JP2004109651A5 - - Google Patents

Claims (12)

1. フレームと、捻り梁と、この捻り梁によって前記フレームに支持されたミラーとが一体的に形成された導電性材料からなるミラー基板と、
   前記ミラー基板の第１の面に接合された、透明な絶縁性材料からなるカバー基板と、
   前記ミラー基板の前記第１の面と反対側の第２の面に接合された、絶縁性材料からなるベース基板とを有し、
   前記カバー基板と前記ベース基板とにより前記ミラーの振動空間が気密に封止され、
   前記ベース基板は、前記ベース基板を貫通し、かつ、前記ミラー基板のフレームに接触する複数の貫通電極を有し、
   前記貫通電極を通じて外部より前記ミラーを駆動するための電圧を印加可能としてなる光走査装置。
2. 請求項１に記載の光走査装置において、前記ミラー基板はシリコンからなり、前記ベース基板及び前記カバー基板はパイレックスガラスからなり、前記ミラー基板、前記ベース基板及び前記カバー基板は陽極接合法によって接合されていることを特徴とする光走査装置。
3. 請求項１又は２に記載の光走査装置において、前記ベース基板は、前記ミラーと対向した、前記ミラーの振動検出のための電極と、この振動検出のための電極と電気的に接続された貫通電極をさらに有することを特徴とする光走査装置。
4. 請求項１、２又は３に記載の光走査装置において、前記貫通電極はメッキ法により作成されていることを特徴とする光走査装置。
5. 請求項４に記載の光走査装置において、前記貫通電極のための貫通孔はブラスト加工法により形成されていることを特徴とする光走査装置。
6. 請求項１乃至５のいずれか１項記載の光走査装置において、前記ミラー基板は、絶縁層を介して２層のシリコン基板を接合した部材からなり、前記ベース基板と接合される側の前記部材のシリコン基板に前記フレーム、前記捻り梁及び前記ミラーが一体的に形成されたことを特徴とする光走査装置。
7. 請求項１乃至６のいずれか１項に記載の光走査装置において、前記ミラーの駆動用電極として作用する端部、及び、該端部と対向し駆動用電極として作用する前記フレームの端部は、互いに空隙を介して噛み合う櫛歯形状を有することを特徴とする光走査装置。
8. 請求項１乃至７のいずれか１項に記載の光走査装置において、前記ミラーは共振周波数調整用の割断可能な切片を有することを特徴とする光走査装置。
9. 請求項１乃至８のいずれか１項に記載の光走査装置において、前記ミラーの振動空間の圧力は大気圧より低いことを特徴とする光走査装置。
10. 請求項９に記載の光走査装置において、前記ミラーの振動空間の圧力は０．１(Torr)から２（Torr）までの範囲であることを特徴とする光走査装置。
11. 請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の光走査装置と、この光走査装置のミラーに光ビームを入射させるための光源とを１組以上備えてなる光書き込み装置。
12. 電子写真方式の画像形成装置において、像担持体に静電潜像を形成するための露光手段が請求項１１に記載の光書き込み装置からなることを特徴とする画像形成装置。