JP2004165316A - 多層プリント配線板 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】絶縁層40,60に穿設された開口部に金属が充填されて形成されたパッド51,71を備える多層プリント配線板10において、パッド51,71を、径がバイアパッド51,71の径の30〜60%であり、深さがバイアパッド51,71の厚さの20〜60%である凹部55,75を有する構造とする。これにより、凹部51,71におけるシームやエアボイドを発生させることなく、パッド51,71とその凹部55,75上に形成される導電構造体との接着面積を大きくすることができるので、パッドにおける導電性及び接着性を向上することができる。
【選択図】 図2
Description
本発明は、多層プリント配線板に係り、より詳しくは、絶縁層に穿設された開口部に金属が充填されて形成されたパッドを備える多層プリント配線板に関する。
【0001】
【従来の技術】
近年、パッケージ基板等の絶縁層と導体パターンとが交互に積層された多層プリント配線板が広く利用されている。かかる多層プリント配線板には、層間配線のためにバイアホールが多数形成されている。かかるバイアホールのうち、基板表面部に形成されるバイアホールの一部の基板表面側端部には、基板表面に載置されるICチップ等の電子部品と導体パターンとの電気的な接続を図るための半田バンプと呼ばれる半田の球状突起(半田ボール)が形成されようになっている。
【0002】
こうしたバイアホールには、バイアホールを介した電気的な導通を達成するために、その内部にパッドが形成される。かかるパッドとしては、大別して、図8(A)に示される第1のタイプ(以下、「従来技術1」と呼ぶ)のパッド91、又は図8(B)に示される第2のタイプ(以下、「従来技術2」と呼ぶ)のパッド92が従来から採用されてきた。
【0003】
従来技術1のパッド91は、図9(A)に示されるように、内部にバイアホール自体の形状と相似状の中空部96を有している。パッド91は、バイアホールの底面(内層導体パターンの表面)、内側面及び開口部周辺に所定の厚さの金属メッキを施すことにより形成される。そして、半田で中空部96を充填するとともに、パッド91の外側において球状となるように溶融された半田を供給することにより、パッド91上に球状の半田バンプ93が形成される(例えば、特許文献1参照)。
【0004】
また、従来技術2のパッド92は、図9(B)に示されるように、バイアホール内部を完全に満たすとともに、その表面が平面状とされたものである。パッド92は、バイアホール内部を完全に満たし、その表面が平面状となるような金属メッキ(いわゆるバイアフィルメッキ)を施すことにより形成される。そして、平面状のパッド92表面に球状の半田バンプ93が形成される(例えば、特許文献2参照)。
【0005】
【特許文献1】
特開2000−332395号公報
【特許文献2】
特開2001−156462号公報
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
上述した従来技術1のパッド91では、バイアホールの底面と内側面との交差が緩やかではないため、図9(A)に示されるように、パッド91の底面部と内側面部との間にいわゆるシーム95が発生しやすい。また、半田バンプ93の形成時にパッド91の開口部から溶融状態の半田が中空部96に流れ込むが、溶融状態の半田は粘性が高いことから、図9(A)に示されるように、中空部96内の半田において気泡(エアボイド)94が発生しやすかった。こうしたシーム95やエアボイド94は、内層パターンと電子部品との電気的な導通の信頼性低下の原因となる。
【0007】
従来技術2のパッド92では、バイアフィルメッキによりバイアホールを完全に満たすように形成されているので、従来技術1の場合のようなシーム95やボイド94は発生しない。しかし、パッド92と半田バンプ93との接着面積が小さい。この結果、パッド92による半田バンプ93のシェア強度が高いとはいえず、電子部品等の取り付け等の際に半田バンプ93に外部から大きな力が加わるとはずれることがあった。
【0008】
