JP2004114240A

JP2004114240A - 片面平面研磨機

Info

Publication number: JP2004114240A
Application number: JP2002281427A
Authority: JP
Inventors: Yukio Yamamoto; 山本　雪雄
Original assignee: M & S Fine Tec Kk; SAAFU SYSTEM KK
Current assignee: M & S Fine Tec Kk; SAAFU SYSTEM KK
Priority date: 2002-09-26
Filing date: 2002-09-26
Publication date: 2004-04-15

Abstract

【課題】従来の平面研磨機に比べて、飛躍的に小型の機械で片面平面研磨を可能となし得、高精度の両面加工精度を出すことができる研磨機を提供すること。
【解決手段】駆動歯車（４）により回転駆動され得る公転用歯車（２）上に上定盤（１Ａ、１Ｂ）をこの公転用歯車（２）の回転中心（Ｏ２）からずれた位置に駆動源（１Ａ−Ｍ、１Ｂ−Ｍ）と連結した状態で設け、公転用歯車（２）と上定盤（１Ａ、１Ｂ）とを同時に回転させつつ、ワーク（ＷＫ）を固定した下定盤（３）を往復動させながら、該ワーク（ＷＫ）の上面に、自転しつつ公転する上定盤（１Ａ、１Ｂ）を押し付けて研磨する。
【選択図】図１

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、板状をしたワークの片面を高精度に研磨する片面平面研磨機に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年になって、１５００ｍｍ×１８００ｍｍ（厚さ０．７ｍｍ）という大矩形かつ薄板状の液晶用基板ガラスに対する片面研磨、例えば、カラーフィルタの微細凸凹修正研磨加工など超大型薄板からなるワークを対象とした片面研磨の要請が急速に高まってきつつある。
【０００３】
従来、小片状のマイクロチップを高精度に平面研磨するのに適した研磨機として、ワークの片面ずつを研磨するオスカー方式、ラップマスター方式、遊星キャリアテーブルでワークを挾んで両面を同時に研磨するホップマン方式などの各種の方式の機械が知られている。
【０００４】
しかし、小片材料の平面研磨に適したこれら従来方式にかかる研磨機の原理を利用して超大型矩形薄板材料の片面平面研磨機を製作した場合には、機械の大きさが極めて大型化してしまうため、工場からユーザーへの機械の運搬や、据え付け場所などについて大きな制約を伴なうという不便があった。
【０００５】
一例として、従来使用されているオスカー型平面研磨機の機構の概要を説明する。図２８において、上定盤１’に研磨されるワークＷＫを貼り付け保持させた上で、上定盤１’を下定盤３’にエアシリンダ４’で押し付け、この状態のもとで、ワークＷＫと上定盤１’に研磨剤を浴びせながら、下定盤３’を回転駆動させつつ、上定盤１’を揺動させる。上定盤１’はワークＷＫと共に下定盤３’に連れ回りさせられる。
【０００６】
これら、上定盤１’、下定盤３’の運動の組み合わせにより、ワークＷＫの片面が研磨される。なお、液体研磨剤はオイルパン状の受け容器５’で受けられて循環する。
【０００７】
上定盤１’は揺動する第１アーム６’に支持されているので、下定盤３’上で揺動する。上定盤１’の揺動にはクランク機構の原理を利用しており、第１アーム６’の基端部と一体化された揺動支柱７’から第２アーム８’を延出させ、この第２アーム８’にクランクアーム９’の一端側を枢着し、該クランクアーム９’の他端側を、モータＭ’の回転軸に設けられた回転板の偏心位置に枢着した構成としている。
【０００８】
かかる構成により、モータＭ’の回転駆動に応じてワークＷＫと共に上定盤１’が揺動し、下定盤３’と共回りしつつ下定盤３’上をずれるので、ワークＷＫの下面側が平面研磨される。
【０００９】
しかし、かかる従来のオスカー型平面研磨機では、上下の定盤が共に回転し、しかも一方が揺動する構成であり、また、円盤形状をしているので、矩形のワークに対して外側にはみ出る部分が大きくなり、研磨機の占有面積も大きくならざるを得ない。
【００１０】
また、ワークＷＫが大きくなることに伴ない、上下の定盤の大きさも大きくなるので、これら定盤の中心部と周辺部の各回転量（周速）の差が非常に大きくなってしまい、従って、ワークの中心部と周辺部の研磨量の差が大きくなり過ぎるという致命的な欠点を有している。
【００１１】
この致命的な欠点を避けるためには、ワークの中心部と周辺部での周速差が極力少なくなるように、上定盤１’に保持させたワークＷＫをできるだけ下定盤３’の端にセットする方法があるが、下定盤３’の直径が巨大になり過ぎて実用的ではなくなってしまう。同時に、巨大な定盤重量のために、非常にデリケートな上定盤１’による加圧力のコントロールが困難になり、精密な研磨も不可能になってしまう。
【００１２】
その他の平面研磨機として、特開平５−２０８３６２号公報、特開平７−８８７６０号公報、特開平８−１７４４０８号公報等に開示されたものがあるが、何れも両面平面研磨機であるし、しかもワークＷＫの大きさが大きくなると、研磨機の占有床面積が飛躍的に大きくなる傾向を示す。
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の課題は、ワークの大型化に応じて、大規模化する片面平面研磨機を可能な限り大型化させずに高精度の片面研磨を行いたいという市場の要求を満足することにある。
【００１４】
【課題を解決するための手段】
本発明は、前記課題を解決するため、以下の構成とした。
（１）．ワークを固定してその盤面と平行な平面内で揺動運動する下定盤上の該ワーク上面に、自転しつつ公転する上定盤を押し付けて研磨することとした（請求項１）。
