JP2004201348A - 半導体集積回路 - Google Patents

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Abstract

【課題】 関連技術の半導体集積回路は、DLL回路および周辺回路に対して共通の電源回路の出力が供給されているため、周辺回路での消費電流の増大およびノイズの混入がDLL回路の動作に影響を与えていた。
【解決手段】 単位遅延ユニット複数段からなり、外部クロック信号を所定段数の単位遅延ユニットを通過させて内部クロック信号を出力する可変遅延回路33と、前記外部クロック信号を分周して分周クロック信号を生成する分周回路30と、前記分周クロック信号が第1の入力に供給され、前記内部クロック信号に応答したフィードバッククロック信号が第2の入力に供給され、該第1および第2の入力の位相を比較する位相比較回路31と、該位相比較回路の出力に基づいて前記可変遅延回路の前記単位遅延ユニットの数を選択する遅延制御回路32とを具備する位相同期回路3を有し、該位相同期回路に対して専用の電源を供給する専用電源回路91を設けるように構成する。
【選択図】 図2

Description

本発明は半導体集積回路に関し、特に、位相同期した制御信号を生成するDLL回路およびその他の回路(周辺回路)を有する半導体集積回路に関する。
近年、半導体集積回路は高速化および高集積化が進み、クロック信号に対しても、位相の同期したクロック信号を所定の回路へ供給することが必要になって来ている。具体的に、例えば、シンクロナスDRAM(SDRAM)においては、DLL(Delay Locked Loop) 回路を使用して外部クロックに位相同期した制御信号(内部クロック信号)を複数の出力バッファ回路に対して供給するようになっている。そして、動作周波数のさらなる高速化に伴って、DLL回路により生成される制御信号に対しても、より一層高い精度が必要とされている。
近年のメモリ・デバイスは、例えば、100MHzを超える動作速度を達成しており、DLL等の技術を利用して外部入力クロック信号と内部出力クロック信号との位相を合わせることにより、内部のクロック配線による遅れの影響を除いてアクセス時間の遅れやバラツキを抑える方法が用いられている。このようなDLL回路では、内部クロックの信号線の負荷による伝搬遅延を見積もるために、ダミーの回路を設けるようになっている。
図1は関連技術としての半導体集積回路の一例を示すブロック図である。図1において、参照符号1はクロック入力パッド、21は入力回路(クロックバッファ)、22はダミー入力回路(クロックバッファ)、そして、3はDLL回路を示している。さらに、参照符号41はクロック配線(リアル配線)、42はダミー配線、51は出力回路(出力バッファ)、52はダミー出力回路(出力バッファ)、6はデータ出力パッド、7はダミー負荷容量、そして、90は電源回路を示している。
図1に示されるように、DLL回路3は、位相比較回路(ディジタル位相比較器)31、遅延制御回路32、遅延回路33、および、ダミー遅延回路34を備えて構成されている。位相比較回路31には、外部クロック(外部入力クロック信号)CLKが入力回路21を介して供給される(信号S1)と共に、外部クロックCLKがダミー遅延回路34,ダミー配線42,ダミー出力回路52並びにダミー入力回路22を介して供給され(信号S0)、これらの信号S1およびS0の位相比較を行って遅延制御回路32を制御するようになっている。ここで、ダミー入力回路22を介して位相比較回路31に供給される信号S0は、ダミー配線42等により、1クロック分の時間だけ外部クロックCLKを遅延した信号となっており、この1クロック分だけ遅延した信号S0が入力回路21を介して供給される信号S1と位相比較されることになる。
遅延制御回路32は、位相比較回路31からの出力に応じて、遅延回路33およびダミー遅延回路34に対して同じ遅延量を与えるようにそれぞれ制御するようになっている。従って、出力回路51におけるクロック信号(内部クロック信号)は、入力回路21,遅延回路33,クロック配線(リアル配線)41および出力回路51による遅延が、見かけ上、存在しないようなタイミングで供給されることになる。
図1に示す半導体集積回路において、入力回路21,ダミー入力回路22,出力回路51,ダミー出力回路52,および,DLL回路3は、共通の電源回路90から電源電圧の供給を受けるように構成されている。すなわち、図1に示す関連技術の半導体集積回路は、電源回路90の出力(電源電圧)が、制御信号(内部クロック信号)を生成するDLL回路3(位相比較回路31,遅延制御回路32,遅延回路33,ダミー遅延回路34)、および、その他の周辺回路(入力回路21,ダミー入力回路22,出力回路51,ダミー出力回路52等)に共通に印加されている。なお、周辺回路としては、上記のもの以外に、例えば、コマンドデコーダ(102),アドレスバッファ/レジスタ&バンクセレクタ(103),および,モードレジスタ(106)等の様々な回路が含まれる。
なお、従来、動作周波数に変動があっても、常に正確な内部クロック信号を得ることができる内部クロック発生回路を有する同期型半導体記憶装置が提案されている(例えば、特許文献1参照)。また、従来、半導体メモリ等の電子回路において、電圧変動を最も避ける必要のある基板電圧発生回路に対して専用の内部電源降圧回路を接続し、センスアンプのような他の回路からの電源ノイズによる誤動作を防止することが提案されている(例えば、特許文献2参照)。さらに、従来、分周回路を有する半導体集積回路(例えば、特許文献3参照)、並びに、ダミー回路を設けるようにした半導体装置(例えば、特許文献4参照)も提案されている。また、従来、DLL回路において、電源電圧の変動等によるジッタの問題も認識されている(例えば、特許文献5参照)。
特開平8−180676号公報 特開平8−55480号公報 特開平2−2214号公報(第9図) 特開平5−507374号公報(図12、遅延線105) 特開平8−130464号公報
上述したように、図1に示す関連技術の半導体集積回路は、DLL回路3(31,32,33,34)および周辺回路(21,22,51,52等)に対して同じ電源回路90が使用されている。従って、周辺回路が動作して電流を消費すると、DLL回路3へ印加される電源電圧も低下することになり、或いは、周辺回路において、電源電圧に何らかのノイズが乗った場合には、DLL回路3の内部の遅延回路33(34)の遅延量が変わってしまい、その度に位相比較回路31および遅延制御回路32を介して遅延量の補正を行わなければならかった。その結果、DLL回路3は安定した内部クロック信号(制御信号)を出力することができなかったり、さらには、DLL回路3からの内部クロック信号にジッタが含まれることにもなっていた。