本発明は、上記の事情を鑑みてなされたものであり、パッド部における導電性及び接着性を向上することができる多層プリント配線板を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】
本発明の多層プリント配線板は、絶縁層に穿設された開口部に金属が充填されて形成されたパッドを備える多層プリント配線板において、前記パッドの少なくとも一部は、その形成後に導電構造体が形成される端部に、径が前記パッドの径の30〜60%であり、深さが前記パッドの厚さの20〜60%である凹部を有する、ことを特徴とする多層プリント配線板である。
【0010】
この多層プリント配線板においては、パッドの一部が、径が当該パッドの径の30〜60%であり、深さが当該パッドの厚さの20〜60%である凹部を有している。かかる大きさの凹部が形成されていても、従来技術1の場合のように、パッドの底面部と側面部の間にシームが形成されることはない。また、こうした凹部上に半田バンプ等の導電構造体を形成した場合には、従来技術2の場合と比べて、パッドとこうした導電構造体との接着面積が増大する。したがって、本発明の多層プリント配線板によれば、パッド部における導通性及び接着性を向上することができる。
【0011】
本発明の多層プリント配線板では、前記凹部の形状を球冠状とすることができる。かかる場合には、凹部の形状を円筒状等にした場合における、パッドの角部において発生するストレスの集中を防止することができ、パッドの変形や破壊を防止することができる。
【0012】
また、本発明の多層プリント配線板では、前記パッドには、前記凹部上に半田バンプが形成された半田バンプ用パッドが含まれる構成とすることができる。このように、半田バンプを形成する半田バンプ用パッドに上述したような凹部を形成すると、半田バンプ用パッドの底面部と側面部の間にシームが形成されることはないこと、及び、半田バンプ用パッドによる半田バンプのシェア強度が増大することに加え、半田バンプを凹部に形成した場合に、パッドの凹部の半田部分におけるエアボイドの発生も防止される。
【0013】
ここで、前記半田バンプ用パッドが、部材装着用の半田バンプの形成領域における外周付近に優先的に配置される構成とすることができる。かかる場合には、部材装着時における半田パッドの多層プリント配線板からの剥れの発生を低減することができる。これは、半田バンプを利用して部材を装着する際に大きな力が加わりやすい半田バンプの形成領域における外周付近の半田バンプの多くを、表面が平面状の導体パターンよりも良い接着性を有する上述した半田バンプ用パッド上に配置することができるからである。
【0014】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の一実施形態を、図1から図8を参照しつつ説明する。
図1には、一実施形態に係る多層プリント配線板10の外観構成が斜視図にて示されている。この多層プリント配線板10は、図1における+Z方向側の表面にICチップ等の電子部品が搭載されるとともに、−Z方向側で不図示のマザーボードと接続され、電子部品とマザーボードとの間において授受される電気信号等の伝達経路の役割を果たすパッケージ基板として構成されている。
【0015】
図1に示されるように、多層プリント配線板10では、配線板本体20の+Z方向側の表面に電子部品取り付け用の多数の半田バンプ(半田ボール)81がマトリクス状に配列されるように形成されている。また、配線板本体20の−Z方向側表面には、マザーボードとの接続に用いられる複数の半田バンプ(半田ボール)82(図1では不図示:図2参照)が形成されている。
【0016】
配線板本体20では、図2(A)において断面図にて示されるように、両表面にグランド層となる内層銅パターン34が形成されたコア基板30の+Z方向側に、下層層間樹脂絶縁層40、信号線を形成する導体パターン52、最外層層間樹脂絶縁層60、及び最外層の導体パターン72が順次積層されている。そして、更に+Z方向側には、半田バンプ81の形成位置を除いて、ソルダーレジスト80が形成されている。
【0017】
また、配線板本体20では、コア基板30の−Z方向側に、+Z方向側と同様に下層層間樹脂絶縁層40、信号線を形成する導体パターン52、最外層層間樹脂絶縁層60、及び最外層の導体パターン72が順次積層されている。そして、更に−Z方向側には、半田バンプ81の形成位置を除いて、ソルダーレジスト80が形成されている。