（２）．（１）記載の片面平面研磨機において、前記下定盤の揺動運動は直線往復運動であり、該下定盤は回転運動を行わず直線往復運動を行うこととした（請求項２）。
（３）．（１）又は（２）記載の片面平面研磨機において、前記上定盤を自公転させる手段として、回転駆動される公転用歯車と、この公転用歯車の回転中心からずれた位置に配置した上定盤に連結した駆動源を具備した構成とした（請求項３）。
（４）．（１）乃至（３）の何れか一つに記載の片面平面研磨機において、前記上定盤は同径の２つの定盤からなり、それぞれの回転中心間の中点位置を中心に公転するように構成した（請求項４）。
（５）．ワークを保持する下定盤と、この下定盤に対向配置されていて自転しつつ前記下定盤の上面と垂直に交わる軸線のまわりを公転しながら前記下定盤上に保持された前記ワークに摺接し得る上定盤と、前記下定盤をこれら定盤の面と平行に往復動させる第１往復動手段を具備した（請求項５）。
（６）．（５）記載の片面平面研磨機において、当該片面平面研磨機の一部を構成する下定盤支持構造体に支持された下定盤が前記第１往復動手段により往復動可能であることした（請求項６）。
（７）．（５）又は（６）の何れかに記載の片面平面研磨機において、前記第１往復動手段は、前記下定盤を所定の方向に案内する第１案内手段と、前記下定盤支持体に設けたスクリュー及びこのスクリューを駆動するモータと、前記下定盤に設けられ前記スクリューに螺合するナット部材からなることとした（請求項７）。
（８）．（５）乃至（７）の何れか一つに記載の片面平面研磨機において、前記上定盤は当該片面研磨機本体の一部を構成する上部構造体に支持された回転体に設けられていて、前記上部構造体は第２往復動手段により前記上定盤及び前記下定盤の面と平行に往復動可能であることとした（請求項８）。
（９）．（８）記載の片面平面研磨機において、前記第２往復動手段は前記上部構造体を所定の方向に案内する第２案内手段と、当該片面研磨機本体の一部を構成する下部構造体に設けたラックと、前記上部構造体に設けられ前記ラックに噛み合うピニオンと、このピニオンを駆動するモータからなることとした（請求項９）。
（１０）．（５）乃至（９）の何れか一つに記載の片面平面研磨機において、前記上定盤は、回転駆動させられる回転体の回転中心から外れた当該回転体上に、駆動源と共に設けられていることとした（請求項１０）。
（１１）．（１０）記載の片面平面研磨機において、前記回転体に前記上定盤を複数個設ける場合には、前記回転体の回転中心のまわりに、等分に振り分けられた位置に配置することとした（請求項１１）。
（１２）．（１０）又は（１１）記載の片面平面研磨機において、前記回転体は当該片面平面研磨機本体の一部を構成する上部構造体に、上下動可能及び回転可能に設けられていることとした（請求項１２）。
（１３）．（１０）乃至（１２）の何れか一つに記載の片面平面研磨機において、前記回転体の下部は、前記上部構造体に設けた駆動歯車と噛み合う公転用歯車からなり、該回転体の上部は、前記上部構造体に形成されたシリンダに回転自在かつ上下動自在に嵌合された上で、前記上部構造体に設けた上下駆動手段に連結されていて、前記回転体は前記上定盤を支持した状態で上下方向に移動自在であることとした（請求項１３）。
（１４）．（１３）記載の片面平面研磨機において、前記上下駆動手段は空圧若しくは油圧により作動するピストンを用い、このピストンは、前記回転体と一体的に回転することとした（請求項１４）。
【００１５】
【発明の実施の形態】
［１］請求項１乃至４に対応する実施の形態
本例では、図１に示すように、下定盤３にワークＷＫを固定するようにしている。この下定盤３は、その盤面と平行な平面内、つまり、直交座標軸の左右方向と前後方向とを共通に含む平面内で揺動運動する。
【００１６】
この揺動運動は、円弧状の揺動でもよいし、直線往復運動でもよい。本例では、機械的な駆動機構が比較的容易な直線往復運動を採用し、前後方向に直線往復運動するようにしている。
【００１７】
下定盤３と平行に対面するようにして、２つの同径の上定盤１Ａ、１Ｂを配置している。これら上定盤１Ａ、１Ｂは自転しつつ公転して下定盤３上のワークＷＫの上面に押し付けられてワークＷＫの上面を研磨する。
【００１８】
これら上定盤の自転のための手段について説明すると、上定盤１Ａは自転用の駆動源としてのモータ１Ａ−Ｍに連結されていて公転用歯車２の回転中心（軸心Ｏ２）からずれた位置に取り付けられている。同様に、上定盤１Ｂは自転用の駆動源としてのモータ１Ｂ−Ｍと共に、公転用歯車２の回転中心からずれた位置に取り付けられている。このように公転用歯車２の回転中心からずれた位置に取り付けることにより、公転用歯車２の回転に伴なって上定盤１Ａ、１Ｂが公転することとなる。
【００１９】
モータ１Ａ−Ｍを駆動することにより、上定盤１Ａは矢印で示す時計回りの向きに自転し、モータ１Ａ−Ｍを駆動することにより、上定盤１Ｂは矢印で示す時計回りの向きに自転する。
【００２０】
公転用歯車２の回転中心を通る軸線Ｏ２及び上定盤１Ａ、１Ｂの各回転中心を通る軸線Ｏ１Ａ、Ｏ１Ｂは下定盤３の盤面や上定盤１Ａ、１Ｂの盤面と垂直に交わる関係にある。軸線Ｏ１Ａ、Ｏ１Ｂは軸線Ｏ２から等間隔ずれた位置にあり、公転用歯車２は、軸線Ｏ２を中心に回転駆動されて上定盤１Ａ、１Ｂを公転させる。また、上定盤１Ａ、１Ｂは駆動源としてのモータ１Ａ−Ｍ、１Ｂ−Ｍにより自転する。各回転方向は図１に矢印で示すように時計回りの向きとする。
【００２１】
上定盤１Ａ、１Ｂが自転、公転するので、小さい上定盤を用いても広い面積を研磨することが可能となる。また、上定盤１Ａ、１Ｂが自転と公転の組み合わせによる回転運動をするので、下定盤３は回転させる必要がなくただ、揺動運動させるだけで足る。下定盤３はその中心が軸線Ｏ２を通過して往復動するように構成されている。
【００２２】
