示パネルに本発明を適用したが、単純マトリクス駆動の表示パネルにも応用できる。
【０１５１】
また、第１及び第２の実施の形態並びにそれらの変形例において、サブピクセルのピッチが、赤、緑及び青の各色で同じ場合には、同一形状の転写ローラ４０Ａ，４０Ｃ，４０Ｄを用いて、各色の有機化合物含有液を転写する構成でもよい。更に、同一の転写ローラ４０Ａ，４０Ｃ，４０Ｄを用いて異なる各色の有機化合物含有液を転写する構成でもよい。
【０１５２】
また、第１及び第２の実施の形態並びにそれらの変形例においては、転写ローラ４０Ａ，４０Ｃ，４０Ｄを軸４１ａで軸を固定して回転させ、溶液プール４２や透明基板１２の方を移動させて、有機化合物含有液の付着及び転写を行う構成として説明したが、溶液プール４２や透明基板１２を固定して、転写ローラ４０Ａ，４０Ｃ，４０Ｄを回転させ且つ移動させて、有機化合物含有液の付着及び転写を行う構成としてもよい。
【０１５３】
また、上記各実施の形態及びその変形例では、有機ＥＬ層１５が赤、緑及び青の各色の狭義の発光層一層からなる構成についての有機ＥＬ表示パネルの製造工程を代表的に説明したが、これに限るものではない。例えば、有機ＥＬ層が狭義の発光層に加えて正孔輸送層を含む場合、正孔輸送層の材料を溶媒に溶解して溶液とし、上記各実施の形態及びその変形例で説明した赤、緑及び青の各色の狭義の発光層の製造と同様に、その溶液を各サブピクセルに転写又は吐出して形成することができる。ただし、正孔輸送層には、赤、緑及び青の各色の色分けはないので、全てのサブピクセルに同一の溶液を転写又は吐出する構成が可能となる。この構成に対応して転写ローラ及び溶液吐出ヘッド等を構成する。
【０１５４】
正孔輸送層の材料を含む溶液は、例えば、ポリ（３，４）エチレンジオキシチオフェンとポリスチレンスルフォネートの混合物のような有機材料を含む溶液でもよく、正孔輸送性の無機材料が分散された溶液でもよく、これらを混合したものでもよい。また、正孔輸送層の材料を含む溶液の溶媒には、水等が用いられる。
また上記各実施形態では、光触媒膜２０６、２０６Ｃがそれぞれマスク２０５、２０５Ｂ全面に設けられたが、開口部２０５ａ、２０５ｂにのみ設けられてもよい。
なお上記各実施形態では、親液層１４１ａ、親液性領域２０２ａ，２１０ａ，２２０ａが各色マトリクス状に配列されたが、互いに同色に発光する複数の画素が列方向に並んで配列させてもよく、このために一つの囲繞領域１９が同色に発光する複数の画素に併せて列方向に連続して形成されてもよい。この場合、各マスク２０５，２０５Ｂ，２０５Ｄの各開口部２０５ａ，２０５ｂ，２０５ｄも列方向に連続して延びていてもよい。
【０１５５】
【発明の効果】
請求項１又は１３に記載の発明によれば、活性光線により任意のパターンが形成された第１の濡れ性可変層又は濡れ性可変層が取り付けられた転写ローラに付着された光学材料を含有する溶液が、その転写ローラの回転により、基板側の所定の位置に転写されることにより光学材料層を形成して表示装置を製造することができる。このため、活性光線により、第１の濡れ性可変層又は濡れ性可変層に任意の高精度且つ微細な濡れ性の異なるパターンを容易に形成することができ、その転写ローラの回転による溶液の転写により、そのパターンに基づいた微細且つ高精度な光学材料層を有する表示装置を短時間で効率的に製造することができる。また、そのパターンに基づいて均一な膜厚の光学材料層を形成するので、発光特性の劣化要因を軽減することができる。
【０１５６】
請求項２又は１４に記載の発明によれば、活性光線により転写ローラの第１の濡れ性可変層又は濡れ性可変層に任意のパターンが形成され、光学材料を含有する溶液が第１の濡れ性可変層に付着され、その転写ローラの回転により、基板側に溶液を転写して光学材料層を形成して表示装置を製造することができる。このため、活性光線により第１の濡れ性可変層又は濡れ性可変層に任意の高精度且つ微細なパターンを容易に形成することができ、その転写ローラの回転による溶液の転写により、そのパターンに基づいた微細且つ極めて高精度な光学材料層を有する表示装置を短時間で効率的に製造することができる。また、そのパターンに基づいて均一な膜厚の光学材料層を形成するので、発光特性の劣化要因を軽減することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】有機ＥＬ表示パネル１０の平面図である。
【図２】図１の切断線Ｓ１−Ｓ２における有機ＥＬ表示パネル１０の断面図である。
【図３】赤用版２００Ｒの製造工程を示した図である。
【図４】本発明に係る第１の実施の形態における有機ＥＬ表示パネル１０の製造工程を示した図であり、（ａ）は赤用版２００Ｒへの赤色用の有機化合物含有液６０ｒの付着を示す図であり、（ｂ）は有機ＥＬ表示パネル１０への赤色用の有機化合物含有液６０ｒの転写を示す図であり、（ｃ）は（ｂ）のＸ方向からの転写を示す図であり、（ｄ）は赤色用の有機化合物含有液６０ｒが印刷された有機ＥＬ表示パネル１０を示す図である。
【図５】第１の実施の形態の第１の変形例における有機ＥＬ表示パネル１０の製造工程を示した図である。
【図６】有機ＥＬ表示パネル１１０の断面図である。
【図７】濡れ性可変層１４１を有する有機ＥＬ表示パネル１１０の製造工程を示す図である。
【図８】（ａ）は転写ローラ４０Ｃの製造工程を示す図であり、（ｂ）は（ａ）のＹ方向からの転写を示す図である。
【図９】本発明に係る第２の実施の形態における有機ＥＬ表示パネル１０の製造工程を示した図であり、（ａ）は転写ローラ４０Ｃへの赤色用の有機化合物含有液６０ｒの付着を示す図であり、（ｂ）は有機ＥＬ表示パネル１０への赤色用の有機化合物含有液６０ｒの転写を示す図である。
【図１０】（ａ）は、転写ローラ４０Ｄの製造工程を示す図であり、（ｂ）は（ａ）のＺ方向からの転写を示す図である。
【図１１】ノズル基板３１の構成を示す図であり、（ａ）はノズル基板３１の平面図であり、（ｂ）は（ａ）の切断線Ｔ１−Ｔ２における断面図であり、（ｃ）は（ａ）の切断線Ｓ１−Ｓ２における断面図である。
【図１２】溶液吐出ヘッド３０の構成を示す図であり、（ａ）は溶液吐出ヘッド３０の平面図であり、（ｂ）は（ａ）の切断線Ｖ１−Ｖ２における溶液吐出ヘッド３０の断面図である。
【図１３】本発明に係る第３の実施の形態における有機ＥＬ表示パネル１０の製造工程を示す図である。
【図１４】溶液のメニスカス状態を示す図であり、（ａ）は溶液に負圧がかけられたメニスカス状態を示す図であり、（ｂ）は溶液に圧力がかけられたメニスカス状態を示す図である。
【図１５】溶液吐出ヘッド３０Ｅの構成を示す図であり、（ａ）は溶液吐出ヘッド３０Ｅの平面図であり、（ｂ）は（ａ）の切断線Ｗ１−Ｗ２における溶液吐出ヘッド３０Ｅの断面図である。
【符号の説明】
１０，１１０…有機ＥＬ表示パネル
１２…透明基板
１２ａ…表面
１２ｂ…裏面
１３（Ｒ），１３（Ｇ），１３（Ｂ）…アノード
１４，１４１…濡れ性可変層
１４１ａ（Ｒ）…親液性領域
１４１ｂ…撥液性領域
１５（Ｒ），１５（Ｇ），１５（Ｂ）…有機ＥＬ層
１６…カソード
１８…保護絶縁膜
１９（Ｒ），１９（Ｇ），１９（Ｂ）…囲繞領域
２０…仕切り壁
２１…トランジスタ
２２…ゲート電極
２３…ゲート絶縁膜
２４…半導体膜
２５，２６…不純物半導体膜
２７…ドレイン電極
２８…ソース電極
５１…信号線
５２…走査線
４０Ａ，４０Ｃ，４０Ｄ…転写ローラ
４１…ローラ
４２…溶液プール
６０ｒ…有機化合物含有液
２００Ｒ，２１０Ｒ，２２０Ｒ…赤用版
２０１…基板
２０１ａ…表面
２０２，２０２Ｃ，２０２Ｄ…濡れ性可変層
２０２ａ，２１０ａ，２２０ａ…親液性領域
２０２ｂ，２１０ｂ，２２０ｂ…撥液性領域
２０３，２０３Ｃ…フォトマスク基板
２０４…透明基板
２０４ａ…表面
２０５，２０５Ｂ，２０５Ｄ…マスク
２０５ａ，２０５ｂ，２０５ｄ…開口部
３０，３０Ｅ…溶液吐出ヘッド
３１…ノズル基板
３２…基板部
３３…溝部
３４…貫通孔
３５，３５Ｅ…天板
３６，３６Ｅ…溶液吐出孔
３７…溶液格納部
３８…溶液供給管
【発明の属する技術分野】
本発明は、光学素子が基板上に設けられた表示装置の製造方法及びその製造に用いる転写ローラに関する。
【０００２】
【従来の技術】
有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ：エレクトロルミネッセンス）素子はアノード、有機化合物からなる有機ＥＬ層、カソードの順に積層された積層構造を為しており、アノードとカソードの間に正バイアス電圧が印加されると有機ＥＬ層において発光する。このような複数の有機ＥＬ素子を赤、緑、青の何れかに発光させるサブピクセルとして基板上にマトリクス状に配列して画像表示を行う有機ＥＬ表示パネルが実現化されている。
【０００３】
アクティブマトリクス駆動型有機ＥＬ表示パネルでは、アノード又はカソードのうちの一方の電極を全てのサブピクセルに共通する共通電極とすることができるが、少なくとも他方の電極及び有機ＥＬ層をサブピクセルごとにパターニングする必要がある。アノードやカソードをサブピクセルごとにパターニングする手法は従来の半導体装置製造技術を適用できる。つまり、ＰＶＤ法又はＣＶＤ法等による成膜工程、フォトリソグラフィー法等によるマスク工程、エッチング法等による薄膜の形状加工工程を適宜行うことで、アノードやカソードをサブピクセルごとにパターニングすることができる。
【０００４】
一方、インクジェット技術を応用することでサブピクセルごとに有機ＥＬ層をパターニングする技術が提案されている。例えば、赤、緑及び青の各色の有機発光層形成のため、有機発光層になる発光材料を液滴として画素ごとにノズルから吐出することで、画素ごとに有機発光層をパターニングする（例えば、特許文献１参照）。
【０００５】
しかし、特許文献１のようなインクジェット方式では、液状の発光材料が吐出口で乾きやすいために吐出口を塞いでしまい、発光材料の吐出量が不安定になり易いおそれがあった。そのため、画素内の有機ＥＬ層の膜厚が不均一となったり、画素欠陥が発生するおそれがあった。また、インクジェット方式は、スピンコートやロールコート等の方式と比べて、製造時間が長くなるというおそれがあった。このため、インクジェット方式よりも容易に、赤、緑及び青の各色の高分子発光層をパターニングする方式が模索されている。
【０００６】
例えば、画素基板に発光層を形成した後、赤、緑及び青の各色の色素を含有する所定形状の光反応性樹脂層を、その発光層に密着させ加熱することにより、それぞれの色素を発光層に拡散させることで、赤、緑及び青の各色の高分子発光層をパターニングする方法が考えられている（例えば、特許文献２参照）。
【０００７】
また、開口部（微細孔）を設けたマスクを作成し、そのマスクに赤、緑及び青の各色の有機発光材料を一旦スクリーン印刷し、印刷された有機発光材料をマスクに設けられた開口部を介して基板上の各画素領域にさらに供給することにより、高精細な有機発光層のパターニングを行う方法が考えられている（例えば、特許文献３参照）。
【０００８】
また、画素基板上に発光層を形成した後、赤、緑及び青の各色の染料層をそれぞれベースフィルム上に設け、このベースフィルムを発光層へ密着させサーマルヘッドにより加熱し、各色の染料を所望の画素上の発光層へ拡散させることにより、赤、緑及び青の各色の高分子発光層をパターニングする方法が考えられている（例えば、特許文献４参照）。
【０００９】
【特許文献１】
特開平１０−１２３７７号公報（第３頁、図１）
【特許文献２】
特開２００２−１５８６４号公報（第４−５頁、図３）
【特許文献３】
特開２００１−１８５３５２号公報（第４−５頁、図２−図５）
【特許文献４】
特開２００１−１５５８５９号公報（第６−９頁、図２−図１３）
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、特許文献２又は特許文献３のような有機ＥＬ層のパターニング方式では、画素基板に形成した発光層に、対向基板上の赤、緑及び青の各色の色素を拡散させるが、１画素内の色素の拡散の均一性や、加熱による色素の劣化等により十分な発光特性を得ることができないという問題があった。
【００１１】
また、特許文献４のような有機ＥＬ層のパターニング方式では、微細な開口部を設けたマスク上を、スクリーン版を介してスキージを押し当ててインクを塗布するが、アクティブマトリクス駆動の表示装置のように高精細な画素をパターニングするには、微細な画素に合わせた開口部を有し、且つスキージの押力に耐えられる強度を持つマスクの作成は困難であるという問題があった。例えば、１２００［ｐｐｉ（ｐｉｘｅｌ ｐｅｒ ｉｎｃｈ）］のフルカラパネルを考えた場合、サブピクセル（画素）ピッチは７０［μｍ］となり、マスクに７０［μｍ］以下の径で貫通口を設けねばならず、このピッチでスクリーン印刷に絶えられる強度を持ったマスクを作ることは困難であった。
【００１２】
本発明の課題は、発光特性の劣化要因を軽減し、高精細な画素の効率的なパターニングにより表示装置を製造することである。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
以上の課題を解決するために、請求項１に記載の発明は、第１の電極と、第２の電極と、その第１及び第２の電極の間に設けられた光学材料層とを有する光学素子が基板に形成された表示装置の製造方法において、