【0018】
ここで、下層層間樹脂絶縁層40には、内層銅パターン34と導体パターン52とを導通配線するために、バイアホール50を充填するように銅メッキされて形成されたパッド51が形成されている。また、最外層層間樹脂絶縁層60には、導体パターン52と導体パターン72を導通配線するために、バイアホール70を充填するように銅メッキされて形成されたパッド71が形成されている。
【0019】
図2(B)においては、コア基板30から+Z方向側に形成されたパッド51が、代表的に断面図で示されている。図2(B)に示されるように、このパッド51には、そのコア基板30から遠い端部(図2(B)では+Z方向側端部)に凹部55が形成されている。この凹部55は、その径(直径)がパッド51の径の30〜60%、かつその深さがパッド51のZ方向厚さの20〜60%である球冠状とされている。これは、凹部55が上記の範囲外の径の値又は深さの値を有すると、上述したシームやボイドが発生したり、パッド51の凹部55における接着性が十分に向上しなかったりするためである。
【0020】
そして、図2(B)に示されるように、下層層間樹脂絶縁層40におけるパッド51と最外層層間樹脂絶縁層60におけるパッド71とを連結させるいわゆるスタックトアップバイア構造を形成させるときには、パッド51の凹部55上にパッド71が形成されるようになっている。
【0021】
また、図2(B)においては、コア基板30から+Z方向側に形成されたパッド71が、代表的に断面図で示されている。この図2(B)に示されるように、パッド71には、コア基板30から遠い端部(図2(B)では+Z方向側端部)に凹部75が形成されている。この凹部75は、上述した凹部55の場合と同様の理由から、その径がパッド71の径の30〜60%であり、その深さがパッド71のZ方向厚さの20〜60%である球冠状の形状とされている。
【0022】
そして、こうしたパッド71の凹部75上に半田バンプ81,82(図2(B)では半田バンプ81のみを図示)が形成されている。なお、導体パターン72のコア基板30から遠い側の表面上の所定位置にも半田バンプ81,82が形成されている。
【0023】
このようして形成され、マトリクス状に配列された電子部品装着用の半田バンプのうち、それらの形成領域の外周付近に配置された半田バンプについては、上記のように凹部75を形成したパッド71の上に形成された半田バンプ81が優先的に配置されている。また、マザーボードへの装着用の半田バンプについても、それらの形成領域の外周付近にパッド71の凹部75上に形成された半田バンプ82が優先的に配置されている。すなわち、導体パターン72上に形成された場合よりも接触面積よりも大きく、接着信頼性が高い態様でパッド71上に形成された半田バンプ81,82が、電子部品装着用の半田バンプ81の形成領域における周辺部及びマザーボードへの装着用の半田バンプ82の形成領域における周辺部に優先的に配置されている。
【0024】
次に、上述した多層プリント配線板10の製造工程について、BT(ビスマレイミドトリアジン)樹脂又はガラスエポキシ樹脂製のコア基板30の両面に銅箔32がラミネートされている銅張積層板30Aを使用する場合を例に挙げて、図3〜図6を参照して説明する。
【0025】
かかる多層プリント配線板10の作成にあたっては、図3(A)に示されるような銅張積層板30Aを出発材料とする。そして、出発材料である銅張積層板30Aを常法に従ってパターンエッチングすることにより、コア基板30の両面に内層銅パターン34が形成される(図3(B)参照)。
【0026】
次に、内層銅パターン34を形成したコア基板30を、水洗いして乾燥した後、無電解メッキ液に浸漬することにより、内層銅パターン34の表面に銅−ニッケル−リンからなる粗化層(図示せず)を形成する。ここで、無電解メッキ液としては、例えば、硫酸銅、硫酸ニッケル、クエン酸、次亜リン酸ナトリウム、ホウ酸、界面活性剤を後述するような割合で含有するもの(pHは約9)を使用することができる。
【0027】
引き続き、得られた、コア基板30を水洗いし、後述するようなホウふっ化スズとチオ尿素液とを含む無電解スズ置換メッキ浴を調製して、浸漬し、粗化層表面に所望の厚みのスズ層(図示せず)を設ける。
