JP2004117564A

JP2004117564A - 液晶表示装置用スペーサ及び液晶表示装置

Info

Publication number: JP2004117564A
Application number: JP2002277846A
Authority: JP
Inventors: Shigeru Tanaka; 田中　茂
Original assignee: Sekisui Chemical Co Ltd
Current assignee: Sekisui Chemical Co Ltd
Priority date: 2002-09-24
Filing date: 2002-09-24
Publication date: 2004-04-15

Abstract

【課題】液晶の配向異常を起こさず、しかも凝集性が大幅に改善され、高品位な表示性能を発現しうる液晶表示装置用スペーサ、及び、その液晶表示装置用スペーサを用いた液晶表示装置を提供する。
【解決手段】液晶表示装置用スペーサとして、微粒子の表面に、炭素数１０〜２２の長鎖アルキル基と２個以上のエチレン性不飽和基とを含有するグラフト重合層を有するものを使用する。
【選択図】　　　なし

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶表示装置用スペーサ、及びその液晶表示装置用スペーサを用いた液晶表示装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
液晶表示装置は、一般に配向層を形成した透明電極基板をスペーサを介して所定の間隙に対向配置し、周辺をシール後、その間隙に液晶を注入し、注入口を封止して製造される。
【０００３】
例えば、ＴＮ（ツイステッドネマティック）モードの液晶表示装置は、図１に示されるように、１対の基板８、１０とこの基板８と１０との間に封入されたネマティック液晶１１と、基板８、１０の周囲に充填されたシール部材１と、基板８、１０の表面に被覆された偏光シート１２、１３とを構成材料とし、上記１対の基板８、１０間のギャップを一定に保持するために、基板８、１０間にはスペーサ９が配置されている。
【０００４】
上記基板８、１０は、ガラス透明基板２、５の片面にＩＴＯ膜からなる透明電極３、６のパターンを形成し、この透明電極３、６及び透明基板２、５の表面にポリイミド膜等からなる配向制御膜４、７を被覆することにより得られる。上記配向制御膜４、７にはラビングによって配向制御処理が施される。
この液晶表示装置において、スペーサは２枚の基板の間隙を一定に保つために用いられるが、このスペーサは、液晶中において化学的に安定に、かつ、液晶の配向を乱すことなく存在すること等が要求される。
【０００５】
しかしながら、上記スペーサを使用して作製された液晶表示装置は、電気的な若しくは物理的な衝撃等、又は、その他の事由により、スペーサの界面において、「光抜け」と呼ばれる液晶の配向異常が発生するという問題点があった。
このような異常配向が生じると、液晶表示装置のコントラストを低下させ、表示品位を著しく損なうことがある。
【０００６】
従来、上記配向異常を防止する方法としては、スペーサ界面において、液晶分子に充分な垂直配向性を持たせる方法が知られている。
例えば、特許文献１には架橋重合体微粒子の表面に長鎖アルキル基を有するスペーサが提案されている。
しかしながら、長鎖アルキル基は柔軟な骨格の分子鎖となり、このような分子鎖をスペーサ表面に形成した場合、表面層のガラス転移温度（Ｔｇ）が低いため、粘着性を有するスペーサとなる。この場合、その粘着性のため凝集が生じやすく、単粒子状に均一に散布されることが困難となり、これに起因する表示ムラが発生する。更に凝集したスペーサを散布した場合、散布機のノズルや配管中で詰まりを生じるばかりでなく、液晶表示パネルに凝集物の潰れた跡が残り、液晶表示パネルの品質が大幅に損なわれるという問題点があった。
【０００７】
【特許文献１】
特開平６−１１７１９号公報
【０００８】
一方、特許文献２には、配向異常や凝集性を改善するために、長鎖アルキル基及びイソボニル基等の高いＴｇを有する置換基を有するスペーサが提案されている。しかしながら、この方法でも、凝集性の改善が十分とはいえなかった。
【０００９】
【特許文献２】
特開２００１−１３３７８８号公報
