JP2004152808A - 半導体発光装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】従来に比べて半導体発光素子の温度上昇を抑制することができる半導体発光装置を提供する。
【解決手段】青色発光ダイオードチップからなる半導体発光素子1と、半導体発光素子1がフリップチップ実装される実装基板2とを備えている。半導体発光素子1は、サファイア基板からなるベース基板11の一表面側に発光部12が形成され、発光部12にアノード電極13aおよびカソード電極13bが設けられている。実装基板2は、第1の金属板2aと第2の金属板2bとが電気絶縁性を有する絶縁性材料からなる絶縁部2cにより連結されている。実装基板2には、半導体発光素子1のアノード電極13aがバンプ3aを介して第1の金属板2aに電気的に接続され、半導体発光素子1のカソード電極13bがバンプ3bを介して第2の金属板2bに電気的に接続されている。
【選択図】 図1

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体発光素子と半導体発光素子がフリップチップ実装される実装基板とを備えた半導体発光装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来から、図8に示すように化合物半導体材料からなる発光部12を発光部12にて発光する光に対して透明なベース基板11の一表面側(図8における下面側)に形成した発光ダイオードチップからなる半導体発光素子1と、半導体発光素子1をフリップチップ実装した実装基板7とを備えた半導体発光装置が提案されている。この種の半導体発光装置に用いる半導体発光素子1としては、例えば、発光部12の化合物半導体材料として窒化ガリウム系材料を採用するとともにベース基板11としてサファイア基板を採用したものが知られている。
【0003】
上述の実装基板7としては、樹脂基板70を基材として樹脂基板70の一面に回路パターン(導電パターン)71a,71bが形成されたものが用いられており、半導体発光素子1の発光部12に設けられたアノード電極13aが回路パターン71aにバンプ3aを介して接続され、カソード電極13bが回路パターン(導電パターン)71bにバンプ3bを介して接続されている。
【0004】
ところで、図8に示した構成の半導体発光装置は、半導体発光素子1がいわゆるフェースダウン構造で実装されており、発光部12にて発光した光がベース基板11を通して図8(b)の上面側へ取り出されることになる。しかして、半導体発光素子1をいわゆるフェースアップ構造で実装して各電極13a,13bと回路パターン71a,71bとを導電ワイヤ(ボンディングワイヤ)を介して接続した構成のものに比べて、発光部12にて発光した光の吸収が少なく、しかも、各電極13a,13bによるけられが生じることがなく、発光部12にて発光した光を外部へ効率良く取り出すことが可能である。
【0005】
一方、上記半導体発光装置では、半導体発光素子1の発光時に発生する熱が各電極13a,13bおよびバンプ3a,3bを介して回路パターン71a,71bを通じて放熱されるが、上述の回路パターン71a,71bが樹脂基板70の上記一面に形成されているので、樹脂基板70の熱抵抗が非常に大きく、半導体発光素子1の温度上昇による特性劣化が起こり、半導体発光素子1の発光効率が低下してしまう。
【0006】
そこで、上記半導体発光装置では、樹脂基板70に放熱用のスルーホール73a,73bを複数ずつ貫設し、樹脂基板70の上記一面の回路パターン71a,71bと他面の導電パターン72a,72bとをスルーホール73a,73bの内面に被着した金属材料からなる接続部74a,74bを介して接続することで、半導体発光素子1の温度上昇を抑制することが考えられている。
【0007】
しかしながら、樹脂基板70に放熱用のスルーホール73a,73bを形成したとしても、樹脂基板70に占めるスルーホール73a,73bの密度が小さく、実装基板7の熱抵抗をわずかにしか低減できなかった。
【0008】
また、近年では、図8に示した構成と同様に樹脂基板を基材とする実装基板の一面側に半導体発光素子をフリップチップ実装しながらも放熱性を向上させた半導体発光装置が提案されている(例えば、特許文献1)。
【0009】
【特許文献1】
特開2001−358371号公報(第3頁−第5頁、図1、図4)