濡れ性が互いに異なる所定領域及び前記所定領域以外の領域からなるパターンを有する第１の濡れ性可変層（例えば、図３に示す濡れ性可変層２０２）が取り付けられた転写ローラを回転することにより前記第１の濡れ性可変層の前記所定領域に、前記光学材料層の光学材料を含有する溶液を付着する付着工程と、
前記第１の濡れ性可変層に前記溶液が付着された前記転写ローラ（例えば、図４（ａ）に示す転写ローラ４０Ａ）を回転して、前記付着された溶液を前記基板側に転写する転写工程とを含むことを特徴とする。
【００１４】
請求項１３に記載の発明は、転写ローラであって、活性光線の被照射の有無により、濡れ性が互いに異なる所定領域及び前記所定領域以外の領域からなるパターンが形成された濡れ性可変層（例えば、図３に示す濡れ性可変層２０２）を有する版を備え、
前記パターンが形成された濡れ性可変層を有する版は、円周上に取り付けられ、
前記濡れ性可変層は、前記形成されたパターンに基づいて、第１の電極及び第２の電極の間に光学材料層が設けられる表示装置の前記光学材料層となる光学材料を含有する溶液が付着されることが可能であることを特徴とする。
【００１５】
請求項１又は１３に記載の発明によれば、活性光線により任意のパターンが形成された第１の濡れ性可変層又は濡れ性可変層が取り付けられた転写ローラに付着された光学材料を含有する溶液が、その転写ローラの回転により、基板側の所定の位置に転写されることにより光学材料層を形成して表示装置を製造することができる。このため、活性光線により、第１の濡れ性可変層又は濡れ性可変層に任意の高精度且つ微細な濡れ性の異なるパターンを容易に形成することができ、その転写ローラの回転による溶液の転写により、そのパターンに基づいた微細且つ高精度な光学材料層を有する表示装置を短時間で効率的に製造することができる。また、そのパターンに基づいて均一な膜厚の光学材料層を形成するので、発光特性の劣化要因を軽減することができる。
【００１６】
請求項２に記載の発明は、第１の電極と、第２の電極と、その第１及び第２の電極の間に設けられた光学材料層とを有する光学素子が基板に形成された表示装置の製造方法において、
転写ローラ（例えば、図８に示す転写ローラ４０Ｃ）に設けられた第１の濡れ性可変層（例えば、図８に示す濡れ性可変層２０２Ｃ）に活性光線を照射することにより、濡れ性が互いに異なる所定領域及び前記所定領域以外の領域からなるパターンを形成する第１のパターン形成工程と、
前記光学材料層の光学材料を含有する溶液を前記転写ローラ上の第１の濡れ性可変層に付着する付着工程と、
前記第１の濡れ性可変層に付着された前記溶液を、前記転写ローラを回転して前記基板側に接触させることにより転写する転写工程とを含むことを特徴とする。
【００１７】
請求項１４に記載の発明は、転写ローラであって、活性光線の被照射の有無により、濡れ性が互いに異なる所定領域及び前記所定領域以外の領域からなるパターンが形成された濡れ性可変層（例えば、図３に示す濡れ性可変層２０２Ｃ）を円周上に備え、
前記濡れ性可変層は、前記形成されたパターンに基づいて、第１の電極及び第２の電極の間に光学材料層が設けられる表示装置の前記光学材料層となる光学材料を含有する溶液が付着されることが可能であることを特徴とする。
【００１８】
請求項２又は１４に記載の発明によれば、活性光線により転写ローラの第１の濡れ性可変層又は濡れ性可変層に任意のパターンが形成され、光学材料を含有する溶液が第１の濡れ性可変層に付着され、その転写ローラの回転により、基板側に溶液を転写して光学材料層を形成して表示装置を製造することができる。このため、活性光線により第１の濡れ性可変層又は濡れ性可変層に任意の高精度且つ微細なパターンを容易に形成することができ、その転写ローラの回転による溶液の転写により、そのパターンに基づいた微細且つ極めて高精度な光学材料層を有する表示装置を短時間で効率的に製造することができる。また、そのパターンに基づいて均一な膜厚の光学材料層を形成するので、発光特性の劣化要因を軽減することができる。
【００１９】
請求項３に記載の発明は、請求項１又は２に記載の表示装置の製造方法において、
前記第１の濡れ性可変層は、光を透過する任意のパターンが形成された第１のフォトマスク基板を介して活性光線を照射することにより濡れ性が互いに異なる前記所定領域及び前記所定領域以外の領域のパターンが形成されることを特徴とする。
【００２０】
請求項３に記載の発明によれば、光を透過する任意のパターンが形成された第１のフォトマスク基板を用いて、活性光線により第１の濡れ性可変層に任意の微細且つ高精度なパターンを容易に形成することができる。
【００２１】
請求項４に記載の発明は、請求項３に記載の表示装置の製造方法において、
前記第１のフォトマスク基板は、光触媒を含むことを特徴とする。
【００２２】
請求項４に記載の発明によれば、第１のフォトマスク基板には光触媒が含まれるので、光触媒に対する活性光線の通過により活性酸素種が発生し、その活性酸素種により第１の濡れ性可変層に任意の微細且つ高精度なパターンを容易に形成することができる。
【００２３】
請求項５に記載の発明は、請求項１から４のいずれか一項に記載の表示装置の製造方法において、
前記第１の濡れ性可変層は、光触媒を含むことを特徴とする。
【００２４】
請求項１５に記載の発明は、請求項１３又は１４に記載の転写ローラにおいて、
前記濡れ性可変層は、光触媒を含むことを特徴とする。
【００２５】
請求項５又は１５に記載の発明によれば、第１の濡れ性可変層又は濡れ性可変層には光触媒が含まれるので、光触媒に対する活性光線の通過により活性酸素種が発生し、その活性酸素種により第１の濡れ性可変層又は濡れ性可変層に任意の高精度且つ微細なパターンを容易に形成することができる。
【００２６】
請求項６に記載の発明は、請求項１から５のいずれか一項に記載の表示装置の製造方法において、
前記基板には第２の濡れ性可変層が形成され、
活性光線の照射により前記第２の濡れ性可変層に濡れ性が互いに異なる所定領域及び前記所定領域以外の領域からなるパターンを形成する第２のパターン形成工程を含むことを特徴とする。
【００２７】
請求項６に記載の発明によれば、基板に第２の濡れ性可変層が形成され、活性光線により第２の濡れ性可変層に任意のパターンが形成され、転写ローラの回転による溶液の転写が多少ずれていても、第２の濡れ性可変層に形成されたパターンに基づいた光学材料層を形成するので、より高精度な光学層を有する表示装置を製造することができる。
【００２８】
請求項７に記載の発明は、請求項６に記載の表示装置の製造方法において、
前記第２のパターン形成工程において、光を透過する任意のパターンが形成された第２のフォトマスク基板を用いて前記活性光線を前記第２の濡れ性可変層に照射することを特徴とする。
【００２９】
請求項７に記載の発明によれば、任意のパターンが形成された第２のフォトマスク基板を用いて、活性光線により第２の濡れ性可変層に任意の微細且つ高精度なパターンを容易に形成することができる。
【００３０】
請求項８に記載の発明は、請求項７に記載の表示装置の製造方法において、
前記第２のフォトマスク基板は、光触媒を含むことを特徴とする。
【００３１】
請求項８に記載の発明によれば、第２のフォトマスク基板には光触媒が含まれるので、光触媒に対する活性光線の通過により活性酸素種が発生し、その活性酸素種により第２の濡れ性可変層に任意の微細且つ高精度なパターンを容易に形成することができる。
【００３２】
請求項９に記載の発明は、請求項６から８のいずれか一項に記載の表示装置の製造方法において、
前記第２の濡れ性可変層は、光触媒を含むことを特徴とする。
【００３３】
請求項９に記載の発明によれば、第２の濡れ性可変層には光触媒が含まれるので、光触媒に対する活性光線の通過により活性酸素種が発生し、その活性酸素種により第２の濡れ性可変層に任意の微細且つ高精度なパターンを容易に形成することができる。
【００３４】
請求項１０に記載の発明は、請求項１から５のいずれか一項に記載の表示装置の製造方法において、
濡れ性が互いに異なる所定領域及び前記所定領域以外の領域からなるパターンを前記基板側に直接形成する基板パターン形成工程を含むことを特徴とする。
【００３５】
請求項１０に記載の発明によれば、基板に任意のパターンを直接形成し、転写ローラの回転による溶液の転写が多少ずれていても、基板に直接形成されたパターンに基づいた光学材料層を形成するので、より高精度な光学層を有する表示装置を製造することができる。
【００３６】
請求項１１に記載の発明は、請求項１から１０のいずれか一項に記載の表示装置の製造方法において、
前記所定の領域は、少なくとも１つの前記第１の電極に対応する親液領域であり、前記所定領域以外の領域は撥液領域であることを特徴とする。
【００３７】
請求項１６に記載の発明は、請求項１３から１５のいずれか一項に記載の転写ローラにおいて、
前記所定の領域は、少なくとも１つの前記第１の電極に対応する親液領域であり、前記所定領域以外の領域は撥液領域であることを特徴とする。
【００３８】
請求項１１又は１６に記載の発明によれば、少なくとも１つの第１の電極に対応する親液領域と、それ以外の撥液領域とのパターンに基づいて、微細且つ高精度な光学材料層を所定の第１の電極上に有する表示装置を短時間で効率的に製造することができる。
【００３９】
請求項１２に記載の発明は、請求項１から１１のいずれか一項に記載の表示装置の製造方法において、
前記基板は、仕切り壁により前記第１の電極が囲繞された囲繞領域を有し、
前記転写工程において、前記第１の濡れ性可変層に前記溶液が付着された前記転写ローラを回転して、前記付着された溶液を前記基板側の前記囲繞領域に接触させることにより転写することを特徴とする。
【００４０】
請求項１２に記載の発明によれば、転写ローラの回転により、付着された溶液を基板側の仕切り壁に囲繞された囲繞領域に接触させることにより転写するので、転写された溶液が囲繞領域からあふれ出ることなく、より均一な膜厚の光学材料層を形成し、その光学材料層の発光特性の劣化要因をより軽減することができる。
【００４１】
【発明の実施の形態】
以下に、図面を用いて本発明に係る具体的な第１、第２及び第３の実施の形態について順に説明する。ただし、発明の範囲を図示例に限定するものではない。また、以下の説明において、『平面視して』とは、『透明基板１２（後述）面に対して垂直な方向に見て』という意味である。
【００４２】
〔第１の実施の形態〕
本発明に係る第１の実施の形態を図１〜図４を参照して説明する。先ず、図１及び図２を参照して、表示装置としての有機ＥＬ表示パネル１０を説明する。図１は、有機ＥＬ表示パネル１０の平面図である。図２は、図１の切断線Ｓ１−Ｓ２における有機ＥＬ表示パネル１０の断面図である。
【００４３】
有機ＥＬ表示パネル１０は、赤、緑、青のサブピクセル（画素）が平面視してマトリクス状に配列されており、アクティブマトリクス駆動方式によりマトリクス表示を行うものである。即ち、有機ＥＬ表示パネル１０では、一つのサブピクセルにつき、一つの有機ＥＬ素子１１と、有機ＥＬ素子１１を駆動するための一つの画素回路とから構成されており、周辺ドライバ（図示略）から信号線５１及び走査線５２を介して画素回路へ電流又は電圧信号が入力されると、画素回路は信号に従って有機ＥＬ素子１１に流れる電流をオン・オフしたり、有機ＥＬ素子１１の発光期間中に電流値を保持することで有機ＥＬ素子１１の発光輝度を一定に保ったりする。画素回路は、一サブピクセルにつき、少なくとも一つ以上の薄膜トランジスタから構成され、適宜コンデンサ等も付加されることもあるが、本実施の形態では画素回路が二つのトランジスタ２１，２１から構成されている。また、連続して配列された赤、緑及び青の三つのサブピクセルが、一つの組となって、一つのピクセルとなる。
【００４４】
有機ＥＬ表示パネル１０は平板状の透明基板１２を有しており、透明基板１２の表面１２ａ上には、横方向に延在した複数の走査線５２，５２，…が形成されている。走査線５２，５２，…は、平面視して、ほぼ等間隔となって互いに平行に配列されている。走査線５２，５２，…は、導電性を有しており、透明基板１２の表面１２ａ一面に成膜されたゲート絶縁膜２３によって被膜されている。このゲート絶縁膜２３上には、縦方向に延在した複数の信号線５１，５１，…が形成されており、平面視して信号線５１，５１，…は走査線５２，５２，…に対して直交している。信号線５１，５１，…も、平面視して、ほぼ等間隔となって互いに平行に配列されている。図中、透明基板１２には信号線５１、走査線５２が延在しているが、それ以外の配線が延在されていてもよい。
【００４５】
透明基板１２の表面１２ａには、複数のトランジスタ２１，２１，…が形成されている。各トランジスタ２１は、ゲート電極２２、ゲート絶縁膜２３、半導体膜２４、不純物半導体膜２５，２６、ドレイン電極２７、ソース電極２８から構成されており、これらが積層されてなるＭＯＳ型電界効果トランジスタである。ゲート絶縁膜２３は、透明基板１２一面に成膜されており、全てのトランジスタ２１，２１，…について共通の層となっている。図中、トランジスタ２１は、逆スタガ構造であるが、これに限らずコプラナ型等の構造でもよい。
【００４６】
