JP2004186286A - 金属ボールの形成方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】CSPなどの半導体装置において、半田ボールを簡単な構造で安価な装置を用いて形成する。
【解決手段】まず、ウエハ状態のシリコン基板1上の柱状電極8上にスクリーン印刷法によりフラックス14を塗布する。次に、柱状電極8上に塗布されたフラックス14よりもやや上方に印刷マスク15を配置し、印刷マスク15上の所定の箇所に多数の半田ボール10を供給し、印刷マスク15の上面よりもやや上方においてスキージ17を所定の方向に移動させながら、その空気吹き出し口18から空気を矢印で示すように比較的弱く吹き出させる。すると、印刷マスク15の各開口部16内におけるフラックス14上に半田ボール10が1個ずつ配置される。この半田ボールの配置方法は一種のスクリーン印刷法であるので、半田ボールを簡単な構造で安価な装置を用いて形成することができる。
【選択図】 図4

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
この発明は、半田ボールなどからなる金属ボールの形成方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
例えばBGA(ball grid array)と呼ばれる半導体装置では、半導体基板上の複数の半田ボール形成領域上に半田ボールを形成している。従来のこのような半田ボールの形成方法には、半導体基板上の複数の半田ボール形成領域に対応する部分に吸引孔を有する吸着治具を用いて、まず各吸引孔に半田ボールを1個ずつ吸着させ、次いで各吸引孔に吸着された各半田ボールを半導体基板上の各半田ボール形成領域上に位置させて吸着を解除し、これにより、半導体基板上の各半田ボール形成領域上に半田ボールを形成するようにしたものがある(例えば、特許文献1参照)。
【0003】
【特許文献1】
特開平8−264930号公報
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、上記従来の半田ボールの形成方法では、半導体基板上の複数の半田ボール形成領域に対応する部分に吸引孔を有する吸着治具を用いているが、この吸着治具が特殊な構造で高価であるという問題があった。
そこで、この発明は、半田ボールなどの金属ボールを簡単な構造で安価な装置を用いて形成することができる金属ボールの形成方法を提供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】
請求項1に記載の発明は、基板上の複数の金属ボール形成領域上に金属ボールを形成する金属ボールの形成方法であって、前記基板上の複数の金属ボール形成領域に対応する部分に開口部を有するマスクを前記基板上に配置し、前記マスク上に多数の金属ボールを供給し、気体吹き出し口を有するスキージを前記マスク上において移動させながら前記気体吹き出し口から気体を前記マスク上の前記金属ボールに吹き付けることにより、前記マスクの各開口部内に前記金属ボールを配置することを特徴とするものである。
請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の発明において、前記スキージの移動と前記気体の吹き付けとにより、前記金属ボールを前記マスク上において転がるように移動させることを特徴とするものである。
請求項3に記載の発明は、請求項1に記載の発明において、前記マスクを前記基板上の金属ボール形成領域面よりもやや上方に配置することを特徴とするものである。
請求項4に記載の発明は、請求項3に記載の発明において、前記スキージを前記マスクの上面よりもやや上方において移動させることを特徴とするものである。
請求項5に記載の発明は、請求項1に記載の発明において、前記マスクの厚さは、該マスク上に供給される前記金属ボールの直径よりも小さくなっていることを特徴とするものである。
請求項6に記載の発明は、請求項1に記載の発明において、前記マスクの開口部のサイズは、該マスク上に供給される前記金属ボールの直径よりも大きくて当該直径の2倍よりも小さくなっていることを特徴とするものである。