軸線Ｏ１Ａ、Ｏ１Ｂは軸線Ｏ２を中心とする円の直径上に対向して位置していて回転バランスがとられている。公転用歯車２は、外周に形成された歯に噛み合うように設けられた駆動歯車４の回転により回転駆動される。この回転により、上定盤１Ａ、１Ｂは軸線Ｏ２のまわりを公転する。かかる公転により、上定盤１Ａ、１Ｂの外縁が描く軸線Ｏ２を中心とする円の軌跡の内側にワークＷＫの対角線が収まる関係になっていれば、ワークＷＫの全面の研磨がなされる。
【００２３】
上定盤１Ａ、１Ｂの大きさは等しいものとし、これらの上定盤１Ａ、１ＢをワークＷＫの対角線上に並べたときに、互いが干渉することなく、かつ、該ワークＷＫの対角線を覆うことができる最小の大きさのものを目安として定めれば、そのワークＷＫの研磨が可能である。上定盤として、下定盤３の対角線を覆うことができる最小の大きさのものを備えるようにすれば、下定盤３上に載置できる任意の形状大きさのワークについて研磨が可能となる。
【００２４】
下定盤３の前後方向での直線往復運動での移動ストロークは、各上定盤１Ａ、１Ｂの軸線（Ｏ１Ａ、Ｏ１Ｂ）がワークＷＫの前後方向の端部を越えた程度の位置でよい。研磨に際して下定盤３は回転させる必要がなく、直線往復運動で済むので、その形状を従来のように円形にしなくてもよく、これにより、多様なワークに合わせた専用の研磨機を構成することが可能となる。本例の場合には、矩形のワーク形状に合わせて、矩形の下定盤とすることができ、円形の下定盤を用いる場合に比べて、研磨機の占有面積を減少させることができる。
【００２５】
モータ１Ａ−Ｍ及びモータ１Ａ−Ｂを駆動し、かつ、駆動歯車４を駆動することにより、上定盤１Ａ、１Ｂは自転しつつ公転する。その上で、これら上定盤１Ａ、１ＢをワークＷＫに押し付けた状態で下定盤３を前後動させることにより、上定盤１Ａ、１ＢはワークＷＫの上面全体を掃引する形となり、研磨がなされる。
【００２６】
本例では、上定盤は同径の２つの定盤１Ａ、１Ｂからなり、それぞれの回転中心間の中点位置である軸線Ｏ２を中心に公転するように構成されており、これら上定盤１Ａ、１Ｂの大きさ形状、重量が等しいので回転バランスよく自転、公転して研磨が行われる。その研磨の態様を、段階的に説明する。
【００２７】
状態１（図２参照）：
図１に示すように、軸線Ｏ２とワークＷＫの中心とが一致した状態を仮に、最初の状態の位置として説明する。図１に示した状態を、上定盤１Ａ、１ＢとワークＷＫとの関係だけに模式化して示したのが図２である。図２において、ワークＷＫの中心をＯ３とすると、この中心Ｏ３と軸線Ｏ２とが合致している。この状態では、上定盤１Ａ、１ＢはワークＷＫの対角線をカバーできる大きさであることからワークＷＫの左右方向の各端部からそれぞれ少しはみ出ているが、上定盤１Ａ、１Ｂの公転軌跡を示す２転鎖線の円はワークＷＫの全面をその範囲内に収めている。
【００２８】
上定盤１Ａ、１Ｂの公転速度は一定であり、下定盤３の直線往復動速度も一定である。上定盤１Ａ、１Ｂの公転速度と、下定盤３の直線往復動速度の関係は、両者の同期をとらずに中心Ｏ３と軸線Ｏ２とが合致した瞬間に、上定盤１Ａ、１Ｂが少なくとも１回は公転するように設定して、上定盤の中心がワークＷＫの前後方向の端部近傍若しくは端部を越えた位置で折り返すように任意の速度で往復動させることもできるが、本例では、同期をとるようにしている。つまり、以下の状態変化図で示す関係位置をとる瞬間があるように上定盤と下定盤とは一定の関係を維持しつつ変位する。
状態１では、図２に示したように中心Ｏ３と軸線Ｏ２とが合致しており、このときに上定盤１Ａ、１Ｂが左右方向に並ぶ関係位置をとるようにしてある。
【００２９】
状態２（図３参照）：
状態１より、下定盤３が前側に移動することにより、図３に示す状態２となる。この状態２では、軸線Ｏ２よりもワークＷＫの中心Ｏ３が前側にずれており、上定盤１ＢはワークＷＫの左かつ後の角部と重なる位置まで公転が進み、上定盤１ＡはワークＷＫの右・前の角部の手前位置まで公転が進んでいる。
【００３０】
状態３（図４参照）：
状態２より、下定盤３が前側に移動することにより、図４に示す状態３となる。この状態３では、軸線Ｏ２よりもワークＷＫの中心Ｏ３がさらに前側にずれており、上定盤１ＢはワークＷＫの後側の端部に上定盤１Ｂの軸線Ｏ１Ｂが略重なる位置にあり、上定盤１ＡはワークＷＫの右・前の角部の手前の位置にある。この位置を境界として下定盤３は折り返しの矢印で示すようにその移動方向がそれまでの前側への移動から後側への移動に変わる。
【００３１】
状態４（図５参照）：
状態３より、下定盤３が後側に移動することにより、図５に示す状態４となる。この状態４では、軸線Ｏ２よりもワークＷＫの中心Ｏ３が前側にずれているがそのずれ量は状態３よりも小さくなっている。上定盤１Ｂは公転が進むものの、下定盤３が後側に移動したことにより、ワークＷＫの後側の端部に上定盤１Ｂの軸線Ｏ１Ｂが略重なる位置にあり、上定盤１ＡはワークＷＫの右・前の角部を通過しようとしている。
【００３２】
状態５（図６参照）：
状態４より、下定盤３が後側に移動することにより、図６に示す状態５となる。この状態５では、中心Ｏ３が軸線Ｏ２と合致しており、上定盤１Ａ、１Ｂが前後方向に並んでいる。
【００３３】
状態６（図７参照）：
状態５より、下定盤３が後側に移動することにより、図７に示す状態６となる。この状態６では、中心Ｏ３が軸線Ｏ２の後側に位置しており、上定盤１Ａ、１Ｂは、軸線Ｏ１Ａ、Ｏ１Ｂを結ぶ線が前後方向に対して僅かに傾いた状態で対向する関係位置をとる。
【００３４】
状態７（図８参照）：
状態６より、下定盤３が後側に移動することにより、図８に示す状態７となる。この状態７では、中心Ｏ３が軸線Ｏ２よりも後側に位置しており、上定盤１ＢはワークＷＫの右・後の角部に位置し、上定盤１Ａはその軸線Ｏ１ＡがワークＷＫの左・前の角部の直前であって、該ワークＷＫの前側の端部を越えて外側に位置している。この位置を境界として下定盤３はその移動方向が折り返しの矢印で示すように、それまでの後側への移動から前側への移動に変わる。