本発明は、上記の関連技術の半導体集積回路が有する課題に鑑み、DLL回路からジッタの無い安定した制御信号を出力させることを目的とする。
本発明によれば、単位遅延ユニット複数段からなり、外部クロック信号を所定段数の単位遅延ユニットを通過させて内部クロック信号を出力する可変遅延回路と、前記外部クロック信号を分周して分周クロック信号を生成する分周回路と、前記分周クロック信号が第1の入力に供給され、前記内部クロック信号に応答したフィードバッククロック信号が第2の入力に供給され、該第1および第2の入力の位相を比較する位相比較回路と、該位相比較回路の出力に基づいて前記可変遅延回路の前記単位遅延ユニットの数を選択する遅延制御回路とを具備する位相同期回路を有し、該位相同期回路に対して専用の電源を供給する専用電源回路を設けたことを特徴とする半導体集積回路が提供される。
本発明の半導体集積回路によれば、DLL回路に対して専用の電源回路からの出力(電源電圧)を供給することにより、周辺回路での消費電流が増大した場合でも、電圧の低下の無い安定した電源電圧を供給することができ、また、周辺回路において電源電圧にノイズが乗った場合でも、そのノイズの影響を受けることなくジッタの無い制御信号を出力することができる。
以下、図面を参照して本発明に係る半導体集積回路の実施例を説明する。
図2は本発明に係る半導体集積回路の一実施例を示すブロック図である。図2において、参照符号1はクロック入力パッド、21は入力回路(クロックバッファ)、22はダミー入力回路(クロックバッファ)、そして、3はDLL回路を示している。さらに、参照符号41はクロック配線(リアル配線)、42はダミー配線、51は出力回路(出力バッファ:対象回路)、52はダミー出力回路(出力バッファ)、6はデータ出力パッド、7はダミー負荷容量、91は第1の電源回路(第1の降圧回路)、そして、92は第2の電源回路(第2の降圧回路)を示している。
図2に示されるように、DLL回路3は、分周回路30、位相比較回路(ディジタル位相比較器)31、遅延制御回路32、遅延回路33、および、ダミー遅延回路34を備えて構成されている。分周回路30には、入力回路21を介して外部クロックCLK(信号S1:第1の制御信号)が供給され、該外部クロックCLKを分周した信号を出力するようになっている。すなわち、分周回路30は、第1の出力信号(信号S2)をダミー遅延回路34へ出力すると共に、第2の出力信号(信号S3)を位相比較回路31の第1の入力へ出力するようになっている。位相比較回路31の第2の入力には、分周回路30の第1の出力信号(信号S2)が、ダミー遅延回路34,ダミー配線42,ダミー出力回路52並びにダミー入力回路22を介して供給(信号S0)され、該位相比較回路31は、これらの信号S3および信号S0の位相比較を行って遅延制御回路32を制御するようになっている。なお、遅延回路33の出力信号(第2の制御信号)は、DLL回路3の出力信号としてクロック配線(リアル配線)41を介して出力回路(対象回路)51に供給されることになる。
遅延制御回路32は、位相比較回路31からの出力(位相比較結果)に応じて、遅延回路33およびダミー遅延回路34に対して同じ遅延量を与えるように、各遅延回路33,34を制御するようになっている。従って、出力回路51におけるクロック信号(内部クロック信号)は、入力回路21,遅延回路33,リアル配線41および出力回路51による遅延が、見かけ上、存在しないようなタイミングで供給されることになる。
ところで、クロックの周期が入力回路21と出力回路51とそれらの間の配線(クロック配線41)等の遅延よりも短くなると、1つ前の外部クロックからDLL回路3を用いて内部クロックを生成することができなくなる。そこで、本実施例では、クロックの周期が配線遅延等よりも短くなる場合には、1つ前の外部クロックではなく、2つ前の外部クロックから内部クロックを生成するようになっている。すなわち、外部クロックCLKの2周期だけ遅延したタイミングで位相比較回路31の位相比較処理を行うようになっている。
具体的に、分周回路30により、位相比較回路31で位相を比較する時に、「DLL回路3から出力されたクロック」の立上りエッジと「DLL回路3に入力された外部クロックの2周期だけ遅延した外部クロック」の立上りエッジで同期をとる(ロックする)ようになっている。すなわち、図2に示されるように、入力回路21の出力が供給される分周回路30を設け、該分周回路30の第1の出力信号S2をダミー遅延回路34に供給し、且つ、第2の出力信号S3を位相比較回路31の第1の入力に供給するようになっている。
図3は図2の半導体集積回路における本発明の特徴部分の構成例を示す図である。
図2および図3に示されるように、本実施例の半導体集積回路においては、2つの電源回路91および92が設けられている。第1の電源回路(第1の降圧回路)91は、DLL回路3の専用電源として設けられ、該第1の電源回路91の出力は、DLL回路3を構成している分周回路30,位相比較回路31,遅延制御回路32,遅延回路33,および,ダミー遅延回路34に対してそれぞれ電源電圧として供給されている。また、第2の電源回路(第2の降圧回路)92は、DLL回路3以外の回路(周辺回路)用の電源として設けられ、図2において、該第2の電源回路92の出力は、入力回路21,ダミー入力回路22,出力回路51,および,ダミー出力回路52に対してそれぞれ電源電圧として供給されている。なお、周辺回路としては、上記の回路の他に、例えば、図17に示されるように、コマンドデコーダ(102),アドレスバッファ/レジスタ&バンクセレクタ(103),および,モードレジスタ(106)等の様々な回路が含まれる。
このように、本実施例の半導体集積回路は、DLL回路用の電源(第1の電源回路)91と、その他の周辺回路用の電源(第2の電源回路)92とがそれぞれ独立して設けられているため、例えば、或る周辺回路の動作により、第2の電源回路92の電源電圧が低下するような場合でも、第1の電源回路91の出力電圧は、その第2の電源回路92の出力電圧の低下の影響を受けることなく、一定の電源電圧を安定して供給することができる。また、周辺回路において、電源電圧に何らかのノイズが乗った場合、すなわち、第2の電源回路92の出力電圧を供給する電源線にノイズが乗った場合でも、DLL回路3は、該DLL回路専用の電源(第1の電源回路)91から電源電圧を受け取るため、周辺回路におけるノイズの影響を受けることなく、ジッタの無い安定した制御信号(第2の制御信号:内部クロック信号)を出力することができる。なお、DLL回路の構成は、図2に示すものに限定されず、例えば、図1におけるDLL回路を適用することもできる。
