JP2004247582A

JP2004247582A - 洗浄ブラシ及び基板洗浄装置

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Publication number: JP2004247582A
Application number: JP2003036880A
Authority: JP
Inventors: Norio Miyamoto; 典生宮本; Hiroshi Nagayasu; 宏長安
Original assignee: Tokyo Electron Ltd
Current assignee: Tokyo Electron Ltd
Priority date: 2003-02-14
Filing date: 2003-02-14
Publication date: 2004-09-02

Abstract

【課題】ウェハの周縁付近を良好に洗浄することができる洗浄ブラシを提供する。
【解決手段】周縁を保持部材１３によって保持されて回転する基板Ｗの表面又は裏面に接触し，前記基板Ｗの少なくとも中心から周縁付近まで，回転しながら移動することにより，基板Ｗの表面又は裏面を洗浄する洗浄ブラシ５であって，スポンジ状の洗浄本体４０から隙間を空けて離隔した位置に，内側に向かって変形可能な洗浄体４１を備えることとした。前記変形可能な洗浄体４１は，端部が外側に向かって突出するように変形することとした。
【選択図】図３

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は，例えば半導体ウェハやＬＣＤ基板用ガラス等の基板を洗浄処理する際に用いる洗浄ブラシに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
例えば半導体デバイスの製造プロセスにおいては，半導体ウェハ（以下，「ウェハ」という。）に薬液や純水等の処理液を供給して，ウェハに付着したパーティクル，有機汚染物，金属不純物のコンタミネーションを除去する一連の洗浄処理が行われる。かかる洗浄処理の一例として，枚葉式の基板洗浄装置を用いてスクラブ洗浄を行うものが知られている。この基板洗浄装置は，ウェハをスピンチャックによって略水平面内で回転させながら，ウェハの上面となっている表面又は裏面に処理液を供給し，スポンジ状の洗浄ブラシを回転させながらウェハの表面又は裏面に接触させることにより，表面又は裏面に付着した異物をこすり取り，処理液と共に洗い落として除去する構成となっている。
【０００３】
半導体デバイスを形成するウェハの表面に接触させる洗浄ブラシには，柔らかいスポンジブラシが用いられる。スポンジブラシは円筒状に形成されている。一方，半導体デバイスを形成しないウェハの裏面に接触させる洗浄ブラシには，刷毛状のブラシが用いられる。
【０００４】
従来，ウェハの表面に接触させる洗浄ブラシの構成としては，例えば，スポンジブラシの下部を半球形状にしたものが提案されている。かかる構成によれば，ウェハの表面とブラシとの接触圧を均一にすることができ，洗浄効果を高めることができる（特許文献１参照）。一方，ウェハの裏面に接触させる洗浄ブラシとしては，例えば，スポンジブラシと刷毛状のブラシを組み合わせ，ウェハに接触させる部分を半球形状にしたものが提案されている。かかる構成によれば，ウェハの裏面とスポンジブラシとの接触圧を均一にすることができ，洗浄効果を高めることができる（特許文献１参照）。また，スピンチャックの構成として，例えば，ウェハの周縁の複数箇所にそれぞれ保持部材を押し付けてウェハを保持するものが知られている（特許文献２参照）。この保持部材の上部は，ウェハの上方に張り出るように形成され，ウェハの周縁が保持部材の上方に飛び出ることを防止できるようになっている。
【０００５】
【特許文献１】
特開平１０−２０９０９４（第３，４，５，６図）
【特許文献２】
特開２００２−１３４４６０（第５図）
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら，従来の洗浄ブラシは，スピンチャックの保持部材に接触すると破損する可能性があった。また，保持部材を破損させる可能性や，保持部材が洗浄ブラシに押されてウェハの周縁から外れ，ウェハがスピンチャックから脱落する可能性があった。そのため，ウェハの周縁付近には洗浄ブラシを近づけることができず，ウェハの周縁付近を十分に洗浄できない問題があった。
【０００７】
従って本発明の目的は，ウェハの周縁付近を良好に洗浄することができる洗浄ブラシ及び基板洗浄装置を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために，本発明によれば，周縁を保持部材によって保持されて回転する基板の表面又は裏面に接触し，前記基板の少なくとも中心から周縁付近まで移動することにより，基板の表面又は裏面を洗浄する洗浄ブラシであって，洗浄本体から隙間を空けて離隔した位置に，内側に向かって変形可能な洗浄体を備えることを特徴とする，洗浄ブラシが提供される。
【０００９】
本発明において，基板とは，半導体ウェハやＬＣＤ基板用ガラス等の基板などが例示され，その他，ＣＤ基板，プリント基板，セラミック基板などでも良い。
【００１０】
この洗浄ブラシにあっては，保持部材と洗浄ブラシとが接触したとき，外側の洗浄体が内側に押されて変形することで，接触したときの衝撃を吸収できる。従って，保持部材が破損することを防止できる。さらに，スポンジ状の洗浄本体と変形する洗浄体との間に隙間を形成することで，内側に向かって移動した洗浄体がスポンジ状の洗浄本体に接触することを防止できる。従って，スポンジ状の洗浄本体が破損することを防止できる。このように，保持部材と洗浄ブラシとが接触して破損などが生じる虞が無いので，従来よりもウェハＷの周縁に近い位置まで洗浄ブラシを移動させ，スクラブ洗浄を行うことができる。
【００１１】
前記変形する洗浄体は，端部が外側に向かって突出するように変形することが好ましい。この場合，保持部材の上部がウェハの上方に張り出るように形成されていても，保持部材の張り出した部分の下に，外側に突出した端部を侵入させ，保持部材の張り出した部分や，保持部材の下になっているウェハの周縁をスクラブ洗浄することができる。
【００１２】
前記変形する洗浄体をカーテン状のスポンジで形成しても良い。この場合，ウェハの表面のパターンに悪影響を与えないようにスクラブ洗浄することができる。また，前記洗浄体を刷毛状に形成しても良い。この場合，ウェハの裏面を効果的にスクラブ洗浄することができる。
【００１３】
さらに，本発明によれば，周縁を保持部材によって保持されて回転する基板の表面又は裏面に接触し，前記基板の少なくとも中心から周縁付近まで移動することにより，基板の表面又は裏面を洗浄する洗浄ブラシであって，洗浄本体の端部の外側に，第２の洗浄体を突設したことを特徴とする，洗浄ブラシが提供される。この洗浄ブラシにあっては，保持部材の上部がウェハの上方に張り出るように形成されていても，保持部材の下になっている部分を，第２の洗浄体の端部によってスクラブ洗浄することができる。
