JP2021093427A - 基板洗浄装置および基板洗浄方法 - Google Patents
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Abstract
Description
図1は、本発明の一実施の形態に係る基板洗浄装置の構成を示す正面図である。図2は、図1の基板洗浄装置に用いられる下部スピンチャックおよびその周辺部材の構成を説明するための概略平面図である。図3は、図1の基板洗浄装置に用いられる上部スピンチャックの構成を説明するための概略平面図である。
図4は、本実施の形態に係る基板洗浄装置1の制御系統の構成を示すブロック図である。図4の制御部10は、CPU(中央演算処理装置)、RAM(ランダムアクセスメモリ)、ROM(リードオンリメモリ)および記憶装置を含む。RAMは、CPUの作業領域として用いられる。ROMは、システムプログラムを記憶する。記憶装置は、基板洗浄プログラムを記憶する。CPUが記憶装置に記憶された基板洗浄プログラムをRAM上で実行することにより基板洗浄装置1の各部の動作が制御される。
図5〜図7は、本実施の形態に係る基板洗浄装置1の洗浄動作の一例を示すフローチャートである。図8〜図15は、基板洗浄装置1による基板の洗浄動作を説明するための模式的正面図である。図8〜図15の動作は、図4の制御部10が図4に示される構成要素を制御することにより実行される。
本実施の形態に係る基板洗浄装置1および基板洗浄方法においては、基板Wの外周端部が上部スピンチャック600の複数のチャックピン615により保持された状態で、回転する基板Wの下面が下面洗浄ブラシ524および下面洗浄ノズル525を用いて洗浄される。次に、基板Wの下面中央部が下部スピンチャック400の吸着保持部430により保持された状態で、回転する基板Wの上面が上面洗浄ブラシ534および上面洗浄ノズル544を用いて洗浄されるとともに、基板Wの外周端部がベベルブラシ514を用いて洗浄される。それにより、基板Wの上面、下面および外周端部が洗浄される。
(5−1)上記実施の形態においては、基板Wの下面が下面洗浄ブラシ524および下面洗浄ノズル525を用いて洗浄されるが、本発明はこれに限定されない。基板Wの下面が下面洗浄ブラシ524または下面洗浄ノズル525のいずれか一方を用いて洗浄されてもよい。また、基板Wの下面の洗浄のために複数の液滴を吐出するスプレーノズルが用いられてもよい。スプレーノズルは、例えば、液体と気体を衝突させることにより複数の液滴を生成する二流体ノズルである。二流体ノズルには、液体として例えば純水が供給され、気体として窒素ガス等の不活性ガスが供給される。
以下、請求項の各構成要素と実施の形態の各構成要素との対応の例について説明するが、本発明は下記の例に限定されない。
Claims (13)
- 基板の外周端部を保持するとともに基板を鉛直軸の周りで回転させるように構成された第1の基板保持部と、
前記第1の基板保持部の下方に設けられ、基板の下面を吸着により保持するとともに基板を鉛直軸の周りで回転させるように構成された第2の基板保持部と、
前記第1の基板保持部により保持された基板の下面を洗浄する第1の洗浄具と、
前記第2の基板保持部により保持された基板の上面を洗浄する第2の洗浄具と、
前記第2の基板保持部により保持された基板の外周端部を洗浄する第3の洗浄具と、
前記第1の基板保持部により基板が保持および回転される状態で前記第1の洗浄具による基板の下面の洗浄が行われた後、前記第2の基板保持部により基板が保持および回転される状態で前記第2の洗浄具による基板の上面の洗浄および前記第3の洗浄具による基板の外周端部の洗浄が行われるように、前記第1の基板保持部、前記第2の基板保持部、前記第1の洗浄具、前記第2の洗浄具および前記第3の洗浄具を制御する制御部とを備える、基板洗浄装置。 - 前記制御部は、前記第2の洗浄具による基板の上面の洗浄と、前記第3の洗浄具による基板の外周端部の洗浄とが少なくとも部分的に重複した期間に行われるように、前記第2の基板保持部、前記第2の洗浄具および前記第3の洗浄具を制御する、請求項1に記載の基板洗浄装置。