【００３５】
状態８（図９参照）：
下定盤３が前側に移動することにより、図９に示す状態８となる。この状態８では、下定盤３の移動方向が前側になったので中心Ｏ３と軸線Ｏ２の間隔が状態７よりも小さくなっており、また、公転が進むことにより、上定盤１ＡがワークＷＫの左・前の角部に位置し、上定盤１ＢがワークＷＫの右・後の角部にそれぞれ位置している。
【００３６】
状態９（図１０参照）：
下定盤３が前側に移動することにより、図１０に示す状態９となる。この状態９では、中心Ｏ３と軸線Ｏ２が合致し、また、公転が進むことにより、上定盤１ＡがワークＷＫの左側、上定盤１ＢがワークＷＫの右側にそれぞれ位置して左右方向に並ぶ状態となっていて、下定盤３の１サイクルに対応して上定盤１Ａ、１Ｂが１／２回転公転したことになる。以上のサイクルを繰返すことにより、下定盤が２サイクルするのに応じて上定盤は１回公転することになる。以上のサイクルを適宜の回数繰返すことにより、ワークＷＫの上面が上定盤の外形付近の高速の等しい周速部により均等に研磨される。
【００３７】
［２］請求項５乃至１４に対応する実施の形態
（２．１）　請求項１３、１４に対応する例
前記したように、上定盤１Ａ、１Ｂは公転用歯車２に駆動源としてのモータ１Ａ−Ｍ、１Ｂ−Ｍと共に取り付けられているが、これら上定盤１Ａ、１Ｂは研磨量の調節やワークＷＫの着脱、その他作業用の便宜のため、下定盤３に対して接離自在の構成となっている。具体的には、上下方向や前後方向に移動可能の構成としている。そのための構成を説明する。
【００３８】
図１で説明したように、上定盤１Ａ、１Ｂは駆動歯車４と噛み合う公転用歯車２に、駆動源と共に設けられているが、これら上定盤１Ａ、１Ｂの上下動を可能にするため、駆動歯車４を円筒体５と一体的に構成している。これら駆動歯車４と円筒体５とで一体化された全体を回転体６と称する。
【００３９】
図１に示した回転体６の下部に、駆動歯車４と噛み合う公転用歯車２が位置し、上部に円筒体５が一体的に構成されている。この円筒体５は、図１１、図１２、図１３などに示す当該片面平面研磨機の上部構造体７（図１３、図１４、図１５参照）に形成されたシリンダ８に回転自在かつ上下動自在に嵌合されている。上部構造体７は箱状の構造体からなり、下部構造体１６上に可動に支持されている。
【００４０】
下部構造体１６は、図１３、図１４、図１５に示す４本の支柱１１Ａ、１１Ｂ、１１Ｃ、１１Ｄと、これらの支柱同士を連結固定する固定部材などからなり固定連鎖状に構成された構造体である。
【００４１】
支柱１１Ａ、１１Ｂは後側で左右方向に並んでいる支柱であり、支柱１１Ｄ、１１Ｃは前側で左右方向に並んでいる支柱である。支柱１１Ａと支柱１１Ｂとはこれらの各上部において固定部材１２ｕで連結固定され、下部で固定部材１２ｄで連結固定されている。また、支柱１１Ｄと支柱１１Ｃとはこれらの上部で固定部材１３ｕで連結固定され、下部で固定部材１３ｄで連結固定されている。
【００４２】
同様に、支柱１１Ｄと支柱１１Ａとはこれらの各上部において固定部材１４ｕで連結固定され、下部で固定部材１４ｄで連結固定されている。また、支柱１１Ｃと支柱１１Ｂとはこれらの上部で固定部材１５ｕで連結固定され、下部で固定部材１５ｄで連結固定されている。これら各支柱１１Ａ、１１Ｂ、１１Ｃ、１１Ｄの各下端部はレベリングブロック１７により水平出しができるようにしてある。
【００４３】
下定盤３は図１４、図１５に示す下定盤支持構造体２０に可動に支持されている。下定盤支持構造体２０は、下部構造体１６の内側の右側よりの位置で、４本の支柱２１Ａ、２１Ｂ、２１Ｃ、２１Ｄと、これらの支柱同士を連結固定する固定部材などからなり固定連鎖状に構成された構造体である。
【００４４】
支柱２１Ａ、２１Ｂは後側で左右方向に並んでいる支柱であり、支柱２１Ｄ、２１Ｃは前側で左右方向に並んでいる支柱である。支柱２１Ａと支柱２１Ｂとはこれらの各上部において固定部材２２ｕで連結固定され、下部で固定部材２２ｄで連結固定されている。また、支柱２１Ｄと支柱２１Ｃとはこれらの上部で固定部材２３ｕで連結固定され、下部で固定部材２３ｄで連結固定されている。
【００４５】
同様に、支柱２１Ｄと支柱２１Ａとはこれらの各上部において固定部材２４ｕで連結固定され、下部で固定部材２４ｄで連結固定されている。また、支柱２１Ｃと支柱２１Ｂとはこれらの上部で固定部材２５ｕで連結固定され、下部で固定部材２５ｄで連結固定されている。これら各支柱２１Ａ、２１Ｂ、２１Ｃ、２１Ｄの各下端部はレベリングブロック１７により水平出しができるようにしてある。
【００４６】
図１１、図１２、図１３において、シリンダ８の天板の外側中心部には、エアシリンダ９が固定されていて、そのピストンロッド９ａの先端部はシリンダ８内に嵌合している円筒体５の天板の中心部に固定されている。エアシリンダ９に送る空気圧を公知のエアレギュレータにより調節することで、回転体６を上下方向に移動調節することができる。エアシリンダ９は回転体６の上下駆動手段の一例であり、油圧シリンダでもよいし、ねじ手段でもよいし、その他適宜の移動手段を適用することができる。
【００４７】
ねじ手段の場合には、図１２において、エアシリンダを正逆転モータに、ピストンロッド９ａをおねじにそれぞれ置き換え、該おねじのシリンダ８の貫通部で螺合するようにする。また、おねじの下端部であって円筒体５との連結部は該おねじに対して回転自在の構成とする。
【００４８】
上下駆動手段をエアシリンダや油圧シリンダで構成した場合には、ピストンロッド及びピストンは上定盤１Ａ、１Ｂを所定の研磨位置に保持した状態のもとで、これらエアシリンダや油圧シリンダ内で円筒体５と一体的に回転するものとする。上下駆動手段がねじ手段の場合には、上記おねじに対して円筒体５が回転できるようにする。