【００１４】
前記洗浄本体を複数の洗浄体ブロックによって構成し，前記洗浄体ブロック同士の間に，第２の洗浄体を備え，前記第２の洗浄体を，前記第２の洗浄体の端部側に向かうほど前記スポンジ状の洗浄本体の外側に向かうように傾斜させて備えることが好ましい。また，前記第２の洗浄体を刷毛状に形成することが好ましい。前記洗浄本体をスポンジで形成しても良い。
【００１５】
さらにまた，本発明によれば，請求項１〜８のいずれかに記載の洗浄ブラシと，複数の保持部材によって基板の周縁を保持し，基板を回転させるスピンチャックとを備えた基板洗浄装置が提供される。
【００１６】
【発明の実施の形態】
以下，本発明の好ましい実施の形態を説明する。本発明にかかる基板洗浄装置１は，ウェハＷの半導体デバイスが形成される表面をスクラブ洗浄する装置であり，図１に示すように，ウェハＷを保持して回転させるスピンチャック２と，ウェハＷの表面に処理液を供給するノズル３と，ウェハＷの表面に接触して回転しながら移動する本発明にかかる洗浄ブラシ５を備えている。さらに，スピンチャック２に保持されたウェハＷの周囲には，ウェハＷの周囲に飛散した処理液を受け止めるカップ６が，ウェハＷを包囲するように形成されている。カップ６の外側には，洗浄ブラシ５を洗浄する洗浄ブラシ洗浄装置７が配設されている。これらスピンチャック２，ノズル３，洗浄ブラシ５，カップ６，洗浄ブラシ洗浄装置７は，基板洗浄装置１のチャンバー８の内部に収納されている。
【００１７】
ウェハＷは略円盤形状をしたシリコン基板であり，半導体デバイスが形成される表面を上面とし，半導体デバイスが形成されない裏面を下面とした状態で，スピンチャック２に保持される。
【００１８】
図２に示すように，スピンチャック２は，チャックプレート１０と，チャックプレート１０の下面に接続する回転軸１１と，回転軸１１を回転させる回転駆動機構１２とを備えている。回転軸１１は，回転中心軸を垂直方向にして配置され，チャックプレート１０を水平な姿勢で支持する。図１に示すように，チャックプレート１０の周縁の３箇所には，ウェハＷの周縁を保持する保持部材１３がそれぞれ設けられている。
【００１９】
各保持部材１３は，図３に示すように，チャックプレート１０に対して略垂直方向に設けられた縦腕１５と，チャックプレート１０に対して略平行方向に設けられた横腕１６を有し，ベルクランク形（略Ｌ字形）に形成されている。縦腕１５はチャックプレート１０周縁の上方に突出し，横腕１６はチャックプレート１０の下方に，チャックプレート１０の中心に向けた状態で配設されている。
【００２０】
保持部材１３は，保持部材軸１７を介してチャックプレート１０の周縁に取り付けられている。保持部材軸１７は，保持部材１３の縦腕１５と横腕１６が交差する部分を略水平に貫通しており，保持部材１３は，保持部材軸１７を中心として略垂直面内で揺動自在に支持されている。
【００２１】
縦腕１５の上部の内方には，上斜面２０と下斜面２１がほぼ直角をなして形成されている。保持部材軸１７を中心として保持部材１３を回動させて縦腕１５の上部を外側に移動させ，下斜面２１を水平にすると，上斜面２０は，下斜面２１の上方より外側に移動した状態となる。一方，縦腕１５を回動させて縦腕１５の上部を内側に移動させ，下斜面２１を内側ほど下方になるように傾斜させた姿勢にすると，上斜面２０は，下斜面２１の上方に移動した状態となる。
【００２２】
縦腕１５の上部を外側に移動させて下斜面２１を水平にすると，ウェハＷを縦腕１５の上方から下降させ，ウェハＷの裏面周縁を下斜面２１に当接させることができる。このとき，上斜面２０は下斜面２１より外側に位置しているため，上下動するウェハＷの周縁に接触することはなく，邪魔にならない。ウェハＷの周縁を下斜面２１に載せた状態で，縦腕１５の上部を内側に移動させると，下斜面２１をウェハＷの裏面周縁から離すとともに，ウェハＷの表面周縁の上方に上斜面２０を移動させることができる。そして，上斜面２０と下斜面２１によって形成された内角部分に，ウェハＷの周縁を当接させる状態となる。
【００２３】
横腕１６とチャックプレート１０との間には，ウェハＷの周縁を保持するように付勢する圧縮ばね２５が設けられている。圧縮ばね２５は，上端をチャックプレート１０の下面に当接させ，下端を横腕１６に当接させている。圧縮ばね２５は，横腕１６に対して，チャックプレート１０から下方に離隔させる向きの力を与える。この力を利用して，縦腕１５の上部を内側に移動させることができるように，保持部材１３を付勢している。
【００２４】
以上のような構成をそれぞれ有する３個の保持部材１３は，チャックプレート１０の中心から周縁に向かう放射状に配置されており，隣り合う保持部材１３同士の間の角度はそれぞれ約１２０°となっている。
【００２５】
図２に示すように，チャックプレート１０の下方には，保持部材１３の保持の解除を行うための保持解除機構３０が設けられている。保持解除機構３０は，昇降機構３１により上下に移動する３個の保持部材開閉ピン３２を備えている。３個の保持部材開閉ピン３２は，３個の保持部材１３の各横腕１６にそれぞれ同時に当接できる位置に配置されている。各保持部材開閉ピン３２は，チャックプレート１０の下方に配置された横腕１６の下面に対して相対的に上下移動することができる。スピンチャック２を静止させた状態で，保持部材開閉ピン３２を上昇させると，圧縮ばね２５が横腕１６に与える力に抗する力を与え，縦腕１５の上斜面２０と下斜面２１が形成された上部が外側に移動する。即ち，３個の縦腕１５の上部を互いに離隔させ，開くことができる。一方，保持部材開閉ピン３２を下降させると，圧縮ばね２５が横腕１６に与える力により，縦腕１５の上斜面２０と下斜面２１が形成された上部をウェハＷの周縁に近接させることができる。即ち，３個の縦腕１５の上部を互いに近づけ，閉じることができる。また，保持部材開閉ピン３２を下降させることで横腕１６からそれぞれ離隔させ，スピンチャック２を回転させることが可能な状態となる。
【００２６】
ウェハＷをスピンチャック２に保持させるときは，先ず，３個の保持部材開閉ピン３２を上昇させることで３個の保持部材１３の各縦腕１５の上部をそれぞれ外側に移動させ，各下斜面２１を水平にする。そして，ウェハＷを水平姿勢のままで３個の保持部材１３の上方から下降させ，ウェハＷの周縁３箇所を３個の下斜面２１にそれぞれ当接させる。このとき，各上斜面２０は下斜面２１より外側に位置しているため，下降するウェハＷの周縁に接触することはなく，邪魔にならない。こうして，ウェハＷを３個の下斜面によって裏面側から支持する状態にした後，３個の保持部材開閉ピン３２を下降させると，圧縮ばね２５の力によって各縦腕１５の上部が内側にそれぞれ移動する。すると，下斜面２１がウェハＷの裏面周縁からそれぞれ離れるとともに，ウェハＷの表面周縁の上方に上斜面２０がそれぞれ移動する。そして，上斜面２０と下斜面２１によって形成された内角部分が，ウェハＷの周縁３箇所にそれぞれ当接する。こうして，ウェハＷを３個の保持部材１３によって周縁から保持する状態になる。
【００２７】