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、上記に鑑み、液晶の配向異常を起こさず、しかも凝集性が大幅に改善され、高品位な表示性能を発現しうる液晶表示装置用スペーサ、及び、その液晶表示装置用スペーサを用いた液晶表示装置を提供することにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明の液晶表示装置用スペーサは、炭素数１０〜２２の長鎖アルキル基と２個以上のエチレン性不飽和基とを、微粒子の表面のグラフト重合層に含有することを特徴とする。
【００１２】
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の液晶表示装置用スペーサは、微粒子の表面のグラフト層に、炭素数１０〜２２の長鎖アルキル基と２個以上のエチレン性不飽和基とを含有する。
【００１３】
本発明で用いられる微粒子は、無機材料又は有機材料のいずれを素材とするものであってもよい。無機材料としては、珪酸ガラス、ほう酸ガラス、鉛ガラス、ソーダ灰ガラス、アルミナ、アルミナシリケート等が挙げられる。
また、有機材料としては、エチレン系不飽和基を有する重合性単量体からなる重合体が好ましい。
【００１４】
上記有機材料を素材とする微粒子（有機系微粒子）は、機械的強度を考慮すると、エチレン系不飽和基を有する重合性単量体のうち、少なくとも２０重量％が２個以上のエチレン系不飽和基を有する重合性単量体であることが好ましい。
【００１５】
上記２個以上のエチレン性不飽和基を有する重合性単量体としては、特に限定されず、例えば、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、グリセロールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等の多官能（メタ）アクリレート類；トリアリル（イソ）シアヌレート、トリアリルトリメリテート、ジビニルベンゼン、ジアリルフタレート、ジアリルアクリルアミド等が挙げられる。
これらは単独で用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。
【００１６】
上記２個以上のエチレン系不飽和基を有する重合性単量体に併用される重合性単量体としては、例えば、スチレン、α−メチルスチレン等のスチレン系単量体；メチル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレート系単量体などが挙げられる。
【００１７】
上記有機系微粒子は、懸濁重合、シード重合、ソープフリー重合、沈殿重合等、公知の重合法により得ることができる。
【００１８】
本発明で用いられる微粒子の粒径は、０．１〜１００μｍが好ましく、より好ましくは１〜１０μｍである。また、微粒子は、無色であっても着色されていてもよい。
【００１９】
本発明の液晶表示用スペーサは、微粒子の表面に、炭素数１０〜２２の長鎖アルキル基と２個以上のエチレン性不飽和基とを含有するグラフト重合層を有する。
【００２０】
上記炭素数１０〜２２の長鎖アルキル基を有する単量体としては、特に限定されず、例えば、デシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、セチル（メタ）アクリレート、ペンタデシル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ベヘニル（メタ）アクリレート、ラウロキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ステアロキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ラウロキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ステアロキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ラウリルビニルエーテル、ステアリルビニルエーテル等が挙げられる。これらは単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００２１】
