JP2004186472A

JP2004186472A - 実装構造体及びその製造方法、電気光学装置、並びに電子機器

Info

Publication number: JP2004186472A
Application number: JP2002352345A
Authority: JP
Inventors: Hidetaka Saito; 秀隆斉藤
Original assignee: Seiko Epson Corp
Current assignee: Seiko Epson Corp
Priority date: 2002-12-04
Filing date: 2002-12-04
Publication date: 2004-07-02

Abstract

【課題】基板の歪みや反りが生じず、実装時の品質向上に寄与する実装構造体を提供する。
【解決手段】ベース基板上に半導体チップ１０と、半導体チップ１０近傍に複数の配線が配列形成される。複数の配線は、複数の第１配線２５と、第１配線２５の線幅より幅広の第２配線２６とを含む。第２配線２６は、半導体チップ１０近傍で分断され、且つ第１配線２５の線幅と略同一幅の複数の第３配線２７で接続される。
【選択図】図３

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体チップを実装した実装構造体及びその製造方法、そしてその実装構造体を液晶パネルや有機ＥＬ（ＥｌｅｃｔｒｏＬｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）パネル等の電気光学パネルに接続した電気光学装置並びに当該電気光学装置を備える電子機器に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、例えばコンピュータ及び携帯情報機器等の各種電子機器が著しく発達しているが、これらの電子機器の発達に伴って液晶表示装置、特に表示能力の高いカラー液晶表示装置を備えた電子機器が増大している。液晶表示装置は、各画素をオン状態（例えば、光透過状態）又はオフ状態（例えば、光遮断状態）に制御するための信号線が必要であり、これらの信号線は、通常フレキシブル基板等の可撓性基板上に一定のピッチで配列されて形成されている。例えば、１２０×１６０ドットの液晶表示装置であれば、１２０本の信号線（例えば、ゲート線）と１６０本の信号線（例えば、ソース線）とが必要になる。
【０００３】
上記の例では、単色（白黒）の液晶表示装置では、１２０本の信号線と１６０本の信号線が可撓性基板上に形成されるが、カラー液晶表示装置は、赤色画素、緑色画素、及び青色画素各々をオン状態又はオフ状態に制御する必要があるため、同一の画素数であっても必要となる信号線の数は単純計算で３倍になる。従って、カラー液晶表示装置においては、単色の液晶表示装置に比べて可撓性基板に形成される信号線は必然的に狭ピッチ化される。
【０００４】
また、近年においては、主として高密度実装を実現するため、液晶表示装置を駆動するためのドライバ回路が形成された半導体素子は、上記の可撓性基板上に搭載されることが多くなっている。ここで、携帯電話機、ノート型パーソナルコンピュータ、及びＰＤＡ（ＰｅｒｓｏｎａｌＤａｔａＡｓｓｉｓｔａｎｃｅ）等の電子機器は携帯性が重視されるため、小型・軽量化が図られる状況にある。かかる状況下においては、外形形状が制限されるため、可撓性基板上に搭載される半導体素子は長チップ化され、更に、近年では、ドライバ回路の機能が追加されているため半導体素子の更なる長チップ化が図られている。
【０００５】
ところで、前述の液晶表示装置又は有機ＥＬ表示装置を電子機器内に配置する際には、電子機器の筐体に対する表示装置の配置と画像信号を生成する回路の配置との関係、及び、各種の電子部品を高密度で筐体内に実装する必要から、液晶表示装置のための信号線又は有機ＥＬ表示装置のための信号線が配列された可撓性基板を折り曲げる必要があるが、前述したように、カラー液晶表示装置及びカラー有機ＥＬ表示装置の信号線は狭ピッチ化及び細線化されているため応力に弱く、可撓性基板を折り曲げる際に、可撓性基板に形成されている信号線が破損する虞がある。特に、力のかかり方によって、端部に配列された信号線が破損しやすいという傾向がある。また、特に有機ＥＬ表示装置においては、表示部に大電流を流す必要があるが、細線化された信号線では電流供給能力に限界がある。
【０００６】
そこで、本出願人は、特許文献１に示すように、可撓性基板であるベース基板に部分的に基材を貼り付けることで屈曲しにくい部分と屈曲しやすい部分とを形成し、接続信頼性を高めたい部分と屈曲性を確保しておきたい部分とを区分けする技術を提案した。また、本出願人は、特願２００２−０６７７１３において、配列方向の両端の配線を、他の配線よりも幅広に形成することで、折り曲げた際に応力がかかりやすい両端の耐折り曲げ性を向上させる技術も提案した。
【０００７】
【特許文献１】
特開２００２−２６０８２号公報