ここで、図3に示されるように、第1の電源回路91および第2の電源回路92は、それぞれ降圧回路として構成されている。具体的に、第1の電源回路91は、半導体集積回路(システム)の電源電圧(VCC)がソースに印加され、制御電圧Vgがゲートに印加されたトランジスタ91aと、制御電圧Vgの電位を安定させるための容量として機能するトランジスタ91bを備えて構成されている。同様に、第2の電源回路92は、半導体集積回路の電源電圧VCCがソースに印加され、制御電圧Vgがゲートに印加されたトランジスタ92aと、制御電圧Vgの電位を安定させるための容量として機能するトランジスタ92bを備えて構成されている。ここで、半導体集積回路の電源電圧VCCは、例えば、3.3ボルトであり、降圧回路91および92により降圧されてDLL回路3および周辺回路(21,22,51,52)へ印加される電圧(VCC0)は、例えば、2.4ボルトである。
なお、第1および第2の電源回路(降圧回路)91,92の各トランジスタ91a,92bのゲートに印加される制御電圧(基準電圧)Vgは同じものを使用するようになっているが、この制御電圧Vgにおけるノイズや電圧変動は、それぞれ容量手段(トランジスタ)91b,92bにより安定保持(平滑)され、実用上問題となることはない。また、周辺回路用の電源回路(第2の電源回路)92は、第1の電源回路に隣接して設ける必要は無く、回路のレイアウト等を考慮して最適な位置に分離して設けることができる。さらに、第2の電源回路92としては、必要に応じて複数設けるようにしてもよい。
図4は図2の半導体集積回路における分周回路の一例を示す回路図であり、図5は図4の分周回路の各ノードの信号波形を示す図である。ここで、図4に示す分周回路30は、図5の波形図から明らかなように、入力信号S1(外部クロックCLK)を8分周して、外部クロックCLKの2クロックサイクル分の期間が高レベル“H”(または、低レベル“L”)で、6サイクル分の期間が低レベル“L”(または、高レベル“H”)となる信号S2(信号S3)を生成するものである。
図4に示されるように、分周回路30は、複数のナンドゲートおよびインバータより成る3段のカウンタ301〜303として構成され、該分周回路30に対して信号S1(入力回路21を介した外部クロックCLK)を供給して、図5に示すような第1および第2の出力信号S2およびS3を生成するようになっている。なお、図5において、参照符号Aは1つ目のカウンタ301の出力信号、Bは2つ目のカウンタ302の出力信号であり、各信号波形は、図5に示す通りである。また、分周回路30は、複数のナンドゲートおよびインバータより成る3段のカウンタで構成するものに限定されず、様々な論理ゲートの組み合わせとして構成することができるのはいうまでもない。
図6は図4の分周回路を使用した半導体集積回路の動作を説明するためのタイミング図である。
図6に示されるように、分周回路30は、入力回路21の出力である信号S1(外部クロックCLK)を受けて、2周期の間(図6中の期間a)だけ高レベル“H”で、6周期の間(図6中の期間b)だけ低レベル“L”となる8分周(a+b)した信号S2(第1の出力信号)と、その逆相の信号S3(第2の出力信号)を出力する。ここで、第1の出力信号S2はダミー遅延回路34に供給され、第2の出力信号S3は位相比較回路31の一方の入力に供給される。なお、信号S0は、分周回路30の第1の出力信号S2がダミー遅延回路34,ダミー配線4,ダミー出力回路52およびダミー入力回路22により遅延され、位相比較回路31の他方の入力に供給された信号である。
位相比較回路(ディジタル位相比較器)31は、分周回路30の第2の出力信号S3の立ち上がりタイミングと信号S0の立ち上がりタイミングとの位相を比較し、該比較結果に応じて遅延制御回路(シフトレジスタ)32が遅延回路33およびダミー遅延回路34に対して同じ遅延量を与えるように制御する。すなわち、DLL回路3は、入力回路21からの信号S1(外部クロックCLK)に対して、遅延回路33による遅延量が与えられたクロック信号(内部クロック信号)を出力するようになっている。これにより、DLL回路3で2クロックサイクル前の外部クロックから位相同期した内部クロックを生成することができ、DLL回路3を高速動作可能なSDRAMに対応させることができる。
なお、分周回路30の第1の出力信号S2における期間aを変化させることにより、何クロック前の外部クロックから、DLL回路3で内部クロックをつくるかを調節することができる。具体的に、信号S2の期間aを3クロック分の長さとすることにより、DLL回路3で3クロックサイクル前の外部クロックから位相同期した内部クロックを生成することができる。また、分周回路30の第1の出力信号S2における期間bを変える(a+b)ことによって、何周期毎に位相比較を行なうかを調節することができる。
従って、分周回路30は、Yを2以上の整数でZを正の整数として、信号S1(外部クロックCLK)をY周期だけ高レベル“H”で、該6信号S1のZ周期だけ低レベル“L”となる第1の出力信号S2を生成し、外部クロックCLKのY周期だけ遅延したタイミングで位相比較回路31の位相比較処理を行うようになっている。また、本実施例において、分周回路30は、Xを2以上の整数として、信号S1(外部クロックCLK)をX分周した第1および第2の出力信号S2,S3を生成し、外部クロックCLKのX周期毎に位相比較回路31の位相比較処理を行うようにもなっている。
このように、位相比較回路31による位相比較をn周期に1回(例えば、8周期に1回)の割合で行うことにより、遅延制御回路32による遅延回路33(ダミー遅延回路34)の制御をn周期に1回の頻度で行い、例えば、ロウアドレスストローブ信号(RAS信号)やコラムアドレスストローブ信号(CAS信号)の出力による電源電圧の変動、或いは、ノイズ等による電源電圧の変動等に起因する内部出力クロック信号の振れを防止することができる。すなわち、位相比較を所定のタイミングで行うことにより、出力するクロック信号(制御信号)を安定させることができる。
図7は本発明の半導体集積回路における遅延回路33,34の一構成例を説明するための図であり、同図(a)は1ビット分の遅延回路の構成を示し、同図(b)は該1ビット分の遅延回路の動作のタイムチャートを示し、そして、同図(c)は1ビット分の遅延回路を複数段接続した時の構成と動作説明を示すものである。