上記２個以上のエチレン性不飽和基を有する重合性単量体としては、既に上述の２個以上のエチレン性不飽和基を有する重合性単量体と同一のものを使用することができ、これらは単独で用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。
【００２２】
上記２個以上のエチレン性不飽和基を有する単量体と長鎖アルキル基を有する単量体には、本発明の液晶表示用スペーサの性能を阻害しない範囲で、その他の重合性単量体が併用されてもよい。
【００２３】
上記その他の重合性単量体としては、特に限定されず、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート等のアルキル（メタ）アクリル酸エステル；トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、パーフルオロオクチルエチル（メタ）アクリレート等のフッ素含有単量体；メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート等のポリオキシアルキレン鎖を有する単量体；酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル等のビニルエステル系単量体；エチルビニルエーテル等のビニルエーテル系単量体；マレイン酸エステル、イタコン酸エステル等が挙げられる。これらは単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００２４】
上記の各種重合性単量体を用いて、微粒子の表面にグラフト重合層を形成させる方法としては、特に限定されないが、微粒子表面にグラフト重合層を形成できるような官能基が存在することが好ましい。
【００２５】
上記官能基として微粒子表面に還元性基が存在する場合は、酸化剤を反応させて微粒子表面にラジカルを発生させ、このラジカルを起点として上記の各種重合性単量体を重合させグラフト重合層を形成する方法が挙げられる。
上記還元性基としては、例えば、水酸基、チオール基、アミノ基、アルデヒド基、メルカプト基等が挙げられる。
【００２６】
上記酸化剤としては、例えば、セリウム塩、過硫酸塩、過酸化水素、ジメチルアニリン、過ヨウ素酸塩、過マンガン酸塩、アルキルホウ素等が挙げられる。なかでも、セリウム塩が好適である。
上記セリウム塩としては４価であれば特に限定されず、例えば、硫酸セリウム、硝酸セリウム、硫酸セリウムアンモニウム、硝酸セリウムアンモニウム、ピロリン酸セリウムアンモニウム、ヨウ化セリウム等が挙げられる。
【００２７】
表面に還元性基を有する上記微粒子を用いて微粒子表面にグラフト重合層を形成する方法としては、例えば、表面に還元性基を有する微粒子を溶媒中に分散させ、これに上記の各種重合性単量体及び上記セリウム塩を添加し重合反応を行う。このとき重合系の反応速度を速めるために硝酸等の酸や塩を添加して、ｐＨを６以下に調整することができる。
【００２８】
微粒子表面にグラフト重合層を形成させる別の方法として、例えば、微粒子表面の官能基と反応可能であって、かつ、重合性の二重結合を有する化合物を、微粒子表面の官能基と反応させて、表面に二重結合を導入した微粒子を得た後、この微粒子を各種重合性単量体の存在下で重合開始剤を作用させグラフト重合反応を行う方法が挙げられる。
【００２９】
微粒子表面の官能基と重合性の二重結合を有する化合物の官能基との組み合わせは、特に限定されず、例えば、水酸基、アミノ基等の活性水素を有する官能基と、イソシアネート基、カルボン酸のハロゲン化物、アルコキシ基、エポキシ基等の官能基との組み合わせなどが挙げられる。
なお、本発明においてグラフト重合層の形成方法は、上述の方法に限定されるものではない。
【００３０】
また、微粒子の表面に官能基がない場合であっても、あらかじめ微粒子の表面に活性水素を有する重合性単量体を共重合させ、この重合性単量体のグラフト重合層を形成し、その後、活性水素と反応する官能基を有し、かつ、上記炭素数１０〜２２の長鎖アルキル基を有する化合物や、２個以上のエチレン性の不飽和基を有する化合物を反応させて微粒子の表面に置換基を導入してもよい。
【００３１】