また，スピンチャック２の保持を解除する際には，保持部材開閉ピン３２を上昇させて３個の保持部材１３の各縦腕１５の上部をそれぞれ外側に移動させ，上斜面２０と下斜面２１との間に形成された内角部分を，ウェハＷの周縁３箇所からそれぞれ離隔させる。そして，３個の下斜面２１を水平にしてウェハＷの裏面周縁に当接させ，ウェハＷを３個の下斜面によって裏面側から支持する状態にする。そして，ウェハＷを水平姿勢のままで３個の保持部材１３の上方に退避させる。
【００２８】
ウェハＷを３個の保持部材１３によって周縁から保持する状態においては，上斜面２０と下斜面２１との間に形成された内角部分は，各保持部材１３に設けた圧縮ばね２５の力によって，ウェハＷの周縁に押し付けられるようにそれぞれ当接する。また，３個の上斜面２０がウェハＷの周縁から内側に張り出すようにそれぞれ配置されるため，ウェハＷの周縁が３個の上斜面２０より上方に飛び出る虞が無く，ウェハＷを安定させて確実に保持することができる。
【００２９】
ノズル３は，図１に示すように，処理液を吐出する吐出口を下方に向けた状態で，ノズルアーム３３の先端に支持されている。ノズルアーム３３は，略水平に配設されており，ノズルアーム３３の基端には，ノズルアーム回動機構３４が接続されている。ノズルアーム回動機構３４を駆動すると，ノズルアーム３３の基端を中心としてノズルアーム３３が水平方向に回動し，このノズルアーム３３の回動により，ノズル３をカップ６の外側からウェハＷの表面の中心付近上方に移動させるようになっている。スピンチャック２によってウェハＷを回転させながら，ノズル３からウェハＷの中心付近に処理液を吐出すると，遠心力によってウェハＷの表面全体に処理液を行き渡らせて，ウェハＷの表面上に液膜を形成することができる。
【００３０】
洗浄ブラシ５は，図１に示すように，垂直に配設された洗浄ブラシ保持軸３５の下端に取り付けられた洗浄ブラシ保持体３６に装着されている。洗浄ブラシ保持軸３５は，水平に配設されたアーム３７の先端に，回転自在に支持されている。アーム３７の基端には，アーム３７の基端を中心としてアーム３７を水平方向に回動させるアーム回動機構３８が接続されている。アーム３７の回動により，洗浄ブラシ保持軸３５，洗浄ブラシ保持体３６及び洗浄ブラシ５がアーム３７と一体的に回動する。即ち，アーム３７の回動により，洗浄ブラシ５をウェハＷの表面の少なくとも中心から周縁付近まで移動させるようになっている。また，アーム３７の回動により，洗浄ブラシ５をカップ６内に位置するウェハＷの表面の上方からカップ６の外側に位置する洗浄ブラシ洗浄装置７の上方まで移動させるようになっている。
【００３１】
また，アーム３７の基端には，アーム３７を垂直方向に昇降させるアーム昇降機構３９が設けられている。アーム３７の昇降により，洗浄ブラシ保持軸３５，洗浄ブラシ保持体３６及び洗浄ブラシ５がアーム３７と一体的に昇降する。即ち，アーム３７の昇降により，洗浄ブラシ５をウェハＷの表面に近接する位置とウェハＷの表面から離隔する位置との間で昇降させるようになっている。また，アーム３７の昇降により，洗浄ブラシ５を洗浄ブラシ洗浄装置７内の洗浄が施される位置と，洗浄ブラシ洗浄装置７上方に退避させる位置との間で昇降させるようになっている。
【００３２】
さらに，図示はしないが，アーム３７の内部には，洗浄ブラシ保持軸３５を回転させる洗浄ブラシ回転駆動機構が備えられている。この洗浄ブラシ回転駆動機構の駆動により，洗浄ブラシ保持軸３５の回転中心軸を中心として，洗浄ブラシ保持体３６と洗浄ブラシ５を洗浄ブラシ保持軸３５と一体的に回転させることができる。
【００３３】
図３において，洗浄ブラシ５の右側は縦断面図を，左側は立面図を示している。図３及び図４に示すように，洗浄ブラシ５は，円柱状に形成された円柱状洗浄本体４０と，円柱状洗浄本体４０の外周面から隙間を空けて外側に離隔した位置に設けられた４つのカーテン状洗浄体４１とを備えている。円柱状洗浄本体４０とカーテン状洗浄体４１は，洗浄体支持部材４２の下部に取り付けられている。このように，洗浄ブラシ５は，円柱状洗浄本体４０，４つのカーテン状洗浄体４１，洗浄体支持部材４２によって構成されている。
【００３４】
円柱状洗浄本体４０は，例えばＰＶＡ（ポリビニルアルコール）のような合成樹脂を材質としたスポンジブラシである。円柱状洗浄本体４０は，上部が洗浄体支持部材４２の下部に装着され，底面が水平になるように支持され，この底面をウェハＷの表面に対して接触させるようになっている。また，図３に示すように，円柱状洗浄本体４０の底面の外周端部には，外側に凸になるように丸み部４３が形成されている。丸み部４３を形成することで，ウェハＷの表面にノズル３から供給された処理液が円柱状洗浄本体４０の回転によりウェハＷの表面から飛ばされる現象を抑制し，丸み部４３とウェハＷの表面との間に処理液の液膜を形成することができる。この場合，円柱状洗浄本体４０の回転によってウェハＷの表面からこすり取った塵埃等の異物を処理液中に浮かせ，処理液と共に洗い流して除去することができる。
【００３５】
図５は，カーテン状洗浄体４１の立面図である。各カーテン状洗浄体４１は，例えばＰＵ（ポリウレタン）のような変形性に富んだ材質で形成されたスポンジブラシである。図５に示すように，各カーテン状洗浄体４１は，略長方形の薄板状に形成されている。薄いＰＵスポンジである各カーテン状洗浄体４１は，柔らかく，変形させやすい。カーテン状洗浄体４１の下面の両側には，面取り部４６がそれぞれ形成されている。
【００３６】
また，図３及び図４に示すように，各カーテン状洗浄体４１は，円柱状洗浄本体４０の外周面から所定の間隔を空けるように，曲面状に変形させられた状態で，円柱状洗浄本体４０の外側に設けられる。カーテン状洗浄体４１の上部は洗浄体支持部材４２の外周面下部に固定され，円筒面状の側面部分は円柱状洗浄本体４０の底面の高さまでカーテン状に垂れ下がり，両側に面取り部４６が形成された下面が略水平面内で円弧状になるように支持される。この下面側をウェハＷの表面に対して接触させるようになっている。
【００３７】
４つのカーテン状洗浄体４１は，隣り合うカーテン状洗浄体４１の側面同士の間にそれぞれ隙間を空けた状態で，円筒状に並べて設けられており，４つのカーテン状洗浄体４１によって円柱状洗浄本体４０の外周面を，隙間を空けて包囲するように配置されている。即ち，４つのカーテン状洗浄体４１の内側に円柱状洗浄本体４０が配置された状態となっている。
【００３８】
洗浄ブラシ５を回転させると，円柱状洗浄本体４０の中心軸を中心として，円柱状洗浄本体４０及び４つのカーテン状洗浄体４１が一体的に回転する。即ち，円柱状洗浄本体４０の外側で４つのカーテン状洗浄体４１も一緒に回転する状態となる。洗浄ブラシ５を回転させながら，円柱状洗浄本体４０の底面と４つのカーテン状洗浄体４１の下面をウェハＷの表面に接触させることによって，ウェハＷの表面をスクラブ洗浄することができる。
【００３９】
なお，隣り合うカーテン状洗浄体４１同士の間には，隙間が形成されているため，円柱状洗浄本体４０によってこすり取った異物や，円柱状洗浄本体４０の周囲の処理液を，カーテン状洗浄体４１同士の間の隙間を通して外側に排出することができる。従って，カーテン状洗浄体４１と円柱状洗浄本体４０との間に異物や処理液が溜まることを防止できる。