図7(a)に示されるように、1ビット分の遅延回路は2個のNANDゲート401と402、および、インバータ403を備えて構成される。この1ビット分の遅延回路の動作を図7(b)を参照して説明すると、入力φEは活性化信号(イネーブル信号)で、高レベル“H”の時に遅延回路が動作する。図7(b)では、イネーブル信号φEが高レベル“H”になって信号のアクセスが可能になった状態が示されている。なお、図7(b)において、INは1ビット分の遅延回路への入力信号を示し、また、φNは複数段接続された遅延回路のうち隣接する右側の遅延回路からの信号、OUTは1ビット分の遅延回路の出力信号、そして、4a−1および4a−2は図7(a)の回路において対応するノードの波形を示している。従って、OUTは左側に隣接する1ビット分の遅延回路における信号φNに対応する。
信号φNが低レベル“L”の時には、出力信号OUTは常に低レベル“L”になり、また、信号φNが高レベル“H”で信号φEが低レベル“L”の時には、出力信号OUTは高レベル“H”になる。信号φNが高レベル“H”で信号φEが高レベル“H”の時に、入力信号INが低レベル“L”であれば出力信号OUTは高レベル“H”になり、INが高レベル“H”であれば低レベル“L”になる。
図7(a)の回路によれば、イネーブル信号φEが高レベル“H”の状態で入力信号INが立ち上がると、その入力信号は矢印の経路に伝播するが、イネーブル信号φEが低レベル“L”の状態では、入力信号INが出力OUTに矢印の経路で伝播しないようになっている。
図7(c)は、図7(a)に示す1ビット分の遅延回路を複数段カスケード接続した例であり、実際の遅延回路に相当する。ここで、図7(c)では3段しか描いていないが、実際には多数段接続されている。また、イネーブル信号φEの信号線は、回路要素毎に、φE−1、φE−2、φE−3のように複数本あり、これらの信号は遅延制御回路(32)によって制御される。
図7(c)では、中央の1ビット分の遅延回路が活性化されており、イネーブル信号φE−2が高レベル“H”になっている。この場合、入力信号INが低レベル“L”から高レベル“H”に変化すると、左端の1ビット分の遅延回路と右端の1ビット分の遅延回路のイネーブル信号φE−1およびφE−3は低レベル“L”であるから、太線のように入力信号INはNANDゲート401−1および401−3で止められてしまう。
一方、活性化されている中央の1ビット分の遅延回路のイネーブル信号φE−2は高レベル“H”レベルであるから、入力信号INはNANDゲート401−2を通過する。右側の1ビット分の遅延回路の出力信号OUTは高レベル“H”であるから、入力信号INはNANDゲート402−2も通過して、出力信号OUTとして低レベル“L”の信号が伝達されることになる。上記のように、右側の出力信号OUT、すなわち、イネーブル信号φNが低レベル“L”の時には、出力信号OUTは常に低レベル“L”になるので、この低レベル“L”の信号が左側の1ビット分の遅延回路のNANDゲートおよびインバータに順次伝達され、最終的な出力信号として取り出される。
このように、活性化された1ビット分の遅延回路を介して、入力信号INは折り返されるように信号伝達され、最終的な出力信号になる。つまり、どの部分のイネーブル信号φEを高レベル“H”にするかにより、遅延量を制御することができる。1ビット分の遅延量は、NANDゲートとインバータの合計の信号伝搬時間で決定され、この時間がDLL回路の遅延単位時間になり、そして、全体の遅延時間は、1ビット分の遅延量に通過する段数を乗じた量になる。
図8は本発明の半導体集積回路における遅延制御回路の一構成例を説明するための図である。
図8に示されるように、遅延制御回路も点線で囲った1ビット分の遅延制御回路430−2を遅延回路の段数分接続した構成になっており、各段の出力が遅延回路の各段のイネーブル信号φEになる。
具体的に、1ビット分の遅延制御回路430−2は、NANDゲート432−2と、インバータ433−2で構成されるフリップフロップの両端にそれぞれ直列に接続されたトランジスタ435−2、437−2、438−2、439−2、および、NORゲート431−2を有している。トランジスタ438−2のゲートは、前段の1ビット分の遅延制御回路のノード5a−2に、トランジスタ439−2のゲートは、後段の1ビット分の遅延制御回路のノード5a−5に接続されて、前段と後段の信号を受けるようになっている。一方、直列接続されている他方のトランジスタには、カウントアップする時のセット信号φSEおよびφSOと、カウントダウンする時のリセット信号φREおよびφROが1ビット置きの回路に接続されている。
図8に示されるように、中央の1ビット分の遅延制御回路430−2では、トランジスタ435−2のゲートにセット信号φSOが供給され、トランジスタ437−2にリセット信号φROが供給され、また、遅延制御回路430−2の前段および後段の両側の回路の各対応するトランジスタのゲートにはそれぞれセット信号φSEおよびリセット信号φREが供給されている。また、NORゲート431−2には、左側の(前段の)回路のノード5a−1と回路430−2のノード5a−4の信号が入力される構成になっている。なお、φRは遅延制御回路をリセットする信号で、電源投入後に一時的に低レベル“L”レベルになり、その後は高レベル“H”に固定される。
図9は図8の遅延制御回路の動作を説明するためのタイミング図である。
図9に示されるように、まず、リセット信号φRが一時的に低レベル“L”になり、ノード5a−1,5a−3,5a−5が高レベル“H”、また、5a−2,5a−4,5a−6が低レベル“L”にリットされる。そして、カウントアップする時には、カウントアップ信号(セット信号)φSEおよびφSOが交互に高レベル“H”と低レベル“L”を繰り返す。
セット信号φSEが低レベル“L”から高レベル“H”になると、ノード5a−1は接地されて低レベル“L”になり、また、ノード5a−2は高レベル“H”に変化する。ノード5a−2が高レベル“H”に変化したのを受けて、出力信号(イネーブル信号)φE−1は高レベル“H”から低レベル“L”に変化する。この状態はフリップフロップにラッチされるので、セット信号φSEが低レベル“L”に戻ったとしても、イネーブル信号φE−1は低レベル“L”のままである。そして、ノード5a−1が低レベル“L”に変化したことを受けて、イネーブル信号(出力信号)φE−2が低レベル“L”から高レベル“H”に変化する。ノード5a−2が高レベル“H”に変化したのでトランジスタ438−2はオン状態になり、セット信号φSOが低レベル“L”から高レベル“H”になると、ノード5a−3は接地されて低レベル“L”に、また、ノード5a−4は高レベル“H”に変化する。さらに、ノード5a−4が高レベル“H”に変化したのを受けて、イネーブル信号φE−2は高レベル“H”から低レベル“L”に変化する。この状態はフリップフロップにラッチされるので、セット信号φSOが低レベル“L”に戻ったとしても、イネーブル信号φE−2は低レベル“L”のままである。