トランジスタ２１，２１、…は保護絶縁膜１８によって被覆されている。平面視して、保護絶縁膜１８が信号線５１及び走査線５２に沿って網目状に形成されることで、保護絶縁膜１８によって囲繞された複数の囲繞領域１９，１９，…が透明基板１２上にマトリクス状に配列されたように形成される。保護絶縁膜１８は、酸化シリコン（ＳｉＯ２）及び窒化シリコン（ＳｉＮ）といった無機珪素化物で形成されている。
【００４７】
保護絶縁膜１８に重なるようにして、仕切り壁２０が保護絶縁膜１８上に形成されており、仕切り壁２０も保護絶縁膜１８と同様に平面視して信号線５１、走査線５２に沿うように網目状に形成されている。仕切り壁２０の幅は、透明基板１２に近づくにつれて大きくなり、縦断面が図２に示すように略台形状になっている。仕切り壁２０は、絶縁性を有しており、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂又はノボラック樹脂等の感光性樹脂といった有機化合物で形成されている。また、仕切り壁２０の表面に撥液性を有した膜（例えば、フッ素樹脂膜）が形成されていても良いし、仕切り壁２０の表層が撥液性を有するようにしても良い。ここで、撥液性とは、光学材料含有液としての有機化合物含有液と、その有機化合物含有液が塗布された塗布面との接触角が４０°〜５０°を越える表面の性質であって有機化合物含有液をはじきやすい性質をいう。有機化合物含有液とは、後述する有機ＥＬ層１５を構成した光学材料としての有機化合物又はその前駆体を含有した液であり、有機ＥＬ層１５を構成した有機化合物又はその前駆体が溶質として溶媒に溶けた溶液であっても良いし、有機ＥＬ層１５を構成した有機化合物又はその前駆体が液体に分散した分散液であっても良い。仕切り壁２０の撥液性については、本実施の形態の第１の変形例の「親液処理・撥液処理」の項で詳説する。
【００４８】
次に、光学素子である有機ＥＬ素子１１について説明する。有機ＥＬ素子１１は、透明基板１２側からアノード１３、ＥＬ層１５、カソード１６の順に積層した積層構造となっている。アノード１３は、可視光に対して透過性を有するとともに導電性を有する。アノード１３は、比較的仕事関数の高いものである。アノード１３は、例えば、酸化インジウム、酸化亜鉛若しくは酸化スズ又はこれらのうちの少なくとも一つを含む混合物（例えば、錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、亜鉛ドープ酸化インジウム）で形成されている。
【００４９】
平面視して、アノード１３は信号線５１，５１，…と走査線５２，５２，…に囲まれた各領域に配設されており、複数のアノード１３、１３，…が互いに間隔をあけて且つマトリクス状になってゲート絶縁膜２３上に配列されている。
【００５０】
また、平面視して、アノード１３はそれぞれ囲繞領域１９に対応して臨んでおり、囲繞領域１９の面積はアノード１３の面積より小さく、囲繞領域１９は一部がアノード１３内に配されており、アノード１３の外周部は保護絶縁膜１８及び仕切り壁２０の一部に重なって被覆されている。ここではアノード１３がトランジスタ２１のソース電極２８に接続されているが、カソードをアノード１３のようにマトリクス状にして各ソース電極８に接続し、ＥＬ層１５を介して上方にカソード１６の代わりに共通電極としてアノード電極を配置させてもよく、画素回路の回路構成によっては他のトランジスタやコンデンサにアノード１３が接続されていても良い。また、アノード１３の表面に親液性を有した膜が形成されていても良いし、アノード１３の表層が親液性を有するようにしても良い。ここで、親液性とは、有機化合物含有液と、その有機化合物含有液が塗布された塗布面との接触角が４０°〜５０°以下の表面の性質であって、有機化合物含有液をはじきにくい性質をいう。有機化合物含有液になじむ性質をいう。なお、アノード１３の親液性については、本実施の形態の第１の変形例の「親液処理・撥液処理」の項で詳説する。
【００５１】
それぞれのアノード１３上には有機ＥＬ層１５が成膜されている。平面視して、これら有機ＥＬ層１５，１５，…は、マトリクス状に配列されており、それぞれの囲繞領域１９内に配設されている。
【００５２】
各有機ＥＬ層１５は、例えば、チオフェン系高分子、ポリフルオレン系高分子等の有機化合物である発光材料（蛍光体）で形成された光学材料層であって、アノード１３から注入された正孔とカソード１６から注入された電子を再結合させることで励起子を生成して、赤色、緑色、青色の何れか１つに発光する狭義の層を含む。このような有機ＥＬ層１５は、サブピクセル毎に、例えば、赤色に発光する有機ＥＬ層１５、緑色に発光する有機ＥＬ層１５、青色に発光する有機ＥＬ層１５のいずれかが設けられ、隣り合うサブピクセル同士が互いに異なる発光色の層となるように配列されており、これら三色の有機ＥＬ層１５，１５，１５でそれぞれ構成されたサブピクセルによって一ピクセルの色調が定まる。なお、図面において赤色に発光する有機ＥＬ層１５には括弧書きでＲを付し、緑色に発光する有機ＥＬ層１５には括弧書きでＧを付し、青色に発光する有機ＥＬ層１５には括弧書きでＢを付し、それぞれの色に対応するアノード１３及び囲繞領域１９にもＲ、Ｇ、Ｂを括弧書きで付す。
【００５３】
各有機ＥＬ層１５には、電子輸送性の物質が適宜混合されていても良いし、正孔輸送性の物質が適宜混合されても良いし、電子輸送性の物質及び正孔輸送性の物質が適宜混合されていても良い。
【００５４】
また、各有機ＥＬ層１５は、アノード１３側から順に正孔輸送層、狭義の発光層、電子輸送層となる三層構造であったり、アノード１３側から順に正孔輸送層、電子輸送層を兼ねた狭義の発光層となる二層構造であったり、狭義の発光層からなる一層構造であったり、これらの層構造において適切な層間に電子或いは正孔の注入層が介在した積層構造であったりする。なお、正孔輸送層、狭義の発光層、電子輸送層も有機化合物からなる層であって、光学材料層である。
カソード１６は、全ての有機ＥＬ層１５，１５，…と仕切り壁２０を被覆するように透明基板１２一面に連続して形成されており、それぞれの囲繞領域１９内においてアノード１３と対向している。カソード１６は、少なくとも仕事関数の低い材料を含み、具体的にはマグネシウム、カルシウム、リチウム、バリウム若しくは希土類からなる単体又はこれらの単体を少なくとも一種を含む合金を有している。更に、カソード１６が積層構造となっていても良く、例えば、上述のような低仕事関数材料で形成された膜上にアルミニウム、クロム等の高仕事関数で且つ低抵抗率の材料で被膜した積層構造でも良い。また、有機ＥＬ層１５，１５，…からの光を透明基板１２を介して出射させる場合、カソード１６は可視光に対して遮光性を有するのが望ましく、さらに、有機ＥＬ層１５から発する可視光に対して高い反射性を有するのが望ましい。つまり、カソード１６は可視光を反射する鏡面として作用することで光の利用効率を向上することができる。対して有機ＥＬ層１５，１５，…からの光をカソード１６を介して出射させる場合、カソード１６の有機ＥＬ層１５，１５，…と接する面に上述した低仕事関数の材料を可視光波長域よりも短い厚さに成膜してからさらにその上にＩＴＯ等の透明電極層を積層させてもよい。
【００５５】
以上のように、カソード１６は、全てのサブピクセルについて連続して共通した層となっており、アノード１３及び有機ＥＬ層１５は、サブピクセルごとに電気的に絶縁されて形成されている。
【００５６】
次に、有機ＥＬ表示パネル１０の製造方法について説明する。
有機ＥＬ表示パネル１０の製造方法は、以下のような工程からなる。
（ア）駆動基板製造工程：透明基板１２上にトランジスタ２１，２１，…、アノード１３，１３，…及び仕切り壁２０等を適宜形成する。
（イ）印刷工程：それぞれの色の版を用いて、色ごとに有機ＥＬ層１５，１５，…を形成する。つまり、赤色用の有機化合物含有液を赤用版に塗布し、赤用版に塗布された有機化合物含有液を透明基板１２に転写することによって、赤色用のそれぞれのアノード１３（Ｒ）上に赤色の有機ＥＬ層１５（Ｒ）を成膜する。同様に、緑色の有機ＥＬ層１５（Ｇ）、青色の有機ＥＬ層１５（Ｂ）の成膜もそれぞれ緑用版、青用版を用いて順次行う。
（ウ）電極形成工程：カソード１６を成膜する。
以下、これらの工程について詳説する。
【００５７】
まず、（ア）駆動基板製造工程の前に下準備として「製版工程」を行う。製版工程は、赤、緑、青の色ごとに原版を準備する。そして、これら原版から、赤色の有機ＥＬ層１５（Ｒ）をパターニングするための赤用版、緑色の有機ＥＬ層１５（Ｇ）をパターニングするための緑用版、青色の有機ＥＬ層１５（Ｂ）をパターニングするための青用版を製版する。
【００５８】
図３を参照して、製版方法について説明する。図３は、赤用版２００Ｒの製造工程を示した図である。まず、平板状の基材である基板２０１の表面２０１ａ上に濡れ性可変層２０２を成膜し、これが版の元となる原版となる。
濡れ性可変層２０２は、活性光線ｈνの被照射により濡れ性が変化する層である。活性光線ｈνとしては、光触媒を励起する紫外線とするが、これに限るものではなく、可視光線、赤外線等の光触媒を励起する光線でもよい。また、基板２０１は、可撓性を有することが望ましく、例えば、ポリイミド、ポリエーテルサルホン、ポリカーボネイト、ポリアリレート、ポリエステル等の材料からなる。このため、赤用版２００Ｒは変形可能なフィルム状となる。
【００５９】
濡れ性可変層２０２に用いることのできるバインダーは、好ましくは主骨格が前記光触媒の光励起により分解されないような高い結合エネルギーを有するものであり、例えば、（Ａ）ゾルゲル反応等によりクロロまたはアルコキシシラン等を加水分解、重縮合して大きな強度を発揮するオルガノポリシロキサン、或いは（Ｂ）撥水性や撥油性に優れた反応性シリコーンを架橋したオルガノポリシロキサン等を挙げることができる。
【００６０】
前記（Ａ）の場合、一般式Ｒ３ ｎＳｉＲ４ ４−ｎ（ｎ＝１〜３）で表される珪素化合物の１種または２種以上の加水分解縮合物、共加水分解化合物が主体であることができる。前記一般式では、Ｒ３は例えばアルキル基、フルオロアルキル基、ビニル基、アミノ基またはエポキシ基であることができ、Ｒ４は例えばハロゲンやハロゲンを含む官能基、メトキシル基、エトキシル基、またはアセチル基であることができる。また、バインダーとして、特に好ましくはフルオロアルキル基を含有するポリシロキサンを用いることができ、具体的には、フルオロアルキルシランの１種または２種以上の加水分解縮合物、共加水分解縮合物が挙げられ、また、一般にフッ素系シランカップリング剤として知られているものを使用してもよい。フルオロアルキル基としては、例えば、次の一般式（１），（２）で表す官能基が挙げられる。
−（ＣＨ２）ａ（ＣＦ２）ｂＣＦ３ …（１）
−（ＣＨ２）ｃ（ＣＦ２）ｄＣＦ（ＣＦ３）２ …（２）
一般式（１），（２）において、ａ，ｂ，ｃ，ｄはいずれも０以上の整数である。
【００６１】
前記（Ｂ）の反応性シリコーンとしては、下記一般式（３）で表される骨格を持つ化合物を挙げることができる。
−（Ｓｉ（Ｒ１）（Ｒ２）Ｏ）ｎ− …（３）
一般式（３）において、ｎは２以上の整数、Ｒ１，Ｒ２はそれぞれ炭素数１〜１０の置換もしくは非置換のアルキル、アルケニル、アリールあるいはシアノアルキル基であることができる。好ましくは全体の４０モル％以下がビニル、フェニル、ハロゲン化フェニルであることができる。また、Ｒ１とＲ２のうちの少なくとも一方がメチル基であるものは表面エネルギーが最も小さくなるので好ましく、好ましくはメチル基が６０モル％以上であり、鎖末端または側鎖には、分子鎖中に少なくとも１個以上の水酸基などの反応性基を有する。
【００６２】
また、前記のオルガノポリシロキサンとともにジメチルポリシロキサンのような架橋反応を起こさない安定なオルガノシリコン化合物をバインダーに混合してもよい。
【００６３】
濡れ性可変層２０２の形成方法は、例えば塗布液を、スプレーコート、ディップコート、ロールコート、ビードコートなどの方法により基材に塗布して形成することができる。塗布液に使用することができる溶剤としては、特に限定されないが、例えばエタノール、イソプロパノールといったアルコール系の有機溶剤を挙げることができる。
【００６４】
濡れ性可変層２０２の形成方法の一例を詳述する。
基板２０１を純水で洗浄し、フルオロアルキル基を有したシラザン化合物を溶解した塗布液（以下、シラザン系溶液という。）を基板２０１の表面２０１ａ上にディップコート法により塗布する。シラザン系溶液の溶媒としては、フッ素系溶剤が挙げられる。
【００６５】
ここで、「フルオロアルキル基を有したシラザン化合物」とは、Ｓｉ−Ｎ−Ｓｉ結合を有し、Ｎ又は／及びＳｉにフルオロアルキル基が結合したものであり、例えば次の一般式（１）で表すモノマー、オリゴマー又はポリマーが挙げられる。
ＲｆＳｉ（ＮＨ）３／２ …（４）
一般式（４）においてＲｆは、フルオロアルキル基である。
【００６６】
シラザン化合物として、次の一般式（５）及び化学構造式（６）で表せるシラザンオリゴマー（ＫＰ−８０１Ｍ：信越化学工業株式会社製）を用いる。そして、上述のディップコート工程においては、このシラザンオリゴマーを溶質としてｍ−キシレンヘキサフロイド溶媒に溶かしたシラザン系溶液（濃度３％）をディップコート法により基板２０１に塗布する。