【００４０】
また，各カーテン状洗浄体４１の下面の両側，即ち，洗浄ブラシ５を回転させたときのカーテン状洗浄体４１の進行方向において，各カーテン状洗浄体４１の下面の前側及び後側となる部分には，面取り部４６がそれぞれ形成されている。従って，カーテン状洗浄体４１の回転によりウェハＷの表面から処理液が飛ばされる現象を抑制し，面取り部４６とウェハＷの表面との間に処理液の液膜を形成することができる。この場合，カーテン状洗浄体４１の回転によってウェハＷの表面からこすり取った塵埃等の異物を処理液中に浮かせ，処理液と共に洗い流して除去することができる。また，面取り部４６を形成することにより，カーテン洗浄体４１の下部が縦腕１５の上部に接触したときに引っ掛かることが無く，カーテン洗浄体４１を内側に円滑に変形させることができる。
【００４１】
図１に示すように，ウェハＷを保持するスピンチャック２によってウェハＷを回転させながら，ウェハＷの表面の少なくとも中心から周縁付近まで，洗浄ブラシ５を接触させながら移動させることにより，ウェハＷの表面の中心から周縁付近までスクラブ洗浄することができる。
【００４２】
ここで，スピンチャック２に保持されたウェハＷの周縁の上方には，前述のように，保持部材１３の上斜面２０が張り出すようにそれぞれ配置されている。スピンチャック２によってウェハＷを回転させると，ウェハＷの周縁で３個の保持部材１３が周回する状態となる。即ち，ウェハＷの周縁近傍の上方で，縦腕１５の上斜面２０が形成された上部が周回する状態となる。周回する縦腕１５の上部に変形性に乏しいブラシが接触すると，接触の衝撃でブラシが破損したり，保持部材１３が破損する虞がある。さらに，ブラシに押されることによって保持部材１３がウェハＷの周縁から外れたり，保持部材１３の保持力が弱くなり，スピンチャック２の保持が不安定になりウェハＷがスピンチャック２から脱落する危険がある。
【００４３】
ところで，円柱状洗浄本体４０の周囲には，柔らかいカーテン状洗浄体４１が備えられている。従って，円柱状洗浄本体４０が縦腕１５の上部に接触する虞が無く，円柱状洗浄本体４０が破損することを防止できる。図３に示すように，カーテン状洗浄体４１のカーテン状に垂下する部分，即ち，洗浄体支持部材４２に固定された上部より下の変形可能な部分は，ウェハＷの表面から縦腕１５の上端までの高さより高く形成されている。カーテン状洗浄体４１は変形しやすく，縦腕１５の上部に接触しても破損することは無く，縦腕１５の上部に押されて円柱状洗浄本体４０の位置する内側に向かって移動したり，内側に凸になるように変形する。また，カーテン状洗浄体４１が縦腕１５の上部に接触しても，縦腕１５の上部に衝撃を与えない。即ち，変形可能なカーテン状洗浄体４１を円柱状洗浄本体４０の周囲に備えることで，洗浄ブラシ５が縦腕１５の上部に近接したとき，円柱状洗浄本体４０の破損や，縦腕１５の上部の破損や，ウェハＷがスピンチャック２から脱落することを防止できる。
【００４４】
なお，円柱状洗浄本体４０とカーテン状洗浄体４１との間には，所定の隙間が設けられているため，カーテン状洗浄体４１が内側に移動したり，内側に向かって凸になるように変形しても，カーテン状洗浄体４１が円柱状洗浄本体４０に接触しないようになっている。従って，円柱状洗浄本体４０がカーテン状洗浄体４１と接触して破損することを防止できる。カーテン状洗浄体４１が内側に変形できる距離だけ，円柱状洗浄本体４０をさらに縦腕１５の上部に近い位置まで接触させることができる。
【００４５】
カーテン状洗浄体４１は４つに分割されているので，カーテン状洗浄体４１が破損したり，摩耗した場合は，破損又は摩耗したカーテン状洗浄体４１のみを個別に交換してよい。他のカーテン状洗浄体４１や円柱状洗浄本体４０を交換する必要は無く，カーテン状洗浄体４１や円柱状洗浄本体４０を長く使用することができる。
【００４６】
図６において，洗浄体支持部材４２の右側は縦断面図を，左側は立面図を示している。図６に示すように，洗浄体支持部材４２の中央部には，洗浄体支持部材４２の上面から下面まで貫通するように主連通孔５０が形成されている。さらに，洗浄体支持部材４２には，主連通孔５０の途中から洗浄体支持部材４２の下面に貫通する副連通孔５１が，主連通孔５０を囲むように複数箇所に形成されている。各副連通孔５１は，主連通孔５０の途中に開口し，下に向かうほど外側に向かうように傾斜して設けられている。さらに，洗浄体支持部材４２の上部には，洗浄ブラシ保持体３６の下部に螺合させるネジ部５２が形成されている。
【００４７】
図３に示すように，円柱状洗浄本体４０は，上面によって主連通孔５０の下側の開口を塞ぐように取り付けられている。各副連通孔５１は，円柱状洗浄本体４０の外周面とカーテン状洗浄体４１の内側の面との間に開口している。
【００４８】
図３に示すように，洗浄ブラシ保持体３６は，洗浄ブラシ保持軸３５の下端に固定される軸部５５と，軸部５５の周囲を囲むように形成された受け皿５６とを備えている。洗浄ブラシ保持体３６の下面には，洗浄体支持部材４２のネジ部５２を螺合させるネジ部５６が形成されている。洗浄ブラシ保持体３６のネジ部５６と洗浄体支持部材４２のネジ部５２とを螺合させることにより，洗浄ブラシ５を洗浄ブラシ保持体３６に固定するようになっている。
【００４９】
また，受け皿５６の内部に洗浄液を供給する図示しない洗浄液供給ノズルが設けられている。この洗浄液は，洗浄ブラシ５を清浄にするための液である。受け皿５６の底部には，連通孔５７が形成されている。洗浄ブラシ保持体３６のネジ部５６と洗浄体支持部材４２のネジ部５２とを螺合させた状態では，連通孔５７が洗浄体支持部材４２の主連通孔５０に連通するようになっている。
【００５０】
図１に示すように，カップ６から外側に離隔した位置には，洗浄ブラシ５を洗浄する洗浄ブラシ洗浄装置７が配設されている。洗浄ブラシ洗浄装置７には，洗浄ブラシ洗浄装置７内に洗浄液を供給する図示しない洗浄液供給口が設けられており，洗浄ブラシ５に向かって洗浄液を吐出するようになっている。洗浄ブラシ洗浄装置７で洗浄する際は，洗浄ブラシ洗浄装置７の内部に洗浄ブラシ５を下降させ，洗浄ブラシ洗浄装置７の内部に配置した洗浄ブラシ５に，図示しない洗浄液供給口から洗浄液を供給する。さらに，受け皿５６の内部に洗浄液を供給する図示しない洗浄液供給ノズルからも洗浄液を吐出し，円柱状洗浄本体４０やカーテン状洗浄体４１に洗浄液を通過させて洗浄する。洗浄ブラシ５を洗浄することにより，洗浄ブラシ５からウェハＷに塵埃等の異物が再付着することを防止でき，ウェハＷから塵埃等を確実に除去することができる。
【００５１】