【0010】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記各従来構成の半導体発光装置では、半導体発光素子をフリップチップ実装する実装基板の基材として樹脂基板が用いられているので、実装基板の熱抵抗を十分に小さくすることができず、十分な放熱性が得られないという不具合があった。
【0011】
本発明は上記事由に鑑みて為されたものであり、その目的は、従来に比べて半導体発光素子の温度上昇を抑制することができる半導体発光装置を提供することにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】
請求項1の発明は、上記目的を達成するために、半導体材料からなる発光部が前記発光部にて発光する光に対して透明なベース基板の厚み方向の一表面側に形成された半導体発光素子と、前記半導体発光素子がフリップチップ実装される実装基板とを備え、前記ベース基板の厚み方向の他表面側から光が取り出される半導体発光装置であって、前記実装基板は、前記半導体発光素子の前記発光部に設けたアノード電極がバンプを介して接続される第1の金属板と、前記半導体発光素子の前記発光部に設けたカソード電極がバンプを介して接続される第2の金属板と、前記第1の金属板と前記第2の金属板との互いの対向する側縁間に介在し前記両金属板を電気的に絶縁する絶縁性材料からなる絶縁部とを有することを特徴とする。この請求項1の発明の構成によれば、前記半導体発光素子を前記第1の金属板および前記第2の金属板に熱的に結合することができ、前記半導体発光素子で発生した熱が、前記アノード電極にバンプを介して接続された前記第1の金属板を通して放熱されるとともに、前記カソード電極にバンプを介して接続された前記第2の金属板を通して放熱されるので、従来のように樹脂基板を基材とする実装基板に半導体発光素子を実装したものに比べて放熱性が向上し、前記半導体発光素子の温度上昇を抑制でき、結果的に温度上昇に伴う前記半導体発光素子の発光効率の低下を抑制できる。
【0013】
請求項2の発明は、請求項1の発明において、前記実装基板における前記半導体発光素子との対向面側で前記半導体発光素子の周部を全周に亘って囲み前記半導体発光素子からの光を前記ベース基板の前記他表面側へ反射させる反射枠を備えることを特徴とする。この請求項2の発明の構成によれば、前記半導体発光素子から側方へ放射された光が前記反射枠の内周面で反射されて外部へ取り出されることになり、前記半導体発光素子で発光した光の外部への取り出し効率を向上させることができる。
【0014】
請求項3の発明は、請求項2の発明において、前記反射枠は、前記各金属板にそれぞれ一体形成された一対の枠部材と前記両枠部材を連結し且つ電気的に絶縁する絶縁性材料からなる連結部とからなることを特徴とする。この請求項3の発明の構成によれば、前記各金属板に加えて前記反射枠も前記半導体発光素子で発生した熱を外部へ放熱させる放熱部材として機能することになるので、放熱面積が広くなって放熱性をさらに向上させることができる。
【0015】
請求項4の発明は、請求項1ないし請求項3の発明において、前記実装基板の外周面を全周に亘って被覆する絶縁性材料からなる絶縁被覆部を備えることを特徴とする。この請求項4の発明の構成によれば、前記実装基板の外周面を外部と電気的に絶縁することができるので、取り扱いが容易になって静電気などによる前記半導体発光素子の破壊を防止することができる。
【0016】
請求項5の発明は、請求項1ないし請求項4の発明において、前記実装基板における前記半導体発光素子との対向面とは反対の面側に配置される放熱板を備え、前記一方の金属板がろう材からなる第1の接合部を介して前記放熱板に接続され、前記他方の金属板が前記放熱板において前記実装基板との対向面に絶縁層を介して形成された配線とろう材からなる第2の接合部を介して接続されてなることを特徴とする。この請求項5の発明の構成によれば、前記第1の金属板と前記第2の金属板とを電気的に絶縁しながらも前記各金属板を前記放熱板と熱的に結合することができ、放熱性をより一層向上させることができる。
【0017】
【発明の実施の形態】
(実施形態1)
本実施形態の半導体発光装置は、図1に示すように、青色発光ダイオードチップからなる半導体発光素子1と、半導体発光素子1がフリップチップ実装される実装基板2とを備えている。
【0018】