ここで、層間樹脂絶縁層を形成する下記のような成分を含む、無電解メッキ用接着剤を用意する。こうした接着剤としては、市販のクレゾールノボラック型エポキシ樹脂を主成分として含有する(a)、熱可塑性樹脂と熱硬化性樹脂とを含有する(b)、硬化剤等を含有する(c)とを別々に調製し、(a)〜(c)を混合攪拌して製造したものを使用することができる。
【0028】
例えば、(a)は、市販のクレゾールノボラック型エポキシ樹脂の25%アクリル化物、感光性モノマー、消泡剤、及びN−メチル−2‐ピロリドン(以下、「NMP」と略す。)とを混合攪拌して調製することができる。
【0029】
(b)は、熱可塑性樹脂であるポリエーテルスルホン(以下、「PES」と略す。)、熱硬化性樹脂であるエポキシ樹脂、NMPを混合攪拌して調製することができる。
(c)は、硬化剤、光開始剤、光増感剤、及びNMPを示す成分を混合攪拌して調製することができる。
【0030】
上記の(a)〜(c)を混合攪拌して製造した無電解メッキ用接着剤を、ロールコータ等によりコア基板30に塗布し、水平状態で所定時間静置した後、所定の温度で所定の時間、加熱処理(プリベーク)を行うことにより、層間樹脂絶縁層40を形成する(図3(C)参照)。
【0031】
次いで、以上のようにして下層層間樹脂絶縁層40を形成した基板の両面に、所定径の黒円が印刷されたフォトマスクフィルムを密着させる。ついで、超高圧水銀灯等により、所定の積算光量で露光し、トリエチレングリコールジメチルエーテル溶液でスプレー現像し、さらに超高圧水銀灯等により、所定の積算光量で再度露光する。この後、加熱処理(ポストベーク)をすることにより、フォトマスクフィルムに相当する寸法精度に優れた開口部42を有する層間樹脂絶縁層40を形成する(図3(D)参照)。このように処理することにより、例えば、図3(D)に示すような形状の開口部を有する所望の厚みの層間樹脂絶縁層を形成することができる。
【0032】
ついで、上記のような開口部42を形成した基板を、例えば、所定の濃度のクロム酸溶液に所定の時間、浸漬させて、層間樹脂絶縁層40の表面のエポキシ樹脂粒子を溶解除去し、該層間樹脂絶縁層40の表面を粗面化する。こうしたの粗面化処理は、開口部42内部の側面にも施される。この後、中和溶液に浸漬させてから水洗し、さらに、粗面化処理した該基板の表面に、パラジウム触媒を付与することにより、層間樹脂絶縁層40の表面及びバイアホール用開口部42の内壁面に触媒核を付着させる。こうした中和溶液やパラジウム触媒は、市販のものを使用することができる。
【0033】
次に、無電解銅メッキ浴中に基板を浸漬させることにより、粗面全体に無電解銅メッキ膜(図示せず)を形成する。この段階における無電解銅メッキ浴としては、例えば、EDTA、硫酸銅、HCHO、NaOH、α,α’−ビピリジル、PEGを含むものを使用することができ、所定の温度で所定の時間浸漬することにより、所望の厚みの無電解銅メッキ膜を形成することができる。
【0034】
このように形成した無電解銅メッキ膜上に市販の感光性ドライフィルムを張り付けた後、マスクを載置して、所定の積算光量で露光する。この後、現像処理を行うことにより、メッキレジスト46が設けられる。ここで、現像処理に、所定の濃度の炭酸ナトリウム溶液を使用すると、例えば、L/S=25/25μmのメッキレジスト46を設けることができる(図4(A)参照)。
【0035】
次いで、メッキレジスト46が形成されていない部分に、所定の条件で電解銅メッキを施し、開口部42内に電解銅メッキ膜を析出させることにより、パッド51を形成する(図4(B)参照)。この段階における電解銅メッキは、例えば、硫酸銅・5水和物、硫酸、塩素イオン、レベリング剤、光沢剤を含む溶液を使用し、バブリングしながら、所定の電流密度で通電することにより行う。なお、メッキ時間としては、上述した形状の凹部55を有する形状のパッド51が形成される値が採用される。こうした値は、予め経験的に求められたものが採用されている。
【0036】