Ｃ８Ｆ１７Ｃ２Ｈ４Ｓｉ（ＮＨ）３／２ …（５）
【化１】
次いで、基板２０１に窒素ガス及びアルゴンガスといった不活性ガスを吹き付けて、シラザン系溶液の溶媒を蒸発させることで、シラザン化合物が基板２０１の表面２０１ａに堆積した状態となる。溶媒は加熱により蒸発させてもよい。
【００６８】
次いで、基板２０１を１０〜３０分間放置すると、雰囲気中の水分によってシラザン化合物が加水分解して基板２０１の表面と結合するとともに重合して珪素と酸素からなる主鎖に対してフルオロアルキル基が結合した縮合物をバインダーとした濡れ性可変層２０２が基板２０１上に成膜される。濡れ性可変層２０２に含まれる縮合物は、次の一般式（７）で表される。
【化２】
一般式（７）において、Ｒｆは上述したように撥液性を示すフルオロアルキル基であり、Ｘは基板２０１の原子又は基板２０１の表面に化学吸着した原子であり、シラザン化合物が一般式（５）で表されるシラザンオリゴマーの場合には、ＲｆはＣ８Ｆ１７Ｃ２Ｈ４となる。この濡れ性可変層２０２のバインダーが、フッ素を含む官能基を側鎖に含んだ縮合物であるから、有機化合物含有液に対して濡れ性が低く、撥液性を示す。
【００７０】
そして、図３に示すように、フォトマスク基板２０３を用いて濡れ性可変層２０２に図示しない光源からの活性光線ｈνを部分的に照射することで、赤用版２００Ｒが完成する。
ここで、フォトマスク基板２０３は活性光線ｈνを透過する平板状の透明基板２０４を有し、この透明基板２０４の表面２０４ａに活性光線ｈνをほとんど透過しないマスク２０５が網目状に形成されており、マスク２０５が網目状となることによってマスク２０５間にマトリクス状に配列された複数の開口部２０５ａ，２０５ａ，…が形成されている。
また、光触媒膜２０６がマスク２０５全体を被覆するように透明基板２０４の表面２０４ａ一面に成膜されている。光触媒膜２０６の膜厚は、例えば約０．２［μｍ］である。光触媒膜２０６の光触媒材料としては、酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ２）、チタン酸ストロンチウム（ＳｒＴｉＯ３）、酸化タングステン（ＷＯ３）、酸化ビスマス（Ｂｉ２Ｏ３）、酸化鉄（Ｆｅ２Ｏ３）のような金属酸化物を挙げることができるが、特に酸化チタンが好ましい。酸化チタンにおいては、アナターゼ型とルチル型のいずれも使用することができるが、アナターゼ型酸化チタンが励起波長が３８０ｎｍ以下であるからより好ましい。光触媒膜２０６のバインダーは活性光線ｈνによる耐性があれば特に限定されない。
【００７１】
平面視した場合の開口部２０５ａ，２０５ａ，…の配列パターンは、赤色に発光する画素に対応する囲繞領域１９（Ｒ），１９（Ｒ），…の配列パターンと同様である。
【００７２】
以上のようなフォトマスク基板２０３を濡れ性可変層２０２に対向させて、フォトマスク基板２０３を介して図示しない光源から活性光線ｈνを濡れ性可変層２０２に入射させる。フォトマスク基板２０３のマスク２０５では活性光線ｈνが遮蔽され、開口部２０５ａ，２０５ａ，…では活性光線ｈνが通過し、濡れ性可変層２０２に活性光線ｈνが入射する。活性光線ｈνの通過した開口部２０５ａの光触媒膜２０６では、光触媒（例えば酸化チタン）に活性光線ｈνが入射されることで活性酸素種（例えば・ＯＨ）が生成され、活性酸素種がフォトマスク基板２０３と濡れ性可変層２０２との間の気相を拡散し、濡れ性可変層２０２に到達した活性酸素種が濡れ性可変層２０２の撥液性を示す官能基（例えばＲｆ）を脱離させ、親液性を示す官能基（例えば−ＯＨ）に置換する。このため、活性光線ｈνの入射した親液性領域２０２ａは、濡れ性が向上して親液性を示す。これにより、濡れ性可変層２０２には、濡れ性の相違によるパターンであって、マトリクス状に配列された複数の親液性領域２０２ａと親液性領域２０２ａの周囲に配置された撥液性領域２０２ｂからなるパターンが形成される。
【００７３】
活性光線ｈνの入射した親液性領域２０２ａは、濡れ性可変層２０２において赤色発光画素の囲繞領域１９（Ｒ）に対応しており、活性光線ｈνの入射していない撥液性領域２０２ｂは、緑色発光画素の囲繞領域１９（Ｇ）及び青色発光画素の囲繞領域１９（Ｂ）並びに仕切り壁２０に対応している。従って、平面視した場合の親液性領域２０２ａ，２０２ａ，…の配列パターンは、平面視した場合の囲繞領域１９（Ｒ），１９（Ｒ），…の配列パターンと同様である。
【００７４】
緑用版２００Ｇ（図示せず）、青用版２００Ｂ（図示せず）を製版する場合にも赤用版２００Ｒと同様に用いて原版に活性光線ｈνを部分的に照射することによって製版するが、緑用版２００Ｇの場合にはフォトマスク基板を用いて緑色用の囲繞領域１９（Ｇ），１９（Ｇ），…に対応した領域のみにおいて濡れ性可変層２０２に活性光線ｈνを入射させ、青用版２００Ｂの場合にはフォトマスク基板を用いて青色用の囲繞領域１９（Ｂ），１９（Ｂ），…に対応した領域のみにおいて濡れ性可変層２０２に活性光線ｈνを入射させる。従って、緑用版２００Ｇにおいては、平面視した場合の親液性領域２０２ａ，２０２ａ，…の配列パターンは、平面視した場合の囲繞領域１９（Ｇ），１９（Ｇ），…の配列パターンと同様であり、青用版２００Ｂにおいては、平面視した場合の親液性領域２０２ａ，２０２ａ，…の配列パターンは、平面視した場合の囲繞領域１９（Ｂ），１９（Ｂ），…の配列パターンと同様である。
【００７５】
また、以上で説明した製版方法とは別の製版方法も存在する。その別の製版方法は、フォトマスク基板２０３に光触媒層２０６を形成することなく、濡れ性可変層２０２が光触媒を含有する構成となる。この場合、上記の濡れ性可変層２０２の形成方法において、シラザン系溶液に光触媒を分散させる。光触媒含有層中の光触媒の量は、５重量％〜６０重量％であることが好ましく、２０重量％〜４０重量％であることがより好ましい。
【００７６】
そのフォトマスク基板をその濡れ性可変層に対向させて、フォトマスク基板を介して活性光線ｈνを濡れ性可変層に入射させる。フォトマスク基板のマスク２０５では活性光線ｈνが遮蔽され、開口部２０５ａ，２０５ａ，…では活性光線ｈνが通過し、濡れ性可変層に活性光線ｈνが入射する。活性光線ｈνの入射した親液性領域２０２ａでは、光触媒（例えば酸化チタン）に活性光線ｈνが入射されることで活性酸素種（例えば・ＯＨ）が生成され、この活性酸素種が撥液性を示す官能基（例えばＲｆ）を脱離させ、親液性を示す官能基（例えば−ＯＨ）に置換する。このため、活性光線ｈνの入射した親液性領域２０２ａは、濡れ性が向上して親液性を示す。これにより、濡れ性可変層には、濡れ性の相違によるパターンであって、マトリクス状に配列された複数の親液性領域２０２ａと親液性領域２１０ａの周囲に配置された撥液性領域２０２ｂとからなるパターンが形成される。
【００７７】
また、この別の製版方法は、緑用版２００Ｇ、青用版２００Ｂを製版する際にも適用することができる。また、他の手順は、最初に説明した製版方法と同様である。また、最初に説明した製版方法において、濡れ性可変層２０２に光触媒を含ませる構成でもよい。
【００７８】
「（ア）駆動基板製造工程」
図１及び図２に示すように、ＰＶＤ法及びＣＶＤ法といった成膜工程、フォトリソグラフィー法といったマスク工程、エッチング法といった薄膜の形状加工工程を適宜行うことによって、行方向に配列するように複数の走査線５２，５２，…及びゲート電極２２をパターニングしてから、透明基板１２の表面１２ａ一面に成膜されたゲート絶縁膜２３に被膜する。次いで半導体膜２４、不純物半導体膜２５，２６をそれぞれ成膜パターニングし、サブピクセルごとにアノード１３を透明基板１２の表面１２ａ上にパターニング形成する。そして行方向と直交する列方向に配列するように複数の信号線５１，５１，…をパターニング形成するとともにドレイン電極２７、ソース電極２８をパターニングする。ここで、アノード１３及びトランジスタ２１をパターニング形成する際には、トランジスタ２１のソース電極２８とアノード１３が接続されるように、レジストでマスクする。
【００７９】
アノード１３，１３，…及びトランジスタ２１，２１，…の形成後、ＰＶＤ法及びＣＶＤ法といった成膜工程、フォトリソグラフィー法といったマスク工程、エッチング法といった薄膜の形状加工工程を行うことによって、それぞれのアノード１３を囲繞するように窒化シリコンや酸化シリコンからなる網目状の保護絶縁膜１８を形成する。次いで、感光性樹脂からなる感光性樹脂膜を透明基板１２の一面に成膜し、この感光性樹脂膜を部分的に露光した後に除去液を感光性樹脂膜に塗布することによって、感光性樹脂膜を網目状に形状加工する。
【００８０】
これにより感光性樹脂からなる網目状の仕切り壁２０が形成され、保護絶縁膜１８及び仕切り壁２０に囲繞された囲繞領域１９，１９，…が形成され、各囲繞領域１９においてアノード１３が露出している。なお、感光性樹脂膜を露光する際において、感光性樹脂膜がネガ型の場合には、保護絶縁膜１８に重なった部分に光を照射し、逆に感光性樹脂膜がポジ型の場合には、保護絶縁膜１８に囲繞された領域の部分に光を照射する。
【００８１】
次いで、透明基板１２の表面１２ａ側を、即ちアノード１３，１３，…、保護絶縁膜１８及び仕切り壁２０の表面を洗浄する。洗浄としては、大気圧未満の減圧下における酸素プラズマ洗浄であっても良いし、紫外線／オゾン洗浄であっても良い。必要に応じて、各囲繞領域１９内のアノード１３の表面を親液処理するとともに、仕切り壁２０の表面を撥液処理する。これについては本実施の形態の第１の変形例の「親液処理・撥液処理」の項において詳述する。なお、透明基板１２の表面１２ａにアノード１３，１３，…、トランジスタ２１，２１，…、保護絶縁膜１８及び仕切り壁２０が形成されたものを、駆動基板という。
【００８２】
「（イ）印刷工程」
図４を参照して、透明基板１２への赤色用の有機化合物含有液６０ｒの印刷方法を説明する。図４は、本実施の形態における有機ＥＬ表示パネル１０の製造工程を示した図であり、（ａ）は赤用版２００Ｒへの赤色用の有機化合物含有液６０ｒの付着を示す図であり、（ｂ）は有機ＥＬ表示パネル１０への赤色用の有機化合物含有液６０ｒの転写を示す図であり、（ｃ）は（ｂ）のＸ方向からの転写を示す図であり、（ｄ）は赤色用の有機化合物含有液６０ｒが印刷された有機ＥＬ表示パネル１０を示す図である。
【００８３】
図４（ａ）に示すように、先ず、変形可能な赤用版２００Ｒをローラ４１の円周面に貼り付けて転写ローラ４０Ａとする。そして、赤色用の有機化合物含有液６０ｒが満たされた溶液プール４２に赤用版２００Ｒが浸されるように転写ローラ４０Ａを浸し、転写ローラ４０Ａをローラ４１を軸４１ａを軸として矢印Ａ方向に回転させつつ溶液プール４２を矢印Ｂ方向に移動させて、赤用版２００Ｒの円周面に赤色用の有機化合物含有液６０ｒが浸される。赤色用の有機化合物含有液６０ｒは、溶質としての発光材料を溶剤等で溶解した溶液であり、例えば、チオフェン系高分子、ポリフルオレン系高分子等の発光材料を、テトラリン、テトラメチルベンゼン、メシチレン等の有機溶剤等で溶解した溶液である。
【００８４】
濡れ性可変層２０２において活性光線ｈνの照射された親液性領域２０２ａ，２０２ａ，…が親液性であり且つ活性光線ｈνが照射されなかった撥液性領域２０２ｂが撥液性であるから、活性光線ｈνが照射された親液性領域２０２ａ，２０２ａ，…にのみに有機化合物含有液６０ｒが液滴として付着する。つまり有機化合物含有液６０ｒは、濡れ性可変層２０２上にマトリクス状に配列される。
【００８５】
このとき、有機化合物含有液６０ｒの表面張力を利用して、転写ローラ４０Ａを振動させて、撥液性領域２０２ｂに有機化合物含有液６０ｒがわずかに残った場合、残査となる有機化合物含有液６０ｒを赤用版２００Ｒの外へはじいてもよい。また、転写ローラ４０Ａを傾けることで親液性領域２０２ａの有機化合物含有液６０ｒを残しながら撥液性領域２０２ｂ上の有機化合物含有液６０ｒを自重で滑り落としてもよい。さらには、転写ローラ４０Ａを傾けながら振動させることで撥液性領域２０２ｂ上の不要の有機化合物含有液６０ｒを外へはじくことができる。
【００８６】
そして、図４（ｂ），（ｃ）に示すように、トランジスタ２１，２１，…、アノード１３，１３，…及び仕切り壁２０等が形成された透明基板１２の表面１２ａに印刷用ローラ４０Ａを対向させる。図４（ｂ），（ｃ）においては、透明基板１２上に形成されたトランジスタ２１，２１，…、アノード１３，１３，…等は図示を省略されている。
【００８７】
ここで、赤用のアノード１３（Ｒ）と、有機化合物含有液６０ｒの付着した親液性領域２０２ａとをそれぞれ対向させるように、透明基板１２と赤用版２００Ｒ（転写ローラ４０Ａ）との位置合わせを行う。そして、赤用版２００Ｒの面から突出している有機化合物含有液６０ｒがアノード１３（Ｒ）に接触することで、親液性領域２０２ａに付着した有機化合物含有液６０ｒを赤用のアノード１３（Ｒ）に転写し、転写ローラ４０Ａを矢印方向に回転させつつ透明基板１２を矢印Ｃの方向に移動させることで、それぞれの親液性領域２０２ａに付着した有機化合物含有液６０ｒを赤用のアノード１３（Ｒ）に次々と転写する。アノード１３がＩＴＯである場合、表面が平滑でない金属酸化物なので比較的有機化合物含有液６０ｒになじみやすい。これにより、図４（ｄ）に示すように、それぞれの囲繞領域１９（Ｒ）内において赤色に発光する画素に対応するアノード１３（Ｒ）上に赤色に発光する有機ＥＬ層１５（Ｒ）が形成される。