【００４９】
このように、上定盤１Ａ、１Ｂは上下駆動手段により、回転体６と共に調節可能に上下動させてワークＷＫに上定盤を押しつけて所望の研磨量を調節しつつ研磨したり、必要に応じて上定盤をワークＷＫから退避させたりすることができる。
【００５０】
上下駆動手段を設けたことにより、研磨量の調節や、メンテナンスなどが容易となり作業性が向上する。
【００５１】
本例では、ピストンロッド９ａ及びピストンはこれらエアシリンダ９や、油圧シリンダの場合には該油圧シリンダ内で円筒体５と一体的に回転する構成であるから、市販のものを使用することができ、簡単に上下動及び回転の動作を含む円筒体５の動きを実現することができる。
【００５２】
（２．２）　請求項８、９に対応する例
研磨時においては、上定盤１Ａ、１Ｂは下定盤３と対向する位置関係にあるが、この状態のもとでは、ワークＷＫの着脱上、上定盤が干渉するので作業できない。上下駆動手段により回転体６を上昇させることで対処できない場合もある。
【００５３】
そこで、ワーク着脱性及び、上定盤の交換メンテナンスの便を考慮して、回転体６を保持した状態の上部構造体７そのものを可動にした。上部構造体７を上定盤１Ａ、１Ｂ及び下定盤３の面と平行に往復動可能にし、その手段として第２往復動手段を用いることとした。
【００５４】
具体例で説明すると、図１１、図１２、図１４において第２往復動手段は符号２６で示してある。この第２往復手段２６は、上部構造体７を所定の方向、本例では前後方向に案内する第２案内手段としての公知のＬＭガイド１０と、下部構造体１６の一部をなす固定部材１４ｕに設けたラック２７と、上部構造体７に設けられ前記ラック２７に噛み合うピニオン２８と、このピニオン２８を駆動するモータ２９Ｍからなる。ピニオン２８はモータ２９Ｍの回転軸に取り付けられており、モータ２９Ｍは上部構造体７の側部に固定されたブラケット３０に固定されている。
【００５５】
ＬＭガイド１０は下ガイド１０ｄと上ガイド１０ｕとからなり、固定部材１４ｕ、１５ｕと上部構造体７間にそれぞれ設けられている。固定部材１４ｕ、１５ｕと一体的に設けられた下ガイド１０ｄは長尺のレール状をなしており、また、これら下ガイドに摺動可能に嵌合している上ガイド１０ｕは上部構造体７に固定されている。
【００５６】
かかる構成により、モータ２９Ｍを正、逆転することに応じて、上部構造体７と共に、上定盤１Ａ、１Ｂを前後方向に往復動させることができる。本例では、下定盤３は下部構造体２０の前側寄りの位置に設けられていて、この位置で所定の範囲で前後方向に直線往復動するようになっている。
【００５７】
非研磨時であって、例えばワークの着脱、或いは、上定盤１Ａ、１Ｂ等のメンテナンスに際しては、図１５において上構造体７を図示の位置よりも、第２往復動手段２６により下部構造体２０の後側寄りの位置に移動する。研磨時には、図１５に示すように上構造体７は第２往復動手段２６により下部構造体２０の前側寄りの位置に定置する。
【００５８】
（２．３）　請求項１０乃至１２に対応する例
回転体６の一部をなす公転用歯車２は駆動歯車４により回転駆動されることは既に述べた通りであるが、この駆動歯車４の回転動力は図１３乃至図１５に示すように上部構造体７に固定されたモータ３１Ｍによりなされる。
【００５９】
上定盤１Ａ、１Ｂは、回転駆動させられる回転体６の回転中心（軸線Ｏ２）から外れた当該回転体６上に、駆動源たるモータ１Ａ−Ｍ、１Ｂ−Ｍと共に設けられている。このように構成することにより、上定盤１Ａ、１Ｂを自転、公転させることができ、小さい上定盤を用いて広い面積を研磨することが可能となり研磨機の小型化を図ることができる。
【００６０】
本例では、上定盤は、符号１Ａ、１Ｂで示すように２つ設けているが、自転、公転することにより研磨する原理からいえば、１つでもよい。しかし、１つでは回転バランスがうまくとれないし、また、研磨能率も低い。尤も、上定盤１つの場合には、２つの定盤の位置出しは容易である。
【００６１】
本例のように、２つに限らず、３つ以上、上定盤を設けることも勿論可能である。上限値は一概には定められないが、各定盤の位置出しの便などを考慮すると、数個程度が現実的であろう。複数個設ける場合には、回転体６の中心（軸線Ｏ２）のまわりに等分に振り分けて配置するのが回転バランスの上からは好ましい。異なる同心円上にそれぞれ複数、等分に振り分けて配置することも考えられる。複数の上定盤を等分に振り分けて配置することにより、研磨能率が向上し、また、回転バランスも得られる。
【００６２】
図１、図１１、図１２、図１３などに示すように、回転体６は当該片面平面研磨機本体の一部を構成する上部構造体７に構成されたシリンダ８に上下動可能及び回転可能に設けられている。これにより、上部構造体７と共に２つの上定盤１Ａ、１Ｂを一体的に上下動及び前後動させて研磨を行うことができ、研磨機の構成が簡易化される。
【００６３】
なお、回転体６の上下動ストロークを確保するため、回転体６の回転停止位置は上定盤１Ａ、１Ｂが左右方向に並ぶ図１、図１１乃至図１５に示す定位置となるようにし、この定位置において回転体６を上昇させたときにモータ１Ａ−Ｍ、１Ｂ−Ｍが上部構造体７と干渉しないように、上部構造体７にはこれらモータ１Ａ−Ｍ、１Ｂ−Ｍの嵌入を許す円形の開口３２、３３を形成している。
【００６４】
回転体６の上記定位置での回転停止の手段としては、例えば、エンコーダを使用してモータ３１の停止位置を制御する。また、安全を図るため、回転体６を図１２に実線で示した位置から下降させる際には、モータ１Ａ−Ｍ、１Ｂ−Ｍが上部構造体７と干渉しない位置まで下降したことが確認されたときのみ、モータ１Ａ−Ｍ、１Ｂ−Ｍの起動が可能となるようにしている。
【００６５】