引き続き、めっきレジスト46を、例えば、所定の濃度のKOHで剥離除去する。この後、表面に残存している無電解めっき膜を、例えば、硫酸と過酸化水素との混合液を用いてエッチング処理することにより溶解除去する。こうして、無電解めっき膜と電解銅めっき膜とからなる導体パターン52及びパッド51が電気的に分離される(図4(C)参照)。
そして、導体パターン52及びパッド51に対して、上記の内層銅パターン34の場合と同様にして、粗化層(図示せず)が形成される。
【0037】
次に、上述した下層層間樹脂絶縁層40、導体パターン52及びパッド51の形成工程と同様の工程を繰り返し、最外層層間樹脂絶縁層60、導体パターン72及びパッド71を形成する。すなわち、層間樹脂絶縁層60を形成する無電解めっき用接着剤を上記と同様に用意して、この無電解めっき用接着剤を現段階における基板表面にロールコータ等により塗布し、水平状態で所定時間放置した後、プリベークを行い、最外層層間樹脂絶縁層60を形成する。引き続き、最外層層間樹脂絶縁層60を形成した基板の両面に、上述したフォトマスクフィルムを密着させ、超高圧水銀灯等により露光し、現像し、さらに露光した後、ポストベークを行うことにより、開口部62を有する最外層層間樹脂絶縁層60を形成する(図4(D)参照)。
【0038】
次いで、最外層層間樹脂絶縁層60の表面及び開口部62の側面を粗面化させた後、粗面化処理が施された表面に、無電解銅めっき膜(図示せず)を形成する。引き続き、この無電解銅めっき膜上にめっきレジスト66を設けた後に、パッド51の場合と同様にして、レジスト非形成部分に電解銅めっき膜を形成し、パッド71を形成する(図5(A)参照)。ここで、電解銅めっき膜の形成におけるめっき時間は、上述した凹部75を有する形状のパッド71が形成されるような値が採用される。なお、こうした値は、上記のパッド51の場合と同様に、予め経験的に求められたものが採用されている。
【0039】
引き続き、めっきレジスト66を剥離除去させた後、そのめっきレジスト66下の無電解めっき膜を溶解除去して、パッド71と導体パターン72とを電気的に分離する(図5(B)参照)。
【0040】
次いで、パッド71及び導体パターン72の表面に粗化層(図示せず)を形成した後、この段階における基板表面にソルダーレジスト組成物を所定の厚さで塗布し、所定の温度で所定の時間、乾燥処理を行う。この後、半田バンプ81,82を形成すべき領域を、所定の積算光量で露光し、上記同様に現像処理することにより、半田バンプ81,82を形成すべき領域に開口部85が形成されたソルダーレジスト層80が形成される(図5(C)参照)。そして、以上のように処理された基板の表面に形成した開口部85底部の導体上に所定の金属めっきを施す。かかる金属めっきとしては、例えば、ニッケルめっきと金めっきとを順次施したものとすることができる。こうして配線板本体20が完成する。
【0041】
ここで基板表面に塗布するソルダーレジスト組成物は、感光性を付与するオリゴマー、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、イミダゾール硬化剤、2種類の多価アクリルモノマー、及び分散系消泡剤を混合し、さらにこの混合物に対して光開始剤と光増感剤とを加えて、所定の粘度に調整することにより、得ることができる。
【0042】
次に、配線板本体20の表面に形成された開口部85を除く表面領域にメタルマスクを載置したのち、適当な温度に加熱して半田リフローを行うことにより、配線板本体20の表面に形成された開口部85に半田バンプ81,82を形成する(図6参照)。その後、多層プリント配線板10の表面を、界面活性剤溶液にて洗浄し、上記の半田リフローの際に半田ペーストから染み出たフラックスを洗い流す。こうして、多層プリント配線板10の製造が終了する。
【0043】
以上説明したように、本実施形態に係る多層プリント配線板10では、パッド51,71が、径がパッド51,71の径の30〜60%であり、深さがパッド51,71の厚さの20〜60%である凹部55,75を有している。このため、パッド51,71の底面部と側面部の間にシームが形成されることがない。加えて、凹部55,75上に導電部材を形成した場合には、凹部55,75を設けず平坦とした場合と比べて、パッド51,71と導電部材との接着面積が増大している。したがって、本実施形態の多層プリント配線板10によれば、パッド51,71における導通性及び接着性を向上することができる。