【００８８】
このとき、位置合わせが若干ずれていて、有機化合物含有液６０ｒが仕切り壁２０の側壁に接触しても、仕切り壁２０の側壁から赤用のアノード１３（Ｒ）上に滑り落ちるので、成膜された赤色の有機ＥＬ層１５（Ｒ）の厚さが表示に影響ある程度にばらつくことはない。なお、仕切り壁２０によって囲繞領域１９（Ｒ），１９（Ｒ），…が仕切られているため、囲繞領域１９（Ｒ）に転写された有機化合物含有液６０ｒが、異なる色の有機化合物含有液が成膜される隣りの囲繞領域１９に漏れることが殆どない。
【００８９】
次いで、赤色の場合と同様に、緑用版２００Ｇの貼り付けられた転写ローラ４０Ａを用いて、転写ローラ４０Ａに有機化合物含有液６０ｇ（図示せず）を付着させ、転写ローラ４０Ａを回転させつつ透明基板１２を移動させて、液滴である緑色用の有機化合物含有液６０ｇ（図示せず）をアノード１３（Ｇ）に接触させることでアノード１３（Ｇ），１３（Ｇ），…に転写し、それぞれの囲繞領域１９（Ｇ）内においてアノード１３（Ｇ）上に緑色の有機ＥＬ層１５（Ｇ）を形成する。
【００９０】
次いで、赤色の場合と同様に、青用版２００Ｂが貼り付けられた転写ローラ４０Ａを用いて、転写ローラ４０Ａの版２００に有機化合物含有液６０ｂ（図示せず）を付着させ、転写ローラ４０Ａを回転させつつ透明基板１２を移動させて、液滴である青色用の有機化合物含有液６０ｂ（図示せず）をアノード１３（Ｂ）に接触させることでアノード１３（Ｂ），１３（Ｂ），…に転写し、それぞれの囲繞領域１９（Ｂ）内においてアノード１３（Ｂ）上に緑色の有機ＥＬ層１５（Ｂ）を形成する。なお、成膜する順番は、赤色の有機ＥＬ層１５（Ｒ）、緑色の有機ＥＬ層１５（Ｇ）、青色の有機ＥＬ層１５（Ｂ）の順でなくてもよく、また赤色の有機ＥＬ層１５（Ｒ）、緑色の有機ＥＬ層１５（Ｇ）、青色の有機ＥＬ層１５（Ｂ）の順に配列していなくてもよい。
【００９１】
「（ウ）電極形成工程」
図２に示すように、蒸着やスパッタのようなＰＶＤ法及びＣＶＤ法といった成膜方法によって、有機ＥＬ層１５，１５，…を被覆するようにしてカソード１６を一面に成膜する。カソード１６の成膜後、封止材でこれら有機ＥＬ素子１１，１１，…を封止する。
【００９２】
以上のように製造された有機ＥＬ表示パネル１０では、画素回路が信号線５１及び走査線５２を介して入力した信号に従って有機ＥＬ素子１１に電流を流す。有機ＥＬ素子１１では、アノード１３から有機ＥＬ層１５へ正孔が注入され且つカソード１６から有機ＥＬ層１５へ電子が注入されることで、電流が流れる。そして、有機ＥＬ層１５において正孔及び電子が輸送されて、有機ＥＬ層１５にて正孔及び電子が再結合することによって有機ＥＬ層１５で発光する。アノード１３，１３，…及び透明基板１２が透明であるため、有機ＥＬ層１５で発した光は透明基板１２の裏面１２ｂから出射し、裏面１２ｂが表示面となる。
【００９３】
以上のように本実施の形態では、色ごとに版２００Ｒ，２００Ｇ，２００Ｂを製版し、それぞれの版を用いて色ごとに有機ＥＬ層１５，１５，…を形成するので、赤の有機ＥＬ層１５（Ｒ），１５（Ｒ），…、緑の有機ＥＬ層１５（Ｇ），１５（Ｇ），…、青の有機ＥＬ層１５（Ｂ），１５（Ｂ），…をそれぞれまとめて形成することができる。つまり、（イ）印刷工程において転写を単に三回行うことによって透明基板１２上の全ての有機ＥＬ層１５，１５，…を形成することができるから、短時間で効率的に有機ＥＬ表示パネル１０を製造することができる。
【００９４】
また、インクジェット方式のようにノズルを用いて有機ＥＬ層を形成するのではなく、版２００Ｒ，２００Ｇ，２００Ｂを用いて転写によって有機ＥＬ層１５，１５，…をパターニングするため、有機ＥＬ層が成膜される画素数が多くなるほど高効率に成膜することができる。またインクジェット方式のような溶液の目詰まりがなく、色素拡散方式やサーマル方式のような色素の不均一及び加熱による色素の劣化等がなく、有機ＥＬ層１５の厚みを均一にすることができるので、有機ＥＬ層１５の発光特性の劣化要因を軽減することができる。更に、活性光線ｈνにより親液領域及び撥液領域のパターンを形成するので、インクジェット方式に比較しても有機ＥＬ層１５を容易に高精細に配列して形成することができる。特に、本実施の形態によれば、従来のマスクに微細孔を設ける構成では不可能であったサブピクセルのピッチが７０［μｍ］以下の微細な画素の有機ＥＬ表示パネルを作成することができる。
【００９５】
〔第１の実施の形態の変形例〕
次に、図５〜図７を参照して、第１の実施の形態の第１及び第２の変形例を順に説明する。
【００９６】
（第１の変形例）
「親液処理・撥液処理」
図５を参照して、第１の実施の形態の第１の変形例を説明する。図５は、本変形例における有機ＥＬ表示パネル１０の製造工程を示した図である。第１の実施の形態では、透明基板１２の表面１２ａ（アノード１３，１３，…、保護絶縁膜１８及び仕切り壁２０）を酸素プラズマ洗浄を行う構成であったが、（イ）の印刷工程の前に、図５に示すように、透明基板１２の表面１２ａ側を純水で洗浄、乾燥後に、アノード１３，１３，…及び仕切り壁２０全体を被覆するような濡れ性可変層１４を透明基板１２の表面１２ａ側一面に形成しても良い。
【００９７】
濡れ性可変層１４は、版２００の元となる原版材の濡れ性可変層２０２と同様である。また、濡れ性可変層１４の形成方法も濡れ性可変層２０２と同様である。第１の実施の形態において説明した別の製版方法のように、塗布液に光触媒を分散させて濡れ性可変層１４に光触媒を含める構成としてもよいが、濡れ性可変層１４に濡れ性可変層１４に光触媒が含有していない方が、アノード１３に対する腐食を抑えることができたり、アノード１３から有機ＥＬ層１５への正孔注入性の低下を抑えることができたりするという効果をもたらす。
【００９８】
（イ）の印刷工程の前では、濡れ性可変層１４は、全体が撥液性となっており、有機化合物含有液をはじく撥液層になっている。（イ）の印刷工程では、版を用いてそれぞれの色の有機ＥＬ層１５（Ｒ），１５（Ｇ），１５（Ｂ）を形成する前に、濡れ性可変層１４をそれぞれの色のアノード１３（Ｒ），１３（Ｇ），１３（Ｂ）に重なった領域において活性光線ｈνを照射する。なお、図５は、有機ＥＬ層１５（Ｒ）を形成する囲繞領域１９に対しての活性光線ｈνの照射を示す。最終的には、全ての囲繞領域１９に対して活性光線ｈνを照射する。
【００９９】
つまり、赤用版２００Ｒで有機ＥＬ層１５（Ｒ），１５（Ｒ），…を形成する前に、例えば赤用版２００Ｒを製版する際に用いたフォトマスク基板２０３を用いて赤色に発光する画素に対応する囲繞領域１９（Ｒ），１９（Ｒ），…に重なった領域にのみ活性光線ｈνを照射する。これにより、濡れ性可変層１４は、赤用のアノード１３（Ｒ），１３（Ｒ），…に重なった領域内にて親液性の親液層１４（Ｒ）となる。
【０１００】
次いで、第１の実施の形態の（イ）の印刷工程で説明したように赤用版２００Ｒが貼り付けられた転写ローラ４０Ａを用いて、転写ローラ４０Ａの赤用版２００Ｒに有機化合物含有液６０ｒを付着させ、転写ローラ４０Ａを回転させつつ透明基板１２を移動させて、赤用のアノード１３（Ｒ），１３（Ｒ），…の表面に形成された親液層１４（Ｒ）上に赤色の有機化合物含有液６０ｒを転写して塗布する。囲繞領域１９（Ｒ）に有機化合物含有液６０ｒを転写する前に、囲繞領域１９（Ｒ）内のみにおいて濡れ性可変層１４が親液性の親液層１４（Ｒ）に変質しているため、有機化合物含有液６０ｒになじみ、仕切り壁２０や他の色の囲繞領域１９（Ｇ），１９（Ｂ）の表面では、撥液性を示す濡れ性可変層１４が成膜されているために、有機化合物含有液６０ｒをはじくので赤色の囲繞領域１９（Ｒ）のみに有機化合物含有液６０ｒが溜まり、溶液中の溶媒が乾燥することで有機ＥＬ層１５（Ｒ），１５（Ｒ），…が形成される。なお、赤色に発光する有機ＥＬ材料は、有機化合物含有液６０ｒ溶液中でポリマとなるものでもよく、また溶液が成膜されてから重合するモノマやオリゴマでもよい。
【０１０１】
次いで、緑用版２００Ｇを製版する際に用いたフォトマスク基板を用いて、濡れ性可変層１４のうち緑用の囲繞領域１９（Ｇ），１９（Ｇ），…にのみ活性光線ｈνを照射して囲繞領域１９（Ｇ），１９（Ｇ），…内の濡れ性可変層１４を親液層１４（Ｇ）に変質させる。その後上記（イ）の印刷工程で説明したように緑用版２００Ｇが貼り付けられた転写ローラ４０Ａを用いて、転写ローラ４０Ａの緑用版２００Ｇに有機化合物含有液６０ｇを付着させ、転写ローラ４０Ａを回転させつつ透明基板１２を移動させて、緑用のアノード１３（Ｇ），１３（Ｇ），…の表面に形成された親液層１４（Ｇ）上に緑色の有機化合物含有液６０ｇを転写して塗布する。囲繞領域１９（Ｇ）の表面は親液層１４（Ｇ）のために溶液になじむが、仕切り壁２０や他の色の囲繞領域１９（Ｂ）の表面は、撥液性を示す濡れ性可変層１４のままであるために、緑色の有機化合物含有液６０ｇをはじくので緑色の囲繞領域１９（Ｇ）のみに緑色の有機化合物含有液６０ｇが溜まり、溶液中の溶媒が乾燥することで有機ＥＬ層１５（Ｇ），１５（Ｇ），…が形成される。なお、緑色に発光するＥＬ材料は、有機化合物含有液６０ｇ溶液中でポリマとなるものでもよく、また溶液が成膜されてから重合するモノマやオリゴマでもよい。
【０１０２】
次いで、青用版２００Ｂを製版する際に用いたフォトマスク基板を用いて、濡れ性可変層１４のうち緑用の囲繞領域１９（Ｂ），１９（Ｂ），…にのみ活性光線ｈνを照射して囲繞領域１９（Ｂ），１９（Ｂ），…内の濡れ性可変層１４を親液層１４（Ｂ）に変質させる。その後上記（イ）の印刷工程で説明したように青用版２００Ｂが貼り付けられた転写ローラ４０Ａを用いて、転写ローラ４０Ａの青用版２００ｂに有機化合物含有液６０ｂを付着させ、転写ローラ４０Ａを回転させつつ透明基板１２を移動させて、青用のアノード１３（Ｂ），１３（Ｂ），…上に形成された親液層１４（Ｂ）上に青色の有機化合物含有液６０ｂを塗布する。囲繞領域１９（Ｂ）の表面は親液層１４（Ｂ）のために溶液になじむが、仕切り壁２０の表面は、撥液性を示す濡れ性可変層１４のままであるために、青色の有機化合物含有液６０ｂをはじくので青色の囲繞領域１９（Ｂ）のみに青色の有機化合物含有液６０ｂが溜まり、溶液中の溶媒が乾燥することで有機ＥＬ層１５（Ｂ），１５（Ｂ），…が形成される。なお、青色に発光するＥＬ材料は、有機化合物含有液６０ｂ溶液中でポリマとなるものでもよく、また溶液が成膜されてから重合するモノマやオリゴマでもよい。
【０１０３】
図５に示すように、光触媒膜２０６の形成されたフォトマスク基板２０３を図示して説明したが、濡れ性可変層１４に光触媒が含有する構成でもよい。
【０１０４】
例えば上記一般式（５）で示されたようなフルオロアルキル基を有したシラザン化合物を加水分解・縮合させることで濡れ性可変層１４を成膜した場合、珪素と酸素の主鎖がアノード１３，１３，…、保護絶縁膜１８及び仕切り壁２０の表面に沿った状態で形成され、濡れ性可変層１４が非常に薄い。その上、親液層１４（Ｒ）、親液層１４（Ｇ）、親液層１４（Ｂ）では、濡れ性可変層１４の厚さ方向に並んだフルオロアルキル基が水酸基に置換されているから、各囲繞領域１９内の親液層１４（Ｒ）、親液層１４（Ｇ）、親液層１４（Ｂ）の厚さが０．０ｎｍより厚く且つ１．０ｎｍ以下の厚さと更に薄くなる。つまり、親液層１４（Ｒ）、親液層１４（Ｇ）及び親液層１４（Ｂ）は、光が照射されていない部分（撥液部）より薄い。従って、アノード１３とＥＬ層１５との間に親液層１４（Ｒ）、親液層１４（Ｇ）、親液層１４（Ｂ）のいずれかが介在しても親液層１４（Ｒ）、親液層１４（Ｇ）、親液層１４（Ｂ）の絶縁性を無視することができ、アノード１３から有機ＥＬ層１５へ正孔が注入されることが阻害されない。
【０１０５】
なお、濡れ性可変層１４を形成せずに、以下のようにしてアノード１３，１３，…の表面を親液性とし、仕切り壁２０の表面を撥液性としても良い。即ち、上記（イ）の印刷工程の前に、仕切り壁２０に向けてＣＦ４プラズマといったフッ化物プラズマを照射することで、仕切り壁２０の表層でフッ素のラジカル種が反応し、仕切り壁２０の表層にフッ化物（主にフッ素と炭素の化合物）が形成される。これにより、仕切り壁２０の表面が撥液性となる。次いで、アノード１３，１３，…に向けてＯ２プラズマを照射することによってアノード１３，１３，…の表層をアッシングすると、アノード１３，１３，…の表層の不純物が除去される。これにより、アノード１３，１３，…が親液性となる。その後、上述した（イ）の印刷工程を行う。
【０１０６】
（第２の変形例）
次に、図６及び図７を参照して、第１の実施の形態の第２の変形例を説明する。
図６は、有機ＥＬ表示パネル１１０の断面図である。図７は、濡れ性可変層１４１を有する有機ＥＬ表示パネル１１０の製造工程を示す図である。
【０１０７】