洗浄ブラシ洗浄装置７内に移動させた洗浄ブラシ５において，図示しない洗浄液供給ノズルから受け皿５６に洗浄液を供給すると，洗浄液は図３に示す連通孔５７から主連通孔５０に流入し，円柱状洗浄本体４０の上部から内部に浸透し，円柱状洗浄本体４０の表面から滲み出て，円柱状洗浄本体４０の外側に排出される。これにより，円柱状洗浄本体４０の外周面や底面に付着した塵埃等を効果的に洗い落とすことができる。また，洗浄液が連通孔５７から主連通孔５０に流入し，さらに，複数の副連通孔５１にそれぞれ流入して，円柱状洗浄本体４０の外周面とカーテン状洗浄体４１の内側の面との間に，洗浄液が吐出される。この洗浄液は，副連通孔５１から斜め下方に，外側方向に吐出される。即ち，カーテン状洗浄体４１の内側の曲面に向かって吐出される。そして，円柱状洗浄本体４０の外周面とカーテン状洗浄体４１の内側の面との間から下方に排出され，あるいは，カーテン状洗浄体４１の内側から外側に浸透して，カーテン状洗浄体４１の表面から滲み出て，カーテン状洗浄体４１の外側に排出される。これにより，円柱状洗浄本体４０の外周面とカーテン状洗浄体４１の内側の面との間に付着した塵埃等を効果的に洗い出したり，カーテン状洗浄体４１の外側の曲面に付着した塵埃等を効果的に洗い落とすことができる。
【００５２】
図１に示すように，チャンバー８には，開口５９が設けられている。開口５９は，図示しないシャッターによって閉じることができる。シャッターを閉じると，チャンバー８内部を密閉状態にすることができる。
【００５３】
次に，上記のように構成された基板洗浄装置１によってウェハＷを洗浄処理する工程について説明する。先ず，図示しない搬送アームによってウェハＷを水平な姿勢で保持し，搬送アームを水平方向に移動させて，基板洗浄装置１のチャンバー８の開口５９からチャンバー８内部にウェハＷを搬入する。このとき，スピンチャック２は，３個の保持部材１３の縦腕１５上部を互いに開き，各下斜面２１を水平にした状態で待機させておく。ウェハＷは，搬送アームによって３個の縦腕１５の上方まで略水平に移動させ，下降させてウェハＷの裏面周縁３箇所を３個の下斜面２１に載せる。そして，搬送アームをチャンバー８内部から退出させ，開口５９を閉じ，チャンバー８内部を密閉状態にする。一方，３個の縦腕１５を互いに閉じ，ウェハＷの周縁３箇所に上斜面２０と下斜面２１との間に形成された内角部分をそれぞれ当接させる。こうして，スピンチャック２にウェハＷを水平な姿勢で保持させる。
【００５４】
先ず，スピンチャック２によってウェハＷを回転させながら，ウェハＷの中心近くの所定位置の表面に，ノズル３から処理液を供給する。すると，ウェハＷの表面全体に遠心力により処理液がむらなく供給される。
【００５５】
次に，アーム３７を反時計方向に回動させ，洗浄ブラシ５をウェハＷから離隔した待機位置からウェハＷの表面の中心上方に移動させる。そして，洗浄ブラシ５を回転させながら，洗浄ブラシ５を下降させ，ウェハＷの表面の中心に，円柱状洗浄本体４０及びカーテン状洗浄体４１を接触させる。そして，アーム３７を時計方向に回動させ，回転している洗浄ブラシ５をウェハＷに接触させたまま，回転しているウェハＷの中心から，保持部材１３に接触しないウェハＷの周縁付近まで移動させる。こうして，ウェハＷの表面をスクラブ洗浄する。
【００５６】
ここで，スピンチャック２に保持され回転しているウェハＷの周縁は，３個の縦腕１５に保持されており，各縦腕１５の上部がウェハＷの周縁よりも上側に入り込んだ状態となっているが，円柱状洗浄本体４０の周囲にはカーテン状洗浄体４１が備えられているので，洗浄ブラシ５をウェハＷの周縁付近まで移動させた際に，円柱状洗浄本体４０が縦腕１５の上部に接触する虞はなく，円柱状洗浄本体４０が破損することを防止できる。カーテン状洗浄体４１が縦腕１５の上部に接触しても，カーテン状洗浄体４１は柔らかいので内側に凸に変形し，縦腕１５の上部に衝撃を与えない。即ち，縦腕１５の上部やカーテン状洗浄体４１が破損する危険が無い。例えば，アーム回動機構３８の駆動に誤差が生じ，所定の位置よりウェハＷの周縁側に洗浄ブラシ５が移動して縦腕１５の上部に近接することが考えられるが，そのような場合でも，保持部材１３や洗浄ブラシ５が破損する危険が少ない。即ち，カーテン状洗浄体４１を備えた洗浄ブラシ５は，従来の洗浄ブラシよりも安全性が高く，従来の洗浄ブラシよりも突出部２０に近い位置に接触させることができる。かかる洗浄ブラシ５を備えた基板洗浄装置１は，従来のものよりもウェハＷの周縁に近い位置までスクラブ洗浄することができる。
【００５７】
また，カーテン状洗浄体４１が縦腕１５の上部に接触すると，カーテン状洗浄体４１は縦腕１５の上部の形状に沿って変形し，上斜面２０の下に侵入する。即ち，上斜面２０の上部によって，カーテン状洗浄体４１の側面が押されて内側に向かって凸に突出し，内側に凸に変形した部分のうち下の部分は，上斜面２０に沿って外側に向かうように変形する。こうして，上斜面２０とウェハＷの表面との間にカーテン状洗浄体４１が侵入し，上斜面２０の下になっているウェハＷの周縁付近の表面に，カーテン状洗浄体４１の下部が接触する。従って，上斜面２０の下に位置するウェハＷの表面周縁付近を，カーテン状洗浄体４１の下部によってスクラブ洗浄することができる。さらに，カーテン状洗浄体４１が上斜面２０に接触すると，上斜面２０に付着した塵埃等を除去して清浄にすることもできる。
【００５８】
スクラブ洗浄が終了したら，洗浄ブラシ５をウェハＷから上昇させ，アーム３７を反時計方向に回動させて洗浄ブラシ５を待機位置に移動させ，スピンチャック２を停止させ，ウェハＷを静止させる。３個の縦腕１５を互いに開き，ウェハＷの周縁３箇所から上斜面２０と下斜面２１との間に形成された内角部分をそれぞれ離隔させ，３個の下斜面２１によってウェハＷを水平な姿勢で支持させる。そして，チャンバー８の開口５９からチャンバー８内部に図示しない搬送アームを進入させ，３個の下斜面２１に支持されたウェハＷを搬送アームによって保持し，ウェハＷを保持した搬送アームを上昇させて３個の下斜面２１から離隔させる。こうして，スピンチャック２から搬送アームにウェハＷを受け渡す。その後，ウェハＷを保持した搬送アームを水平移動させて開口５９から退出させ，ウェハＷをチャンバー８内部から搬出する。
【００５９】
かかる基板洗浄装置１によれば，円柱状洗浄本体４０の外側に柔らかいカーテン状洗浄体４１が設けられているため，保持部材１３の縦腕１５の上部とカーテン状洗浄体４１とが接触したとき，カーテン状洗浄体４１が内側に押されて変形することで，接触したときの衝撃を吸収できる。従って，保持部材１３の縦腕１５の上部が破損することを防止できる。円柱状洗浄本体４０とカーテン状洗浄体４１との間には隙間が形成されているので，カーテン状洗浄体４１が円柱状洗浄本体４０に接触することを防止できる。従って，円柱状洗浄本体４０が破損することを防止できる。以上のように，保持部材１３の縦腕１５の上部とカーテン状洗浄体４１とが接触しても，カーテン状洗浄体４１，円柱状洗浄本体４０，保持部材１３が破損しない。従って，従来よりも縦腕１５の上部に近い位置まで円柱状洗浄本体４０を移動させ，ウェハＷの周縁に近い位置までスクラブ洗浄を行うことができる。
【００６０】
さらに，カーテン状洗浄体４１は，保持部材１３の縦腕１５の上部に相対的に押されると，カーテン状洗浄体４１の下部が外側に向かって突出するように変形するので，上斜面２０の下にカーテン状洗浄体４１を侵入させ，上斜面２０や，上斜面２０の下になっているウェハの表面周縁をスクラブ洗浄することができる。
【００６１】