【0044】
また、本実施形態では、パッド51,71に形成された凹部55,75の形状を球冠状としている。このため、凹部55,75の形状を円筒状等にすると、それらの角部において発生するストレスの集中を防止することができる。
さらに、本実施形態では、パッド71の凹部75の形状を上述した形状としたので、半田バンプ81,82の形成に際して、エアボイドの発生を防止することができる。
【0045】
また、本実施形態では、電子部品やマザーボードといった部材の装着用に使用される半田バンプの形成領域における外周付近の半田バンプとして、接着力が大きなパッド71に形成された半田バンプを優先的に配置することとしたので、部材装着時における半田パッドの基板からの剥れの発生を低減することができる。
【0046】
なお、上記の実施形態では、電子部品装着側の半田バンプ81とマザーボード装着側の半田バンプ82とをほぼ同一の大きさとし、半田バンプ81がその凹部上に形成されるパッド71と、半田バンプ82がその凹部上に形成されるパッド71と同様の形状に形成することとした。これに対して、半田バンプ81と半田バンプ82とを異なる大きさとする場合には、凹部の形状が上述した条件を満たすことを条件として、半田バンプ81がその凹部上に形成されるパッドと半田バンプ82がその凹部上に形成されるパッドとを異なる形状とすることができる。
【0047】
また、上記の実施形態では、本発明をパッケージ基板に適用した例を説明したが、パッドが形成される多層プリント配線板であれば、上記の実施形態と同様に、本発明を適用することができる。
【0048】
【実施例】
以下に、実施例を挙げて本発明をさらに詳細に説明するが、本発明は下記の実施例の記載に何等限定されるものではない。
【0049】
(配線基板の製造)
(1)両面に18μmの銅箔32がラミネートされた、厚さ0.6mmのBT(ビスマレイミドトリアジン)樹脂又はガラスエポキシ樹脂製のコア基板30Aを常法に従ってパターンエッチングし、基板の両面に内層銅パターン34を形成した。
次に、このコア基板30を水洗いして乾燥し、無電解メッキ液(硫酸銅8g/l、硫酸ニッケル0.6g/l、クエン酸15g/l、次亜リン酸ナトリウム29g/l、ホウ酸31g/l、界面活性剤0.1g/lを含む、pH=9)に浸漬して銅−ニッケル−リンからなる粗化層を形成した。
次いでコア基板を水洗いし、0.1mol/lのホウふっ化スズと1.0mol/lのチオ尿素液とを含む50℃の無電解スズ置換メッキ浴に1時間浸漬して、粗化層表面に0.3μmスズ層を設けた。
【0050】
(2) 層間樹脂絶縁層を形成する無電解メッキ用接着剤を用意し、コア基板に塗布して水平状態で20分程度静置した後に、60℃で30分、プリベークを行い、層間樹脂絶縁層40を形成させた。使用した接着剤は、下記の処方(a)〜(c)を混合攪拌して製造した。
【0051】
【表1】
【0052】
(3)次いで、以上のようにして下層層間樹脂絶縁層40を形成した基板の両面に、所定径の黒円が印刷されたフォトマスクフィルムを密着させ、超高圧水銀灯等により、積算光量500mJ/cm2で露光した。その後、DMTG(トリエチレングリコールジメチルエーテル)溶液(商品名:ジメチルトリグリコール、昭和化学(株)製)でスプレー現像し、さらに超高圧水銀灯等により、積算光量3,000mJ/cm2で露光した。この後、100℃で1時間、次いで150℃で5時間、加熱処理することにより、開口部42が形成された厚さ20μmの層間樹脂絶縁層を形成した。
【0053】
(4)ついで、開口部42を形成した基板を、800g/l濃度のクロム酸溶液に2分間浸漬させて、層間樹脂絶縁層40の表面のエポキシ樹脂粒子を溶解除去し、層間樹脂絶縁層40の表面を粗面化した。開口部42内部の側面も粗面化処理した。中和溶液(商品名:ソービス、シプレイ(株)製)に浸漬させた後に水洗し、上記のように粗面化処理した基板の表面及び開口部内部の側面にパラジウム触媒(商品名:アクチベーターネオガント、アトテック(株)製)を付着させた。
【0054】
(5)次に、無電解銅メッキ浴(EDTA 150g/l、硫酸銅20g/l、HCHO 30ml/l、NaOH 40g/l、α,α’−ビピリジル 80mg/l、PEG 0.1g/lを含む)中に基板を浸漬させ、厚さが約0.6μmの無電解銅メッキ膜を形成させた。