請求項7に記載の発明は、請求項1に記載の発明において、前記マスクの各開口部内に前記金属ボールを配置する前に、スクリーン印刷法により、前記基板上の金属ボール形成領域上にフラックスを塗布することを特徴とするものである。
請求項8に記載の発明は、請求項1に記載の発明において、前記マスクの各開口部内に前記金属ボールを配置した後に、リフローにより前記金属ボールを前記基板上の金属ボール形成領域上に固着することを特徴とするものである。
請求項9に記載の発明は、請求項1に記載の発明において、前記基板は複数の接続パッドを有する半導体基板であり、前記金属ボール形成領域は前記各接続パッドに接続された柱状電極の上面であることを特徴とするものである。
請求項10に記載の発明は、請求項9に記載の発明において、前記柱状電極は前記半導体基板上に形成された再配線上に形成されていることを特徴とするものである。
請求項11に記載の発明は、請求項1に記載の発明において、前記基板は複数の接続パッドを有する半導体基板であり、前記金属ボール形成領域は前記各接続パッドに接続された再配線の一部であることを特徴とするものである。
請求項12に記載の発明は、請求項9〜11のいずれかに記載の発明において、前記マスクの各開口部内における前記基板上の金属ボール形成領域上への前記金属ボールの配置は、前記半導体基板がウエハ状態であるときに行うことを特徴とするものである。
請求項13に記載の発明は、請求項12に記載の発明において、前記マスクの各開口部内に前記金属ボールを配置した後に、前記ウエハ状態の半導体基板を切断して個々の半導体装置とすることを特徴とするものである。
請求項14に記載の発明は、請求項1に記載の発明において、前記マスク上に供給された前記多数の金属ボールのうちの前記マスクの各開口部内に配置されなかった余分の金属ボールを回収して再使用することを特徴とするものである。
請求項15に記載の発明は、請求項1に記載の発明において、前記金属ボールは半田ボールであることを特徴とするものである。
そして、この発明によれば、基板上の複数の金属ボール形成領域に対応する部分に開口部を有するマスクと気体吹き出し口を有するスキージとを用いた一種のスクリーン印刷法により金属ボールを形成しているので、金属ボールを簡単な構造で安価な装置を用いて形成することができる。
【0006】
【発明の実施の形態】
図1は、この発明の一実施形態としての半田ボールの形成方法により半田ボールが形成されたものの一例としての半導体装置の断面図を示したものである。この半導体装置は、CSP(chip size package)と呼ばれるもので、シリコン基板(半導体基板)1を備えている。シリコン基板1の上面中央部には集積回路(図示せず)が設けられ、上面周辺部にはアルミニウム系金属などからなる複数の接続パッド2が設けられている。
【0007】
接続パッド2の中央部を除くシリコン基板1の上面には酸化シリコンなどからなる絶縁膜3が設けられ、接続パッド2の中央部は絶縁膜3に設けられた開口部4を介して露出されている。絶縁膜3の上面にはポリイミドなどからなる保護膜5が設けられている。絶縁膜3の開口部4に対応する部分における保護膜5には開口部6が設けられている。
【0008】
両開口部4、6を介して露出された接続パッド2の上面から保護膜5の上面の所定の箇所にかけて下地金属層7aおよび該下地金属層7a上に設けられた上層金属層7bからなる再配線7が設けられている。この場合、下地金属層7aは、詳細には図示していないが、下から順に、チタン層と銅層との2層構造となっている。上層金属層7bは銅層のみからなっている。
【0009】
再配線7の接続パッド部上面には銅からなる柱状電極8が設けられている。再配線7を含む保護膜5の上面にはエポキシ系樹脂などからなる封止膜9がその上面が柱状電極8の上面と面一となるように設けられている。柱状電極8の上面には半田ボール10が設けられている。
【0010】