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述したような従来技術には、以下のような問題が存在する。
実装時等に熱が加わった際に可撓性基板は膨張するが、特許文献１の技術では基材を貼り付けた部分の基板は膨張が拘束されるため、基材の貼り付けの有無により配線の配列方向で膨張する量が一定でなくなる。また、特願２００２−０６７７１３の技術でも、配線の配列方向で線幅の異なる配線が混在しているため、配線の幅毎に膨張する量が一定でなくなる。そのため、可撓性基板に歪みや反りが発生しやすくなり、特に回路部分で歪みや反りが生じると実装時の品質が低下する虞があった。
【０００９】
本発明は、以上のような点を考慮してなされたもので、基板の歪みや反りが生じず、実装時の品質向上に寄与できる実装構造体及びその製造方法並びに当該実装構造体を備える電子機器を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するために本発明は、以下の構成を採用している。
本発明の実装構造体は、ベース基板上に半導体チップと、該半導体チップ近傍に複数の配線が配列形成された実装構造体であって、前記複数の配線は、複数の第１配線と、該第１配線の線幅より幅広の第２配線とを含み、前記第２配線は、前記半導体チップ近傍で分断され、且つ分断部の間が前記第１配線の線幅と略同一幅の複数の第３配線で接続されることを特徴とするものである。
【００１１】
従って、本発明では、半導体チップ近傍に略同一幅の第１配線及び第３配線が配列されることになり膨張量が均一になる。そのため、ベース基板に歪みや反りがない状態で半導体チップを実装することが可能となり、実装時の品質低下を防止することができる。
【００１２】
前記複数の第３配線の線幅の合計は、前記第２配線の線幅以上であることが好ましい。これにより、本発明では、第２配線を流れる電流が第３配線を流れることで抵抗が増すことを防止できる。特に、第３配線の総幅が第２配線の線幅以上の場合は、抵抗値が減少するため、安定した電源、信号を供給することが可能になる。
【００１３】
前記第１配線の配列ピッチと、前記第３配線の配列ピッチとは略同一であることが好ましい。これにより、これら配線の配列方向の膨張がピッチのばらつきに起因して不均一になり、ベース基板に歪みや反りが生じることを防止できる。また、ベース基板は、前記第２配線が形成されている箇所で前記配線の配列方向の周りに折り曲げられる構成も採用可能である。これにより、本発明では、第１配線を挟んだ配列方向両側に第２配線を配置することで、ベース基板を折り曲げた際に応力がかかりやすい両端の耐折り曲げ性を向上させることができるため、配線のパターンの破損を防止することができる。なお、ベース基板としては、実装構造体を実装する際の自由度が高く、種々の用途に用いることができるため、可撓性を有することが好ましい。
【００１４】
また、本発明では、前記第２配線及び前記第３配線が前記半導体チップに非接続で形成される構成も採用可能である。これにより、本発明では、第２配線及び第３配線が例えば入力用端子から出力用端子へ電流を供給するための配線である場合でも、ベース基板に歪みや反りが生じることなく、電流の供給能力が高く、入力用端子から出力用端子へ問題なく大電流を供給することができる。
【００１５】
一方、上記課題を解決するために、本発明の実装構造体の製造方法は、金属層が形成されているベース基板の、当該金属層をパターニングし、配列された複数の第１配線と、半導体チップ近傍で分断され前記第１配線の線幅より幅広の第２配線と、前記第１配線の線幅と略同一幅で、分断された前記第２配線の間を接続する複数の第３配線とを形成する配線形成工程と、前記配線形成工程で形成された第１配線、第２配線及び第３配線の端部をメッキ処理して、前記第１配線の一端に複数の入力用端子又は複数の出力用端子、他端に複数の半導体用端子をそれぞれ形成するとともに、前記第２配線の端部に入力用端子及び出力用端子を形成する端子形成工程と、前記半導体用端子が形成された位置に半導体チップを実装する実装工程とを含むことを特徴としている。
【００１６】
従って、本発明では、配線形成工程で形成された第１配線、第３配線が略同一幅で配列されることになり膨張量が均一になる。そのため、実装工程においては、ベース基板に歪みや反りがない状態で半導体チップを実装することが可能となり、実装時の品質低下を防止することができる。
【００１７】
一方、本発明の電気光学装置は、電気光学パネルと、前記電気光学パネルに電気的に接続された上記の実装構造体とを備えることを特徴としている。
この発明によれば、ベース基板に歪みや反りがない状態で半導体チップを実装することが可能となる。従って、実装時の品質向上を図ることができ、更には大電流の供給を問題なく行うことができる。
【００１８】
本発明の電子機器は、上記の電気光学装置と、前記電気光学装置を収容する筐体とを有することを特徴としている。
この発明によれば、上記電気光学装置を備えるので、実装時の品質向上を図ることができる。