上記活性水素を有する重合性単量体としては、上記エチレン性の不飽和基や長鎖アルキル基と反応活性を有する水素原子を有する単量体であれば、特に限定されず、例えば、（メタ）アクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フタル酸等のカルボキシル基を有する単量体；ヒドロキシエチルメタクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、グリセロール（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、アリルアルコール等の水酸基を有する単量体；グリシジル（メタ）アクリレート等のエポキシ基を有する単量体；（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ビニルホルムアミド、Ｎ−ビニルアセトアミド、Ｎ−イソプロピル（メタ）アクリルアミド、ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミド等のアミド基を有する単量体；ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、アリルアミン等のアミノ基を有する単量体等が挙げられる。
【００３２】
上記炭素数１０〜２２の長鎖アルキル基を有する重合性単量体の割合は、グラフト重合層を形成する全単量体のうち、５〜９５重量％が好ましく、より好ましくは１０〜９０重量％である。５重量％未満では、液晶の異常配向を抑制することができず、９５重量％を超えるとＴｇが低くなり過ぎ、微粒子表面が粘着性を帯び、微粒子同士が合着凝集し易くなる。
【００３３】
また、上記２個以上のエチレン性の不飽和基を有する重合性単量体の割合は、グラフト重合層を形成する全単量体のうち、０．１〜２０重量％が好ましく、より好ましくは０．２〜１０重量％である。０．１重量％未満では、微粒子表面が粘着性を帯び、微粒子同士が合着凝集し易くなり、２０重量％を超えると液晶の異常配向を抑制することができなくなる。
【００３４】
上記グラフト重合層の厚みは、薄くなると異常配向を生じることがあり、厚くなると散布性、凝集性が低下するので、０．００５〜０．２μｍが好ましく、より好ましくは０．０１〜０．１８μｍである。
【００３５】
本発明の液晶表示装置用スペーサの力学的強度は、１０％Ｋ値が２４５０〜９８００Ｎであることが好ましい。２４５０Ｎ未満では、粒子の強度が充分でないため、液晶表示装置を組む際にスペーサが破壊されて適切なギャップが出ないことがある。また、９８００Ｎを超えると、表示装置に組み込んだ際に、基板上の配向膜を傷つけて表示異常を発生することがある。
【００３６】
なお、本発明において１０％Ｋ値とは、特許文献３に記載された方法に準拠し、微小圧縮試験器（島津製作所社製、ＰＣＴ−２００）を用いて、ダイヤモンド製の直径５０μｍの円柱の平滑端面で、得られたスペーサ微粒子を圧縮硬度０．　２７ｇ／秒、最大試験過重１０ｇで圧縮し、下記の式より求められた値をいう。
Ｋ＝（２９．４／√２）・Ｆ・Ｓ^−３／２・Ｒ^−１／２
Ｆ：微粒子の１０％圧縮変形における荷重値（Ｎ）
Ｓ：微粒子の１０％圧縮変形における圧縮変位（ｍｍ）
Ｒ：微粒子の半径（ｍｍ）
【００３７】
【特許文献３】
特開平６−５０３１８０号公報
【００３８】
本発明の液晶表示装置は、配向膜及び透明電極が配置された２枚のガラス基板が上記液晶表示装置用スペーサを介して対向され、ガラス基板間に液晶が封入されてなる液晶表示装置であり、上記液晶表示装置用スペーサを用いて、常法により作製される。
【００３９】
【発明の実施の形態】
以下に実施例を掲げて本発明を更に詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。
なお、実施例中の液晶異常配向の評価、乾式散布性の評価及びグラフト重合層厚みの測定は次のように行った。
【００４０】
（液晶異常配向の評価）
液晶の配位がそれぞれＳＴＮ型液晶表示装置、ＴＮ型液晶表示装置、ＩＰＳ型液晶表示装置の指標になるよう、以下の３種類のモードの簡易セルを作製して評価を行った。
【００４１】
・ＳＴＮモードセル
一対の透明ガラス板（１５０ｍｍ×１５０ｍｍ）の一面に、ＣＶＤ法によりＳｉＯ_２膜を蒸着した後、ＳｉＯ_２膜の表面全体にスパッタリングによりＩＴＯ膜を形成して得たＩＴＯ膜付きガラス基板に、スピンコート法によりポリイミド中間体（東レ社製、ＬＰ−６４）を形成し、２８０℃で９０分間焼成することによりポリイミド配向膜を形成した。このガラス板にラビング処理を行った。
【００４２】