以上，本発明の好適な実施の形態の一例を示したが，本発明はここで説明した形態に限定されないことは勿論であり，適宜変更実施することが可能である。例えば，本実施の形態においては，半導体ウェハを基板として説明したが，その他，ＬＣＤ基板用ガラス等の基板，ＣＤ基板，プリント基板，セラミック基板など，種々のものであっても良い。
【００６２】
スピンチャック２の保持部材１３は，圧縮ばね２５の力によってウェハＷを保持するものとして説明したが，かかる構成に限定されず，その他の種々の構成によってウェハＷの周縁を保持するものであってもよい。例えば，縦腕１５の下部に錘を設け，遠心力によって縦腕１５の上部をウェハＷの周縁に向かって移動させ，当接させるものであっても良い。
【００６３】
洗浄ブラシ５をウェハＷの表面の少なくとも中心から周縁付近まで移動させる構成は，アーム３７を回動させることにより洗浄ブラシ５を回動させるものに限定されない。例えば，アーム３７を水平面内で平行移動させる駆動機構を備え，この駆動機構によりアーム３７をウェハＷの上方で平行移動させることにより，洗浄ブラシ５をウェハＷの表面の少なくとも中心から周縁付近まで直線移動させ，また，洗浄ブラシ５をカップ６内に位置するウェハＷの表面の上方からカップ６の外側に位置する洗浄ブラシ洗浄装置の上方まで直線移動させるようにしても良い。
【００６４】
洗浄ブラシ５は，ウェハＷの表面に接触させるものとして説明したが，勿論，ウェハＷの裏面に接触させてスクラブ洗浄しても良い。この場合，ウェハＷの裏面はパターンへの影響を配慮する必要が無いので，円柱状洗浄本体４０を刷毛状の洗浄体にしても良い。
【００６５】
洗浄ブラシ５に取り付けるカーテン状洗浄体４１の個数は４個に限定されない。また，円柱状洗浄本体４０やカーテン状洗浄体４１などの材質は，実施の形態に示したものに限定されない。例えば，円柱状洗浄本体４０の材質はＰＶＡとして説明したが，ウレタンであっても良く，カーテン状洗浄体４１の材質はウレタンとして説明したが，ＰＶＡであっても良い。
【００６６】
次に，第２の実施の形態にかかる基板洗浄装置に備えた洗浄ブラシ６０の構成について説明する。この第２の実施の形態にかかる基板洗浄装置は，例えば，ウェハＷの半導体デバイスが形成されない裏面をスクラブ洗浄する工程に利用される装置であり，洗浄ブラシ６０の構成が異なる他は，実施の形態に示した基板洗浄装置１とほぼ同様の構成を有する。ウェハＷは裏面を上面とし表面を下面とした状態で，スピンチャック２に保持される。
【００６７】
図７において，洗浄ブラシ６０の右側は縦断面図を，左側は立面図を示している。洗浄ブラシ６０は，略円柱状に形成された円柱状洗浄本体６１と，円柱状洗浄本体６１の外周面より外側に設けられた刷毛状の１２個の刷毛状洗浄体６２とを備えている。円柱状洗浄本体６１と刷毛状洗浄体６２は，洗浄体支持部材６３の下部に取り付けられている。このように，洗浄ブラシ６０は，円柱状洗浄本体６１，１２個の刷毛状洗浄体６２，洗浄体支持部材６３によって構成されている。
【００６８】
円柱状洗浄本体６１は，実施の形態に示した円柱状洗浄本体４０とほぼ同様の構成を有するので，説明を省略する。洗浄体支持部材６３は，刷毛状洗浄体６２を支持する部分の形状が異なる他は，実施の形態に示した刷毛状洗浄体６２とほぼ同様の構成を有するので，説明を省略する。また，洗浄ブラシ６０は，実施の形態に示した洗浄ブラシ保持体３６に支持される。
【００６９】
図８に示すように，１２個の刷毛状洗浄体６２は，隣り合う刷毛状洗浄体６２同士の間に，互いに等間隔の隙間を空けた状態で，円筒状に並べて設けられており，１２個の刷毛状洗浄体６２によって円柱状洗浄本体６１の外周面を包囲するように配置されている。即ち，スポンジ状の円柱状洗浄本体６１から隙間を空けて離隔した位置に１２個の刷毛状洗浄体６２が配置された状態となっている。
【００７０】
各刷毛状洗浄体６２は，例えば合成樹脂繊維等の細い毛を多数本束ね，円柱状にした刷毛状のブラシであり，洗浄体支持部材６３の下面にそれぞれ植毛されている。刷毛状洗浄体６２の上部は洗浄体支持部材６３の下面に固定され，固定された部分からウェハＷの裏面に向かって略垂直に垂下している。
【００７１】
洗浄ブラシ６０を回転させると，円柱状洗浄本体６１の中心軸を中心として，円柱状洗浄本体６１及び１２個の刷毛状洗浄体６２が一体的に回転する。即ち，円柱状洗浄本体６１の外側で１２個の刷毛状洗浄体６２が回転する状態となる。洗浄ブラシ５を回転させながら，円柱状洗浄本体６１の底面と１２個の刷毛状洗浄体６２の下端をウェハＷの裏面に接触させることによって，ウェハＷの裏面をスクラブ洗浄することができる。
【００７２】
刷毛状洗浄体６２の刷毛状の部分，即ち，洗浄体支持部材６３に固定された上部より下の部分は，ウェハＷの裏面から縦腕１５の上端までの高さより高く形成されている。刷毛状洗浄体６２は変形しやすく，縦腕１５の上部に接触しても破損することは無く，縦腕１５の上部に押されて円柱状洗浄本体６１の位置する内側に向かって移動したり，内側に凸になるように変形する。また，刷毛状洗浄体６２が縦腕１５の上部に接触しても，縦腕１５の上部に衝撃を与えない。即ち，刷毛状洗浄体６２を円柱状洗浄本体６１の周囲に備えることで，円柱状洗浄本体６１が縦腕１５の上部に接触して破損することを防止でき，さらに，縦腕１５の上部の破損や，ウェハＷがスピンチャック２から脱落することを防止できる。円柱状洗浄本体６１と刷毛状洗浄体６２との間には，所定の隙間が設けられているため，刷毛状洗浄体６２が内側に移動したり，内側に向かって凸になるように変形しても，刷毛状洗浄体６２が円柱状洗浄本体６１に接触しないようになっている。従って，円柱状洗浄本体６１が刷毛状洗浄体６２と接触して破損することを防止できる。即ち，刷毛状洗浄体６２を備えた洗浄ブラシ６０は，従来の洗浄ブラシよりも上斜面２０に近い位置に接触させても安全である。かかる洗浄ブラシ５を備えた基板洗浄装置１は，従来のものよりもウェハＷの周縁に近い位置までスクラブ洗浄することができる。
【００７３】
また，刷毛状洗浄体６２の下部が保持部材１３の下方，即ち，上斜面２０とウェハＷの裏面との間に侵入し，ウェハＷの裏面において上斜面２０の下方に位置する部分を，刷毛状洗浄体６２の下端によって，スクラブ洗浄することができる。さらに，刷毛状洗浄体６２の側部が上斜面２０に接触すると，上斜面２０に付着した塵埃等を除去することもできる。
【００７４】
なお，隣り合う刷毛状洗浄体６２同士の間には，隙間が形成されているため，円柱状洗浄本体６１によってこすり取った塵埃等の異物や，円柱状洗浄本体６１の周囲の処理液を，刷毛状洗浄体６２同士の間の隙間を通して外側に排出することができる。従って，刷毛状洗浄体６２と円柱状洗浄本体６１との間に塵埃等の異物や処理液が溜まることを防止できる。
【００７５】
かかる第２の実施の形態においては，円柱状洗浄本体６１は，刷毛状の洗浄体にしても良い。刷毛状洗浄体６２の数は１２個に限定されない。洗浄ブラシ６０は，ウェハＷの裏面に接触させるものとして説明したが，勿論，ウェハＷの表面に接触させてスクラブ洗浄しても良い。この場合，刷毛状洗浄体６２の材質は，ウェハＷの裏面に接触させるものより柔軟なものとして，パターンに傷を付けるなどの悪影響を与えないように配慮することが好ましい。