【００１９】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実装構造体及びその製造方法、電気光学装置、並びに電子機器の実施の形態を、図１ないし図１３を参照して説明する。図１は、本発明の第１実施形態による電気光学装置としての液晶表示装置の分解斜視図である。図１に示すように、本実施形態の液晶表示装置１は、大別するとカラーの液晶パネル２と、液晶パネル２に接続される実装構造体３とを備える。また、必要に応じて、バックライト等の照明装置、その他の付帯機器が液晶パネル２に付設される。
【００２０】
液晶パネル２は、シール材４によって接着された一対の基板５ａ及び基板５ｂを有し、これらの基板５ｂと基板５ｂとの間に形成される間隙、所謂セルギャップに液晶が封入される。換言すると、液晶は基板５ａと基板５ｂとによって挟持されている。これらの基板５ａ及び基板５ｂは、一般には透光性材料、例えばガラス、合成樹脂等によって形成される。基板５ａ及び基板５ｂの外側表面には偏光板６ａ及び偏光板６ｂが貼り付けられている。尚、図１においては、偏光板６ｂの図示を省略している。
【００２１】
また、基板５ａの内側表面には電極７ａが形成され、基板５ｂの内側表面には電極７ｂが形成される。これらの電極７ａ，７ｂはストライプ状または文字、数字、その他の適宜のパターン状に形成される。また、これらの電極７ａ，７ｂは、例えばＩＴＯ（ＩｎｄｉｕｍＴｉｎＯｘｉｄｅ：インジウムスズ酸化物）等の透光性材料によって形成される。基板５ａは基板５ｂに対して張り出した張り出し部を有し、この張り出し部に複数の端子８が形成されている。これらの端子８は、基板５ａ上に電極７ａを形成するときに電極７ａと同時に形成される。従って、これらの端子８は、例えばＩＴＯによって形成される。これらの端子８には、電極７ａから一体に延びるもの、及び導電材（不図示）を介して電極７ｂに接続されるものが含まれる。
【００２２】
尚、実際の電極７ａ，７ｂ及び端子８は、極めて狭い間隔をもって多数本が基板５ａ及び基板５ｂ上にそれぞれ形成されるが、図１においては、液晶パネル２の構造の理解を容易にするために、それらの間隔を拡大して模式的に示すとともに、それらの内の数本のみを図示することにして他の部分を省略してある。また、端子８と電極７ａとの接続状態及び端子８と電極７ｂとの接続状態も図１においては図示を省略している。
【００２３】
また、実装構造体３には、配線基板９上の所定位置に半導体チップとしての液晶駆動用ＩＣ１０が実装される。尚、図示は省略しているが、液晶駆動用ＩＣ１０が実装される部位以外の部位の所定位置に抵抗、コンデンサ、その他のチップ部品を実装しても良い。配線基板９は、例えばポリイミド等の可撓性を有するベース基板１１の上に形成されたＣｕ等の金属膜をパターニングして配線パターン１２を形成することによって製造される。尚、実際の配線パターン１２は、極めて狭い間隔をもって多数本がベース基板１１上に形成されているが、図１においては、構造の理解を容易にするために、それらの間隔を拡大して模式的に示すとともに、構造を簡略化して図示してある。尚、パターニングにより配線パターン１２を形成した配線基板９の製造方法の詳細については後述する。
【００２４】
ベース基板１１として可撓性基板を用いてその上に実装部品を実装すればＣＯＦ（ＣｈｉｐＯｎＦｉｌｍ）方式の実装構造体が構成され、ベース基板１１として硬質の基板を用いてその上に実装部品を実装すればＣＯＢ（ＣｈｉｐＯｎＢｏａｒｄ）方式の実装構造体が構成される。また、図１において、配線パターン１２には、実装構造体３の一側辺部に形成される出力用端子１２ａ及びそれに対向する側辺部に形成される入力用端子１２ｂが含まれる。また、配線パターン１２の内、液晶駆動用ＩＣ１０を装着するための領域に臨み出る部分は半導体用端子１３を構成する。
【００２５】
また、図１に示すように、実装構造体３はＡＣＦ（ＡｎｉｓｏｔｒｏｐｉｃＣｏｎｄｕｃｔｉｖｅＦｉｌｍ：異方性導電膜）１４を介して液晶パネル２の基板５ａに固定される。このとき、実装構造体３の出力用端子１２ａはＡＣＦ１４を介して基板５ａの端子８と電気的に接続される。このＡＣＦ１４は、周知の通り、一対の端子間を異方性を持たせて電気的に一括接続するために用いられる導電性のある高分子フィルムであって、図２に示すように、例えば、熱可塑性又は熱硬化性の接着用樹脂１４ａの中に多数の導電粒子１４ｂを分散させることによって形成される。図２は、ＡＣＦ１４，１６により配線基板９と液晶駆動用ＩＣ１０及び液晶パネル２とが固定される様子を示す断面図である。
【００２６】
液晶駆動用ＩＣ１０は、その接合面、即ち能動面に、複数のバンプ１５を有する。図１及び図２に示すように、液晶駆動用ＩＣ１０はＡＣＦ１６によってベース基板１１上の所定位置に実装される。このＡＣＦ１６は、ＡＣＦ１４と同様に一対の端子間を異方性を持たせて電気的に一括接続するために用いられる導電性のある高分子フィルムであって、図２に示すように、例えば、熱可塑性又は熱硬化性の接着用樹脂１６ａの中に多数の導電粒子１６ｂを分散させることによって形成される。