半導体発光素子1は、サファイア基板(α−Al基板)からなるベース基板11の厚み方向の一表面(図1(b)における下面)側にn形GaN層12bとp形GaN層12aとからなる発光部12が形成されており、p形GaN層12aの表面にアノード電極13aが形成され、n形GaN層12bの表面にカソード電極13bが形成されている。
【0019】
本実施形態の半導体発光装置では、上記従来構成と同様に、半導体発光素子1に用いているベース基板11が発光部12にて発光する光に対して透明なので、発光部12にて発光した光がベース基板11を通して外部へ取り出される。つまり、発光部12にて発光した光がベース基板11の厚み方向の他表面(図1(b)における上面)側から取り出される。
【0020】
ここに、ベース基板11の上記一表面はC面であり、発光部12は、ベース基板11の上記一表面側にエピタキシャル成長された上記n形GaN層12bと上記p形GaN層12aとで構成されているが、発光部12の構造は特に限定するものではなく、例えば、周知のシングルへテロ構造やダブルへテロ構造などの構造を採用してもよい。ただし、いずれの構造を採用する場合にも、ベース基板11と発光部12との間にいわゆるバッファ層を介在させることが好ましい。
【0021】
なお、発光部12の材料についてもGaNに特に限定するものではなく、所望の発光色に応じてGaN以外の半導体材料を採用してもよいことは勿論である。
また、ベース基板11の材料についてもAlに限定するものではなく、例えば、GaN、GaAs、GaP、SiCなどの材料を発光部12の半導体材料に応じて適宜採用してもよい。
【0022】
ところで、実装基板2は、金属材料(例えば、アルミニウム、銅など)からなる矩形板状の第1の金属板2aと金属材料(例えば、アルミニウム、銅など)からなる矩形板状の第2の金属板2bとが電気的に絶縁性を有する絶縁性材料(例えば、絶縁性の樹脂)からなる絶縁部2cにより連結されている。言い換えれば、実装基板2は、第1の金属板2aと、第2の金属板2bと、第1の金属板2aと第2の金属板2bとの互いの対向する側縁間に介在し両金属板2a,2bを電気的に絶縁する絶縁部2cとで構成されている。
【0023】
ここにおいて、実装基板2には、半導体発光素子1のアノード電極(パッド)13aが導電性材料(例えば、金、はんだなど)からなるバンプ(突起電極)3aを介して第1の金属板2aに電気的に接続され、半導体発光素子1のカソード電極(パッド)13bが導電性材料(例えば、金、はんだなど)からなるバンプ(突起電極)3bを介して第2の金属板2bに電気的に接続されている。したがって、半導体発光素子1が第1の金属板2aおよび第2の金属板2bに熱的に結合されており、各金属板2a,2bが放熱部材として機能することになる。なお、図示していないが、半導体発光素子1は、実装基板2にフェースダウンで実装した後で、半導体発光素子1から発光する光に対して透明な樹脂(例えば、エポキシ樹脂やシリコーン樹脂など)により封止すれば、半導体発光素子1を封止樹脂部にて保護することができる。ここに、半導体発光素子1を封止する封止樹脂中に半導体発光素子1の発光によって励起されて所望の波長の光を放射する蛍光物質を分散させておけば、半導体発光素子1から放射される光と蛍光物質から放射される光との合成光を得ることができ、例えば白色光を得ることも可能となる。
【0024】
以上説明した本実施形態の半導体発光装置では、半導体発光素子1のアノード電極13aがバンプ3aを介して接続される第1の金属板2aと、半導体発光素子1のカソード電極13bがバンプ3bを介して接続される第2の金属板2bとが絶縁部2cにより連結された実装基板2を用いており、半導体発光素子1が第1の金属板2aおよび第2の金属板2bに熱的に結合しているので、半導体発光素子1の発光時(つまり、半導体発光素子1への通電時)に発生した熱が、アノード電極13aにバンプ3aを介して接続された第1の金属板2aを通して放熱されるとともに、カソード電極13bにバンプ3bを介して接続された第2の金属板2bを通して放熱されるから、従来のように樹脂基板70を基材とする実装基板7に半導体発光素子1を実装したものに比べて放熱性が向上し、半導体発光素子1の温度上昇を抑制でき、結果的に温度上昇に伴う半導体発光素子1の発光効率の低下を抑制できる。また、本実施形態の半導体発光装置では、上述のように放熱性が向上するので、半導体発光素子1への入力を増やす可能となり、半導体発光素子1の光出力(発光量)を増加させることができる。また、半導体発光素子1の温度上昇を抑制することで、半導体発光素子1の寿命低下、半導体発光素子1を封止している封止樹脂部の劣化を抑制することができ、長寿命化を図ることができる。