【００７６】
次に，本発明の第３の実施の形態にかかる基板洗浄装置に備えた洗浄ブラシ６５の構成について説明する。この第３の実施の形態にかかる基板洗浄装置は，例えばウェハＷの裏面のスクラブ洗浄に利用される装置であり，洗浄ブラシ６５の構成が異なる他は，実施の形態に示した基板洗浄装置１とほぼ同様の構成を有する。ウェハＷは裏面を上面とし表面を下面とした状態で，スピンチャック２に保持される。
【００７７】
図９において，洗浄ブラシ６５の右側は縦断面図を，左側は立面図を示している。洗浄ブラシ６５は，４個の洗浄体ブロック６６からなるスポンジ状洗浄本体６７と，洗浄体ブロック６６同士の間に外側に傾斜するように設けられた，第２の洗浄体としての８個の刷毛状洗浄体６８とを備えている。４個の洗浄体ブロック６６と８個の刷毛状洗浄体６８は，洗浄体支持部材６９の下部に取り付けられている。このように，洗浄ブラシ６５は，４個のスポンジ状洗浄本体６７，８個の刷毛状洗浄体６８，洗浄体支持部材６９によって構成されている。
【００７８】
洗浄体支持部材６９は，各刷毛状洗浄体６８，スポンジ状洗浄本体６７を支持する部分の形状が異なる他は，実施の形態に示した洗浄体支持部材４２とほぼ同様の構成を有するので，説明を省略する。また，洗浄ブラシ６５は，実施の形態に示した洗浄ブラシ保持体３６に支持される。
【００７９】
スポンジ状洗浄本体６７は，例えばＰＶＡ（ポリビニルアルコール）のような合成樹脂を材質としたスポンジブラシであり，円弧状の４分割された洗浄体ブロック６６をリング状に配置した形状をしている。スポンジ状洗浄本体６７の外周面は，略円筒状に形成されている。スポンジ状洗浄本体６７の中央部には，図１０に示すように，略円形状の空間が形成されている。洗浄体支持部材６９の中央に形成された主連通孔５０は，このスポンジ状洗浄本体６７中央部の空間の上部に開口している。スポンジ状洗浄本体６７の底面，即ち，ウェハＷに接触させる接触面は，リング状に形成されている。
【００８０】
各洗浄体ブロック６６は，スポンジ状洗浄本体６７の外周面の一部を構成する４分割された円筒面状の外周面と，スポンジ状洗浄本体６７中央部の内周面の一部を構成する４分割された円筒面状の内周面と，鉛直に設けられ互いに直交する２個の側面と，スポンジ状洗浄本体６７の略リング状の底面の一部を構成する約９０°の角度をなす扇形状の底面を有する。これら４個の洗浄体ブロック６６は，スポンジ状洗浄本体６７の中央部を中心として，側面同士の間に隙間を設けて隣り合わせるようにして，リング状に並ぶように配置されている。また，図９に示すように，各洗浄体ブロック６６は，洗浄体支持部材６９の周縁から，洗浄体支持部材６９の中央に形成された主連通孔５０の周縁までの間の上面に，上部が固定され，底面が略水平になるように支持されている。
【００８１】
図１０に示すように，隣り合う洗浄体ブロック６６の側面同士の間には，隙間がそれぞれ設けられている。各洗浄体ブロック６６同士の間に設けた隙間は，スポンジ状洗浄本体６７中央部の空間からスポンジ状洗浄本体６７外周面に向かって放射するように形成されている。また，隣り合う隙間同士の間の角度がそれぞれ約９０°になるように，即ち，隙間が十字状に放射するように形成されている。
【００８２】
各刷毛状洗浄体６８は，例えば合成樹脂繊維等の細い毛を多数本束ねた刷毛状のブラシであり，洗浄体ブロック６６同士の間に設けた隙間にそれぞれ配置されている。図９に示すように，各刷毛状洗浄体６８の上部は洗浄体支持部材６９の下面に固定され，固定された部分から接触させる側に向かうほど外側に向かうように，傾斜した姿勢で支持されている。各刷毛状洗浄体６８は，細い毛を円柱状に束ねた形状であるが，下端は，ウェハＷの裏面に接触するように，刷毛状洗浄体６８が傾斜する方向に対して斜めに揃えられている。
【００８３】
図１０に示すように，洗浄ブラシ６５をウェハＷの裏面に接触させる側からみると，４個の洗浄体ブロック６６の間に十字状の隙間が形成されており，２個の洗浄体ブロック６６同士の間の隙間に，それぞれ２つの刷毛状洗浄体６８が中央側と外周側に並ぶように配置されている。即ち，８個の刷毛状洗浄体６８が十字状に並んだ状態となっている。
【００８４】
また，８個の刷毛状洗浄体６８のうち，外周側に配置された４個の刷毛状洗浄体６８の下部は，スポンジ状洗浄本体６７の外周面よりも外側に突出するように傾斜させて配置されている。即ち，スポンジ状洗浄本体６７の底面の外側に，刷毛状洗浄体６８の端部が４箇所に突設された状態となっている。洗浄ブラシ６５をウェハＷの裏面に当接させる側からみると，外側の刷毛状洗浄体６８の下端が，洗浄ブラシ６５の中央を中心として互いに約９０°の角度をなす位置で，スポンジ状洗浄本体６７の底面周縁より外側に突出するように配置されている。
【００８５】
図９に示すように，外周側の４個の刷毛状洗浄体６８の下部は，スポンジ状洗浄本体６７の外側に斜めに突出しており，洗浄ブラシ６５を縦腕１５の上部に近づけても，上斜面２０に接触しない角度になっている。従って，刷毛状洗浄体６８の下部は，縦腕１５の上部とウェハＷの裏面との間に侵入して，ウェハＷの裏面において上斜面２０の下方に位置する部分に接触することができる。
【００８６】
洗浄ブラシ６５を回転させると，洗浄ブラシ６５の中心軸を中心として，４個の洗浄体ブロック６６及び８個の刷毛状洗浄体６８が一体的に回転する。そして，４個の洗浄体ブロック６６の外側で４個の刷毛状洗浄体６８の下部が回転する状態となる。洗浄ブラシ６５を回転させながら，４個の洗浄体ブロック６６の底面と８個の刷毛状洗浄体６８の下端とをウェハＷの裏面にそれぞれ接触させることによって，ウェハＷの裏面をスクラブ洗浄することができる。
【００８７】
洗浄ブラシ６５によるウェハＷ裏面のスクラブ洗浄において，洗浄ブラシ６５は，スポンジ状洗浄本体６７の外周面が縦腕１５の上部に接触しない位置まで，ウェハＷの裏面周縁付近に移動させるようにする。ウェハＷの裏面周縁付近に移動したとき，刷毛状洗浄体６８の下部は，縦腕１５の上部とウェハＷの裏面との間に侵入するので，ウェハＷの裏面において上斜面２０の下方に位置する部分を刷毛状洗浄体６８の下端によってスクラブ洗浄できる。かかる洗浄ブラシ６５を備えた基板洗浄装置は，従来のものよりもウェハＷの周縁に近い位置までスクラブ洗浄することができる。
【００８８】
なお，刷毛状洗浄体６８と洗浄体ブロック６６の間や，刷毛状洗浄体６８同士の間には，隙間が形成されているため，これらの隙間から塵埃等の異物や処理液を洗浄ブラシ６５の外側に排出でき，隙間に塵埃等の異物や処理液が溜まることを防止できる。
【００８９】
かかる第３の実施の形態においては，洗浄体ブロック６６の数は４個に限定されず，スポンジ状洗浄本体６７は他の個数の洗浄体ブロックに分割されていてもよい。刷毛状洗浄体６８の数は８個に限定されない。洗浄ブラシ６５は，ウェハＷの裏面に接触させるものとして説明したが，勿論，ウェハＷの表面に接触させてスクラブ洗浄しても良い。この場合，刷毛状洗浄体６８の材質は，ウェハＷの裏面に接触させるものより柔軟なものとして，パターンに傷を付けるなどの悪影響を与えないように配慮することが好ましい。なお，刷毛状洗浄体６８を変形しやすい材質にすれば，刷毛状洗浄体６８が上斜面２０に接触しても，衝撃を吸収でき，さらに安全である。