【００２７】
以上、本発明の第１実施形態による電気光学装置としての液晶表示装置の構成及び本発明の第１実施形態による実装構造体３の概略構成について説明したが、次に、実装構造体３に形成される配線パターン１２について詳細に説明する。図３は、本発明の第１実施形態による実装構造体３に形成される配線パターン１２を示す上面図である。尚、図３において、図１に示した部材と同一の部材には同一の符号を付してある。
【００２８】
本実施形態の実装構造体３に形成される配線パターン１２は、機能的に第１配線としての配線パターン２５と、第２配線としての配線パターン２６との２つに大別することができる。配線パターン２５は、入力用端子１２ｂの一部と半導体用端子１３の一部とを接続し、且つ、出力用端子１２ａの一部と半導体用端子１３の一部とを接続するものであり、液晶駆動用ＩＣ１０に接続される。この配線パターン２５は、液晶パネル２がカラー液晶パネルであるため白黒の液晶パネルよりも信号線が多く用意され、しかも実装構造体３の小型化の要求から細線化され且つ稠密に配列されている。
【００２９】
一方、配線パターン２６は、残りの入力用端子１２ｂと残りの出力側端子１３とを接続するものであり、配線パターン２５の配列方向Ｄ１に配線パターン２５を挟むように、且つ配線パターン２５の線幅よりも幅広に形成されており、液晶駆動用ＩＣ１０に対しては非接続となっている。この配線パターン２６は、例えば液晶パネル２の駆動用の大電流を必要とするものである場合に、液晶パネル２に対して大電流を供給するためのものである。
【００３０】
また、配線パターン２６は、液晶駆動用ＩＣ１０の近傍においてそれぞれ分断されており、各分断部の間は第３配線としての複数の配線パターン２７で接続されている。配線パターン２７は、配線パターン２５と平行に、略同一の線幅、配列ピッチで形成されており、その本数は線幅の合計が配線パターン２６の線幅以上となる値に設定されている。ここで、配線パターン２６（配線パターン２７の合計幅）が配線パターン２５の線幅よりも幅広に形成されているので、入力用端子１２ｂからの大電流を出力用端子１２ａを介して液晶パネル２に問題なく供給することが可能となっている。また、配線パターン２７の線幅の合計が配線パターン２６の線幅を超えるときには、配線パターン２７において抵抗値が減少することになるため、安定した電源、信号を供給することが可能になる。
【００３１】
図３中の符号Ｌ１，Ｌ２を付した線は、配線基板９を折り曲げる場合の折り曲げ位置を示している。本実施形態の電気光学装置としての液晶表示装置を携帯電話機等の電子機器の筐体内に実装する場合には、筐体に対する液晶パネル２の配置と入力用端子１２ｂの配置との関係、及び、各種の電子部品を高密度で筐体内に実装する必要から、配線基板９を折り曲げることが必要な場合がある。例えば、図４に示した例では、配線基板９を図中符号Ｄ２を付した方向、つまり、配線パターン１２の配列方向Ｄ１の周りに折り曲げることにより、配線基板９を液晶パネル２の裏面に配置している。図４は、配線基板９の折り曲げ方向を説明するための斜視図である。尚、ここでいう液晶パネル２の裏面とは、表示面に設定されていない面をいい、例えばバックライトが配置される側の面である。
【００３２】
図５は、配線基板９を折り曲げた状態の一例を示す断面図である。尚、図５においても、図１〜図４に示した部材と同一の部材には同一の符号を付している。図５に示したように、基板５ｂの一側面（液晶パネル２の裏面）にはバックライト２０が配置されており、バックライト２０の裏面に液晶パネル２を駆動するＩＣ等の電子部品が搭載された回路基板２１が配置される。この回路基板２１の一端部にはコネクタ２２が配置されている。このコネクタ２２は接続端子２３を介して回路基板２１に固定されているとともに、回路基板２１に形成されている電気回路と接続されている。
【００３３】
また、図示したように、本実施形態の実装構造体３の一部をなす配線基板９は、図５中符号２４ａ，２４ｂを付した折り曲げ位置で折り曲げられており、入力用端子１２ｂがコネクタ２２に嵌合された状態でコ字形状に実装されている。ここで、図５に示すように配線基板９を実装する際には、出力用端子１２ａがＡＣＦ１４を介して基板５ａと電気的に接続されているため、図５中符号９ａを付した面側に配線パターン１２及び液晶駆動用ＩＣ１０が配置されている。
【００３４】
図６は、配線基板９を折り曲げた状態の他の例を示す断面図である。尚、図６においても、図１〜図５に示した部材と同一の部材には同一の符号を付している。図５においては、液晶パネル２の表面側（液晶パネル２を透過した光が射出される側）に基板５ａが配置されていた。しかしながら、図６に示した例では、液晶パネル２の表面側に基板５ｂが配置されており、基板５ａはバックライト２０に対面する位置に配置されている。かかる配置の場合には、本実施形態の実装構造体３の一部をなす配線基板９は、図６中符号２４ａ，２４ｂを付した折り曲げ部で折り曲げられる点については図５に示した例と同一であるが、その折り曲げ方向が逆となる。