そして、ノード5a−3が低レベル“L”に変化したことを受けて、イネーブル信号φE−3が低レベル“L”から高レベル“H”に変化する。図9では、セット信号φSEおよびφSOが1パルスずつ出ているだけであるが、遅延制御回路が何段にも接続されており、セット信号φSEおよびφSOが交互に高レベル“H”と低レベル“L”を繰り返せば、出力信号(イネーブル信号)φEが高レベル“H”になる段の位置が順次右側にシフトする。従って、位相比較回路31の比較結果により遅延量を増加させる必要がある場合には、交互にセット信号φSEおよびφSOのパルスを入力すればよい。
カウントアップ信号(セット信号)φSEおよびφSOと、カウントダウン信号(リセット信号)φREおよびφROとが出力されない状態、すなわち低レベル“L”である状態が維持されれば、イネーブル信号φEは高レベル“H”になる段の位置は固定される。従って、位相比較回路31の比較結果により遅延量を維持する必要がある場合には、信号φSE、φSO、φREおよびφROのパルスを入力しないようにする。
カウントダウンする時には、リセット信号φREおよびφROのパルスを交互に入力すると、カウントアップ時と逆に出力φEが高レベル“H”になる段の位置が順次左側にシフトする。
以上説明したように、図8に示した遅延制御回路では、パルスを入力することにより、イネーブル信号φEが高レベル“H”になる段の位置を1つずつ移動させることが可能であり、これらのイネーブル信号φEで図7(c)に示した遅延回路を制御すれば遅延量を1単位ずつ制御することができる。
図10は本発明の半導体集積回路における位相比較回路(位相比較部)の一構成例を説明するための図であり、図11は図10の位相比較回路の動作を説明するためのタイミング図である。
位相比較回路(31)は、図10に示す位相比較部と後述する図12に示す増幅回路部の2つの回路部分で構成されている。
図10において、参照符号φoutおよびφextは、この位相比較回路で比較する出力信号と外部クロック信号を示し、信号φextを基準として信号φoutの位相が判定され、また、φa〜φeは増幅回路に接続される出力信号を示している。
図10に示されるように、位相比較回路31の位相比較部は、2個のNANDゲートで構成されたフリップフロップ回路421並びに422、その状態をラッチするラッチ回路425並びに426、ラッチ回路の活性化信号を生成する回路424、および、外部クロック信号φextの位相許容値を得る1遅延分の遅延回路423を備えて構成されている。
図11(a)は比較対象信号φoutが比較基準信号φextよりも位相が進んでいる場合、すなわち、信号φoutが信号φextより先に低レベル“L”から高レベル“H”になる場合を示している。信号φoutと信号φextが共に低レベル“L”の時には、フリップフロップ回路421および422のノード6a−2、6a−3、6a−4、6a−5は全て高レベル“H”になっている。信号φoutが低レベル“L”から高レベル“H”に変化すると、ノード6a−2および6a−4は共に高レベル“H”から低レベル“L”に変化する。その後、信号φextが低レベル“L”から高レベル“H”になり、また、1遅延分遅れてノード6a−1が低レベル“L”から高レベル“H”になるが、フリップフロップの両端の電位はすでに確定しているので、何ら変化は生じない。結局、ノード6a−2は低レベル“L”、ノード6a−3は高レベル“H”、ノード6a−4は低レベル“L”、そして、ノード6a−5は高レベル“H”を維持する。
一方、信号φextが低レベル“L”から高レベル“H”に変化したのに応じて、回路424の出力信号φaは低レベル“L”から高レベル“H”に変化し、ノード6a−6には、一時的に高レベル“H”レベルになるパルスが印加される。このノード6a−6はラッチ回路425および426のNANDゲートの入力となっているので、該NANDゲートが一時的に活性化されて、フリップフロップ回路421および422の両端の電位状態をラッチ回路425および426に取り込むことになる。最終的には、出力信号φbが高レベル“H”、出力信号φcが低レベル“L”、出力信号φdが高レベル“H”、そして、出力信号φeが低レベル“L”になる。
次に、図11(b)は比較対象信号φoutと比較基準信号φextの位相がほぼ同じで、信号φoutが信号φextとほぼ同時に低レベル“L”から高レベル“H”になる場合を示している。信号φoutの立ち上がり時点とノード6a−1の立ち上がり時点との時間差内に、信号φoutが低レベル“L”から高レベル“H”に変化した時、まず、信号φextが低レベル“L”から高レベル“H”になることによってフリップフロップ421のノード6a−3が低レベル“L”から高レベル“H”に変化する。フリップフロップ422では、ノード6a−1が低レベル“L”のままなので、逆に、ノード6a−4が高レベル“H”から低レベル“L”に変化する。その後、ノード6a−1が高レベル“H”から低レベル“L”に変化するが、フリップフロップ422の状態はすでに決まっているので、何ら変化は生じない。その後、ノード6a−6が一時的に高レベル“H”になるので、ラッチ回路にはこの状態が記憶され、結局、出力信号φbが低レベル“L”、出力信号φcが高レベル“H”、出力信号φdが高レベル“H”、そして、出力信号φeが低レベル“L”になる。
更に、(c)は比較対象信号φoutが比較基準信号φextよりも位相が遅れており、φoutがφextより後に低レベル“L”から高レベル“H”になる場合を示している。この場合は、φextによって2個のフリップフロップ回路421と422に変化が生じて、6a−3と6a−5が高レベル“H”から低レベル“L”に変化する。そして、最終的には、φbが低レベル“L”、φcが高レベル“H”、φdが低レベル“L”、φeが高レベル“H”になる。
このように、信号(比較基準信号)φextの立ち上がり時間を基準として、信号(比較対象信号)φoutの立ち上がり時間がそれ以前に高レベル“H”になったか、ほぼ同時であったか、或いは、遅れて高レベル“H”になったかを検出することが可能になる。これらの検出結果を出力信号φb、φc、φd、および、φeの値としてラッチしておき、その値に基づいて遅延制御回路をカウントアップするか、カウントダウンするかを決めることになる。
図12は本発明の半導体集積回路における位相比較回路(増幅回路部)の一構成例を説明するための図であり、図13は図12の位相比較回路におけるJKフリップフロップの動作を説明するためのタイミング図である。