次に、上記基板のうちの一枚の基板の配向膜側に、合成した微粒子をスペーサとして乾式散布機（日清エンジニアリング社製、ＤＩＳＰＡ−μＲ）を用いて、１ｍｍ^２当たり１００〜２００個になるよう散布した。他方の基板の周辺に周辺シール剤（主剤：ＳＥ４５００、硬化剤：Ｔ、ＨＡＶＥＮ　ＣＨＥＭＩＣＡＬ社製）を形成した後、ラビング方向（ツイスト角）が２４０°になるように対向配置させ、両者を貼り合わせた。この後、１６０℃で９０分間処理してシール材を硬化させ、空セルを作製した。得られた空セルに、ＳＴＮ型液晶（メルク社製、Ｓ−８１１）を注入した後、注入口を接着剤で塞いで液晶セルを作製し、更に、１２０℃で３０分間熱処理した。
【００４３】
このようにして得られた液晶セルをノーマリブラック表示モードになるように２枚の偏光フィルムで挟み込み、５Ｖの電圧を印加しながら顕微鏡で２００倍に拡大した写真をとり、光抜けの状態と、肉眼により表示ムラを観察した。
続いて、この液晶セルの端部を頭部がゴム製の槌で１００回強く叩き、光抜けの状態と表示ムラが増大するかどうかを同様にして観察した。
【００４４】
・ＴＮモードセル
ＳＴＮセルと同様にして得たＩＴＯ付きの一対の透明ガラス板に、スピンコート法によりポリイミド配向膜（日産化学社製、ＳＥ−７２１０）を配置し、同様に焼成した後ラビング処理を行った。次に、合成した微粒子をスペーサとしてＳＴＮセルと同様にして散布し、ラビング方向が９０°になるように対向配置させ、同様のシール剤を用いて両者を貼り合わせた。この後、１６０℃で９０分間処理してシール材を硬化させ、空セルを作製した。得られた空セルに、ＴＮ型液晶（メルク社製、ＭＬＣ−６２２２）を注入した後、注入口を接着剤で塞いで液晶セルを作製し、更に、１２０℃で３０分間熱処理した。
【００４５】
このようにして得られた液晶セルをノーマリホワイト表示モードになるようクロスニコルに配置した偏光フィルムで挟み込み、７Ｖの電圧を印加しながら顕微鏡を用いてＳＴＮセルと同様に光抜け及び表示ムラを観察した。
続いて、この液晶セルの端部を頭部がゴム製の槌で１００回強く叩き、光抜けの状態と表示ムラが増大するかどうかを同様にして観察した。
【００４６】
・ＩＰＳモードセル
ＴＮセルと同様にして得たポリイミド配向膜を形成させたＩＴＯ膜なしの一対のガラス板に、ラビング処理を行い、合成した微粒子をスペーサとしてＳＴＮセルと同様にして散布し、ラビング方向が１８０°になるように対向配置させ、同様のシール剤を用いて両者を貼り合わせた。この後、１６０℃で９０分間処理してシール材を硬化させ、空セルを作製した。得られた空セルに、カイラル剤を含んでいないＩＰＳ型液晶（チッソ社製、ＪＣ−５０１４）を注入した後、注入口を接着剤で塞いで液晶セルを作製し、更に、１２０℃で３０分間熱処理した。
【００４７】
このようにして得られた液晶セルをノーマリブラック表示モードになるようクロスニコルに配置した偏光フィルムで挟み込み、電圧印加せずに顕微鏡を用いてＳＴＮセルと同様に光抜け及び表示ムラを観察した。
続いて、この液晶セルの端部を頭部がゴム製の槌で１００回強く叩き、光抜けの状態と表示ムラが増大するかどうかを同様にして観察した。
【００４８】
（乾式散布性の評価）
得られたスペーサを乾式散布機（日清エンジニアリング社製、ＤＩＳＰＡ−μＲ）を用いて１ｍｍ^２当たり約５０００個になるよう１５０ｍｍ×１５０ｍｍのガラス板に散布し、元の粒子径の３倍以上の大きさの凝集塊数を顕微鏡で観察し計測した。
【００４９】
（グラフト重合層の厚みの測定）
得られたスペーサを、コールターカウンタにより解析して粒子径を求め、同様にして求めたグラフト重合前の微粒子の粒子径との差異により算出した。
【００５０】
・微粒子（１）〜（３）の調製
けん化度が８８％のポリビニルアルコール（日本合成化学工業社製、ＧＨ−２０）の３％水溶液８００重量部に、表１に示した配合量のテトラメチロールメタンテトラメタクリレート、ジビニルベンゼン、グリセロールジメタクリレート、スチレン、ジビニルベンゼン４０重量部及び過酸化ベンゾイル２重量部の混合液を加えてホモジナイザーにて撹拌して粒度調整を行った。
次いで、撹拌しながら窒素気流下にて８０℃まで昇温し、１５時間反応を行った後、熱イオン交換水及びメタノールにて洗浄後分級操作を行い、微粒子（１）〜（３）を得た。
また、ＴＯＦ−ＳＩＭＳにて表面分析を行ったところ、微粒子（１）〜（３）のいずれの表面にもポリビニルアルコール由来のＯＨ基が確認された。
【００５１】
【表１】