【００３５】
つまり、図５に示した例では、図５中符号９ａを付した面側がコ字状に折り曲げられた配線基板９の外側に配置され、従って配線パターン１２及び液晶駆動用ＩＣ１０が配線基板９の外側に配置される。しかしながら、図６に示した例では、符号９ａを付した面側が配線基板９によって包まれるように折り曲げられている。その結果として、液晶駆動用ＩＣ１０及び配線パターン１２が配線基板９によって包まれるように配置される。
【００３６】
図３に戻り、配線パターン１２の配列方向Ｄ１の両端における配線パターン２６が他の配線よりも幅広に形成されているため、折り曲げ位置Ｌ１，Ｌ２で配線基板９を折り曲げる際に、配線パターン１２の破損を防止することができる。通常、配線基板９を折り曲げる際には、他の部位（例えば、配列方向Ｄ１における配線パターン１２の中央部）よりも両端により大きな応力がかかり、配列方向Ｄ１における端部に形成された配線パターン１２が破損する確率が高い。このため、本実施形態では、配列方向Ｄ１の両端部に形成されている配線パターン１２を幅広に形成することで、このような不具合を回避できる。
【００３７】
以上説明したように、本実施形態による実装構造体３では、配線パターン２６を分断し、分断部の間を配線パターン２５と略同一幅の配線パターン２７で接続するので、液晶駆動用ＩＣ１０近傍の配線パターンを略同一線幅で統一して配列することができる。そのため、配線が膨張した場合でも膨張量が均一となり、膨張の不均一に起因するベース基板１１の歪みや反りを抑制することができ、液晶駆動用ＩＣ１０を実装する際の品質低下を防止することができる。また、本実施の形態では、配線パターンの線幅のみならず、配列ピッチも略同位置に形成しているので、配列方向の膨張量の不均一を一層抑制することが可能である。
また、本実施の形態では、配線パターン２７の線幅の合計を配線パターン２６の線幅以上に設定しているので、配線パターン２７において抵抗値が減少することになるため、安定した電源、信号を供給することが可能になっている。
【００３８】
次に、本発明の第２実施形態による実装構造体について説明する。本発明の第２実施形態による実装構造体の基本的な構成は図１及び図２に示した実装構造体３とほぼ同様の構成であるが、配線基板９に形成されている配線パターン１２が異なる。図７は、本発明の第２実施形態による実装構造体３に形成される配線パターン１２を示す上面図である。
【００３９】
本実施形態の実装構造体３に形成される配線パターン１２は、入力用端子１２ｂと半導体用端子１３とを接続し、且つ、出力用端子１２ａと半導体用端子１３とを接続している。この配線パターン１２は何れも液晶駆動用ＩＣ１０に接続され、液晶パネル２がカラー液晶パネルであるため白黒の液晶パネルよりも信号線が多く用意され、しかも実装構造体３の小型化の要求から細線化され且つ稠密に配列されている。配線パターン１２の配列方向Ｄ１の両端は、他よりも幅広に形成されている。この幅広に形成された配線パターン１２の線幅は、０．１〜１ｍｍ程度である。
【００４０】
これら配線パターン１２は、配列方向両端を除く細線化された第１配線としての配線パターン２８ａと、配線パターン２８ａを挟む両側に配置され配線パターン２８ａの線幅より幅広に形成された第２配線としての配線パターン２８ｂと、液晶駆動用ＩＣ１０の近傍において分断された配線パターン２８ｂと液晶駆動用ＩＣ１０とを接続する第３配線としての複数の配線パターン２８ｃとから構成される。配線パターン２８ｃは、配線パターン２８ａの線幅と略同一の線幅、配列ピッチで形成されており、その本数は線幅の合計が配線パターン２８ｂの線幅以上となる値に設定されている。
【００４１】
この構成によれば、配線パターン１２の中、配列方向両側の配線パターン２８ｂの線幅が幅広に形成されているので、配線基板９を折り曲げる際の応力に耐えうる強度を有することに加えて、液晶駆動用ＩＣ１０の近傍における配線の線幅を略同一に統一しているので、熱膨張量が均一となり、膨張の不均一に起因するベース基板１１の歪みや反りを抑制して液晶駆動用ＩＣ１０を実装する際の品質低下を防止することができ、製造歩留まりの向上を図ることもできる。
【００４２】
以上説明した実施形態は、電気光学装置として液晶表示装置を例に挙げて説明したが、本発明は電気光学装置として有機ＥＬ表示装置を用いることも可能である。図８は、本発明の第３実施形態による電気光学装置としての有機ＥＬ表示装置に設けられる有機ＥＬパネルの断面図である。有機ＥＬパネル（電気光学パネル）３０は、基板３１上にマトリクス状にＴＦＴ（ＴｈｉｎＦｉｌｍＴｒａｎｓｉｓｔｏｒ）３２を形成し、更にその上に複数の積層体３３を形成して概略構成されている。
【００４３】