図12に示されるように、位相比較回路31の増幅回路部は、JKフリップフロップ427と、NANDゲートおよびインバータで構成される増幅部428との2つの部分を備えて構成されている。JKフリップフロップ427には、図10の位相比較部からの出力信号φaが入力され、信号φaが低レベル“L”であるか高レベル“H”であるかに応じてノード7a−9および7a−11の電位が交互に低レベル“L”と高レベル“H”を繰り返す仕組みになっている。増幅部428は、JKフリップフロップ427の出力信号と、信号φbおよびφdの信号を受けて増幅して出力する。
まず、JKフリップフロップ427の動作を図13のタイミングチャートを参照して説明する。時間T1で、信号φaが高レベル“H”から低レベル“L”に変化すると、ノード7a−1および7a−10が低レベル“L”から高レベル“H”に変化する。一方、ノード7a−1の変化に応じて、ノード7a−5,7a−6および7a−7が変化するが、信号φaが低レベル“L”であるために、ノード7a−8は変化しない。結局、出力(ノード)7a−9は変化せず、出力7a−11のみが低レベル“L”から高レベル“H”になる。次に、時間T2になって、φaが低レベル“L”から高レベル“H”に変化すると、時間T1での動きと逆にノード7a−8は高レベル“H”から低レベル“L”に、7a−10は7a−7が変化しないので変化せず、出力7a−9は低レベル“L”から高レベル“H”に変化し、出力7a−11は変化しない。このように、JKフリップフロップ回路427は、信号φaの動きに応じて出力7a−9および7a−11が交互に高レベル“H”と低レベル“L”を繰り返す動きをする。
図14は図12の位相比較回路における増幅回路部の動作を説明するためのタイミング図(カウントアップ時)であり、図15は図12の位相比較回路における増幅回路部の動作を説明するためのタイミング図(カウント維持時)であり、そして、図16は図12の位相比較回路における増幅回路部の動作を説明するためのタイミング図(カウントダウン時)である。次に、増幅部428の動作を、図14〜図16を参照して説明する。
図14は、比較基準信号φextの立ち上がりに対して、比較対象信号φoutが先に低レベル“L”から高レベル“H”になる場合を示している。この場合の位相比較部からの入力信号は、信号φbが高レベル“H”、信号φcが低レベル“L”、信号φdが高レベル“H”、そして、信号φeが低レベル“L”である。結局、ノード7a−12が高レベル“H”になり、ノード7a−13が低レベル“L”に固定され、セット信号φSOおよびφSEはJKフリップフロップの状態に応じて変化するが、リセット信号φROおよびφREは7a−13が低レベル“L”のために変化しない。
図15は、比較対象信号φoutが比較基準信号φextとほぼ同時に低レベル“L”から高レベル“H”になる場合を示している。この場合の位相比較部からの入力信号は、信号φbが低レベル“L”、信号φcが高レベル“H”、信号φdが高レベル“H”、そして、信号φeが低レベル“L”である。結局、ノード7a−12および7a−13が低レベル“L”に固定され、リセット信号φSOおよびφSEはJKフリップフロップの出力が増幅部に影響することはなく、信号φSO,φSE,φROおよびφREは低レベル“L”に固定されたままになる。
図16は、比較対象信号φoutが比較基準信号φextの立ち上がりに対して遅れて低レベル“L”から高レベル“H”になる場合を示している。この場合の位相比較部からの入力信号は、信号φbが低レベル“L”、信号φcが高レベル“H”、信号φdが低レベル“L”、そして、信号φeが高レベル“H”である。結局、ノード7a−12が低レベル“L”に固定され、ノード7a−13が高レベル“H”に固定され、リセット信号φROおよびφREはJKフリップフロップの状態に応じて変化するが、セット信号φSOおよびφSEはノード7a−13が低レベル“L”のために変化しない。
図17は本発明に係る半導体集積回路が適用される一例としてのシンクロナスDRAMの構成を示す図であり、図18は図17のシンクロナスDRAMの動作を説明するためのタイミング図である。
本発明が適用される半導体集積回路の一例としてのシンクロナスDRAM(SDRAM)は、例えば、パイプライン方式が採用され、16M・2バンク・8ビット幅のものとして構成されている。
図17に示されるように、SDRAMは、汎用DRAMのDRAMコア108a、108bの他に、クロックバッファ101、コマンドデコーダ102、アドレスバッファ/レジスタ&バンクアドレスセレクト(アドレスバッファ)103、I/Oデータバッファ/レジスタ104、制御信号ラッチ105a,105b、モードレジスタ106、コラムアドレスカウンタ107a,107bを備えている。ここで、/CS、/RAS、/CAS、/WE端子は、従来の動作とは異なり、その組み合わせで各種コマンドを入力することによって動作モードが決定されるようになっている。各種コマンドは、コマンドデコーダで解読されて、動作モードに応じて各回路を制御することになる。また、/CS、/RAS、/CAS、/WE信号は、制御信号ラッチ105aと105bにも入力されて次のコマンドが入力されるまで、その状態がラッチされる。
アドレス信号は、アドレスバッファ103で増幅されて各バンクのロードアドレスとして使用される他、コラムアドレスカウンタ107aおよび107bの初期値として使用される。
クロックバッファ101は、内部クロック生成回路121および出力タイミング制御回路122を備えている。内部クロック生成回路121は、外部クロックCLKから通常の内部クロック信号を生成するものであり、また、出力タイミング制御回路122は、前述したようなDLL回路を適用して正確な遅延制御(位相制御)を行ったクロック信号を発生するためのものである。
I/Oデータバッファ/レジスタ104は、データ入力バッファ21およびデータ出力バッファ(出力回路)51を備え、DRAMコア108aおよび108bから読み出された信号は、データ出力バッファ51により所定のレベルに増幅され、出力タイミング制御回路122からのクロック信号に従ったタイミングでデータがパッドDQ0〜DQ7を介して出力される。また、入力データに関しても、パッドDQ0〜DQ7から入力されたデータは、データ入力バッファ13を介して取り込まれる。ここで、本発明の半導体集積回路が対象としているリアル配線(RL)は、この出力タイミング制御回路122から各データ出力バッファ51までの配線に対応している。