かかるモータ１Ａ−Ｍ、１Ｂ−Ｍの起動が禁止される上部構造体７の上下方向での位置は上部構造体７の位置検知センサ、例えば、所定の下降位置を検知するリミットスイッチにより検知することができる。リミットスイッチがオンされている間はモータ１Ａ−Ｍ、１Ｂ−Ｍのスイッチがオンされないようにすることにする。回転体６に設けられて該回転体６と共に回転するモータ１Ａ−Ｍ、１Ｂ−Ｍに対する通電は、周知のブラシ手段を用いて行う。
【００６６】
（２．４）　請求項５乃至７に対応する例
この発明にかかる片面平面研磨機では、ワークＷＫは下定盤３に保持され、ワークＷＫを保持する下定盤３と、この下定盤３に対向配置されていて自転しつつ下定盤３の上面と垂直に交わる軸線Ｏ２のまわりを公転しながら下定盤３上に保持されたワークＷＫに摺接し得る上定盤１Ａ、１Ｂと、下定盤３をこれら定盤（上定盤１Ａ、１Ｂ、下定盤３）の面と平行に往復動させる第１往復動手段を具備している。
【００６７】
自転しつつ公転する上定盤１Ａ、１Ｂという構成とし、ワークＷＫを固定する下定盤３を回転させることなくその盤面と平行な平面内で揺動運動する運動を組み合わせる構成とすることで、ワークＷＫの上面を研磨するようにしている。
【００６８】
下定盤３の上記揺動運動を可能するため、これら上定盤１Ａ、１Ｂ及び下定盤３の各対向する面と平行に下定盤３を往復動させる第１往復動手段を具備した。本例では、かかる第１往復動手段による往復動の方向は前後方向である。
【００６９】
この第１往復動手段による下定盤３のストロークは、上定盤１Ａ、１Ｂの自転、及び公転の領域内にワークＷＫが収まる程度の最小範囲を目安としている。
【００７０】
具体例で説明すると、図１４、図１５、図１６において第１往復動手段は符号３４で示してある。この第１往復手段３４は、下定盤３を所定の方向、本例では前後方向に案内する第１案内手段としてのＬＭガイド４０と、下定盤支持構造体である固定部材２２ｄ、２３ｄに設けたスクリュー３５及びこのスクリュー３５を駆動するモータ３６Ｍと、下定盤３に設けられ前記スクリュー３６Ｍに螺合するナット部材３７からなる。
【００７１】
第１案内手段としてのＬＭガイド４０は、前記したＬＭガイド１０と同様の構成からなり、下定盤３と一体的な上ガイド４０ｕと、固定部材２４ｕ、２５ｕに設けられていて上ガイド４０ｕと摺動可能に嵌合しているレール上の下ガイド４０ｄからなる。
【００７２】
図１６に示したように、スクリュー３５はその前側端部を固定部材２３ｄ上でブラケット４１で、後側端部を固定部材２２ｄ上でブラケット４２によりそれぞれ軸支されている。また、後側端部については、固定部材２２ｄ上に固定されたモータ支持板４３により支持されている。モータ３６Ｍは正逆転可能なモータであり、スクリュー３６はボールスクリューを使用している。ナット部材３７は下端部がナットとなし、このナットの上側部分が板状に上方に延出していて下定盤３と一体化されている。
【００７３】
かかる構成により、モータ３６Ｍを正逆転させるのに応じて、下定盤３を前後方向に往復動することができる。この往復動の運動を図１５、図１６に符号４４で示す。下定盤３の往復動のストロークは、モータ３６Ｍの回転方向の切換えのタイミングを制御することにより可能である。
【００７４】
上記の例では、ねじとナットの組み合わせにより第１往復動段を構成したが、これに代えて、第１往復動手段をリニアモータ或いは、カム機構などで構成することもできる。
【００７５】
本例では、下定盤３は下定盤支持構造体に支持されて前後動するのであり、上部構造体７に支持されていないので、上部構造体とは別箇に移動させることができる。なお、図１３、図１５において、符号４５で示したのは、液体研磨剤を受けるためのオイルパン状の受け容器であり、下定盤３の周りを前後左右方向で囲むように構成されていて、研磨液を受ける。
【００７６】
［３］動作の概要
上定盤と下定盤との動作の組み合わせの概要については、既に、図２乃至図１０により状態１乃至状態９の態様で説明した。ここでは、上記の状態を含め、その前後における当該片面平面研磨機の各部材の動作とも関連させて説明する。状態１に至る前の段階として、次の動作が実行される。
【００７７】
前動作１（ワークの装着）：
モータ１Ａ―Ｍ、１Ｂ−Ｍ及びモータ３１Ｍの回転を停止した状態で、エアシリンダ９の動作により上定盤１Ａ、１Ｂを上昇させ（図１２、図１３、図１５参照）、この状態のもとで、モータ２９Ｍを駆動（例えば正転）させて、上部構造体７と共に上定盤１Ａ、１Ｂを後側に寄せて、下定盤３上方を空けて、ワークＷＫを下定盤３上に載置、保持する。
【００７８】
前動作２（上定盤の前後方向の位置決め）：
モータ２９Ｍを駆動（例えば逆転）させて、上部構造体７と共に上定盤１Ａ、１Ｂを図１５に示すように下定盤３の前後方向の中央位置に位置させる。次いで、エアシリンダ９を駆動させて、回転体６を下降させる。この下降により、モータ１Ａ−Ｍ、１Ｂ−Ｍが上部構造体７の開口３２、３３から脱した状態であることが前記位置検知センサ或いはリミットスイッチなどにより検知されたら、下降を一旦、止めるようにして、モータ１Ａ−Ｍ、１Ｂ−Ｍ、モータ３１Ｍを回転駆動を開始させて上定盤１Ａ、１Ｂを自転、公転させる。
【００７９】
前動作３（下定盤の駆動）：
上定盤１Ａ、１Ｂを自転、公転させた状態のもとで、モータ３６を駆動させて下定盤３を前後方向に揺動を開始させる。
【００８０】
前動作４（上定盤の研磨位置までの下降）：
上定盤１Ａ、１Ｂ及び下定盤３が運動した状態のもとで、研磨液をかけつつ、再度、エアシリンダ９を駆動させて上定盤１Ａ、１ＢによりワークＷＫの上面を所定の研磨代を加工できる位置まで下降させる。このときの、上定盤１Ａ、１Ｂ及び下定盤３の関係位置を例示したのが前記図２に示した状態１であり、この図２に示した状態のもとでの当該片面平面研磨機の要部平面図に相当するのが図１７である。
【００８１】