図６に示すように、有機ＥＬ表示パネル１１０において、第１の実施形態の場合と同様に、透明基板１２上に信号線５１，５１，…及び走査線５２，５２，…をパターニング形成するとともに、サブピクセルごとにアノード１３，１３，…及びトランジスタ２１，２１，…を透明基板１２の表面１２ａ上にパターニング形成する。その後、トランジスタ２１及び信号線５１等の配線を覆うように保護絶縁膜１８を形成する。ここで、第１の実施形態では仕切り壁２０をパターニングしたが、本変形例では仕切り壁を形成しない。次いで、第１の実施形態の場合と同様に、アノード１３，１３，…及び保護絶縁膜１８を被覆するように、透明基板１２の表面１２ａ側、全面に撥液効果を有する濡れ性可変層１４１を成膜する。濡れ性可変層１４１には、光触媒が含まれていないのが望ましい。
【０１０８】
次いで、図７に示すように、フォトマスク基板２０３を用いて、濡れ性可変層１４１を部分的に露光する。（イ）の印刷工程の前では、濡れ性可変層１４１は、全体が撥液性となっており、有機化合物含有液をはじく撥液層になっている。（イ）の印刷工程では、版を用いてそれぞれの色の有機ＥＬ層１５（Ｒ），１５（Ｇ），１５（Ｂ）を形成する前に、濡れ性可変層１４１をそれぞれの色のアノード１３（Ｒ），１３（Ｇ），１３（Ｂ）に重なった領域において活性光線ｈνを照射する。
【０１０９】
なお、図７は、有機ＥＬ層１５（Ｒ）を形成するための濡れ性可変層１４１の部分に対しての活性光線ｈνの照射を示す。最終的には、有機ＥＬ層１５（Ｒ），（Ｇ），（Ｂ）を形成するための濡れ性可変層１４１の全ての部分に対して活性光線ｈνを照射する。また、図７において、見易くするため、アノード１３，１３，…及びトランジスタ２１，２１，…、保護絶縁膜１８等は図示を省略している。
【０１１０】
開口部２０５ａ，２０５ａ，…が囲繞領域１９，１９，…の配列パターンにそれぞれ対向するように透明基板２０４を透明基板１２上に配置させた後に、透明基板２０４の上側から活性光線ｈνを照射すると、光触媒膜２０６の光触媒膜作用によりアノード１３（Ｒ），１３（Ｇ），１３（Ｂ）上においてのみ（つまり、光の照射された部分においてのみ）、濡れ性可変層１４１の撥液性を示す感応基が脱離して親液性を示す官能基に置換され、親液層１４１ａ，１４１ａ，…になる。このとき、保護絶縁膜１８の表面を覆う濡れ性可変層１４１は、マスク２０５により活性光線ｈνが遮光されるので親液層１４１ａに変質することはなく、撥液層１４１ｂとなる。
【０１１１】
そして、第１の実施の形態と同様にして、赤用版２００Ｒがローラ４１に貼り付けられた転写ローラ４０Ａに赤色用の有機化合物含有液６０ｒが付着される。そして、転写ローラ４０Ａを、濡れ性可変層１４１が形成された透明基板１２に対向させ、有機化合物含有液６０ｒが親液層１４１ａ（Ｒ）に接触するように位置合せされる。更に転写ローラ４０Ａを回転させつつ透明基板１２を移動させて、親液層１４１ａ（Ｒ）に赤色用の有機化合物含有液６０ｒが転写され、有機ＥＬ層１５（Ｒ），１５（Ｒ），…が形成される。
【０１１２】
次に、緑用版２００Ｇを用いて、有機ＥＬ層１５（Ｇ），１５（Ｇ），…を形成する。つまり、緑用版２００Ｇが貼り付けられた転写ローラ４０Ａに緑色用の有機化合物含有液６０ｇを付着させる。その転写ローラ４０Ａを濡れ性可変層１４１が形成された透明基板１２に対向させ、有機化合物含有液６０ｇが親液層１４１ａ（Ｇ）に接触するように位置合せされる。更に転写ローラ４０Ａを回転させつつ透明基板１２を移動させて、親液層１４１ａ（Ｇ）に緑色用の有機化合物含有液６０ｇが転写され、有機ＥＬ層１５（Ｇ），１５（Ｇ），…が形成される。
【０１１３】
次に、青用版２００Ｂを用いて、有機ＥＬ層１５（Ｂ），１５（Ｂ），…を形成する。つまり、青用版２００Ｂが貼り付けられた転写ローラ４０Ａに青色用の有機化合物含有液６０ｂを付着させる。その転写ローラ４０Ａを濡れ性可変層１４１が形成された透明基板１２に対向させ、有機化合物含有液６０ｂが親液層１４１ａ（Ｂ）に接触するように位置合せされる。更に転写ローラ４０Ａが回転させつつ透明基板１２を移動させて、親液層１４１ａ（Ｂ）に青色用の有機化合物含有液６０ｂが転写され、有機ＥＬ層１５（Ｂ），１５（Ｂ），…が形成される。
【０１１４】
青色用の有機化合物含有液６０ｂ，６０ｂ，…の転写は、１４１ａ（Ｇ），１４１ａ（Ｇ），…上に転写された緑色用の有機化合物含有液６０ｇ，６０ｇ，…が乾燥して有機ＥＬ層１５（Ｇ），１５（Ｇ），…になった後の方が歩留まりの点で好ましいが、量産性を優先するのであれば、乾燥が完了する前に転写してもよい。なお、成膜する順番は、赤色の有機ＥＬ層１５（Ｒ）、緑色の有機ＥＬ層１５（Ｇ）、青色の有機ＥＬ層１５（Ｂ）の順でなくてもよく、また赤色の有機ＥＬ層１５（Ｒ）、緑色の有機ＥＬ層１５（Ｇ）、青色の有機ＥＬ層１５（Ｂ）の順に配列していなくてもよい。
その後、蒸着やスパッタのようなＰＶＤ法及びＣＶＤ法といった成膜方法によって、有機ＥＬ層１５（Ｒ），１５（Ｇ），１５（Ｂ），…を被覆するようにしてカソード１６を一面に成膜する。カソード１６の成膜後、図示しない封止材でこれら有機ＥＬ素子１１，１１，…を覆い封止する。
【０１１５】
本変形例においては、第１の実施形態の効果とともに、親液性と撥液性とからなるパターンを濡れ性可変層１４１に形成しているため、第１の実施の形態のように仕切り壁２０を形成せずともサブピクセルごとに有機ＥＬ層１５をパターニングすることができる。
【０１１６】
なお、版のパターニングに用いたフォトマスク基板２０３を、本変形例での濡れ性可変層１４１のパターニングにも用いることとしたが、それぞれ異なるフォトマスク基板を用いてもよい。
【０１１７】
〔第２の実施の形態〕
次に、図８及び図９を参照して、本発明に係る第２の実施の形態を説明する。図８中、（ａ）は、転写ローラ４０Ｃの製造工程を示す図であり、（ｂ）は（ａ）のＹ方向からの転写を示す図である。図９は、本実施の形態における有機ＥＬ表示パネル１０の製造工程を示した図であり、（ａ）は転写ローラ４０Ｃへの赤色用の有機化合物含有液６０ｒの付着を示す図であり、（ｂ）は有機ＥＬ表示パネル１０への赤色用の有機化合物含有液６０ｒの転写を示す図である。
【０１１８】
本実施の形態は、第１の実施の形態における版２００が貼り付けられた転写ローラ４０Ａに代えて、濡れ性可変層２０２Ｃ（版２１０）がローラ４１に直接形成された転写ローラ４０Ａを用いる構成である。よって、説明の重複を避けるため、第１の実施の形態と異なる構成について説明する。また、第１の実施の形態と同じ構成部分には、同じ符号が付されている。
【０１１９】
本実施の形態においては、図１に示す有機ＥＬ表示パネル１０を製造する。その製造工程の「（ア）駆動基板製造工程」「（ウ）電極形成工程」は第１の実施の形態と同様であるので、製版工程及び「（イ）印刷工程」について説明する。
【０１２０】
先ず、図８を参照して、製版方法について説明する。まず、ローラ４１の表面に濡れ性可変層２０２ｃが直接円周面に製膜されている転写ローラ４０Ｃを用意する。濡れ性可変層２０２Ｃが版の元となる原版（版２１０）となる。
【０１２１】
そして、図８（ａ），（ｂ）に示すように、転写ローラ４０Ｃのローラ４１を軸４１ａを軸として矢印Ａ方向に回転させてフォトマスク基板２０３Ｃを用いて濡れ性可変層２０２Ｃに活性光線ｈνを断続的に照射することで、赤用版２１０Ｒが完成する。
ここで、フォトマスク基板２０３Ｃは活性光線ｈνを透過する平板状の透明基板２０４を有し、この透明基板２０４の表面２０４ａにマスク２０５Ｂが形成され、マスク２０５Ｂに１列に並んだ複数の開口部２０５ｂが形成されている。
また、光触媒膜２０６Ｃがマスク２０５Ｂ全体を被覆するように透明基板２０４の表面２０４ａ側に成膜されている。
【０１２２】
以上のようなフォトマスク基板２０３Ｃを、転写ローラ４０Ｃの濡れ性可変層２０２Ｃに対向させて、フォトマスク基板２０３Ｃを介して活性光線ｈνを濡れ性可変層２０２Ｃに入射させる。フォトマスク基板２０３Ｃのマスク２０５Ｂでは活性光線ｈνが遮蔽され、開口部２０５ｂでは活性光線ｈνが通過し、濡れ性可変層２０２Ｃに活性光線ｈνが入射する。ここで活性光線ｈνの照射を断続的に繰り返すことで活性光線ｈνの通過した開口部２０５ａの光触媒膜２０６Ｃにより親液性領域２１０ａが図８（ｂ）に示すようにマトリクス状に形成される。
【０１２３】
親液性領域２１０ａが形成されると、活性光線ｈνの照射を止めて、転写ローラ４０Ｃが矢印の方向に回転されて、次の所定の位置で再び活性光線ｈνの照射を行い、親液性領域２１０ａの形成を行い、この手順を繰り返す。親液性領域２１０ａを形成する濡れ性可変層２０２Ｃ上の位置は、透明基板１２上の赤色に対する囲繞領域１９（Ｒ）のピッチに基づいて決められる。このようにして、全体として、濡れ性可変層２０２Ｃには、マトリクス状に設けられた複数の親液性領域２１０ａと親液性領域２１０ａの周囲に配置された撥液性領域２１０ｂからなるパターンが形成される。このパターンが形成された濡れ性可変層２０２Ｃを赤用版２１０Ｒとする。
【０１２４】
親液性領域２１０ａは、赤色発光画素の囲繞領域１９（Ｒ）に対応している。撥液性領域２１０ｂは、緑色発光画素の囲繞領域１９（Ｇ）及び青色発光画素の囲繞領域１９（Ｂ）並びに仕切り壁２０に対応している。従って、転写ローラ４０Ｃを回転した場合の親液性領域２１０ａ，２１０ａ，…の配列パターンは、平面視した場合の囲繞領域１９（Ｒ），１９（Ｒ），…の配列パターンと同様である。
【０１２５】
緑用版２１０Ｇ（図示せず）を製版する場合にも赤用版２００Ｒと同様に、フォトマスク基板２０３Ｃを用いて緑色用の囲繞領域１９（Ｇ），１９（Ｇ），…に対応した領域のみにおいて濡れ性可変層２０２Ｃに活性光線ｈνを入射させる。青用版２１０Ｂ（図示せず）を製版する場合にも赤用版２００Ｒと同様に、フォトマスク基板２０３Ｃを用いて青色用の囲繞領域１９（Ｂ），１９（Ｂ），…に対応した領域のみにおいて濡れ性可変層２０２Ｃに活性光線ｈνを入射させる。
【０１２６】
次に、図９を参照して、透明基板１２への赤色用の有機化合物含有液６０ｒの印刷方法を説明する。図９（ａ）に示すように、赤色用の有機化合物含有液６０ｒが満たされた溶液プール４２に、赤用版２１０Ｒが浸されるように、赤用版２１０Ｒを有する転写ローラ４０Ｃを浸し、転写ローラ４０Ｃを矢印方向に回転させつつ透明基板１２を移動させて、赤用版２１０Ｒの円周面に赤色用の有機化合物含有液６０ｒが浸される。濡れ性可変層２０２Ｃにおいて活性光線ｈνの照射された親液性領域２１０ａ，２１０ａ，…が親液性であり且つ活性光線ｈνが照射されなかった撥液性領域２１０ｂが撥液性であるから、活性光線ｈνが照射された親液性領域２１０ａ，２１０ａ，…にのみに有機化合物含有液６０ｒが液滴として付着する。
【０１２７】
そして、図９（ｂ）に示すように、トランジスタ２１，２１，…、アノード１３，１３，…及び仕切り壁２０等が形成された透明基板１２の表面１２ａに印刷用ローラ４０Ａを対向させる。図９（ｂ）においては、透明基板１２上に形成されたトランジスタ２１，２１，…、アノード１３，１３，…等は図示を省略されている。
【０１２８】
ここで、赤用のアノード１３（Ｒ）と、有機化合物含有液６０ｒの付着した親液性領域２１０ａとをそれぞれ対向させるように、透明基板１２と赤用版２１０Ｒ（転写ローラ４０Ｃ）との位置合わせを行う。そして、赤用版２１０Ｒの面から突出している有機化合物含有液６０ｒがアノード１３（Ｒ）に接触することで、親液性領域２１０ａに付着した有機化合物含有液６０ｒを赤用のアノード１３（Ｒ）に転写し、転写ローラ４０Ｃを矢印方向に回転させつつ透明基板１２を移動させることで、それぞれの親液性領域２１０ａに付着した有機化合物含有液６０ｒを赤用のアノード１３（Ｒ）に次々と転写する。これにより、図４（ｃ）に示すように、それぞれの囲繞領域１９（Ｒ）内において赤色に発光する画素に対応するアノード１３（Ｒ）上に赤色に発光する有機ＥＬ層１５（Ｒ）が形成される。
【０１２９】
このとき、位置合わせが若干ずれていて、有機化合物含有液６０ｒが仕切り壁２０の側壁に接触しても、仕切り壁２０の側壁から赤用のアノード１３（Ｒ）上に滑り落ちるので、成膜された赤色の有機ＥＬ層１５（Ｒ）の厚さが表示に影響ある程度にばらつくことはない。なお、仕切り壁２０によって囲繞領域１９（Ｒ），１９（Ｒ），…が仕切られているため、囲繞領域１９（Ｒ）に転写された有機化合物含有液６０ｒが、異なる色の有機化合物含有液が成膜される隣りの囲繞領域１９に漏れることが殆どない。
【０１３０】
次いで、赤色の場合と同様に、緑用版２１０Ｇを有する転写ローラ４０Ｃを用いて、転写ローラ４０Ｃを回転させつつ透明基板１２を移動させて、液滴である緑色用の有機化合物含有液６０ｇ（図示せず）をアノード１３（Ｇ）に接触させることでアノード１３（Ｇ），１３（Ｇ），…に転写し、それぞれの囲繞領域１９（Ｇ）内においてアノード１３（Ｇ）上に緑色の有機ＥＬ層１５（Ｇ）を形成する。
【０１３１】
次いで、赤色の場合と同様に、青用版２１０Ｂを有する転写ローラ４０Ｃを用いて、転写ローラ４０Ｃを回転させつつ透明基板１２を移動させて、液滴である青色用の有機化合物含有液６０ｂ（図示せず）をアノード１３（Ｂ）に接触させることでアノード１３（Ｂ），１３（Ｂ），…に転写し、それぞれの囲繞領域１９（Ｂ）内においてアノード１３（Ｂ）上に緑色の有機ＥＬ層１５（Ｂ）を形成する。なお、成膜する順番は、赤色の有機ＥＬ層１５（Ｒ）、緑色の有機ＥＬ層１５（Ｇ）、青色の有機ＥＬ層１５（Ｂ）の順でなくてもよく、また赤色の有機ＥＬ層１５（Ｒ）、緑色の有機ＥＬ層１５（Ｇ）、青色の有機ＥＬ層１５（Ｂ）の順に配列していなくてもよい。
【０１３２】