【００５２】
（実施例１〜１０、比較例１，２）
表２、３に示した配合量の重合性単量体に、上記微粒子（１）、（２）又は（３）を３重量部加え、ソニケーターにより充分分散させた後均一に撹拌を行った。次いで、窒素雰囲気下で２Ｎの硝酸水溶液で調整した０．１ｍｏｌ／Ｌの硝酸第二セリウムアンモニウム溶液５重量部を添加し、３０℃にて８時間グラフト重合を行った。重合終了後反応液を取り出し、３μｍのメンブランフィルターにて粒子と反応液とを濾別した。この粒子をＴＨＦ及びメタノールで充分洗浄した後、真空乾燥機で室温にて減圧乾燥を行い、微粒子の表面にグラフト重合層を有する粒子を得た。得られた粒子について、上記項目の評価及び測定を行い、その結果を表２、３に示した。
【００５３】
【表２】

【００５４】
【表３】

【００５５】
表中で使用した重合性単量体は、下記に示す通りである。
ＳＭＡ：ステアリルメタクリレート（炭素数１８）
ＬＭＡ：ラウリルメタクリレート　（炭素数１２）
ＢＭＡ：ブチルメタクリレート　　（炭素数４）
ＥＧＤＭ：エチレングリコールジメタクリレート
ＴＭＰ：トリメチロールプロパントリメタクリレート
ＭＭＡ：メチルメタクリレート
【００５６】
尚、表中の記載は、以下の通りである。
◎：光抜け、表示ムラが全く発生なし
○：光抜け、表示ムラの発生が殆どないか、あってもごく僅か
△：光抜け、表示ムラが少し発生
×：大きく光抜け、表示ムラが発生
【００５７】
【発明の効果】
本発明の液晶表示装置用スペーサは、ＳＴＮ型、ＴＮ型ＴＦＴ、及びＩＰＳ型ＴＦＴ液晶表示装置に適した、乾式散布性の優れた液晶表示装置用スペーサであり、液晶の異常配向を与えることがなく、スペーサ凝集に起因する表示ムラのない高品位な表示性能を保持する液晶表示装置を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】従来のスペーサを用いたＴＮ（ツイステッドネマティック）モードの液晶表示装置の概略図である。
【符号の説明】
１　　　　　シール部材
２、５　　　ガラス透明基板
３、６　　　透明電極
４、７　　　配向制御膜
８、１０　　基板
９　　　　　スペーサ
１１　　　　ネマティック液晶
１２、１３　偏光シート

Claims

炭素数１０〜２２の長鎖アルキル基と２個以上のエチレン性不飽和基とを、微粒子の表面のグラフト重合層に含有することを特徴とする液晶表示装置用スペーサ。
微粒子は、エチレン性不飽和基を有する重合性単量体を重合させて得られる重合体微粒子であって、前記エチレン性不飽和基を有する重合性単量体は、少なくとも２０重量％が、２個以上のエチレン性不飽和基を有する重合性単量体であることを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置用スペーサ。
請求項１又は２記載の液晶表示装置用スペーサが用いられてなることを特徴とする液晶表示装置。