【0025】
また、第1の金属板2aおよび第2の金属板2bにおいて半導体発光素子1が実装される表面は、光を反射する反射面となっていることが好ましく、このようにしておくことで半導体発光素子1の発光部12から実装基板2側に放射される光をロスすることなく効率良く外部へ取り出すことができる。
【0026】
(実施形態2)
本実施形態の半導体発光装置の基本構成は実施形態1と略同じであって、図2に示すように、実装基板2における半導体発光素子1との対向面側(図2(b)の上面側)で半導体発光素子1の周部を全周に亘って囲み半導体発光素子1から側方へ放射された光をベース基板11の上記他表面側へ反射させる矩形枠状の反射枠4を備えている点が相違する。なお、実施形態1と同様の構成要素には同一の符号を付して説明を省略する。
【0027】
反射枠4は、例えば白色系の樹脂により形成してあり、実装基板2に対して接着剤を用いて固着されている。したがって、反射枠4と実装基板2との間には上記接着剤からなる接着層5が介在している。ここにおいて、反射枠4は、実装基板2の厚み方向において実装基板2から離れるほど開口幅が徐々に大きくなるように形成されている。また、図示していないが、本実施形態の半導体発光装置では、反射枠4の内側にエポキシ樹脂やシリコーン樹脂などの透明な樹脂を充填して半導体発光素子1を封止すれば、半導体発光素子1から放射された光は反射枠4の内側に充填された封止樹脂からなる封止樹脂部を通して外部へ取り出される。
【0028】
しかして、本実施形態の半導体発光装置では、半導体発光素子1から側方へ放射された光が反射枠4の内周面4aで反射されて外部へ取り出されることになるので、反射枠4を設けていない場合に比べて、半導体発光素子1にて発光した光の外部への取り出し効率を向上させることができる。
【0029】
なお、本実施形態では、反射枠4を白色系の樹脂により形成してあるが、反射枠4を金属材料により形成してもよいし、反射枠4の内周面4aに反射率の高い金属材料(例えば、アルミニウム、銀など)からなる反射膜を被着するようにしてもよい。
【0030】
(実施形態3)
本実施形態の半導体発光装置の基本構成は実施形態2と略同じであって、図3に示すように、反射枠4が、実装基板2における第1の金属板2aに一体形成されたコ字状の枠部材41aと、実装基板2における第2の金属板2bに一体形成されたコ字状の枠部材41bと、実装基板2における絶縁部2cに一体形成され両枠部材41a,41bの一端部同士および他端部同士それぞれを連結する連結部41cとで構成されている点が相違する。すなわち、本実施形態における反射枠4は、枠部材41a,41bが各金属板2a,2bと同じ材料(つまり、金属材料)により各金属板2a2bそれぞれと連続一体に形成され、連結部41cが絶縁部2cと同じ材料(つまり、電気絶縁性を有する絶縁材料)により絶縁部2cと連続一体に形成されている。なお、実施形態2と同様の構成要素には同一の符号を付して説明を省略する。
【0031】
しかして、本実施形態の半導体発光装置では、各金属板2a,2bに加えて反射枠4も半導体発光素子1で発生した熱を外部へ放熱させる放熱部材として機能することになるので、実施形態2に比べて放熱面積が広くなって放熱性をさらに向上させることができる。また、反射枠4を別途に形成する必要がないから、実施形態2の半導体発光装置に比べて組立作業が容易になるという利点がある。
【0032】
なお、実施形態2のように反射枠4を白色系の樹脂により形成し、半導体発光素子1として青色発光ダイオードチップを用いている場合には、半導体発光素子1から放射される光によって反射枠4が着色されて反射性能が低下し外部への光の取り出し効率が低下してしまうことがあるが、本実施形態では、反射枠4の枠部材41a,41bが金属板2a,2bと同じ金属材料により形成されているので、半導体発光素子1から放射される光によって反射枠4の反射性能が低下するのを防止することができる。また、実装基板2への半導体発光素子1の実装時に反射枠4が着色されるような問題の発生も防止することができる。
【0033】
(実施形態4)