以下、上定盤１Ａ、１Ｂの公転動作と、下定盤３の前後動作とが相互に関連付けられた動作が実行され、上定盤１Ａ、１Ｂの公転位置と下定盤３の前後位置との関係が前記状態２乃至状態９をとるように、モータ３１Ｍと、モータ３６Ｍの回転速度が制御される。或いは、これらモータ３１Ｍ、３６Ｍの回転速度が一定の場合には、公転用歯車２と駆動歯車との歯数比、スクリュー３５の送り量（ねじピッチ、リード、条数など）の関係が予め前記状態２乃至状態９をとり得るように設定される。
【００８２】
これにより、状態１乃至状態９までの工程が行わる。図２に示した上定盤と下定盤の状態１は図１７に示した機械の状態に相当し、同様に、図３は図１８（状態２）、図４は図１９（状態３）、図５は図２０（状態４）、図６は図２１（状態５）、図７は図２２（状態６）、図８は図２３（状態７）、図９は図２４（状態８）、図１０は図２５（状態９）にそれぞれ対応する。
【００８３】
これら一連の状態をとる動作を行うことにより、状態９までで下定盤３は状態１と略同じ位置に復帰し、上定盤１Ａ、１Ｂは回転体６と共に１／２回転したことになる。さらに、これに続く回転体６の残りの１／２回転と下定盤３の前側への往復動により１サイクルが終了して、上定盤１Ａ、１Ｂ及び下定盤３共、状態１に復帰する。
【００８４】
かかるサイクルを任意回数繰返すことにより、研磨が行われる。研磨が終了したら、研磨液の放出を止め、上定盤１Ａ、１Ｂの回転を停止し、また、下定盤３の動作を停止させてから、上定盤１Ａ、１Ｂを上昇させ、上部構造体７と共に、後側へ移動させてワークＷＫを下定盤３上から取外す。
なお、本例では、状態１におけるスタート位置を、ワークＷＫの前後方向での中央位置としたが、これに限定されるものではない。
【００８５】
上定盤（１Ａ、１Ｂ）の回転速度はワークＷＫの種類に応じ適宜設定するものとする。回転方向についても本例で示したのは一例であり、特に限定されるものではない。公転速度は前記したように下定盤の往復動の動作を同期しているので、一方が定まれば、自ずと決定される。研磨に直接寄与する速度ではないので、比較的遅い速度で十分である。
【００８６】
［４］占有面積の比較
ワークＷＫの大きさを例えば、３２００ｍｍ×４０００ｍｍとし、この大きさのワークＷＫを研磨するための研磨機の占有面積を、従来技術にかかるオスカー型平面研磨機の場合と、これまで説明した本発明の片面平面研磨機とで比較してみる。
【００８７】
図２６に示すように、オスカー型平面研磨機の場合、３２００ｍｍ×４０００ｍｍの大きさのワークＷＫを研磨できる下定盤３’の直径を試算すると３２００ｍｍであり、この下定盤３’を収容することができる機械本体の最大外形寸法は、４０００ｍｍ×３２００ｍｍとなる。
【００８８】
図２７に示すように、本例の片面平面研磨機の場合、３２００ｍｍ×４０００ｍｍの大きさのワークＷＫを研磨できる機械本体の最大外形寸法は、３２００ｍｍ×３２００ｍｍとなる。
【００８９】
このように、本発明にかかる片面平面研磨機では、同じ大きさのワークＷＫを研磨する場合の比較で、従来のオスカー型平面研磨機と比べて、大幅に占有面積を減少させることが可能である。
【００９０】
かかる占有面積の減少は、工場における占有面積を減らすことができることは勿論であるが、メーカーからユーザーへの機械の輸送に際しても、機械の幅寸法を３５００ｍｍ以下とすることで、道路交通法の規制を受けることがないなどの利点もある。
【００９１】
【発明の効果】
請求項１記載の発明によれば、小さい上定盤を用いて広い面積を等しい速度で研磨可能としつつ研磨機の小型化を図ることができる。また、下定盤はその形状を従来のように円形にしなくてもよいので、多様なワークに合わせた専用の研磨機を構成することが可能となり、円形の下定盤を用いる場合に比べて、研磨機の占有面積を減少させることができる。
【００９２】
請求項２記載の発明によれば、下定盤は回転させる必要がなく、直線往復運動で済むので、その形状を従来のように円形にしなくてもよく、これにより、多様なワークに合わせた専用の研磨機を構成することが可能となり、円形の下定盤を用いる場合に比べて、研磨機の占有面積を減少させることができる。請求項３記載の発明によれば、上定盤は自転、公転し、研磨機の小型化を可能にする。
【００９３】
請求項４記載の発明では、これら上定盤は同径でそれぞれの回転中心間の中点位置を中心に公転するので回転バランスよく回転して研磨が行われる。請求項５記載の発明では、下定盤は移動機構が単純な第１往復動手段により往復動させる構成であり、上定盤の公転位置は移動させずに、上定盤と下定盤との相対移動により平面研磨が可能である。
【００９４】
請求項６記載の発明では、下定盤を該下定盤を支持している下定盤支持構造体に摺動自在としたので、上定盤に対しても単独で往復動が可能であり、所定ストロークでの高精度の移動機構を以って構成することができる。
【００９５】
請求項７記載の発明では、第１往復動手段の具体的な構成を提供できる。請求項８、９記載の発明では、ワーク着脱性及び、上定盤の交換メンテナンス性が向上する。請求項１０記載の発明では、上定盤を自転、公転させることが可能となり、小さい上定盤を用いて広い面積を研磨することが可能となり研磨機の小型化を図ることができる。
【００９６】
請求項１１記載の発明では、複数の上定盤を回転体の中心のまわりに等分に振り分けて配置することにより、研磨能率が向上し、また、回転バランスも得られる。
【００９７】
請求項１２記載の発明では、上部構造体共に上定盤を一体的に上下動及び前後動させて研磨を行うことができ、研磨機の構成が簡易化される。
【００９８】
請求項１３記載の発明では、上下駆動手段により所望の研磨量を調節することが可能である。また作業性が向上する。
【００９９】
請求項１４記載の発明では、簡易な構成により簡単に回転体の上下及び回転の動作を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明にかかる片面平面研磨機の要部を示した斜視図である。
【図２】本発明にかかる上定盤とワークとの関係位置を説明した模視的な説明図である。