次に、半田ボールの形成方法の一例について、ここでは、簡単に説明する。まず、図2に示すように、ウエハ状態のシリコン基板1上に、接続パッド2、絶縁膜3、保護膜5、再配線7、柱状電極8および封止膜9が形成され、半田ボール10のみが形成されていないものを用意する。そして、柱状電極8上にスクリーン印刷法によりフラックスを塗布し、次いでフラックス上に一種のスクリーン印刷法により半田ボールを配置し、次いでリフローにより柱状電極8上に半田ボールを固着する。
【0011】
次に、半田ボールの形成方法の一例について具体的に説明する。まず、図3に示すように、柱状電極8の上面を含む封止膜9の上面にメタルマスクなどからなる第1の印刷マスク11を密接させて配置する。この場合、複数の柱状電極8の上面の配置位置に対応した部分における第1の印刷マスク11には開口部12が設けられている。開口部12のサイズは、柱状電極8の上面のサイズとほぼ同じとなっている。
【0012】
次に、第1の印刷マスク11上において通常の硬質ゴムや樹脂などからなる第1のスキージ13を所定の方向(図3において右方向)に移動させることにより、第1の印刷マスク11上の所定の箇所に予め供給されたフラックス14を第1の印刷マスク11の開口部12内における柱状電極8上に塗布する。次に、第1の印刷マスク11を取り除く。
【0013】
次に、図4に示すように、柱状電極8上に塗布されたフラックス14よりもやや上方にメタルマスクなどからなる第2の印刷マスク15を配置する。この場合、複数の柱状電極8の上面の配置位置に対応した部分における第2の印刷マスク15には開口部16が設けられている。
【0014】
開口部16のサイズは、供給前の半田ボール10の直径(例えば50μm程度)よりも大きくて当該直径の2倍よりも小さくなっている。第2の印刷マスク15の厚さは、供給前の半田ボール10の直径よりも小さく、且つ、一例として25μm程度以上となっている。第2の印刷マスク15とフラックス14との間隔は、印刷時につまり後述する第2のスキージ17の移動時に第2の印刷マスク15の下面がフラックス14に接触しない範囲でなるべく小さい方が望ましい。
【0015】
ここで、第2のスキージ17の構造について説明する。第2のスキージ17は、外形的には通常の第1のスキージ13と同じであるが、中空であって、先行側の下部の長さ方向(紙面に対して垂直方向)ほぼ全域にわたって空気吹き出し口18が設けられた構造となっている。そして、第2のスキージ17の内部は、図示していないが、チューブを介して圧縮空気供給源に接続されている。
【0016】
さて、柱状電極8上に塗布されたフラックス14よりもやや上方に第2の印刷マスク15を配置したら、次に、第2の印刷マスク15上の所定の箇所に多数の半田ボール10を供給する。次に、第2の印刷マスク15の上面よりもやや上方において第2のスキージ17を所定の方向(図4において右方向)に移動させながら、その空気吹き出し口18から空気を矢印で示すように比較的弱く吹き出させる。すると、印刷マスク15の各開口部16内におけるフラックス14上に半田ボール10が1個ずつ配置される。
【0017】
ここで、第2のスキージ17を第2の印刷マスク15の上面よりもやや上方において所定の方向に移動させるのは、第2の印刷マスク15の厚さが、供給前の半田ボール10の直径(例えば50μm程度)よりも小さく、且つ、一例として25μm程度以上であるというように、極めて薄いため、第2の印刷マスク15が破損しないようにするためである。また、第2のスキージ17で第2の印刷マスク15を直接押さえ付けることがないので、半田ボール10の変形や巻き込みが防止される。
【0018】
また、空気吹き出し口18からの空気の比較的弱い吹き付けにより、半田ボール10は、飛ばされることなく、第2の印刷マスク15上にやや浮き上がったりしながら、第2の印刷マスク15上を転がるように移動し、第2の印刷マスク15の開口部16があるところでは当該開口部16内に確実に落ち込む。さらに、半田ボール10に摩擦による静電気の発生がほとんどなく、半田ボール10同士がくっつきにくいようにすることができる。
【0019】