以上、本実施の形態によれば、第１の実施の形態と同様な効果が得られるとともに、転写ローラ４０Ｃに親液性領域２１０ａと撥液性領域２１０ｂとを直接パターニングしているので、より高精度に有機化合物含有液を透明基板に転写することができる。なぜなら、第１の実施の形態のように、版２００が貼り付けられた転写ローラ４０Ａの場合では、版２００がテンションをかけられてローラ４１に貼り付けられているため、版２００に伸びが発生し、その伸びにより有機化合物含有液を透明基板に転写する精度がいくらか落ちるおそれがあるからである。
【０１３３】
また、本実施の形態においても、第１の実施の形態の第１の変形例で説明したように、濡れ性可変層が仕切り壁２０を有する透明基板１２に形成されて、活性光線ｈν照射により親液性領域及び撥液性領域をその濡れ性可変層に形成する構成でもよい。また、仕切り壁２０を有する透明基板１２に対するＯ２プラズマ処理及びＣＦ４プラズマ処理により、親液性領域及び撥液性領域を透明基板１２等に形成する構成でもよい。また、本実施の形態においても、第１の実施の形態の第２の変形例で説明したように、仕切り壁２０による囲繞領域を透明基板１２等に設けない構成でもよい。
【０１３４】
〔第２の実施の形態の変形例〕
次に、図１０を参照して、第２の実施の形態の変形例を説明する。図１０の（ａ）は、転写ローラ４０Ｄの製造工程を示す図であり、（ｂ）は（ａ）のＺ方向からの転写を示す図である。本変形例は、第１の実施の形態で説明した、別の製版方法と同様にして、転写ローラの濡れ性可変層が光触媒材料を含むように製造し、フォトマスク基板には光触媒膜を形成しないものである。
【０１３５】
図１０（ａ）、（ｂ）に示すように、本変形例におけるフォトマスク２０３Ｄは、透明基板２０４の表面に複数の開口部２０５ｄが一列に配列されるようにマスク２０５Ｄが設けられている。
そして、転写ローラ４０Ｄのローラ４１の表面には、濡れ性可変層２０２Ｄが形成されている。
濡れ性可変層２０２Ｄに用いることのできるバインダーは、好ましくは主骨格が前記光触媒の光励起により分解されないような高い結合エネルギーを有するものであり、例えば、（Ａ）ゾルゲル反応等によりクロロまたはアルコキシシラン等を加水分解、重縮合して大きな強度を発揮するオルガノポリシロキサン、或いは（Ｂ）撥水性や撥油性に優れた反応性シリコーンを架橋したオルガノポリシロキサン等を挙げることができる。濡れ性可変層２０２Ｄは、このバインダーに酸化チタン等の光触媒粒子が分散されている。光触媒は、第１の実施の形態でも述べたような他の光触媒を用いてもよい。
【０１３６】
そして、（イ）印刷工程において、そのフォトマスク基板２０３Ｄを転写ローラ４０Ｄに対向させて、フォトマスク基板２０３Ｄを介して活性光線ｈνを濡れ性可変層２０２Ｄに開口部２０５ｄから入射させる。フォトマスク基板２０３Ｄのマスク２０５Ｄでは活性光線ｈνが遮蔽され、開口部２０５ｄでは活性光線ｈνが通過し、濡れ性可変層２０２Ｄの所定の箇所に活性光線ｈνが入射する。活性光線ｈνの入射した親液性領域２２０ａでは、光触媒（例えば酸化チタン）に活性光線ｈνが入射されることで活性酸素種（例えば・ＯＨ）が生成され、この活性酸素種が撥液性を示す官能基（例えばＲｆ）を脱離させ、親液性を示す官能基（例えば−ＯＨ）に置換する。このため、活性光線ｈνの入射した親液性領域２２０ａは、濡れ性が向上して親液性を示す。開口部２０５ｄに応じた濡れ性可変層２０２Ｄの所定の箇所が親液性領域２２０ａに変化したら、光源からの活性光線ｈνの照射が一旦停止され、転写ローラ４０Ｄが軸４１ａを軸として矢印Ａ方向に回転し、所定の箇所の撥液性領域２０２ｂがフォトマスク基板２０３Ｄの開口部２０５ｄに対向するように配置されると、転写ローラ４０Ｄの回転が停止される。そして、上述のように光源からの活性光線ｈνの入射が繰り返される。これにより、濡れ性可変層２０２Ｄには、濡れ性の相違によるパターンであって、マトリクス状に配列された複数の親液性領域２２０ａと親液性領域２２０ａの周囲に位置する撥液性領域２２０ｂとからなるパターンが形成されて、赤用版２２０Ｒとなる。また、この製版方法は、上記所定の箇所の位置が異なることを除けば緑用版２００Ｇ、青用版２００Ｂを製版する際にも適用することができる。
【０１３７】
〔第３の実施の形態〕
次に、図１１〜図１４を参照して本発明に係る第３の実施の形態を説明する。図１１は、ノズル基板３１の構成を示す図であり、（ａ）はノズル基板３１の平面図であり、（ｂ）は（ａ）の切断線Ｔ１−Ｔ２における断面図であり、（ｃ）は（ａ）の切断線Ｕ１−Ｕ２における断面図である。図１２は、溶液吐出ヘッド３０の構成を示す図であり、（ａ）は溶液吐出ヘッド４０の平面図であり、（ｂ）は（ａ）の切断線Ｖ１−Ｖ２における溶液吐出ヘッド４０の断面図である。図１３は、本実施の形態における有機ＥＬ表示パネル１０の製造工程を示す図である。図１４は、溶液のメニスカス状態を示す図であり、（ａ）は溶液に負圧がかけられたメニスカス状態を示す図であり、（ｂ）は溶液に正圧がかけられたメニスカス状態を示す図である。
【０１３８】
本実施の形態は、図１に示す有機ＥＬ表示パネル１０の製造において、有機ＥＬ層１５の形成に溶液吐出ヘッド３０を使用する構成であり、説明の重複を避けるため、第１の実施の形態と異なる部分を主として説明する。
【０１３９】
先ず、溶液吐出ヘッド３０の構成を説明する。ここでは、赤色の有機ＥＬ層１５（Ｒ）を透明基板１２の所定のサブピクセルに形成するための溶液吐出ヘッド３０を説明する。図１１に示すように、溶液吐出ヘッド３０の構成要素となるノズル基板３１は、ガラスからなる基板部３２と、基板部３２に形成された溶液溜めとなる複数の溝部３３と、各溝部３３に溶液を供給するための貫通孔３４とを有する。ノズル基板３１の材料としては、ガラスに限るものではなく、シリコン等でもよい。溝部３３及び貫通孔３４は、未加工の基板部３２にサンドブラスト加工、ウエットエッチング等の処理により形成される。
【０１４０】
図１２に示すように、溶液吐出ヘッド３０は、ノズル基板３１と、溝部３３を覆うような天板３５とを有する。天板３５には、各溝部３３内の溶液を吐出するための円形の溶液吐出孔３６が形成されている。天板３５は、例えば感光性のドライフィルムである。そのドライフィルムがノズル基板３１に貼り付けられた後にフォトリゾグラフィにより溶液吐出孔３６が天板３５に形成されてもよい。また、天板３５は、ポリイミドフィルムでもよい。そのポリイミドフィルムがノズル基板３１に貼り付けられた後に、そのポリイミドフィルムにアルミ等をスパッタリングした後、所望の溶液吐出孔３６の形状にエッチング加工されたメタルマスクを設け、そのメタルマスクを用いてドライエッチングにより溶液吐出孔３６が天板３５に形成される構成でもよい。
【０１４１】
また、溶液吐出孔３６の間隔は、有機ＥＬ表示パネル１０の囲繞領域１９（Ｒ）に対応するサブピクセルのピッチに合せて形成されている。そして、図１３に示すように、溶液吐出ヘッド３０に溶液を格納する溶液格納部３７と、溶液のタンク（図示せず）から溶液を溶液格納部３７に供給する溶液供給管３８とが形成される。また、その溶液のタンクには、溶液の圧力を変化する圧力変化手段（図示せず）も設けられているものとする。また、溶液吐出ヘッド３０は、赤色の有機化合物含有液６０ｒを吐出するためのものの他に、緑色の有機化合物含有液６０ｇを吐出するためのものと、青色の有機化合物含有液６０ｂを吐出するためのものとが作成される。
【０１４２】
そして、（イ）印刷工程において、溶液として赤色の有機化合物含有液６０ｒが、溶液のタンクから溶液供給管３８を通じて溶液吐出ヘッド３０に充填される。そして、アノード１３、囲繞領域１９、仕切り壁２０等が形成された透明基板１２と溶液吐出ヘッド３０とが対向するように移動させ、溶液吐出ヘッド３０の溶液吐出孔３６と囲繞領域１９（Ｒ）とが対向するように位置合せする。そして、圧力変化手段により適当な圧力が溶液吐出ヘッド３０内の有機化合物含有液６０ｒに印加され、溶液吐出ヘッド３０内に充填された有機化合物含有液６０ｒが溶液吐出孔３６から囲繞領域１９（Ｒ）に吐出され、囲繞領域１９（Ｒ）に有機ＥＬ層１５（Ｒ）が形成される。
【０１４３】
有機化合物含有液６０ｒの吐出前及び吐出後には、図１４（ａ）に示すように、圧力変化手段により有機化合物含有液６０ｒに負圧を加えることにより、溶液吐出ヘッド３０の溶液吐出孔３６から有機化合物含有液６０ｒが漏れないようなメニスカス状態にする。また、有機化合物含有液６０ｒの吐出時には、図１４（ｂ）に示すように、圧力変化手段により有機化合物含有液６０ｒに正圧を加えることにより、溶液吐出ヘッド３０の溶液吐出孔３６から有機化合物含有液６０ｒが染み出て吐出されるようなメニスカス状態にする。
【０１４４】
囲繞領域１９（Ｇ）に対する緑色発光画素の有機ＥＬ層１５（Ｇ）の形成は、赤色発光画素の有機ＥＬ層１５（Ｒ）の形成と同様に、緑用の溶液吐出ヘッド３０から有機化合物含有液６０ｇを囲繞領域１９（Ｇ）に吐出させて行う。また、囲繞領域１９（Ｂ）に対する青色発光画素の有機ＥＬ層１５（Ｂ）の形成は、赤色発光画素の有機ＥＬ層１５（Ｒ）の形成と同様に、青色発光画素の溶液吐出ヘッド４０から有機化合物含有液６０ｂを囲繞領域１９（Ｂ）に吐出させて行う。
【０１４５】
また、本実施の形態においても、第１の実施の形態の第１の変形例で説明したように、濡れ性可変層が、仕切り壁２０等を有する透明基板１２に形成されて、活性光線ｈν照射により親液性領域及び撥液性領域をその濡れ性可変層に形成する構成でもよい。また、仕切り壁２０を有する透明基板１２に対するＯ２プラズマ処理及びＣＦ４プラズマ処理により、親液性領域及び撥液性領域を透明基板１２側に直接形成する構成でもよい。また、本実施の形態においても、第１の実施の形態の第２の変形例で説明したように、仕切り壁２０による囲繞領域を透明基板１２等に設けない構成でもよい。
【０１４６】
以上、本実施の形態によれば、溶液吐出ヘッド３０内の溶液の圧力を変化してそのメニスカスをコントロールして有機化合物含有液を吐出して有機ＥＬ層１５（Ｒ）を形成して有機ＥＬ表示パネルを製造する。このため、インクジェット方式と比べて、溶液吐出ヘッド３０の機構が簡単で、溶液吐出孔の間隔及び個数を任意に設けることができる。また、有機ＥＬ表示パネルの製造工程が簡便で且つ一度に多くの画素の有機ＥＬ層を生成できることにより有機ＥＬ表示パネルの製造時間を短縮することができる。更に、画素ごとに均一な膜圧の有機ＥＬ層を形成できるので発光特性の劣化要因を少なくすることができる。
【０１４７】
〔第３の実施の形態の変形例〕
次に、図１５を参照して、第３の実施の形態の変形例を説明する。図１５は、溶液吐出ヘッド３０Ｅの構成を示す図であり、（ａ）は溶液吐出ヘッド３０Ｅの平面図であり、（ｂ）は（ａ）の切断線Ｗ１−Ｗ２における溶液吐出ヘッド３０Ｅの断面図である。
【０１４８】
本変形例は、第３の実施の形態の溶液吐出ヘッド３０に代えて、溶液吐出孔の形状が異なる溶液吐出ヘッド３０Ｅを用いるものである。図１５に示すように、溶液吐出ヘッド３０Ｅは、基板部３２、溝部３３及び貫通孔３４を有するノズル基板３１と、長尺なスリット状の溶液吐出孔３６Ｅが複数形成された天板３５Ｅとを有する。溶液吐出孔３６Ｅの形状が長尺なスリット状であるので、１回の溶液の吐出量を多くすることができ、その吐出時間を短縮することができる。特に、サブピクセルが長細い形状の場合に、１つの溶液吐出孔３６Ｅの長手方向の長さを、その長細いサブピクセルに対応させる構成にすれば、有機ＥＬ層の膜厚を均一にできるので好ましい。
【０１４９】
なお、本変形例の場合、サブピクセルが略矩形である場合には、透明基板１２の仕切り壁２０等の有機ＥＬ層１５を形成しない部分にも溶液を吐出することになる。よって、第１の実施の形態の変形例で説明したような、溶液の吐出前に、透明基板１２側で親液性領域及び撥液性領域を形成しておく構成が好ましい。つまり、囲繞領域１９を親液性領域とし、それ以外の領域を撥液性領域とする。
【０１５０】
なお、本発明は上記各実施の形態及びその変形例に限定されることなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において、種々の改良並びに設計の変更を行っても良い。
上記各実施形態では、カソード１６が全ての有機ＥＬ素子１１，１１，…について共通しているが、有機ＥＬ素子１１の発光色ごとに共通のカソードを形成しても良い。このようにすることによって、カソード１６が各発光色の有機ＥＬ層１５毎に、印加される基準電圧値又は基準電流値を変えることができるので、例えば赤、緑、青に発光する有機ＥＬ層１５のそれぞれの電流比視効率（ｃｄ／Ａ）が互いに異なる場合であっても、所定の輝度階調で発光させるために、アノードが各色の電流比視効率に合わせて輝度階調電圧（又は輝度階調電流）を供給する必要がない。すなわち、アノードが所定の輝度で各色の有機ＥＬ層１５を発光させる場合、発光色にしたがって輝度階調電圧（又は輝度階調電流）を変調させなくてよい。例えば、各色の有機ＥＬ層１５を同一輝度階調で発光する際に、アノードは各色共通の同値の輝度階調電圧（又は輝度階調電流）を供給するだけで、各画素の輝度（ｃｄ／ｍ２）を等しくすることができ、色バランスを良好にすることができる。また、有機ＥＬ素子１１ごとにカソードを形成しても良い。カソードを有機ＥＬ素子１１ごとに形成した場合、アノードを全ての有機ＥＬ素子１１，１１，…に共通させてもよいが、サブピクセルごとの画素回路はカソードに接続されることになる。また、有機ＥＬ素子１１を透明基板１２から順にカソード、有機ＥＬ層、アノードの順にしても良い。また、各実施形態においてはトランジスタ２１，２１，…を設けたアクティブマトリクス有機ＥＬ表示パネルに本発明を適用したが、単純マトリクス駆動の表示パネルにも応用できる。