【００９０】
次に，第４の実施の形態にかかる基板洗浄装置に備えた洗浄ブラシ７０の構成について説明する。この第４の実施の形態にかかる基板洗浄装置は，例えばウェハＷの裏面のスクラブ洗浄に利用される装置であり，洗浄ブラシ７０の構成が異なる他は，実施の形態に示した基板洗浄装置１とほぼ同様の構成を有する。ウェハＷは裏面を上面とし表面を下面とした状態で，スピンチャック２に保持される。
【００９１】
図１１において，洗浄ブラシ７０の右側は縦断面図を，左側は立面図を示している。洗浄ブラシ７０は，外側に傾斜するように設けられた１２個の刷毛状洗浄体７１を備えている。１２個の刷毛状洗浄体７１は，洗浄体支持部材７２の下部に取り付けられている。このように，洗浄ブラシ７０は，１２個の刷毛状洗浄体７１と洗浄体支持部材７２によって構成されている。
【００９２】
洗浄体支持部材７２は，各刷毛状洗浄体７１を支持する部分の形状が異なる他は，実施の形態に示した洗浄体支持部材４２とほぼ同様の構成を有するので，説明を省略する。また，洗浄ブラシ７０は，実施の形態に示した洗浄ブラシ保持体３６に支持される。
【００９３】
図１２に示すように，１２個の刷毛状洗浄体７１は，洗浄ブラシ７０の中央部を中心として，放射状に並べて設けられており，隣り合う刷毛状洗浄体７１同士の間には，互いに等間隔に隙間が形成されている。
【００９４】
各刷毛状洗浄体７１は，例えば合成樹脂繊維等の細い毛を多数本束ねた刷毛状のブラシであり，洗浄体支持部材７２の下面にそれぞれ植毛されている。各刷毛状洗浄体７１の上部は洗浄体支持部材７２の下面に固定され，固定された部分から下に向かうほど外側に向かうように，傾斜した姿勢で支持されている。洗浄ブラシ７０をウェハＷの裏面に当接させる側からみると，１２個の刷毛状洗浄体７１は，洗浄ブラシ７０の中心から放射するように，隣り合う刷毛状洗浄体７１同士の間の角度がそれぞれ約３０°になるように向けられている。各刷毛状洗浄体７１は，細い毛を円柱状に束ねた形状であるが，下端は，ウェハＷの裏面に接触するように斜めに形成されている。
【００９５】
洗浄ブラシ７０を回転させると，洗浄ブラシ７０の中心軸を中心として，１２個の刷毛状洗浄体７１が回転する状態となる。洗浄ブラシ７０をウェハＷの裏面に近接させると，１２個の刷毛状洗浄体７１の下端がウェハＷの裏面にそれぞれ接触する。１２個の刷毛状洗浄体７１を回転させながらウェハＷの裏面に接触させることによって，ウェハＷの裏面をスクラブ洗浄することができる。
【００９６】
１２個の刷毛状洗浄体７１の下部は，外側に斜めに突出しており，洗浄ブラシ７０を縦腕１５の上部に近づけても，上斜面２０に接触しない角度になっている。従って，洗浄ブラシ７０をウェハＷの裏面周縁付近に移動させたとき，刷毛状洗浄体７１の下部が縦腕１５の上部の下方，即ち，上斜面２０とウェハＷの裏面との間に刷毛状洗浄体７１の下部が侵入し，ウェハＷの裏面において上斜面２０の下方に位置する部分を，刷毛状洗浄体７１の下端によって，スクラブ洗浄することができる。
【００９７】
かかる第４の実施の形態においては，刷毛状洗浄体７１の数は１２個に限定されない。洗浄ブラシ７０は，ウェハＷの裏面に接触させるものとして説明したが，勿論，ウェハＷの表面に接触させてスクラブ洗浄しても良い。この場合，刷毛状洗浄体７１の材質は，ウェハＷの裏面に接触させるものより柔軟なものとして，パターンに傷を付けるなどの悪影響を与えないように配慮することが好ましい。なお，刷毛状洗浄体７１を変形しやすい材質にすれば，刷毛状洗浄体７１が上斜面２０に接触しても，衝撃を吸収でき，さらに安全である。
【００９８】
【発明の効果】
洗浄ブラシに柔らかいカーテン状洗浄体や，刷毛状洗浄体を設けることにより，スピンチャックの保持部材に近接した位置まで，洗浄ブラシを移動させることができる。また，保持部材の下方に位置する部分に，カーテン状洗浄体や刷毛状洗浄体を接触させることができる。従って，ウェハの周縁付近までスクラブ洗浄を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明にかかる基板洗浄装置の概略斜視図である。
【図２】本発明にかかる基板洗浄装置内部の概略立面図である。
【図３】保持部材と洗浄ブラシの構成を示す説明図である。
【図４】洗浄ブラシをウェハに接触させる側から見た状態を示す説明図である。
【図５】カーテン状洗浄体の立面図である。
【図６】洗浄体支持部材の構成を示す説明図である。
【図７】第２の実施の形態にかかる洗浄ブラシの構成を示す説明図である。
【図８】第２の実施の形態にかかる洗浄ブラシをウェハに接触させる側から見た状態を示す説明図である。
【図９】第３の実施の形態にかかる洗浄ブラシの構成を示す説明図である。
【図１０】第３の実施の形態にかかる洗浄ブラシをウェハに接触させる側から見た状態を示す説明図である。
【図１１】第４の実施の形態にかかる洗浄ブラシの構成を示す説明図である。
【図１２】第４の実施の形態にかかる洗浄ブラシをウェハに接触させる側から見た状態を示す説明図である。
【符号の説明】
Ｗウェハ
１基板洗浄装置
２スピンチャック
５洗浄ブラシ
１３保持部材
１５縦腕
４０円柱状洗浄本体
４１カーテン状洗浄体

Claims

周縁を保持部材によって保持されて回転する基板の表面又は裏面に接触し，前記基板の少なくとも中心から周縁付近まで移動することにより，基板の表面又は裏面を洗浄する洗浄ブラシであって，
洗浄本体から隙間を空けて離隔した位置に，内側に向かって変形可能な洗浄体を備えることを特徴とする，洗浄ブラシ。
前記変形可能な洗浄体は，端部が外側に向かって突出するように変形することを特徴とする，請求項１に記載の洗浄ブラシ。
前記変形可能な洗浄体をカーテン状のスポンジで形成したことを特徴とする，請求項１又は２に記載の洗浄ブラシ。
前記変形可能な洗浄体を刷毛状に形成したことを特徴とする，請求項１又は２に記載の洗浄ブラシ。
周縁を保持部材によって保持されて回転する基板の表面又は裏面に接触し，前記基板の少なくとも中心から周縁付近まで移動することにより，基板の表面又は裏面を洗浄する洗浄ブラシであって，
洗浄本体の端部の外側に，第２の洗浄体を突設したことを特徴とする，洗浄ブラシ。
前記洗浄本体を複数の洗浄体ブロックによって構成し，
前記洗浄体ブロック同士の間に，第２の洗浄体を備え，
前記第２の洗浄体を，前記第２の洗浄体の端部側に向かうほど前記洗浄本体の外側に向かうように傾斜させて備えたことを特徴とする，請求項５に記載の洗浄ブラシ。
前記第２の洗浄体を刷毛状に形成したことを特徴とする，請求項５又は６に記載の洗浄ブラシ。
前記洗浄本体をスポンジで形成したことを特徴とする，請求項１〜７のいずれかに記載の洗浄ブラシ。
請求項１〜８のいずれかに記載の洗浄ブラシと，複数の保持部材によって基板の周縁を保持し，基板を回転させるスピンチャックとを備えた基板洗浄装置。