ここで、一例として、空気吹き出し口18からの空気の吹き出し圧力は、10〜50Pa程度である。空気吹き出し口18からの空気の吹き付け角度(図4に示す矢印と第2の印刷マスク15とのなす角度)は、10〜90°程度である。第2のスキージ17の移動速度は、20mm/sec程度である。
【0020】
さて、第2の印刷マスク15の各開口部16内におけるフラックス14上に半田ボール10を1個ずつ配置したら、次に、第2の印刷マスク15を取り除く。次に、リフローにより、フラックス14を蒸発させて取り除くとともに、図5に示すように、柱状電極8の上面に半田ボール8を固着させて形成する。次に、図6に示すように、ダイシング工程を経ると、図1に示す半導体装置が複数個得られる。
【0021】
以上のように、この半田ボールの形成方法では、特に図4に示すように、シリコン基板1上の複数の柱状電極8の上面の配置位置に対応する部分に開口部16を有する第2の印刷マスク15と空気吹き出し口18を有するスキージ17とを用いた一種のスクリーン印刷法により、第2の印刷マスク15の各開口部16内におけるフラックス14上に半田ボール10を配置しているので、半田ボール10を簡単な構造で安価な装置を用いて形成することができる。なお、空気の代わりに、窒素などの気体を用いてもよい。
【0022】
ところで、図4において、第2の印刷マスク15の右側に半田ボール回収容器(図示せず)を配置しておくと、第2のマスク15上に供給された多数の半田ボール10のうちの第2の印刷マスク15の各開口部16内に配置されなかった余分の半田ボール10を回収して再使用することができる。この場合、上述の如く、第2のスキージ17の空気吹き出し口18からの空気の吹き出しが比較的弱いため、余分の半田ボール10があちこちに飛び散ることがなく、余分の半田ボール10を半田ボール回収容器内に確実に且つほとんど変形することなく回収することができる。
【0023】
なお、上記実施形態では、半田ボール10としてほぼ同一径のものを用いた場合について説明したが、これに限らず、径の異なるものを用いるようにしてもよい。例えば、第2の印刷マスクとして径の異なる3種類の開口部が形成されたものを用い、そして、まず大径の開口部内に大径の半田ボールを配置するとともに、余分の大径の半田ボールを回収し、次いで中径の開口部内に中径の半田ボールを配置するとともに、余分の中径の半田ボールを回収し、次いで小径の開口部内に小径の半田ボールを配置するとともに、余分の小径の半田ボールを回収するようにしてもよい。
【0024】
また、上記実施形態では、この発明を、柱状電極8上に半田ボール10を有する半導体装置に適用した場合について説明したが、これに限らず、例えば図7に示す他の半導体装置にも適用することができる。図7に示す半導体装置において、図1に示す場合と異なる点は、柱状電極8および封止膜9を有せず、再配線7を含む保護膜5の上面に保護膜5と同一の材料からなる別の保護膜21が設けられ、この別の保護膜21に形成された開口部22を介して露出された再配線7の接続パッド部上面に半田ボール10が設けられている。
【0025】
この半導体装置において、別の保護膜21に形成された開口部22を介して露出された再配線7の接続パッド部上面に半田ボール10を形成する場合には、まず、別の保護膜21の開口部22を介して露出された再配線7の接続パッド部上面にフラックスを塗布する。以下の半田ボール配置工程およびリフロー工程は、上記実施形態の場合と同じであるので、その説明を省略する。
【0026】
【発明の効果】
以上説明したように、この発明によれば、基板上の複数の金属ボール形成領域に対応する部分に開口部を有するマスクと気体吹き出し口を有するスキージとを用いた一種のスクリーン印刷法により金属ボールを形成しているので、金属ボールを簡単な構造で安価な装置を用いて形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の一実施形態としての半田ボールの形成方法により半田ボールが形成されたものの一例としての半導体装置の断面図。
【図2】半田ボールを形成するに際し、当初用意した半導体装置の一部の断面図。
【図3】半田ボールを形成する際の当初の工程の断面図。