【図３】本発明にかかる上定盤とワークとの関係位置を説明した模視的な説明図である。
【図４】本発明にかかる上定盤とワークとの関係位置を説明した模視的な説明図である。
【図５】本発明にかかる上定盤とワークとの関係位置を説明した模視的な説明図である。
【図６】本発明にかかる上定盤とワークとの関係位置を説明した模視的な説明図である。
【図７】本発明にかかる上定盤とワークとの関係位置を説明した模視的な説明図である。
【図８】本発明にかかる上定盤とワークとの関係位置を説明した模視的な説明図である。
【図９】本発明にかかる上定盤とワークとの関係位置を説明した模視的な説明図である。
【図１０】本発明にかかる上定盤とワークとの関係位置を説明した模視的な説明図である。
【図１１】本発明にかかる上部構造体及び第２往復動手段の構成を説明した斜視図である。
【図１２】図１１におけるＪ―Ｊ断面図である。
【図１３】本発明にかかる片面平面研磨機を非研磨時の状態で後側から見たときの正面図である。
【図１４】本発明にかかる片面平面研磨機を研磨時の状態で後側から見たときの正面図である。
【図１５】本発明にかかる片面平面研磨機を非研磨時の状態で右側から見たときの側面図である。
【図１６】本発明にかかる第１往復動手段の要部斜視図である。
【図１７】本発明にかかる片面平面研磨機の平面図である。
【図１８】本発明にかかる片面平面研磨機の平面図である。
【図１９】本発明にかかる片面平面研磨機の平面図である。
【図２０】本発明にかかる片面平面研磨機の平面図である。
【図２１】本発明にかかる片面平面研磨機の平面図である。
【図２２】本発明にかかる片面平面研磨機の平面図である。
【図２３】本発明にかかる片面平面研磨機の平面図である。
【図２４】本発明にかかる片面平面研磨機の平面図である。
【図２５】本発明にかかる片面平面研磨機の平面図である。
【図２６】オスカー型平面研磨機の概略平面図である。
【図２７】本発明にかかる片面平面研磨機の概略平面図である。
【図２８】オスカー型平面研磨機の概略構成を説明した斜視図である。
【符号の説明】
１Ａ　上定盤
１Ｂ　上定盤
３　下定盤
Ｏ１Ａ、Ｏ１Ｂ、Ｏ２　軸線

Claims

ワークを固定してその盤面と平行な平面内で揺動運動する下定盤上の該ワーク上面に、自転しつつ公転する上定盤を押し付けて研磨することを特徴とする片面平面研磨機。
請求項１記載の片面平面研磨機において、
前記下定盤の揺動運動は直線往復運動であり、該下定盤は回転運動を行わず直線往復運動を行うことを特徴とする片面平面研磨機。
請求項１又は２記載の片面平面研磨機において、
前記上定盤を自公転させる手段として、回転駆動される公転用歯車と、この公転用歯車の回転中心からずれた位置に配置した上定盤に連結した駆動源を具備した構成としたことを特徴とする片面平面研磨機。
請求項１乃至３の何れか一つに記載の片面平面研磨機において、
前記上定盤は同径の２つの定盤からなり、それぞれの回転中心間の中点位置を中心に公転するように構成したことを特徴とする片面平面研磨機。
ワークを保持する下定盤と、この下定盤に対向配置されていて自転しつつ前記下定盤の上面と垂直に交わる軸線のまわりを公転しながら前記下定盤上に保持された前記ワークに摺接し得る上定盤と、前記下定盤をこれら定盤の面と平行に往復動させる第１往復動手段を具備したことを特徴とする片面平面研磨機。
請求項５記載の片面平面研磨機において、
当該片面平面研磨機の一部を構成する下定盤支持構造体に支持された下定盤が前記第１往復動手段により往復動可能であることを特徴とする片面平面研磨機。
請求項５又は６の何れかに記載の片面平面研磨機において、
前記第１往復動手段は、前記下定盤を所定の方向に案内する第１案内手段と、前記下定盤支持構造体に設けたスクリュー及びこのスクリューを駆動するモータと、前記下定盤に設けられ前記スクリューに螺合するナット部材からなることを特徴とする片面平面研磨機。
請求項５乃至７の何れか一つに記載の片面平面研磨機において、
前記上定盤は当該片面研磨機本体の一部を構成する上部構造体に支持された回転体に設けられていて、前記上部構造体は第２往復動手段により前記上定盤及び前記下定盤の面と平行に往復動可能であることを特徴とする片面平面研磨機。
請求項８記載の片面平面研磨機において、前記第２往復動手段は前記上部構造体を所定の方向に案内する第２案内手段と、当該片面研磨機本体の一部を構成する下部構造体に設けたラックと、前記上部構造体に設けられ前記ラックに噛み合うピニオンと、このピニオンを駆動するモータからなることを特徴とする片面平面研磨機。
請求項５乃至９の何れか一つに記載の片面平面研磨機において、
前記上定盤は、回転駆動させられる回転体の回転中心から外れた当該回転体上に、駆動源と共に設けられていることを特徴とする片面平面研磨機。
請求項１０記載の片面平面研磨機において、
前記回転体に前記上定盤を複数個設ける場合には、前記回転体の回転中心のまわりに、等分に振り分けられた位置に配置することを特徴とする片面平面研磨機。
請求項１０又は１１記載の片面平面研磨機において、
前記回転体は当該片面平面研磨機本体の一部を構成する上部構造体に、上下動可能及び回転可能に設けられていることを特徴とする片面平面研磨機。
請求項１０乃至１２の何れか一つに記載の片面平面研磨機において、
前記回転体の下部は、前記上部構造体に設けた駆動歯車と噛み合う公転用歯車からなり、該回転体の上部は、前記上部構造体に形成されたシリンダに回転自在かつ上下動自在に嵌合された上で、前記上部構造体に設けた上下駆動手段に連結されていて、前記回転体は前記上定盤を支持した状態で上下方向に移動自在であることを特徴とする片面平面研磨機。
請求項１３記載の片面平面研磨機において、
前記上下駆動手段は空圧若しくは油圧により作動するピストンを用い、このピストンは、前記回転体と一体的に回転することを特徴とする片面平面研磨機。