図17に示されるように、第1の電源回路(第1の降圧回路)91の出力電圧は、クロックバッファ101における出力タイミング制御回路122(DLL回路3)に対してのみ供給されている。また、第2の電源回路(第2の降圧回路)92の出力電圧は、クロックバッファ101における内部クロック生成回路121(通常の内部クロック生成回路)、コマンドデコーダ102、アドレスバッファ/レジスタ&バンクアドレスセレクト(アドレスバッファ)103、I/Oデータバッファ/レジスタ104(データ入力バッファ21(22)およびデータ出力バッファ51(52))、制御信号ラッチ105a(105b)、モードレジスタ106、および、コラムアドレスカウンタ107a(107b)に対して、すなわち、DLL回路(出力タイミング制御回路122)以外の周辺回路に対して供給されている。なお、DRAMコア108aおよび108bに対しては、別の電源回路から電源電圧が供給されている。
このように、本実施例の半導体集積回路は、DLL回路(出力タイミング制御回路122)用の電源(第1の電源回路)91と、その他の周辺回路用の電源(第2の電源回路)92とがそれぞれ独立して設けられているため、例えば、或る周辺回路の動作により、第2の電源回路92の電源電圧が低下するような場合でも、第1の電源回路91の出力電圧は、その第2の電源回路92の出力電圧の低下の影響を受けることなく、一定の電源電圧を安定して供給することができる。また、周辺回路において、電源電圧に何らかのノイズが乗った場合、すなわち、第2の電源回路92の出力電圧を供給する電源線にノイズが乗った場合でも、DLL回路(出力タイミング制御回路)は、該DLL回路専用の電源(第1の電源回路)91から電源電圧を受け取るため、周辺回路におけるノイズの影響を受けることなく、ジッタの無い安定した制御信号(第2の制御信号:内部クロック信号)を出力することができる。これは、図19のブロック図においても同様である。
上記のSDRAMの読み取り動作を図18を参照して説明する。
まず、外部クロックCLKは、このSDRAMが使用されるシステムから供給される信号であり、このCLKの立ち上がりに同期して、各種コマンド、アドレス信号、入力データを取込み、又は出力データを出力するように動作する。
SDRAMからデータを読み出す場合、コマンド信号(/CS、/RAS、/CAS、/WE信号)の組み合わせからアクティブ(ACT)コマンドをコマンド端子に入力し、アドレス端子にはローアドレス信号を入力する。このコマンド、ローアドレスが入力されると、SDRAMは活性状態になり、ローアドレスに応じたワード線を選択して、ワード線上のセル情報をビット線に出力し、センスアンプで増幅する。
さらに、ローアドレスに関係した部分の動作時間(tRCD)後に、リードコマンド(Read)とコラムアドレスを入力する。コラムアドレスに従って、選択されたセンスアンプデータをデータバス線に出力し、データバスアンプで増幅し、出力バッファでさらに増幅して出力端子(DQ)にデータが出力される。これら一連の動作は汎用DRAMとまったく同じ動作であるが、SDRAMの場合、コラムアドレスに関係する回路がパイプライン動作するようになっており、リードデータは毎サイクル連続して出力されることになる。これにより、データ転送速度は外部クロックの周期になる。
SDRAMでのアクセス時間には3種類あり、いずれもCLKの立ち上がり時点を基準にして定義される。図18において、tRACはローアドレスアクセス時間、tCACはコラムアドレスアクセス時間、tACはクロックアクセス時間を示している。このSDRAMを高速メモリシステムで使用する場合、コマンドを入力してから最初にデータが得られるまでの時間であるtRACやtCACも重要であるが、図4で説明したように、クロックアクセス時間tACも重要なものである。
図19は図17のシンクロナスDRAMの要部構成を概略的に示すブロック図であり、SDRAMにおけるパイプライン動作を説明するためのもので、一例としてパイプが3段設けられている場合を示している。
SDRAMでのコラムアドレスに関係する処理回路は、処理の流れに沿って複数段に分割されており、分割された各段の回路をパイプと呼んでいる。
クロックバッファ101は、図17を参照して説明したように、内部クロック生成回路121および出力タイミング制御回路122を備え、内部クロック生成回路121の出力(通常の内部クロック信号)がパイプ−1およびパイプ−2に供給され、出力タイミング制御回路122の出力(位相制御された内部クロック信号)がパイプ−3の出力回路51(データ出力バッファ)に供給されるようになっている。
各パイプは供給された内部クロック信号に従って制御され、各パイプの間には、パイプ間の信号の伝達タイミングを制御するスイッチが設けられており、これらのスイッチも、クロックバッファ101(内部クロック生成回路121)で生成された内部クロック信号により制御される。
図19に示す例では、パイプ−1において、コラムアドレスバッファ116でアドレス信号を増幅してコラムデコーダ118にアドレス信号を送り、コラムデコーダ118で選択されたアドレス番地に相当するセンスアンプ回路117の情報をデータバスに出力し、データバスの情報をデータバスアンプ119で増幅するまで行われる。また、パイプ−2にはデータバス制御回路120のみが設けられ、パイプ−3はI/Oバッファ104(出力回路51)で構成されている。なお、I/Oバッファ104におけるデータ入力バッファ21は図19では省略されている。
そして、各パイプ内の回路も、クロックサイクル時間内で動作完了するならば、パイプとパイプとの間にあるスイッチをクロック信号に同期して開閉することで、リレー式にデータを送り出す。これにより、各パイプでの処理が並行に行われることになり、出力端子にはクロック信号に同期して連続的にデータが出力されることになる。
図20は本発明に係る半導体集積回路における出力回路(データ出力バッファ回路:51)の一構成例を説明するための図である。図19および図20に示されるように、図20におけるData1およびData2は、セルアレイ115から読み出され、センスアンプ117とデータバスアンプ119とデータバス制御回路120を介して出力された記憶データに対応する信号であり、Data1およびData2は、出力データが高レベル“H”の場合には共に低レベル“L”であり、出力データが低レベル“L”の場合には共に高レベル“H”である。なお、出力データが高レベル“H”でも低レベル“L”でもないハイインピーダンス状態(ハイゼット状態)をとることも可能であり、その場合にはデータバス制御回路120において、Data1が高レベル“H”に、Data2が低レベル“L”になるように変換される。信号φoeは、出力タイミング制御回路122(図2中の遅延回路33)の出力信号(クロック信号)に対応するもので、出力回路51のイネーブル信号として機能するものである。