このように形成した無電解銅メッキ膜上に市販の感光性ドライフィルムを張り付けた後、マスクを載置して、積算光量100mJ/cm2で露光し、0.8%炭酸ナトリウムで現像処理して、L/S=25/25μmメッキレジスト46を設けた。
【0055】
(6)次いで、硫酸銅・5水和物 60g/l、硫酸 190g/l、塩素イオン 40ppm、レベリング剤(アトテック(株)製、HL)40ml/l、光沢剤(アトテック(株)製、UV)0.5ml/lからなる溶液を用いて、3.00L/分でバブリングしながら、0.5A/dm2の電流密度(設定電流0.18A)で通電することによって電解銅メッキを施し、メッキレジスト46が形成されていない部分に電解銅メッキ膜を析出させて、パッド51を形成させた。
【0056】
(7)引き続き、めっきレジスト46を5%KOHで剥離除去し、その後、表面に残存している無電解めっき膜を、硫酸と過酸化水素との混合液を用いてエッチング処理することにより溶解除去した。そして、導体パターン52とパッド51とに対して、上記の内層銅パターンの場合と同様にして、粗化層を形成させた。(8)次に、上述した下層層間樹脂絶縁層40、導体パターン52及びパッド51の形成工程と同様の工程を繰り返し、最外層層間樹脂絶縁層60、導体パターン72及びパッド71を形成した。
【0057】
(9) 次いで、パッド71及び導体パターン72の表面に粗化層を形成した後、この段階における基板表面にソルダーレジスト組成物を20μmの厚みとなるように塗布し、70℃で30分、乾燥処理した。この後、半田バンプ81,82を形成すべき領域を、積算光量1,000J/cm2で露光し、DMTGを用いて現像処理することにより、開口部が形成されたソルダーレジスト層を形成した。
以上のように処理した基板の表面に形成した開口部の底部の導体上、ニッケルめっきと金めっきとを順次施し、配線板本体を完成させた。
【0058】
ここで基板表面に塗布するソルダーレジスト組成物は、例えば、46.67gのDMTGに溶解させた80重量%のクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(日本化薬(株)製)のエポキシ基50%をアクリル化した感光性付与のオリゴマー(分子量4,000)、メチルエチルケトンに溶解させた80重量%のビスフェノールA型エポキシ樹脂(油化シェル(株)製、商品名:エピコート1001)15.0g、イミダゾール硬化剤(四国化成(株)製、商品名:2E4MZ−CN)1.6g、感光性モノマーである多価アクリルモノマー(日本化薬(株)製、商品名:R604)3g、同じく多価アクリルモノマー(共栄社化学(株)製、商品名:DPE6A)1.5g、分散系消泡剤(サンノプコ(株)製、商品名:S−65)0.71gを混合し、さらにこの混合物に対して光開始剤としてのベンゾフェノン(関東化学(株)製)を2g、光増感剤としてのミヒラーケトン(関東化学(株)製)を0.2g加えて、粘度を25℃で2.0Pa・sに調整した。
【0059】
なお、粘度測定は、B型粘度計(東京計器、DVL−B型)を用い、60rpmの場合はローターNo.4、6rpmの場合はローターNo.3によって測定した。
【0060】
(10) 次に、配線板本体20の表面に形成された開口部85を除く表面領域にメタルマスクを載置したのち、例えば、200℃で加熱して半田リフローを行うことにより、配線板本体20の表面に形成された開口部85に半田バンプ81,82を形成した。その後、多層プリント配線板の表面を、界面活性剤溶液にて洗浄し、上記の半田リフローの際に半田ペーストから染み出たフラックスを洗い流して、多層プリント配線板を製造した。
【0061】
(凹部の直径、深さとボールシェア強度との関係の測定)
以上の工程の中で、下記の実施例1〜9及び比較例1〜27のような直径と深さとを備える凹部75を有する、直径0.5mmのパッド71を形成させた。なお、上述したパッド71の形成工程における電解銅メッキ膜を析出させるための条件を変化させることにより、これらの凹部75における直径と深さを変化させた。そして、凹部75の直径及び深さと、パッド71のボールシェア強度との関係、シーム及びボイドの発生との関係を測定した。この測定結果を、表2並びに図7及び図8に示す。ここで、ボールシェア強度は、EIAJ−ED−4703に従って測定した。また、シーム及びボイドの発生の有無は、パッド断面を顕微鏡観察することにより確認した。