ＴＦＴ３２は、ソース電極、ゲート電極、及びドレイン電極が形成されており、例えばゲート電極は図３に示した配線パターン２５の何れかと電気的に接続され、ソース電極は例えば図３に示した配線パターン２６の何れかと電気的に接続される。上記積層体３３は、陽極層３４、正孔注入層３５、発光層３６、及び陰極層３７を含んで構成される。上記陽極層３４は、ＴＦＴ３２のドレイン電極と接続されており、ＴＦＴ３２がオン状態にあるときに、図３に示した配線パターン２６からの電流が、ＴＦＴ３２のソース電極及びドレイン電極を介して陽極層３４に供給される。また、陰極層３７は図３に示した他の配線パターン２６に電気的に接続されている。
【００４４】
以上の構成の有機ＥＬパネル３０において、陽極層３４から正孔注入層３５を介して発光層３６に注入された正孔（ホール）と、陰極層３７から発光層３６に注入された電子とが発光層３６内において再結合して生ずる光は、基板３１側から射出される。従って、図８に示した有機ＥＬパネル３０に接続される配線基板９は、陰極層側に折り曲げて実装する必要がある。つまり、折り曲げられた配線基板９は、基板３１側に配置されるのではなく、陰極層３７側に配置されることになる。尚、電気光学装置として有機ＥＬ表示装置を備える場合には、大電流が必要となるため、有機ＥＬ表示装置に接続される実装構造体３は、図３に示した実装構造体を用いることが好適である。
【００４５】
図９は、本発明の第４実施形態による電気光学装置としての有機ＥＬ表示装置に設けられる有機ＥＬパネルの断面図である。有機ＥＬパネル（電気光学パネル）４０は、基板３１上にマトリクス状にＴＦＴ（ＴｈｉｎＦｉｌｍＴｒａｎｓｉｓｔｏｒ）３２を形成し、更にその上に複数の積層体３３を形成して概略構成されている点は、図８に示した有機ＥＬパネル３０と同一である。しかし、本実施形態の有機ＥＬパネル４０は、ＴＦＴ３２が発光層３６の下側に形成されており、陰極層３７がＩＴＯ等の透明電極で形成されている点が異なる。
【００４６】
つまり、本実施形態の有機ＥＬパネル４０は、発光層３６で生じた光が、陰極層３７を介して射出される点が異なる。かかる構成の場合には、有機ＥＬパネル４０に接続される配線基板９は、基板３１側に折り曲げて実装する必要がある。つまり、折り曲げられた配線基板９は、陰極層３７側に配置されるのではなく、基板３１側に配置されることになる。尚、電気光学装置として有機ＥＬ表示装置を備える場合には、大電流が必要となるため、第３実施形態と同様に有機ＥＬ表示装置に接続される実装構造体３は、図３に示した実装構造体を用いることが好適である。
【００４７】
〔実装構造体の製造方法〕
次に、第１実施形態及び第２実施形態に示した実装構造体３の製造方法について説明する。図１０は、本発明の実施形態による実装構造体３の製造方法の一例を示すフローチャートである。実装構造体３の製造にあたり、まず配線基板９の設計が行われる（工程Ｓ１０）。この工程では、配線基板９の外形寸法の設計、液晶駆動用ＩＣ１０の搭載位置、並びに配線パターンの本数及び形成位置等を設計する。
【００４８】
次に、上面の全面に金属層が形成されたベース基板を穴あけ加工して実装構造体３の外形形状を整形する（工程Ｓ１１）。このとき、例えば図３及び図７中の折り曲げ位置Ｌ１，Ｌ２に配線パターンの配列方向に沿って穴あけ加工により矩形形状の孔を形成することが好ましい。かかる矩形形状の孔を形成することにより、配線基板９の折り曲げが容易となる。尚、上記金属層は、例えばポリイミド等の可撓性を有するベース基板１１の上に形成されたＣｕ等の金属膜である。
【００４９】
ベース基板の穴あけ加工が終了すると、ベース基板１１の上面全面にレジストをコーディングし（工程Ｓ１２）、露光工程、現像工程、及びエッチング工程を順に行って、配線パターン１２を形成する（工程Ｓ１３）。配線パターン１２を形成した後は、ベース基板１１の上面に残存しているレジストを除去する（工程Ｓ１５）。以上の工程により、図３に示した配線パターン１２（２５〜２７）、又は、図７に示した配線パターン１２（２８ａ〜２８ｃ）が形成される。尚、配線パターンはメッキにより形成してもよい。
【００５０】
以上の工程が終了すると、次に、配線パターン１２が形成されたベース基板１１の上面にソルダーレジストを印刷し（工程Ｓ１５）、露光工程、現像工程、及びエッチング工程を順に行って、ソルダーレジストパターンを形成する（工程Ｓ１６）。尚、このソルダーレジストパターンは、出力用端子１２ａ、入力用端子１２ｂ、及び半導体用端子１３が形成される位置には形成されない。
【００５１】
以上の工程が終了すると、錫、金、又は金／ニッケル、はんだ等の導電性材料をメッキして、入力用端子１２ｂ、出力用端子１２ａ、及び半導体用端子１３をそれぞれ形成する（工程Ｓ１７）。以上の工程を経て、配線基板９が形成される。配線基板９が形成されると、半導体用端子１３が形成されている位置に液晶駆動用ＩＣ１０を搭載することにより（工程Ｓ１８）、本実施形態の実装構造体３が製造される。
【００５２】