【図4】図3に続く工程の断面図。
【図5】図4に続く工程の断面図。
【図6】図5に続く工程の断面図。
【図7】半導体装置の他の例の断面図。
【符号の説明】
1 シリコン基板
2 接続パッド
7 再配線
8 柱状電極
9 封止膜
10 半田ボール
11 第1の印刷マスク
12 開口部
13 第1のスキージ
14 フラックス
15 第2の印刷マスク
16 開口部
17 第2のスキージ
18 空気吹き出し口

Claims (15)

  1. 基板上の複数の金属ボール形成領域上に金属ボールを形成する金属ボールの形成方法であって、前記基板上の複数の金属ボール形成領域に対応する部分に開口部を有するマスクを前記基板上に配置し、前記マスク上に多数の金属ボールを供給し、気体吹き出し口を有するスキージを前記マスク上において移動させながら前記気体吹き出し口から気体を前記マスク上の前記金属ボールに吹き付けることにより、前記マスクの各開口部内に前記金属ボールを配置することを特徴とする金属ボールの形成方法。
  2. 請求項1に記載の発明において、前記スキージの移動と前記気体の吹き付けとにより、前記金属ボールを前記マスク上において転がるように移動させることを特徴とする金属ボールの形成方法。
  3. 請求項1に記載の発明において、前記マスクを前記基板上の金属ボール形成領域面よりもやや上方に配置することを特徴とする金属ボールの形成方法。
  4. 請求項3に記載の発明において、前記スキージを前記マスクの上面よりもやや上方において移動させることを特徴とする金属ボールの形成方法。
  5. 請求項1に記載の発明において、前記マスクの厚さは、該マスク上に供給される前記金属ボールの直径よりも小さくなっていることを特徴とする金属ボールの形成方法。
  6. 請求項1に記載の発明において、前記マスクの開口部のサイズは、該マスク上に供給される前記金属ボールの直径よりも大きくて当該直径の2倍よりも小さくなっていることを特徴とする金属ボールの形成方法。
  7. 請求項1に記載の発明において、前記マスクの各開口部内に前記金属ボールを配置する前に、スクリーン印刷法により、前記基板上の金属ボール形成領域上にフラックスを塗布することを特徴とする金属ボールの形成方法。
  8. 請求項1に記載の発明において、前記マスクの各開口部内に前記金属ボールを配置した後に、リフローにより前記金属ボールを前記基板上の金属ボール形成領域上に固着することを特徴とする金属ボールの形成方法。
  9. 請求項1に記載の発明において、前記基板は複数の接続パッドを有する半導体基板であり、前記金属ボール形成領域は前記各接続パッドに接続された柱状電極の上面であることを特徴とする金属ボールの形成方法。
  10. 請求項9に記載の発明において、前記柱状電極は前記半導体基板上に形成された再配線上に形成されていることを特徴とする金属ボールの形成方法。
  11. 請求項1に記載の発明において、前記基板は複数の接続パッドを有する半導体基板であり、前記金属ボール形成領域は前記各接続パッドに接続された再配線の一部であることを特徴とする金属ボールの形成方法。
  12. 請求項9〜11のいずれかに記載の発明において、前記マスクの各開口部内における前記基板上の金属ボール形成領域上への前記金属ボールの配置は、前記半導体基板がウエハ状態であるときに行うことを特徴とする金属ボールの形成方法。
  13. 請求項12に記載の発明において、前記マスクの各開口部内に前記金属ボールを配置した後に、前記ウエハ状態の半導体基板を切断して個々の半導体装置とすることを特徴とする金属ボールの形成方法。
  14. 請求項1に記載の発明において、前記マスク上に供給された前記多数の金属ボールのうちの前記マスクの各開口部内に配置されなかった余分の金属ボールを回収して再使用することを特徴とする金属ボールの形成方法。
  15. 請求項1に記載の発明において、前記金属ボールは半田ボールであることを特徴とする金属ボールの形成方法。
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