【０１５１】
また、第１及び第２の実施の形態並びにそれらの変形例において、サブピクセルのピッチが、赤、緑及び青の各色で同じ場合には、同一形状の転写ローラ４０Ａ，４０Ｃ，４０Ｄを用いて、各色の有機化合物含有液を転写する構成でもよい。更に、同一の転写ローラ４０Ａ，４０Ｃ，４０Ｄを用いて異なる各色の有機化合物含有液を転写する構成でもよい。
【０１５２】
また、第１及び第２の実施の形態並びにそれらの変形例においては、転写ローラ４０Ａ，４０Ｃ，４０Ｄを軸４１ａで軸を固定して回転させ、溶液プール４２や透明基板１２の方を移動させて、有機化合物含有液の付着及び転写を行う構成として説明したが、溶液プール４２や透明基板１２を固定して、転写ローラ４０Ａ，４０Ｃ，４０Ｄを回転させ且つ移動させて、有機化合物含有液の付着及び転写を行う構成としてもよい。
【０１５３】
また、上記各実施の形態及びその変形例では、有機ＥＬ層１５が赤、緑及び青の各色の狭義の発光層一層からなる構成についての有機ＥＬ表示パネルの製造工程を代表的に説明したが、これに限るものではない。例えば、有機ＥＬ層が狭義の発光層に加えて正孔輸送層を含む場合、正孔輸送層の材料を溶媒に溶解して溶液とし、上記各実施の形態及びその変形例で説明した赤、緑及び青の各色の狭義の発光層の製造と同様に、その溶液を各サブピクセルに転写又は吐出して形成することができる。ただし、正孔輸送層には、赤、緑及び青の各色の色分けはないので、全てのサブピクセルに同一の溶液を転写又は吐出する構成が可能となる。この構成に対応して転写ローラ及び溶液吐出ヘッド等を構成する。
【０１５４】
正孔輸送層の材料を含む溶液は、例えば、ポリ（３，４）エチレンジオキシチオフェンとポリスチレンスルフォネートの混合物のような有機材料を含む溶液でもよく、正孔輸送性の無機材料が分散された溶液でもよく、これらを混合したものでもよい。また、正孔輸送層の材料を含む溶液の溶媒には、水等が用いられる。
また上記各実施形態では、光触媒膜２０６、２０６Ｃがそれぞれマスク２０５、２０５Ｂ全面に設けられたが、開口部２０５ａ、２０５ｂにのみ設けられてもよい。
なお上記各実施形態では、親液層１４１ａ、親液性領域２０２ａ，２１０ａ，２２０ａが各色マトリクス状に配列されたが、互いに同色に発光する複数の画素が列方向に並んで配列させてもよく、このために一つの囲繞領域１９が同色に発光する複数の画素に併せて列方向に連続して形成されてもよい。この場合、各マスク２０５，２０５Ｂ，２０５Ｄの各開口部２０５ａ，２０５ｂ，２０５ｄも列方向に連続して延びていてもよい。
【０１５５】
【発明の効果】
請求項１又は１３に記載の発明によれば、活性光線により任意のパターンが形成された第１の濡れ性可変層又は濡れ性可変層が取り付けられた転写ローラに付着された光学材料を含有する溶液が、その転写ローラの回転により、基板側の所定の位置に転写されることにより光学材料層を形成して表示装置を製造することができる。このため、活性光線により、第１の濡れ性可変層又は濡れ性可変層に任意の高精度且つ微細な濡れ性の異なるパターンを容易に形成することができ、その転写ローラの回転による溶液の転写により、そのパターンに基づいた微細且つ高精度な光学材料層を有する表示装置を短時間で効率的に製造することができる。また、そのパターンに基づいて均一な膜厚の光学材料層を形成するので、発光特性の劣化要因を軽減することができる。
【０１５６】
請求項２又は１４に記載の発明によれば、活性光線により転写ローラの第１の濡れ性可変層又は濡れ性可変層に任意のパターンが形成され、光学材料を含有する溶液が第１の濡れ性可変層に付着され、その転写ローラの回転により、基板側に溶液を転写して光学材料層を形成して表示装置を製造することができる。このため、活性光線により第１の濡れ性可変層又は濡れ性可変層に任意の高精度且つ微細なパターンを容易に形成することができ、その転写ローラの回転による溶液の転写により、そのパターンに基づいた微細且つ極めて高精度な光学材料層を有する表示装置を短時間で効率的に製造することができる。また、そのパターンに基づいて均一な膜厚の光学材料層を形成するので、発光特性の劣化要因を軽減することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】有機ＥＬ表示パネル１０の平面図である。
【図２】図１の切断線Ｓ１−Ｓ２における有機ＥＬ表示パネル１０の断面図である。
【図３】赤用版２００Ｒの製造工程を示した図である。
【図４】本発明に係る第１の実施の形態における有機ＥＬ表示パネル１０の製造工程を示した図であり、（ａ）は赤用版２００Ｒへの赤色用の有機化合物含有液６０ｒの付着を示す図であり、（ｂ）は有機ＥＬ表示パネル１０への赤色用の有機化合物含有液６０ｒの転写を示す図であり、（ｃ）は（ｂ）のＸ方向からの転写を示す図であり、（ｄ）は赤色用の有機化合物含有液６０ｒが印刷された有機ＥＬ表示パネル１０を示す図である。
【図５】第１の実施の形態の第１の変形例における有機ＥＬ表示パネル１０の製造工程を示した図である。
【図６】有機ＥＬ表示パネル１１０の断面図である。
【図７】濡れ性可変層１４１を有する有機ＥＬ表示パネル１１０の製造工程を示す図である。
【図８】（ａ）は転写ローラ４０Ｃの製造工程を示す図であり、（ｂ）は（ａ）のＹ方向からの転写を示す図である。
【図９】本発明に係る第２の実施の形態における有機ＥＬ表示パネル１０の製造工程を示した図であり、（ａ）は転写ローラ４０Ｃへの赤色用の有機化合物含有液６０ｒの付着を示す図であり、（ｂ）は有機ＥＬ表示パネル１０への赤色用の有機化合物含有液６０ｒの転写を示す図である。
【図１０】（ａ）は、転写ローラ４０Ｄの製造工程を示す図であり、（ｂ）は（ａ）のＺ方向からの転写を示す図である。
【図１１】ノズル基板３１の構成を示す図であり、（ａ）はノズル基板３１の平面図であり、（ｂ）は（ａ）の切断線Ｔ１−Ｔ２における断面図であり、（ｃ）は（ａ）の切断線Ｓ１−Ｓ２における断面図である。
【図１２】溶液吐出ヘッド３０の構成を示す図であり、（ａ）は溶液吐出ヘッド３０の平面図であり、（ｂ）は（ａ）の切断線Ｖ１−Ｖ２における溶液吐出ヘッド３０の断面図である。
【図１３】本発明に係る第３の実施の形態における有機ＥＬ表示パネル１０の製造工程を示す図である。
【図１４】溶液のメニスカス状態を示す図であり、（ａ）は溶液に負圧がかけられたメニスカス状態を示す図であり、（ｂ）は溶液に圧力がかけられたメニスカス状態を示す図である。
【図１５】溶液吐出ヘッド３０Ｅの構成を示す図であり、（ａ）は溶液吐出ヘッド３０Ｅの平面図であり、（ｂ）は（ａ）の切断線Ｗ１−Ｗ２における溶液吐出ヘッド３０Ｅの断面図である。
【符号の説明】
１０，１１０…有機ＥＬ表示パネル
１２…透明基板
１２ａ…表面
１２ｂ…裏面
１３（Ｒ），１３（Ｇ），１３（Ｂ）…アノード
１４，１４１…濡れ性可変層
１４１ａ（Ｒ）…親液性領域
１４１ｂ…撥液性領域
１５（Ｒ），１５（Ｇ），１５（Ｂ）…有機ＥＬ層
１６…カソード
１８…保護絶縁膜
１９（Ｒ），１９（Ｇ），１９（Ｂ）…囲繞領域
２０…仕切り壁
２１…トランジスタ
２２…ゲート電極
２３…ゲート絶縁膜
２４…半導体膜
２５，２６…不純物半導体膜
２７…ドレイン電極
２８…ソース電極
５１…信号線
５２…走査線
４０Ａ，４０Ｃ，４０Ｄ…転写ローラ
４１…ローラ
４２…溶液プール
６０ｒ…有機化合物含有液
２００Ｒ，２１０Ｒ，２２０Ｒ…赤用版
２０１…基板
２０１ａ…表面
２０２，２０２Ｃ，２０２Ｄ…濡れ性可変層
２０２ａ，２１０ａ，２２０ａ…親液性領域
２０２ｂ，２１０ｂ，２２０ｂ…撥液性領域
２０３，２０３Ｃ…フォトマスク基板
２０４…透明基板
２０４ａ…表面
２０５，２０５Ｂ，２０５Ｄ…マスク
２０５ａ，２０５ｂ，２０５ｄ…開口部
３０，３０Ｅ…溶液吐出ヘッド
３１…ノズル基板
３２…基板部
３３…溝部
３４…貫通孔
３５，３５Ｅ…天板
３６，３６Ｅ…溶液吐出孔
３７…溶液格納部
３８…溶液供給管
Claims (16)
- 第１の電極と、第２の電極と、その第１及び第２の電極の間に設けられた光学材料層とを有する光学素子が基板に形成された表示装置の製造方法において、
濡れ性が互いに異なる所定領域及び前記所定領域以外の領域からなるパターンを有する第１の濡れ性可変層が取り付けられた転写ローラを回転することにより前記第１の濡れ性可変層の前記所定領域に、前記光学材料層の光学材料を含有する溶液を付着する付着工程と、
前記第１の濡れ性可変層に前記溶液が付着された前記転写ローラを回転して、前記付着された溶液を前記基板側に転写する転写工程とを含むことを特徴とする表示装置の製造方法。 - 第１の電極と、第２の電極と、その第１及び第２の電極の間に設けられた光学材料層とを有する光学素子が基板に形成された表示装置の製造方法において、
転写ローラに設けられた第１の濡れ性可変層に活性光線を照射することにより、濡れ性が互いに異なる所定領域及び前記所定領域以外の領域からなるパターンを形成する第１のパターン形成工程と、
前記光学材料層の光学材料を含有する溶液を前記転写ローラ上の第１の濡れ性可変層に付着する付着工程と、
前記第１の濡れ性可変層に付着された前記溶液を、前記転写ローラを回転して前記基板側に接触させることにより転写する転写工程とを含むことを特徴とする表示装置の製造方法。 - 前記第１の濡れ性可変層は、光を透過する任意のパターンが形成された第１のフォトマスク基板を介して活性光線を照射することにより濡れ性が互いに異なる前記所定領域及び前記所定領域以外の領域のパターンが形成されることを特徴とする請求項１又は２に記載の表示装置の製造方法。
- 前記第１のフォトマスク基板は、光触媒を含むことを特徴とする請求項３に記載の表示装置の製造方法。
- 前記第１の濡れ性可変層は、光触媒を含むことを特徴とする請求項１から４のいずれか一項に記載の表示装置の製造方法。
- 前記基板には第２の濡れ性可変層が形成され、
活性光線の照射により前記第２の濡れ性可変層に濡れ性が互いに異なる所定領域及び前記所定領域以外の領域からなるパターンを形成する第２のパターン形成工程を含むことを特徴とする請求項１から５のいずれか一項に記載の表示装置の製造方法。 - 前記第２のパターン形成工程において、光を透過する任意のパターンが形成された第２のフォトマスク基板を用いて前記活性光線を前記第２の濡れ性可変層に照射することを特徴とする請求項６に記載の表示装置の製造方法。
- 前記第２のフォトマスク基板は、光触媒を含むことを特徴とする請求項７に記載の表示装置の製造方法。
- 前記第２の濡れ性可変層は、光触媒を含むことを特徴とする請求項６から８のいずれか一項に記載の表示装置の製造方法。
- 濡れ性が互いに異なる所定領域及び前記所定領域以外の領域からなるパターンを前記基板側に直接形成する基板パターン形成工程を含むことを特徴とする請求項１から５のいずれか一項に記載の表示装置の製造方法。
- 前記所定の領域は、少なくとも１つの前記第１の電極に対応する親液領域であり、前記所定領域以外の領域は撥液領域であることを特徴とする請求項１から１０のいずれか一項に記載の表示装置の製造方法。
- 前記基板は、仕切り壁により前記第１の電極が囲繞された囲繞領域を有し、
前記転写工程において、前記第１の濡れ性可変層に前記溶液が付着された前記転写ローラを回転して、前記付着された溶液を前記基板側の前記囲繞領域に接触させることにより転写することを特徴とする請求項１から１１のいずれか一項に記載の表示装置の製造方法。 - 活性光線の被照射の有無により、濡れ性が互いに異なる所定領域及び前記所定領域以外の領域からなるパターンが形成された濡れ性可変層を有する版を備え、
前記パターンが形成された濡れ性可変層を有する版は、円周上に取り付けられ、
前記濡れ性可変層は、前記形成されたパターンに基づいて、第１の電極及び第２の電極の間に光学材料層が設けられる表示装置の前記光学材料層となる光学材料を含有する溶液が付着されることが可能であることを特徴とする転写ローラ。 - 活性光線の被照射の有無により、濡れ性が互いに異なる所定領域及び前記所定領域以外の領域からなるパターンが形成された濡れ性可変層を円周上に備え、
前記濡れ性可変層は、前記形成されたパターンに基づいて、第１の電極及び第２の電極の間に光学材料層が設けられる表示装置の前記光学材料層となる光学材料を含有する溶液が付着されることが可能であることを特徴とする転写ローラ。 - 前記濡れ性可変層は、光触媒を含むことを特徴とする請求項１３又は１４に記載の転写ローラ。
- 前記所定の領域は、少なくとも１つの前記第１の電極に対応する親液領域であり、前記所定領域以外の領域は撥液領域であることを特徴とする請求項１３から１５のいずれか一項に記載の転写ローラ。
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