液晶駆動用ＩＣ１０を配線基板９上に搭載するには、ＡＣＦ１６を配線基板９と液晶駆動用ＩＣ１０との間に挟んで図示せぬ圧着ヘッドにより熱圧着することにより、図２に示した接着用樹脂１６ａによって液晶駆動用ＩＣ１０が配線基板９に固着される。より具体的に説明すると、液晶駆動用ＩＣ１０のバンプ１５を半導体用端子１３と対向させ、液晶駆動用ＩＣ１０に図示せぬ圧着ヘッドを押し当てて加熱及び加圧すると、ＡＣＦ１６が溶融して流動する。加熱によってＡＣＦ１６が固化し、又は、硬化することにより、接着用樹脂１６ａによって液晶駆動用ＩＣ１０が配線基板９に固着する。また、導電粒子１６ｂによって液晶駆動用ＩＣ１０のバンプ１５と半導体用端子１３とが互いに導電接続される。尚、ＡＣＦの代わりに接着剤中に導電粒子のないＮＣＦ（ＮｏｎＣｏｎｄｕｃｔｉｖｅＦｉｌｍ）を用いてもよい。このとき、配線基板９（ベース基板１１）に熱が加わるが、上述したように、液晶駆動用ＩＣ１０近傍の配線の線幅及び配列ピッチが略同一となっているため、膨張量が均一となり、ベース基板１１の歪みや反りを抑制することができる。
【００５３】
以上の実施形態では、ＡＣＦ１６を用いて、液晶駆動用ＩＣ１０を配線基板９に固着するとともに、液晶駆動用ＩＣ１０と配線パターン１２とを電気的に接続した訳であるが、本実施形態ではＡＣＦ１６やＮＣＦを用いない他の方法を用いて液晶駆動用ＩＣ１０を配線基板９上に搭載しても良い。図１１は、液晶駆動用ＩＣ１０を配線基板９に搭載する他の方法の一例を示す図である。
【００５４】
図１１に示した例では、まず図１１（ａ）に示すように、液晶駆動用ＩＣ１０のバンプ１５として、金バンプを形成する。この金バンプは、例えば液晶駆動用ＩＣ１０に形成されているアルミパッド上に電解メッキ法、無電解メッキ法、印刷法、蒸着法、ボールバンプ法などにより形成する。尚、バンプを形成する材料は、金に限られず、ニッケル、銅、錫や、もしくは、金を含めてこれらの金属が積層されたものでもよい。また、このように形成されたバンプの上に電解、無電解メッキ法や印刷法ではんだなどのろう材をキャッピングしてもよい。次に、図１１（ｂ）に示すように、配線基板９をステージ５０上に載置するとともに、液晶駆動用ＩＣ１０を搭載位置に配置し、且つ液晶駆動用ＩＣ１０の上部にツール５１を配置する。ここで、ステージ５０は数十〜百数十℃程度の範囲で温度を設定することができ、ツール５１は数百℃に温度を設定することができる。
【００５５】
ステージ５０、配線基板９、液晶駆動用ＩＣ１０、及びツール５１を図１１（ｂ）に示した配置として、ステージ５０及びツール５１の温度を設定した状態で、ツール５１をステージ５０の方向へ移動させて液晶駆動用ＩＣ１０を加熱・加圧し、液晶駆動用ＩＣ１０に形成されたバンプ１５を配線パターン１２の半導体用端子１３に接合させる。液晶駆動用ＩＣ１０と配線パターン１２との接合が完了すると、図１１（ｃ）に示したように、液晶駆動用ＩＣ１０とベース基板１１との間に、毛細管現象を利用して封止樹脂を流し込み、凝固させる。以上の工程によって、液晶駆動用ＩＣ１０が配線基板９上に搭載される。尚、封止樹脂としてＡＣＰ（ＡｎｉｓｏｔｒｏｐｉｃＣｏｎｄｕｃｔｉｖｅＰａｓｔｅ）やＮＣＰ（ＮｏｎＣｏｎｄｕｃｔｉｖｅＰａｓｔｅ）を用い、配線基板９にこれらを先に塗布しておき、液晶駆動用ＩＣ１０を搭載してもよい。
【００５６】
以上説明した工程を経て、実装構造体３が製造される訳であるが、以上の工程の他に、配線基板９上に図示せぬチップ部品を搭載する工程を設けても良い。ここで、搭載されるチップ部品は、例えば、コンデンサ、抵抗等の能動部品や、コネクタ等の電子要素が考えられる。尚、図１０，図１１は、液晶パネル２に接続される実装構造体３の製造方法を例に挙げて説明したが、有機ＥＬパネルに接続される実装構造体を製造する場合にも同様の製造方法にて製造することができる。
【００５７】
なお、上記実施形態では、可撓性基板上に実装部品を実装するＣＯＦ（ＣｈｉｐＯｎＦｉｌｍ）方式の実装構造体の例を用いて説明したが、これに限定されるものではなく、硬質の基板を用いてその上に実装部品を実装するＣＯＢ（ＣｈｉｐＯｎＢｏａｒｄ）方式や、フィルム基板に実装部品を接合するＴＣＰ（ＴａｐｅＣａｒｒｉｅｒＰａｃｋａｇｅ）方式にも適用可能である。
【００５８】
〔電子機器〕
以上、本発明の実施形態による実装構造体及びその製造方法並びに電気光学装置について説明したが、本実施形態の実装構造体及び電気光学装置が搭載される電子機器について説明する。以上説明した電気光学装置としての液晶表示装置、ＣＰＵ（中央処理装置）等を備えたマザーボード、キーボード、ハードディスク等の電子部品を筐体内に組み込むことで、例えば図１２に示すノート型のパーソナルコンピュータ６０（電子機器）が製造される。
【００５９】
図１２は、本発明の一実施形態による電子機器としてのノート型コンピュータを示す外観図である。図１２において６１は筐体であり、６２は液晶表示装置であり、６３はキーボードである。尚、図１２においては、液晶表示装置を備えるノート形コンピュータを示しているが、液晶表示装置に代えて有機ＥＬ表示装置を備えていても良い。図１３は、他の電子機器としての携帯電話機を示す斜視図である。図１３に示した携帯電話機７０は、アンテナ７１、受話器７２、送話器７３、液晶表示装置７４、及び操作釦部７５等を備えて構成されている。また、図１３に示した携帯電話機においても液晶表示装置７４に代えて有機ＥＬ表示装置を備えた構成であっても良い。