【0062】
なお、表2、図7及び図8中においては、凹部直径はパッド直径を100としたときの比率で表されており、凹部深さはパッド厚さを100としたときの比率で表されている。また、表2中における「○」はシームやボイドが発生していないことを意味し、「×」はこれらが発生したことを意味している。また、図7及び図8中においては、シーム又はボイドの発生を、棒部にハッチを付して表している。
【0063】
【表2】
【0064】
表2、図7及び図8に示されるように、凹部深さが一定の場合には、凹部直径がパッド直径の45%に達するまでは、ボールシェア強度は増加した(比較例1〜15、実施例1〜6)。そして、凹部直径がパッド直径の45〜60%の範囲では、ボールシェア強度は同等であった(比較例14〜16、実施例4〜9)。しかし、凹部直径がパッド直径の70%となると、60%の場合と比べて概ねボールシェア強度が低下した(比較例18〜22)。そして、凹部直径がパッド直径の70〜80%の範囲では、ボールシェア強度は同等であった(比較例18〜27)。
【0065】
一方、凹部直径の値にもよるが、凹部深さがある程度の大きな値となると、シームやボイドが発生したケースも認められた(比較例3〜6、9〜11、13、15、17、21,22)。
【0066】
以上を総合してみると、凹部直径がパッド径の30〜60%であり、凹部深さがパッド厚の20〜60%の範囲である場合である実施例1〜9においては、シームやボイドの発生もなく、ボールシェア強度も各実施例において十分な強度と考えられる950g/ballを超えた。
【0067】
【発明の効果】
以上詳細に説明したように、本発明の多層プリント配線板によれば、パッドにおける導通性及び接着性を従来と比べて向上することができるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態に係る多層プリント配線板の外観構成を示す図である。
【図2】本発明の一実施形態に係る多層プリント配線板の断面構成を示す図である。
【図3】本発明の一実施形態に係る多層プリント配線板の製造工程を説明するための図(その1)である。
【図4】本発明の一実施形態に係る多層プリント配線板の製造工程を説明するための図(その2)である。
【図5】本発明の一実施形態に係る多層プリント配線板の製造工程を説明するための図(その3)である。
【図6】本発明の一実施形態に係る多層プリント配線板の製造工程を説明するための図(その4)である。
【図7】パッド上の凹部の直径、深さとボールシェア強度との関係を示す図(その1)である。
【図8】パッド上の凹部の直径、深さとボールシェア強度との関係を示す図(その2)である。
【図9】従来技術を説明するための図である。
【符号の説明】
10…多層プリント配線板、20…配線板本体、30…コア基板、34…内層銅パターン、40…下層層間樹脂絶縁層、51…パッド,52…導体パターン、55…凹部、60…最外層層間樹脂絶縁層、71…パッド(半田バンプ用パッド)、72…導体パターン、75…凹部、81,82…半田バンプ。
Claims (4)
- 絶縁層に穿設された開口部に金属が充填されて形成されたパッドを備える多層プリント配線板において、
前記パッドの少なくとも一部は、その形成後に導電構造体が形成される端部に、径が前記パッドの径の30〜60%であり、深さが前記パッドの厚さの20〜60%である凹部を有する、ことを特徴とする多層プリント配線板。 - 前記凹部は球冠状の形状を有する、ことを特徴とする請求項1に記載の多層プリント配線板。
- 前記パッドには、前記凹部上に半田バンプが形成された半田バンプ用パッドが含まれる、ことを特徴とする請求項1又は2に記載の多層プリント配線板。
- 前記半田バンプ用パッドが、部材装着用の半田バンプの形成領域における外周付近に優先的に配置される、ことを特徴とする請求項3に記載の多層プリント配線板。
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