本実施形態の半導体発光装置の基本構成は実施形態3と略同じであって、図4に示すように、実装基板2および反射枠4の外周面を全周に亘って被覆する絶縁材料(例えば、電気絶縁性を有する樹脂)からなる絶縁被覆部6を備えている点が相違する。なお、実施形態3と同様の構成要素には同一の符号を付して説明を省略する。
【0034】
しかして、本実施形態の半導体発光装置では、実装基板2の外周面および反射枠4の外周面を全周に亘って被覆する絶縁被覆部6を備えているので、実装基板2の外周面を外部と電気的に絶縁することができ、取り扱いが容易になって静電気などによる半導体発光素子1の破壊を防止することができる。なお、絶縁被覆部6の材料は、実装基板2における絶縁部2cと同じ材料でも異なる材料でもよい。また、絶縁被覆部6の材料として電気絶縁性を有し且つ熱伝導率の高い材料を採用すれば、放熱性を損なうことなく、静電気などによる半導体発光素子1の破壊を防止することが可能となる。
【0035】
(実施形態5)
本実施形態の半導体発光装置の基本構成は実施形態4と略同じであって、図5に示すように、実装基板2における半導体発光素子1との対向面とは反対の面側に配置される熱伝導率の高い金属材料からなる放熱板7を備え、第1の金属板2aがろう材(例えば、はんだなど)からなる第1の接合部10aを介して放熱板7に接続され、第2の金属板2bが放熱板7において実装基板2との対向面に絶縁層8を介して形成された配線(回路パターン)9とろう材(例えば、はんだなど)からなる第2の接合部10bを介して接続されている点が相違する。なお、実施形態4と同様の構成要素には同一の符号を付して説明を省略する。
【0036】
しかして、本実施形態の半導体発光装置では、第1の金属板2aと第2の金属板2bとを電気的に絶縁しながらも各金属板2a,2bを放熱板7と熱的に結合することができ、放熱性をより一層向上させることができる。
【0037】
(実施形態6)
本実施形態の半導体発光装置の基本構成は実施形態5と略同じであって、図6に示すように、実施形態5にて説明した半導体発光装置で1単位の発光素子モジュールを構成し、複数個(図示例では、4個)の発光素子モジュールで1枚の放熱板7を共通利用している点などが相違する。ここにおいて、本実施形態の半導体発光装置では、各半導体発光素子1のアノード電極13aが放熱板7に電気的に共通接続され、各半導体発光素子1のカソード電極13bが配線(回路パターン)9に電気的に共通接続されている。なお、実施形態5と同様の構成要素には同一の符号を付して説明を省略する。
【0038】
しかして、本実施形態では、実施形態5に比べて大面積の半導体発光装置を実現することができる。また、実施形態5に比べて半導体発光装置全体としての発光量を増加させることができる。また、本実施形態では、複数個の発光素子モジュールで放熱板7を共通化しているので、実施形態5の半導体発光装置を複数個並べる場合に比べて部品点数を削減することができ、低コスト化を図ることができる。
【0039】
(実施形態7)
本実施形態の半導体発光装置の基本構成は実施形態2と略同じであって、図7に示すように、各金属板2a,2bそれぞれの一端部から段差部22a,22bを介してリード片23a,23bが延設されている点などが相違する。また、本実施形態では、反射枠4の材料として実装基板2の絶縁部2cと同じ材料を採用しており、反射枠4および両金属板2a,2bを絶縁部2cと一体成形してある。なお、実施形態2と同様の構成要素には同一の符号を付して説明を省略する。
【0040】
しかして、本実施形態の半導体発光装置では、反射枠4および両金属板2a,2bを絶縁部2cと一体成形しているので、反射枠4および両金属板2a,2bを個別部品として組み立てる場合に比べて組立作業が容易になるとともに、製造コストを低減することができる。
【0041】
【発明の効果】
請求項1の発明は、上記構成を採用したことにより、前記半導体発光素子を前記第1の金属板および前記第2の金属板に熱的に結合することができ、前記半導体発光素子で発生した熱が、前記アノード電極にバンプを介して接続された前記第1の金属板を通して放熱されるとともに、前記カソード電極にバンプを介して接続された前記第2の金属板を通して放熱されるので、従来のように樹脂基板を基材とする実装基板に半導体発光素子を実装したものに比べて放熱性が向上し、前記半導体発光素子の温度上昇を抑制でき、結果的に温度上昇に伴う前記半導体発光素子の発光効率の低下を抑制できるという効果がある。