【００６０】
また、上記実施形態では、電子機器としてノート型コンピュータ及び携帯電話機を例に挙げて説明したが、これらに限らず、液晶プロジェクタ、マルチメディア対応のパーソナルコンピュータ（ＰＣ）及びエンジニアリング・ワークステーション（ＥＷＳ）、ページャ、ワードプロセッサ、テレビ、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、電子手帳、電子卓上計算機、カーナビゲーション装置、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた装置等の電子機器に適用することが可能である。
【００６１】
以上、本発明の実施形態による実装構造体及びその製造方法、電気光学装置、並びに電子機器について説明したが、本発明は上記実施形態に制限されることなく、本発明の範囲内で自由に変更が可能である。例えば、上記実施形態においては、露光、現像、エッチング等の工程を経てベース基板１１上に配線パターン１２を形成していたが、配線パターン１２は、接着剤層によってベース基板１１の上に固着してもよいし、スパッタリング法、ロールコート法等の成膜法を用いてベース基板１１の上に直接に固着してもよい。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施形態による電気光学装置としての液晶表示装置の分解斜視図である。
【図２】配線基板と駆動用ＩＣ及び液晶パネルが固定される図である。
【図３】実装構造体に形成される配線パターンを示す上面図である。
【図４】配線基板の折り曲げ方向を説明するための斜視図である。
【図５】配線基板を折り曲げた状態の一例を示す断面図である。
【図６】配線基板を折り曲げた状態の他の例を示す断面図である。
【図７】本発明の第２実施形態による配線パターンを示す上面図である。
【図８】本発明の第３実施形態による有機ＥＬパネルの断面図である。
【図９】本発明の第４実施形態による有機ＥＬパネルの断面図である。
【図１０】本発明の実装構造体の製造方法のフローチャート図である。
【図１１】液晶駆動用ＩＣを配線基板に搭載する一例を示す図である。
【図１２】本発明の電子機器を示す外観図である。
【図１３】他の電子機器としての携帯電話機を示す斜視図である。
【符号の説明】
１液晶表示装置（電気光学装置）、３実装構造体、１０液晶駆動用ＩＣ（半導体チップ）、１１ベース基板、１２ａ出力用端子、１２ｂ入力用端子、１３半導体用端子、２５、２８ａ配線パターン（第１配線）、２６、２８ｂ配線パターン（第２配線）、２７、２８ｃ配線パターン（第３配線）、３０、４０有機ＥＬパネル（電気光学パネル）、６０パーソナルコンピュータ（電子機器）、７０携帯電話機（電子機器）

Claims

ベース基板上に半導体チップと、該半導体チップ近傍に複数の配線が配列形成された実装構造体であって、
前記複数の配線は、複数の第１配線と、該第１配線の線幅より幅広の第２配線とを含み、
前記第２配線は、前記半導体チップ近傍で分断され、且つ前記第１配線と略同一幅の複数の第３配線に接続されることを特徴とする実装構造体。
請求項１記載の実装構造体において、
前記複数の第３配線の線幅の合計は、前記第２配線の線幅以上であることを特徴とする実装構造体。
請求項１または２記載の実装構造体において、
前記第１配線の配列ピッチと、前記第３配線の配列ピッチとは略同一であることを特徴とする実装構造体。
請求項１から３のいずれかに記載の実装構造体において、
前記ベース基板は、前記第２配線が形成されている箇所で前記配線の配列方向の周りに折り曲げられることを特徴とする実装構造体。
請求項１から４のいずれかに記載の実装構造体において、
前記第２配線及び前記第３配線は、前記半導体チップに非接続で形成されることを特徴とする実装構造体。
金属層が形成されているベース基板の、当該金属層をパターニングし、配列された複数の第１配線と、半導体チップ近傍で分断され前記第１配線の線幅より幅広の第２配線と、前記第１配線と略同一幅で、分断された前記第２配線の間を接続する複数の第３配線とを形成する配線形成工程と、
前記配線形成工程で形成された第１配線、第２配線及び第３配線の端部をメッキ処理して、前記第１配線の一端に複数の入力用端子又は複数の出力用端子、他端に複数の半導体用端子をそれぞれ形成するとともに、前記第２配線の端部に入力用端子及び出力用端子を形成する端子形成工程と、
前記半導体用端子が形成された位置に半導体チップを実装する実装工程と
を含むことを特徴とする実装構造体の製造方法。
電気光学パネルと、
前記電気光学パネルに電気的に接続された請求項１から請求項５の何れか一項に記載された実装構造体と、
を備えることを特徴とする電気光学装置。
請求項７記載の電気光学装置と、
前記電気光学装置を収容する筐体と、
を有することを特徴とする電子機器。