クロック信号φoeが高レベル“H”になると、Data1とData2の情報がデータ出力パッド6(DQ0〜DQ7)に現出するように動作する。例えば、データ出力パッド6に高レベル“H”を出力する場合を想定すると、クロック信号φoeが低レベル“L”から高レベル“H”に変化し、ノード8a−1が低レベル“L”に、ノード8a−2が高レベル“H”になって、トランスファーゲートがオンしてData1およびData2がノード8a−3および8a−6に伝達される。その結果、ノード8a−5が低レベル“L”に、ノード8a−8が高レベル“H”になると、出力用のPチャンネルトランジスタ81はオンとなり、また、Nチャンネルトランジスタ82はオフとなって、データ出力パッド6には高レベル“H”の出力が現れることになる。また、クロック信号φoeが低レベル“L”になると、トランスファーゲートはオフして、それまでの出力状態が保持される。
図21は本発明に係る半導体集積回路におけるダミーの内部出力クロック配線42(ダミー配線DL)の一構成例を説明するための図である。図21から明らかなように、ダミー配線DLは、リアル配線41(RL)と同じ線幅の配線により形成され、図2に示されるように、ダミー遅延回路34とダミー出力回路52との間のチップ上に形成される。なお、このダミー配線の代わりに、所定の値を有する容量素子或いは抵抗素子等を組み合わせて代用することも可能である。
以上の説明では、メモリ(SDRAM)を例として説明したが、本発明は、他の様々な半導体集積回路に対しても幅広く適用することができる。さらに、上記各実施例では、制御信号としてクロック信号を例に取って説明したが、制御信号としてはクロック信号に限定されるものでないのはもちろんである。
関連技術としての半導体集積回路の一例を示すブロック図である。 本発明に係る半導体集積回路の一実施例を示すブロック図である。 図2の半導体集積回路における本発明の特徴部分の構成例を示す図である。 図2の半導体集積回路における分周回路の一例を示す回路図である。 図4の分周回路の各ノードの信号波形を示す図である。 図4の分周回路を使用した半導体集積回路の動作を説明するためのタイミング図である。 本発明の半導体集積回路における遅延回路の一構成例を説明するための図である。 本発明の半導体集積回路における遅延制御回路の一構成例を説明するための図である。 図8の遅延制御回路の動作を説明するためのタイミング図である。 本発明の半導体集積回路における位相比較回路(位相比較部)の一構成例を説明するための図である。 図10の位相比較回路の動作を説明するためのタイミング図である。 本発明の半導体集積回路における位相比較回路(増幅回路部)の一構成例を説明するための図である。 図12の位相比較回路におけるJKフリップフロップの動作を説明するためのタイミング図である。 図12の位相比較回路における増幅回路部の動作を説明するためのタイミング図(カウントアップ時)である。 図12の位相比較回路における増幅回路部の動作を説明するためのタイミング図(カウント維持時)である。 図12の位相比較回路における増幅回路部の動作を説明するためのタイミング図(カウントダウン時)である。 本発明に係る半導体集積回路が適用される一例としてのシンクロナスDRAMの構成を示す図である。 図17のシンクロナスDRAMの動作を説明するためのタイミング図である。 図17のシンクロナスDRAMの要部構成を概略的に示すブロック図である。 本発明に係る半導体集積回路における出力回路(データ出力バッファ回路)の一構成例を説明するための図である。 本発明に係る半導体集積回路におけるダミーの内部出力クロック配線(ダミー配線)の一構成例を説明するための図である。
符号の説明
1…クロック入力パッド
3…DLL回路
6…データ出力パッド
7…ダミー負荷容量
21…入力回路(クロックバッファ)
22…ダミー入力回路(クロックバッファ)
31…位相比較回路(ディジタル位相比較器)
32…遅延制御回路
33…遅延回路(第1の遅延回路)
34…ダミー遅延回路(第2の遅延回路)
41…クロック配線(リアル配線)
42…ダミー配線
51…出力回路(出力バッファ)
52…ダミー出力回路(出力バッファ)
91…第1の電源回路(第1の降圧回路)
92…第2の電源回路(第2の降圧回路)

Claims (8)

  1. 単位遅延ユニット複数段からなり、外部クロック信号を所定段数の単位遅延ユニットを通過させて内部クロック信号を出力する可変遅延回路と、
    前記外部クロック信号を分周して分周クロック信号を生成する分周回路と、
    前記分周クロック信号が第1の入力に供給され、前記内部クロック信号に応答したフィードバッククロック信号が第2の入力に供給され、該第1および第2の入力の位相を比較する位相比較回路と、
    該位相比較回路の出力に基づいて前記可変遅延回路の前記単位遅延ユニットの数を選択する遅延制御回路とを具備する位相同期回路を有し、
    該位相同期回路に対して専用の電源を供給する専用電源回路を設けたことを特徴とする半導体集積回路。
  2. 前記位相同期回路以外の周辺回路に電源を供給する第2の電源回路をさらに有することを特徴とする請求項1に記載の半導体集積回路。
  3. 前記専用電源回路は、外部電源電圧を降圧した降圧電源を前記位相同期回路に供給することを特徴とする請求項1または2に記載の半導体集積回路。
  4. 前記専用電源回路は、前記外部電源電圧と前記位相同期回路の間に接続され、ゲートに制御電圧を受けるトランジスタと、該ゲートに接続された容量手段とを含むことを特徴とする請求項3に記載の半導体集積回路。
  5. 前記専用電源回路は前記可変遅延回路に接続されていることを特徴とする請求項1に記載の半導体集積回路。
  6. 前記分周回路は、Xを2以上の整数として、前記外部クロック信号をX分周した前記分周クロック信号を生成し、
    前記位相比較回路は、前記外部クロック信号のX周期毎に前記第1および第2の入力の位相を比較することを特徴とする請求項1に記載の半導体集積回路。
  7. 前記外部クロック信号は、入力回路を介して前記分周回路に供給され、
    前記内部クロック信号は、該内部クロック信号に応答して動作するデータ出力回路に供給され、
    前記位相比較回路の前記第2の入力には、前記内部クロック信号に相当する信号をダミー出力回路およびダミー入力回路を介して遅延させた前記フィードバッククロック信号を供給することを特徴とする請求項1に記載の半導体集積回路。
  8. 前記半導体集積回路は、シンクロナスDRAMであることを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載の半導体集積回路。
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