【0042】
請求項2の発明は、上記構成を採用したことにより、前記半導体発光素子から側方へ放射された光が前記反射枠の内周面で反射されて外部へ取り出されることになり、前記半導体発光素子で発光した光の外部への取り出し効率を向上させることができるという効果がある。
【0043】
請求項3の発明は、上記構成を採用したことにより、前記各金属板に加えて前記反射枠も前記半導体発光素子で発生した熱を外部へ放熱させる放熱部材として機能することになるので、放熱面積が広くなって放熱性をさらに向上させることができるという効果がある。
【0044】
請求項4の発明は、上記構成を採用したことにより、前記実装基板の外周面を外部と電気的に絶縁することができるので、取り扱いが容易になって静電気などによる前記半導体発光素子の破壊を防止することができるという効果がある。
【0045】
請求項5の発明は、上記構成を採用したことにより、前記第1の金属板と前記第2の金属板とを電気的に絶縁しながらも前記各金属板を放熱板と熱的に結合することができ、放熱性をより一層向上させることができるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施形態1を示し、(a)は概略平面図、(b)は(a)のA−A’断面図である。
【図2】実施形態2を示し、(a)は概略平面図、(b)は(a)のA−A’断面図である。
【図3】実施形態3を示し、(a)は概略平面図、(b)は(a)のA−A’断面図である。
【図4】実施形態4を示し、(a)は概略平面図、(b)は(a)のA−A’断面図である。
【図5】実施形態5を示し、(a)は概略平面図、(b)は(a)のA−A’断面図である。
【図6】実施形態6を示し、(a)は概略平面図、(b)は(a)のA−A’断面図である。
【図7】実施形態7を示し、(a)は概略平面図、(b)は(a)のA−A’断面図である。
【図8】従来例を示し、(a)は概略平面図、(b)は(a)のA−A’断面図である。
【符号の説明】
1 半導体発光素子
2 実装基板
2a 第1の金属板
2b 第2の金属板
2c 絶縁部
3a,3b バンプ
4 反射枠
6 絶縁被覆部
7 放熱板
8 絶縁層
9 配線
10a 第1の接合部
10b 第2の接合部
11 ベース基板
12 発光部
12a p形GaN層
12b n形GaN層
13a アノード電極
13b カソード電極
41a,41b 枠部材
41c 連結部

Claims (5)

  1. 半導体材料からなる発光部が前記発光部にて発光する光に対して透明なベース基板の厚み方向の一表面側に形成された半導体発光素子と、前記半導体発光素子がフリップチップ実装される実装基板とを備え、前記ベース基板の厚み方向の他表面側から光が取り出される半導体発光装置であって、前記実装基板は、前記半導体発光素子の前記発光部に設けたアノード電極がバンプを介して接続される第1の金属板と、前記半導体発光素子の前記発光部に設けたカソード電極がバンプを介して接続される第2の金属板と、前記第1の金属板と前記第2の金属板との互いの対向する側縁間に介在し前記両金属板を電気的に絶縁する絶縁性材料からなる絶縁部とを有することを特徴とする半導体発光装置。
  2. 前記実装基板における前記半導体発光素子との対向面側で前記半導体発光素子の周部を全周に亘って囲み前記半導体発光素子からの光を前記ベース基板の前記他表面側へ反射させる反射枠を備えることを特徴とする請求項1記載の半導体発光装置。
  3. 前記反射枠は、前記各金属板にそれぞれ一体形成された一対の枠部材と前記両枠部材を連結し且つ電気的に絶縁する絶縁性材料からなる連結部とからなることを特徴とする請求項2記載の半導体発光装置。
  4. 前記実装基板の外周面を全周に亘って被覆する絶縁性材料からなる絶縁被覆部を備えることを特徴とする請求項1ないし請求項3のいずれかに記載の半導体発光装置。
  5. 前記実装基板における前記半導体発光素子との対向面とは反対の面側に配置される放熱板を備え、前記一方の金属板がろう材からなる第1の接合部を介して前記放熱板に接続され、前記他方の金属板が前記放熱板において前記実装基板との対向面に絶縁層を介して形成された配線とろう材からなる第2の接合部を介して接続されてなることを特徴とする請求項1ないし請求項4のいずれかに記載の半導体発光装置。
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