- 前記第2の基板保持部の吸着面を洗浄する第4の洗浄具をさらに備え、
前記制御部は、前記第1の洗浄具による基板の下面の洗浄中または洗浄後に前記第2の基板保持部の前記吸着面が前記第4の洗浄具により洗浄されるように前記第4の洗浄具を制御する、請求項1または2に記載の基板洗浄装置。 - 前記第2の基板保持部は、前記吸着面を有するとともに鉛直軸の周りで回転する吸着保持部を有し、
前記第4の洗浄具は、前記第1の洗浄具による基板の下面の洗浄中または洗浄後に前記第2の基板保持部の前記吸着面に洗浄液を吐出する保持部洗浄用ノズルを含み、
前記制御部は、前記第1の洗浄具による基板の下面の洗浄中および洗浄後に、前記吸着保持部が回転されるように前記第2の基板保持部を制御する、請求項3記載の基板洗浄装置。 - 前記制御部は、前記保持部洗浄用ノズルから前記吸着面への洗浄液の吐出中に前記吸着保持部が第1の回転速度で回転され、前記保持部洗浄用ノズルから前記吸着面への洗浄液の吐出の停止後に前記吸着保持部が前記第1の回転速度よりも高い第2の回転速度で回転されるように前記第2の基板保持部を制御する、請求項4記載の基板洗浄装置。
- 前記保持部洗浄用ノズルから前記吸着面への洗浄液の吐出の停止後に前記吸着面に乾燥用の流体を吐出する乾燥用ノズルをさらに備えた、請求項4または5記載の基板洗浄装置。
- 前記第1の洗浄具は、前記第1の基板保持部により保持された基板の下面に第1の洗浄液を吐出する第1の洗浄液ノズルおよび前記第1の基板保持部により保持された基板の下面に接触可能に構成される第1の洗浄ブラシの少なくとも一方を含む、請求項1〜6記載の基板洗浄装置。
- 前記第2の洗浄具は、前記第2の基板保持部により保持された基板の上面に第2の洗浄液を吐出する第2の洗浄液ノズルおよび前記第2の基板保持部により保持された基板の上面に接触可能に構成される第2の洗浄ブラシの少なくとも一方を含む、請求項1〜7のいずれか一項に記載の基板洗浄装置。
- 前記第3の洗浄具は、前記第2の基板保持部により保持された基板の外周端部に接触可能に構成される第3の洗浄ブラシを含む、請求項1〜8のいずれか一項に記載の基板洗浄装置。
- 第1の基板保持部により基板の外周端部を保持するとともに基板を鉛直軸の周りで回転させるステップと、
前記第1の基板保持部により保持および回転される基板の下面を第1の洗浄具により洗浄するステップと、
前記第1の洗浄具による基板の下面の洗浄後、前記第1の基板保持部の下方に設けられた第2の基板保持部により基板の下面を吸着により保持した状態で基板を鉛直軸の周りで回転させるステップと、
前記第2の基板保持部により保持および回転される基板の上面を第2の洗浄具により洗浄するステップと、
前記第2の基板保持部により保持および回転される基板の外周端部を第3の洗浄具により洗浄するステップとを含む、基板洗浄方法。 - 前記第2の洗浄具により基板の上面を洗浄するステップおよび前記第3の洗浄具により基板の外周端部を洗浄するステップは、少なくとも部分的に重複した期間に前記第2の洗浄具により基板の上面を洗浄するとともに前記第3の洗浄具により基板の外周端部を洗浄することを含む、請求項10に記載の基板洗浄方法。
- 前記第1の洗浄具による基板の下面の洗浄中または洗浄後に前記第2の基板保持部の吸着面を第4の洗浄具により洗浄するステップをさらに含む、請求項10または11に記載の基板洗浄方法。
- 前記第2の基板保持部の吸着面を第4の洗浄具により洗浄するステップは、前記第1の洗浄具による基板の下面の洗浄中または洗浄後に前記第2の基板保持部の前記吸着面に保持部洗浄用ノズルから洗浄液を吐出することを含む、請求項12記載の基板洗浄方法。
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